JPS58140045A - 液晶化合物,液晶組成物並びに液晶表示素子 - Google Patents
液晶化合物,液晶組成物並びに液晶表示素子Info
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- JPS58140045A JPS58140045A JP57021083A JP2108382A JPS58140045A JP S58140045 A JPS58140045 A JP S58140045A JP 57021083 A JP57021083 A JP 57021083A JP 2108382 A JP2108382 A JP 2108382A JP S58140045 A JPS58140045 A JP S58140045A
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は液晶化合物と該液晶化合物を含む液晶組成物と
皺液晶組成物を液晶層とする液晶表示素子とに関する。
皺液晶組成物を液晶層とする液晶表示素子とに関する。
本明細書において液晶化合物は、それ自体では電温にて
液晶相を示さずとも液晶組成物の配合成分として有用な
物質を含む。
液晶相を示さずとも液晶組成物の配合成分として有用な
物質を含む。
ネマチック液晶を用いえ表示装置が、腕時計や電卓の分
野で実用化されている。このような表示装置を自動車計
器盤の表示に用いることが考えられている。広く知られ
て−るよ4に、自動車計器盤は庫冷地から熱帯地までの
あらゆる条件%特に広範5tia*条件下で作動する必
要がある。現在の所、液晶温度範囲が一30〜80Cと
広い組成物を得ること、が不可欠である。
野で実用化されている。このような表示装置を自動車計
器盤の表示に用いることが考えられている。広く知られ
て−るよ4に、自動車計器盤は庫冷地から熱帯地までの
あらゆる条件%特に広範5tia*条件下で作動する必
要がある。現在の所、液晶温度範囲が一30〜80Cと
広い組成物を得ること、が不可欠である。
ところで夷!lされている液晶組成物は一般に数種鎖の
液晶化合物が配合されている。を晶組成物は個々Ot晶
化合物のもりそれぞれの特徴を生かし作られてシシ、要
求される性能を満たしている。
液晶化合物が配合されている。を晶組成物は個々Ot晶
化合物のもりそれぞれの特徴を生かし作られてシシ、要
求される性能を満たしている。
その中で、液晶化合物として1例えば
SaW温直 !易1〜311C
が知すれて−る。これは液晶親戚物の液晶温度範■拡大
の九め液晶温1111110上限(ネマチック椙から等
オ性液体に相賓化す為温II)を上昇1せる■的で用−
られる、しかし、Cのような多maim晶化會物は、伽
OIE晶化金物と配合する910重量%以上渦合すると
析出が生じ液晶組成物の機能を満えさなくなる。まえ、
64合量が増加するに従−粘度差びに液晶温度範囲の下
限(結晶からネマチック椙に椙弯化する温度)を大@に
上昇させる頷肉KToシ望ましくない。
の九め液晶温1111110上限(ネマチック椙から等
オ性液体に相賓化す為温II)を上昇1せる■的で用−
られる、しかし、Cのような多maim晶化會物は、伽
OIE晶化金物と配合する910重量%以上渦合すると
析出が生じ液晶組成物の機能を満えさなくなる。まえ、
64合量が増加するに従−粘度差びに液晶温度範囲の下
限(結晶からネマチック椙に椙弯化する温度)を大@に
上昇させる頷肉KToシ望ましくない。
そこで1本発明者らは相1llI41!並びに相転移温
度拡大の丸め分子構造について考察しえ、上記一般式の
液晶化合物の中央に分極効果の大きいエステル基を導入
することくよp1分子間相互作用がさらに液晶になp易
いのではないかと考え、本発明に至つ九。
度拡大の丸め分子構造について考察しえ、上記一般式の
液晶化合物の中央に分極効果の大きいエステル基を導入
することくよp1分子間相互作用がさらに液晶になp易
いのではないかと考え、本発明に至つ九。
本発明の目的Fi、液晶温度範囲の下限値並びに粘度を
上昇させることなく液晶温度範囲の上限値を向上させ九
液晶化合物とこれを用い九液晶組成物及び液晶表示素子
を提供するVCToる。
上昇させることなく液晶温度範囲の上限値を向上させ九
液晶化合物とこれを用い九液晶組成物及び液晶表示素子
を提供するVCToる。
本発明の液晶化合物は一般式R−X−X’−CO,−Y
−Y”−4’ (式中、R,R’は夫々とを特徴とす
る。この化合物は無色であシ、化学的に安定で参る。
−Y”−4’ (式中、R,R’は夫々とを特徴とす
る。この化合物は無色であシ、化学的に安定で参る。
本見@011晶化合物は市販の試薬を用いて既知の手法
で合成可能である。エステル化反応による合成経路の一
例は次O過りである。すなわち。
で合成可能である。エステル化反応による合成経路の一
例は次O過りである。すなわち。
(1) R−X−X’−CN−4R−X−X’−CO
O))→凡−x−x’−oct (113B’ −Y’−Y−COR+R’−Y’−Y−
OCOR−+R’−Y’Y−OH (3) R−X−X’−COCj+R’−Y’−Y−0
))+R−X−X’−COI−Y−Y’−R’+HCj 本発明の液晶組成物は本発明の液晶化合物を一組成成分
とするところに%黴がある。を九本発明の液晶表示素子
は本発明の液晶組成物を液晶層として2秋の対向する電
極基板間に挾持させ九構成t4I黴とする。
O))→凡−x−x’−oct (113B’ −Y’−Y−COR+R’−Y’−Y−
OCOR−+R’−Y’Y−OH (3) R−X−X’−COCj+R’−Y’−Y−0
))+R−X−X’−COI−Y−Y’−R’+HCj 本発明の液晶組成物は本発明の液晶化合物を一組成成分
とするところに%黴がある。を九本発明の液晶表示素子
は本発明の液晶組成物を液晶層として2秋の対向する電
極基板間に挾持させ九構成t4I黴とする。
以下1本発明の実施例について説明する。
実施例 1
tsomzのエチルアルコールに溶解し、この濤1[K
水酸化カリウム25gと水15mtと06液を加え、還
流を8時間行って、水に注加しHCj酸性とし、析出物
を得る。Cれをベンゼンで再結る。
水酸化カリウム25gと水15mtと06液を加え、還
流を8時間行って、水に注加しHCj酸性とし、析出物
を得る。Cれをベンゼンで再結る。
jlKloogの塩化チオニルを水冷下で滴下し。
4時間還流攪拌後過剰の塩化チオニルを留去するセチル
クロライド79gを少量ずつ滴下し、水冷下に6時間攪
拌を続ける。塩化水素ガスの発生が止むのを11gL九
後、反応液を希塩酸Xt中に投入し、塩化メチレン層を
分離して、塩化メチレンgと88%蟻酸620mAを混
合攪拌しておき。
クロライド79gを少量ずつ滴下し、水冷下に6時間攪
拌を続ける。塩化水素ガスの発生が止むのを11gL九
後、反応液を希塩酸Xt中に投入し、塩化メチレン層を
分離して、塩化メチレンgと88%蟻酸620mAを混
合攪拌しておき。
次いで無水酢酸310fnt、濃硫酸4mt、35%過
酸化水素水110mjの順で滴下する。40〜50CK
加熱して8時間攪拌した後1反応液を水に投入する1分
離したオイ〃を抽出し、溶媒を除去した後、メタノール
100mJ!、2Nカセイソーダ水溶液zsomzt加
え、2時間加熱還流する。冷却後1反応液を塩酸酸性と
すれば結晶が析出する。これをベンゼンで抽出し、ベン
ゼン留にピリジン10gを加える。その後、2時間還流
し、水洗いを行ないベンゼンを留去し、*音物をア竜ト
ンより再結晶を行うと目的物が得られる。
酸化水素水110mjの順で滴下する。40〜50CK
加熱して8時間攪拌した後1反応液を水に投入する1分
離したオイ〃を抽出し、溶媒を除去した後、メタノール
100mJ!、2Nカセイソーダ水溶液zsomzt加
え、2時間加熱還流する。冷却後1反応液を塩酸酸性と
すれば結晶が析出する。これをベンゼンで抽出し、ベン
ゼン留にピリジン10gを加える。その後、2時間還流
し、水洗いを行ないベンゼンを留去し、*音物をア竜ト
ンより再結晶を行うと目的物が得られる。
ζこで得九化合物の赤外吸収スペクトルをI[示す0本
Hにおいて1750a+w−”にエステルの吸収が表わ
れている。ま九、質量スペクトルでは分子イオンビーク
がm/・44OK現われることを確認している。これら
両事実と原料化合物との関係からここで合成した化合物
は下式で示されるp −(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)フェニル=4’ −7’ロビルビフェニル
−4“−カルボキシレート であることが確認され九。
Hにおいて1750a+w−”にエステルの吸収が表わ
れている。ま九、質量スペクトルでは分子イオンビーク
がm/・44OK現われることを確認している。これら
両事実と原料化合物との関係からここで合成した化合物
は下式で示されるp −(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)フェニル=4’ −7’ロビルビフェニル
−4“−カルボキシレート であることが確認され九。
陶、この化合物の相転移温度は120〜330Cであっ
た。
た。
同様にして以下に示す化合物も合成できる。
(1) り −()9ンスー4−プロピルシクロヘキ
シル)フェニル−4/−ブチルビフェニル−4#−カル
ボキシレート +2)p−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)
フェニル冨4′−ペンチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート (31p−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)
フェニル=4′−へブチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート (4)9−()9ンスー4−プロピルシクロヘキシル)
フェニル冨4′−オクチルビフェニル−4#−カルボキ
シレート (5)I) −()ランス−4−ブチルシクロヘキシル
)フェニル冨4’−2チルビフェニル−41−カルボキ
シレート (6)p−()ランス−4−7’チルシクロヘキシル)
フェニル冨4′−ペンチルビフェニル−4#−★ルボキ
シレート (73m)−()ランス−4−7’チルシクロヘキシル
)7ヱニル=4′−へブチルビフェニル−4N−カルボ
キシレート (8) p〒(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)
フェニル冨4′−オクチルビフェニル−4′−カルlキ
シレート (満p−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)フ
ェニル冨4’ −ブチルビフェニル−4〃−カルボキシ
レート (l呻9−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
フェニル−4′−ペンチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート (11p−()ランス−4−ペンチルシクロへ中シル)
フェニル=4′−へブチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート (11P−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
フェニル冨4′−オクチルビフェニル−4N−カルlキ
シレート alt−()ランス−4−へブチルシクロヘキシル)フ
ェニル=4’ −7’チルビフェニル−4“−カルlキ
シレート (14)P−()ランス−4−へブチルシクロヘキシル
)フェニル冨4/−ペンチルビフェニル−41′−カル
ボキシレート α$1)−()ランス−4−へブチルシクロヘキシル)
フェニル=4′−へブチルビフェニル−4#→ルボキシ
レート (1119−(トランス−4−ヘプチルシフ瞠ヘキシル
)フェニル−4′−オクチルビフェニル−4#−カルボ
キシレート αη P−()ランス−4−オクチルシクロヘキシル)
フエ二に=41−ブチルビフェニル−4N−カルボキシ
レート QIP−(トランス−4−オクチルシクロへ中シル)フ
ェニル冨4′−ペンチルビフェニル−4#−カルボキシ
レート aiJP−()ランス−4−オクチルシクロヘキシル)
フェニル=4/−へブチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート @II)−()ランス−4−オクチルシクロヘキシル)
フェニル=4′−オクチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート @p−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)フェ
ニル=4′−へキシルビフェニル−41−カルボキシレ
ート @9−()jンスー4−ブチルシクロヘキシル)フェニ
ルt:s 4 ’ −フロビルビフェニル−e−カルボ
キクレート @ p−()?ンスー4−ブチルシクロヘキシル)フ
ェニル=4′−へキシルビフェニル−4′−カルボキシ
レート @ p−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
フェニル=4/ −7’ロビルビフェニルー41−カル
ボキシレート ml)−()ランス−4−ペンチルシクロへ中シル)フ
ェニル=4′−ヘーシルビフェニル−4I′−カルボキ
シレート @D−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル)フェ
ニル=4’ −7’ロビルビフェニルー4′−カルボキ
シレート @9−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル)フェ
ニル=4′−ブチルピフェニル−4“−カルボキシレー
ト @I)−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル)フ
ェニル=4′−ペンチルビフェニル−4“−カルボキシ
レート @ p−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル)
フェニル−4′−へキシルビフェニル−4N−カルボキ
シレート Cl0I)−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル
)フェニル=4′−へブチルビフェニル−4′−カルボ
キシレート al)9−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル)
フェニル=4′−オクチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート Cap−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル)フ
ェニル=47−プロピルビフェニル−4N−カルボキシ
レート @ p−()ランス−4−へブチルシクロヘキシル)
フェニル=4′−へキシルビフェニル−4#−カルボキ
クレート 0il) P −()ランス−4−オクチルシクロヘ
キシル)フェニル=4’ −7’ロビルビフェニル−4
N−カルボキシレート (2) 1)p−()ランス−4−オクチルシクロヘキ
シル)フェニル−4′−へキシルビフェニル−41−カ
ルボキクレート 以下同様にして前記一般式で示される他の化合物も合成
できる。
シル)フェニル−4/−ブチルビフェニル−4#−カル
ボキシレート +2)p−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)
フェニル冨4′−ペンチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート (31p−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)
フェニル=4′−へブチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート (4)9−()9ンスー4−プロピルシクロヘキシル)
フェニル冨4′−オクチルビフェニル−4#−カルボキ
シレート (5)I) −()ランス−4−ブチルシクロヘキシル
)フェニル冨4’−2チルビフェニル−41−カルボキ
シレート (6)p−()ランス−4−7’チルシクロヘキシル)
フェニル冨4′−ペンチルビフェニル−4#−★ルボキ
シレート (73m)−()ランス−4−7’チルシクロヘキシル
)7ヱニル=4′−へブチルビフェニル−4N−カルボ
キシレート (8) p〒(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)
フェニル冨4′−オクチルビフェニル−4′−カルlキ
シレート (満p−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)フ
ェニル冨4’ −ブチルビフェニル−4〃−カルボキシ
レート (l呻9−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
フェニル−4′−ペンチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート (11p−()ランス−4−ペンチルシクロへ中シル)
フェニル=4′−へブチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート (11P−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
フェニル冨4′−オクチルビフェニル−4N−カルlキ
シレート alt−()ランス−4−へブチルシクロヘキシル)フ
ェニル=4’ −7’チルビフェニル−4“−カルlキ
シレート (14)P−()ランス−4−へブチルシクロヘキシル
)フェニル冨4/−ペンチルビフェニル−41′−カル
ボキシレート α$1)−()ランス−4−へブチルシクロヘキシル)
フェニル=4′−へブチルビフェニル−4#→ルボキシ
レート (1119−(トランス−4−ヘプチルシフ瞠ヘキシル
)フェニル−4′−オクチルビフェニル−4#−カルボ
キシレート αη P−()ランス−4−オクチルシクロヘキシル)
フエ二に=41−ブチルビフェニル−4N−カルボキシ
レート QIP−(トランス−4−オクチルシクロへ中シル)フ
ェニル冨4′−ペンチルビフェニル−4#−カルボキシ
レート aiJP−()ランス−4−オクチルシクロヘキシル)
フェニル=4/−へブチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート @II)−()ランス−4−オクチルシクロヘキシル)
フェニル=4′−オクチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート @p−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)フェ
ニル=4′−へキシルビフェニル−41−カルボキシレ
ート @9−()jンスー4−ブチルシクロヘキシル)フェニ
ルt:s 4 ’ −フロビルビフェニル−e−カルボ
キクレート @ p−()?ンスー4−ブチルシクロヘキシル)フ
ェニル=4′−へキシルビフェニル−4′−カルボキシ
レート @ p−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
フェニル=4/ −7’ロビルビフェニルー41−カル
ボキシレート ml)−()ランス−4−ペンチルシクロへ中シル)フ
ェニル=4′−ヘーシルビフェニル−4I′−カルボキ
シレート @D−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル)フェ
ニル=4’ −7’ロビルビフェニルー4′−カルボキ
シレート @9−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル)フェ
ニル=4′−ブチルピフェニル−4“−カルボキシレー
ト @I)−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル)フ
ェニル=4′−ペンチルビフェニル−4“−カルボキシ
レート @ p−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル)
フェニル−4′−へキシルビフェニル−4N−カルボキ
シレート Cl0I)−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル
)フェニル=4′−へブチルビフェニル−4′−カルボ
キシレート al)9−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル)
フェニル=4′−オクチルビフェニル−4′−カルボキ
シレート Cap−()ランス−4−へキシルシクロヘキシル)フ
ェニル=47−プロピルビフェニル−4N−カルボキシ
レート @ p−()ランス−4−へブチルシクロヘキシル)
フェニル=4′−へキシルビフェニル−4#−カルボキ
クレート 0il) P −()ランス−4−オクチルシクロヘ
キシル)フェニル=4’ −7’ロビルビフェニル−4
N−カルボキシレート (2) 1)p−()ランス−4−オクチルシクロヘキ
シル)フェニル−4′−へキシルビフェニル−41−カ
ルボキクレート 以下同様にして前記一般式で示される他の化合物も合成
できる。
実施例 2
OHO&41jlベンゼン溶液(含有率60%)、並び
にピリジン181を加える。その後S時間の遺aを行い
、水洗してベンゼンを留去し、残留物をアセトンよp再
結晶させて目的物が得られる。
にピリジン181を加える。その後S時間の遺aを行い
、水洗してベンゼンを留去し、残留物をアセトンよp再
結晶させて目的物が得られる。
ここで得た化合物の赤外吸収スペクトルから1750a
m1にエステルの吸収が表われ、tた質量スペクトルで
は分子イオンビークがm/e434に現われている。こ
れら両事実と原料化合物との関係からここで合成した化
合物は下式で示される4−プロピルビフェニル=4’
−7’E)ピルビフェニルカルボキシレート であることが確認された。
m1にエステルの吸収が表われ、tた質量スペクトルで
は分子イオンビークがm/e434に現われている。こ
れら両事実と原料化合物との関係からここで合成した化
合物は下式で示される4−プロピルビフェニル=4’
−7’E)ピルビフェニルカルボキシレート であることが確認された。
実施例 3
(含有率80%)と、ピリジン25gとを加える。
その後、12時間還流し、水洗を行いベンゼンを留去し
、*音物をアセトンよp再結晶させると目的物が得られ
る。
、*音物をアセトンよp再結晶させると目的物が得られ
る。
ここで得良化合物の赤外吸収スペクトルから1755a
m1にエステルの吸収が表われ、また質量スペクトルで
は分子イオンビークがm/e 440に現われている。
m1にエステルの吸収が表われ、また質量スペクトルで
は分子イオンビークがm/e 440に現われている。
これら両事実と原料化合物との関係からこ仁で合成し良
化合物は下式で示される。
化合物は下式で示される。
トランス−4−(P−7’ロビルピフェニル]シクロヘ
キシル=4’ −/’ロビルビフェニルー4“−々ルポ
キシレート であることが11g1gされ友。
キシル=4’ −/’ロビルビフェニルー4“−々ルポ
キシレート であることが11g1gされ友。
(含有皐20%)並びにピリジン12ft加える。
その後、16時間還流し、水洗を行いベンゼンを留去し
、 **物をアセトンより再結晶させ為と目的物が得ら
れる。
、 **物をアセトンより再結晶させ為と目的物が得ら
れる。
こξで得九化合物の赤外吸収スペクトルから1755国
“1にエステルの吸収が表われ、また質量スペクトルで
は分子イオンビークがm/@446に現われている。こ
れら両事実と原料化合物との関係からここで合成した化
合物は下式で示される。
“1にエステルの吸収が表われ、また質量スペクトルで
は分子イオンビークがm/@446に現われている。こ
れら両事実と原料化合物との関係からここで合成した化
合物は下式で示される。
トランス、トランス−4−プロピルビシクロヘキサン−
4’ −イル=4“−プロピルビフェニル−4″′−カ
ルボキシレート である仁とが確認された。
4’ −イル=4“−プロピルビフェニル−4″′−カ
ルボキシレート である仁とが確認された。
液(含有皐SO%)並びにピリジン20gを加える。そ
の後、5時間還流し、水洗いを行ないペン(ンを留去し
、残留物をアセトンより再結晶をさせると目的物が得ら
れる。
の後、5時間還流し、水洗いを行ないペン(ンを留去し
、残留物をアセトンより再結晶をさせると目的物が得ら
れる。
ここで得九化合物の赤外吸収スペクトルから1740a
II−’にエステルの吸収が表われ、ま良質量スペクト
ルでは分子イオンビークがm/e440に現われている
。これら両事実と原料化合物との関係からここで合成し
良化合物は下式で示される。
II−’にエステルの吸収が表われ、ま良質量スペクト
ルでは分子イオンビークがm/e440に現われている
。これら両事実と原料化合物との関係からここで合成し
良化合物は下式で示される。
4−プロピルビフェニル−4′−イル=トランス−4−
(p−7’ロビルフエニルl//ロヘキテンカルボ中シ
レート である仁とがiigされた。
(p−7’ロビルフエニルl//ロヘキテンカルボ中シ
レート である仁とがiigされた。
る、その後、2時間還流し、水洗を行いベンゼンを留去
し、残留物をヘキサンより再結晶させると目的物が得ら
れる。
し、残留物をヘキサンより再結晶させると目的物が得ら
れる。
ζ仁で得喪化合物の赤外吸収スペクトルから1745a
+−”にエステルの吸収が表われ、また質量スペクトル
では分子イオンビークがm/@ 446に現われている
。これら両事夷と原料化合物との関係からご仁で合成し
た化合物は下式で示される9−()ランス−4−プロピ
ルシクロヘキシル)フェニル=トランス−4’−(p’
−プロピルフェニル)シクロヘキサンカルボキシレー
トである仁とがaigiiされた。
+−”にエステルの吸収が表われ、また質量スペクトル
では分子イオンビークがm/@ 446に現われている
。これら両事夷と原料化合物との関係からご仁で合成し
た化合物は下式で示される9−()ランス−4−プロピ
ルシクロヘキシル)フェニル=トランス−4’−(p’
−プロピルフェニル)シクロヘキサンカルボキシレー
トである仁とがaigiiされた。
陶、仁の化合物の相転移温度は179〜283Cであり
九。
九。
る、その後、12時間還流し、水洗を行いべ/ゼン會留
去し、残留物をアセトンよシ再結晶させると目的物が得
られる。
去し、残留物をアセトンよシ再結晶させると目的物が得
られる。
ここで得た化合物の赤外吸収スペクトルから17SOc
111″lKエステルの吸収、が表われ、また質量スペ
クトルでは分子イオンビークがm/e446に現われて
いる。これら両事実と原料化合物との関係からここで合
成し良化合物は下式で示されるトランス−4−(p−1
0ビルフエニル)シクロヘキシル=)9ンスー4’−C
p’−7’ロビルフエニル)シクロヘキサンカルボキシ
レートであることが確認された。
111″lKエステルの吸収、が表われ、また質量スペ
クトルでは分子イオンビークがm/e446に現われて
いる。これら両事実と原料化合物との関係からここで合
成し良化合物は下式で示されるトランス−4−(p−1
0ビルフエニル)シクロヘキシル=)9ンスー4’−C
p’−7’ロビルフエニル)シクロヘキサンカルボキシ
レートであることが確認された。
実施例 8
その後1!s時間遺流し、水洗を行いベンゼンを留去し
、残留物をアセト/よシ再結晶させると目的物が得られ
る。
、残留物をアセト/よシ再結晶させると目的物が得られ
る。
ここで得九化合物の赤外吸収スペクトルから□1740
511“IKエステルの吸収が表われ、また質量スペク
トルでは分子イオンビークがm/e4s2に現われてい
る。これら両事実と原料化合物との関係からここで合成
し良化合物は下式で示されるトランス、トランス−4−
ブ四ビルビシクロへキチン−4′−イル=トランス−4
’−(p−プロピルフェニル)シクロヘキサンカルボキ
シレートであることがamされ友。
511“IKエステルの吸収が表われ、また質量スペク
トルでは分子イオンビークがm/e4s2に現われてい
る。これら両事実と原料化合物との関係からここで合成
し良化合物は下式で示されるトランス、トランス−4−
ブ四ビルビシクロへキチン−4′−イル=トランス−4
’−(p−プロピルフェニル)シクロヘキサンカルボキ
シレートであることがamされ友。
制含有率30%)並びにピリジン15gを加える。
その後、6時間還流し、水洗を行いベンゼンを留去し、
残留物をエタノールよ)再結晶させると目的物が得られ
る。
残留物をエタノールよ)再結晶させると目的物が得られ
る。
ここで得九化合物の赤外吸収スペクトルから1745c
M1−”KエステルO散収が表われ、また質量スペクト
ルでは分子イオノビークがm/@ 44 OK現われて
いる。これら両事実と原料化合物との関係からここで合
成し良化合物は下式で示される4−プロピルビフェニル
−4′−イル−1)−()ランス−4−プロピルシクロ
ヘキシル)ベンゾエート であることが1iia!された。
M1−”KエステルO散収が表われ、また質量スペクト
ルでは分子イオノビークがm/@ 44 OK現われて
いる。これら両事実と原料化合物との関係からここで合
成し良化合物は下式で示される4−プロピルビフェニル
−4′−イル−1)−()ランス−4−プロピルシクロ
ヘキシル)ベンゾエート であることが1iia!された。
陶、この化合物の相転移置[Fi133〜327Cで6
つ九。
つ九。
液(含有率20%)並びにピリ2フ20g’i加える。
その後、4時間還流し、水洗を行いベンゼンを留去し、
残留物管エタノールよシ再結晶させると目的物が得られ
る。
残留物管エタノールよシ再結晶させると目的物が得られ
る。
ここで得た化合物の赤外吸収スペクトルから1740z
−”Kエステルの吸収が表われ、まえ質量スペクトルで
は分子イオンビークがm/・446に現われている。こ
れら両事実と原料化合物との関係からここで合成し良化
合物は下式で示される?−()9ンスー4−プロピルシ
クロヘキシル)フェニル−p’−()ランス−4′−プ
ロピル7りaヘキシル)ベンゾエート であることがiigされた。
−”Kエステルの吸収が表われ、まえ質量スペクトルで
は分子イオンビークがm/・446に現われている。こ
れら両事実と原料化合物との関係からここで合成し良化
合物は下式で示される?−()9ンスー4−プロピルシ
クロヘキシル)フェニル−p’−()ランス−4′−プ
ロピル7りaヘキシル)ベンゾエート であることがiigされた。
陶、この化合物の相転移温度は174〜325Cであっ
た。
た。
g(含有率30%)並びにピリジン20ft−加える。
その後、8時間還流し、水洗を行いベンゼンを留去し、
残留物をエタノールより再結晶させて目的物が得られる
。
残留物をエタノールより再結晶させて目的物が得られる
。
ここで得た化合物の赤外吸収スペクトルから1735m
”Kエステルの吸収が表われ、tた質量スペクトルでは
分子イオノビークがm/544sK現われている。これ
ら両事実と原料化合物との関係からここで合成し良化合
物は下式で示されるトランス−4−<9−7’ロビルフ
エニル)シクロへΦシルニル−()ランス−4/ 7
’ロビルシクロヘキシル)ベンゾエート であることがiigされた。
”Kエステルの吸収が表われ、tた質量スペクトルでは
分子イオノビークがm/544sK現われている。これ
ら両事実と原料化合物との関係からここで合成し良化合
物は下式で示されるトランス−4−<9−7’ロビルフ
エニル)シクロへΦシルニル−()ランス−4/ 7
’ロビルシクロヘキシル)ベンゾエート であることがiigされた。
液C含有率50%)韮びにピリジン3011を加える。
その後、12時間還流し、水洗を行いペンゼンを留去し
、残留物をエタノールより再結晶させて目的物が得られ
る。
、残留物をエタノールより再結晶させて目的物が得られ
る。
こ仁で得た化合物の赤外吸収スペクトルから17305
1″IKエステルの吸収が表われ、tた質量スペクトル
では分子イオンビークがm/e4szK現われている。
1″IKエステルの吸収が表われ、tた質量スペクトル
では分子イオンビークがm/e4szK現われている。
これら両事実と原料化合物との関係からここで合成した
化合物は下式で示されるトランス、トランス−4−プロ
ピルピックロヘキサン−4′−イル−p−(トランス−
4#−プロピルシクロヘキシル)ベンゾエート であることがiigされ友。
化合物は下式で示されるトランス、トランス−4−プロ
ピルピックロヘキサン−4′−イル−p−(トランス−
4#−プロピルシクロヘキシル)ベンゾエート であることがiigされ友。
溶液(含有率30%)並びにピリジン20gを加える。
その後、6時間還流し、水洗を行いベンゼンを留去し、
残留物をヘキサンより再結晶させて目的物が得られる。
残留物をヘキサンより再結晶させて目的物が得られる。
ここで得九化合物の赤外吸収スペクトルから1740m
−’にエステルの吸収が表われ、また質量スペクトルで
は分子イオンビークがm/6446に現われている。こ
れら両事実と原料化合物との関係からここで合成した化
合物は下式で示される4−プロピルビフェニル−4’
−fルートランス、トランス−4#−プロビルビシクロ
ヘキサ/−4′−カルボ中シレート であることが確認された。
−’にエステルの吸収が表われ、また質量スペクトルで
は分子イオンビークがm/6446に現われている。こ
れら両事実と原料化合物との関係からここで合成した化
合物は下式で示される4−プロピルビフェニル−4’
−fルートランス、トランス−4#−プロビルビシクロ
ヘキサ/−4′−カルボ中シレート であることが確認された。
尚、この化合物の相転移置fは223〜318Cであっ
た。
た。
液(含有率20%)にピリジン15gを加える。
その後、10時間還流し、水洗を行いべ/ゼ/を留去し
、残留物をへ中す/よシ再結晶させて目的物が得られる
。
、残留物をへ中す/よシ再結晶させて目的物が得られる
。
ここで得た化合物の赤外吸収スペクトルから1750e
x−”にエステルの吸収が表われ、また質量スペクトル
では分子イオンビークがm/6452Kllわれている
。これら両事実と原料化合物との関係からここで合成し
た化合物は下式で示されるP−()Fンスー4−プロピ
ルシクロヘキシル)フェニルエト2ンス、トランス−4
′−クロビルビシクロへ中サン−4“−カルボキシレー
トであることが確認され友。
x−”にエステルの吸収が表われ、また質量スペクトル
では分子イオンビークがm/6452Kllわれている
。これら両事実と原料化合物との関係からここで合成し
た化合物は下式で示されるP−()Fンスー4−プロピ
ルシクロヘキシル)フェニルエト2ンス、トランス−4
′−クロビルビシクロへ中サン−4“−カルボキシレー
トであることが確認され友。
陶、この化合物の相転移温度は208〜318Cであり
九。
九。
液(含有率50%]並びにピリジン30gを加える。そ
の後、15時間還流し、水洗を行いベンゼンを留去し、
残留物tヘキサンよシ再結晶させる目的物が得られる。
の後、15時間還流し、水洗を行いベンゼンを留去し、
残留物tヘキサンよシ再結晶させる目的物が得られる。
ここで得九化合物の赤外吸収スペクトルから1730c
III−’にエステルの吸収が表われ、また質量スペク
トルでは分子イオンビークがm/6452に現われてい
る。これら両事実と原料化合物との関係からここで合成
し良化合物は下式で示されるトラ/スー4−(P−70
ビルフエニル]シクロヘキフル=トランス、ト2/スー
4′−プロピルビシクロへ中サンー4″−力ルボキシレ
ートであることが確認された。
III−’にエステルの吸収が表われ、また質量スペク
トルでは分子イオンビークがm/6452に現われてい
る。これら両事実と原料化合物との関係からここで合成
し良化合物は下式で示されるトラ/スー4−(P−70
ビルフエニル]シクロヘキフル=トランス、ト2/スー
4′−プロピルビシクロへ中サンー4″−力ルボキシレ
ートであることが確認された。
液(含有率40%]並びにビリジy25gk加える。そ
の後、18時間還流し、水洗を行いべ/ゼンを留去し、
残留物をヘキサンよp再結晶させて目的−を得た。
の後、18時間還流し、水洗を行いべ/ゼンを留去し、
残留物をヘキサンよp再結晶させて目的−を得た。
ここで得た化合物の赤外吸収スペクトルから17455
1− ”にエステルの吸収が表われ、また質量スペクト
ルでは分子イオンビークがm/・458に現われている
。これら両事夷と原料化合物との関係からここで合成し
た化合物は下式で示されるトランス、トランス−4−プ
ロピルビシクロヘキサン−4′−イル;トランス、トラ
ンス−4#−プロピルビシクロヘキサン−41−カルボ
キシレート である仁とが確li!された。
1− ”にエステルの吸収が表われ、また質量スペクト
ルでは分子イオンビークがm/・458に現われている
。これら両事夷と原料化合物との関係からここで合成し
た化合物は下式で示されるトランス、トランス−4−プ
ロピルビシクロヘキサン−4′−イル;トランス、トラ
ンス−4#−プロピルビシクロヘキサン−41−カルボ
キシレート である仁とが確li!された。
実施例 17
実施例1で合成した液晶化合物を既存の液晶化晶温直範
囲並びに粘frill定した。その結果を次表に示す0
表が示す通p本実施例による液晶組成物は1人、Bに比
較して粘度は約6〜11’i−t pの上昇にとどま〕
、液晶温度範囲を約30〜60Cと大4に向上させるこ
とができる。
囲並びに粘frill定した。その結果を次表に示す0
表が示す通p本実施例による液晶組成物は1人、Bに比
較して粘度は約6〜11’i−t pの上昇にとどま〕
、液晶温度範囲を約30〜60Cと大4に向上させるこ
とができる。
*Xa例 18
実施例17に示した母体液晶BK実施例1に示した液晶
化合物を20重量%添加したものを液晶層としてTNI
Iの液晶表示素子を作成した。この液晶表示素子は上下
各ガラス基板の内側に透明ネサ電極を形成し、更に液晶
分子を配向させる為(イミド系高分子化合物の配向制御
膜を形成したものである。上下基板間は液晶層の厚さが
約10μmとなるようにギャップ制御を行った。この液
晶表示素子に周囲の温t−aot:’の環境上で6vの
電圧を印加し九ところ、応答時間は1.7秒であった。
化合物を20重量%添加したものを液晶層としてTNI
Iの液晶表示素子を作成した。この液晶表示素子は上下
各ガラス基板の内側に透明ネサ電極を形成し、更に液晶
分子を配向させる為(イミド系高分子化合物の配向制御
膜を形成したものである。上下基板間は液晶層の厚さが
約10μmとなるようにギャップ制御を行った。この液
晶表示素子に周囲の温t−aot:’の環境上で6vの
電圧を印加し九ところ、応答時間は1.7秒であった。
陶、液晶層を母体液晶Bのみとした液晶表示素子におい
ては同条件にて応答時間が&6秒であった。
ては同条件にて応答時間が&6秒であった。
以上に説明したように、本発明の液晶化合物によれば、
液晶組成物の粘[tTo14)上げずに液晶温度範囲の
特に上@七人幅に向上させることが可能となる。しかも
この化合物を含む液晶組成物によれば液晶表示素子の応
答特性が向上することになる。
液晶組成物の粘[tTo14)上げずに液晶温度範囲の
特に上@七人幅に向上させることが可能となる。しかも
この化合物を含む液晶組成物によれば液晶表示素子の応
答特性が向上することになる。
図は本発明の一実施例に係る液晶化合物の赤外第1頁の
続き 0発 明 者 古藤薫 東京都中央区日本橋本町3丁目 7番地関東化学株式会社内 0発 明 者 大森秀樹 東京都中央区日本橋本町3丁目 7番地関東化学株式会社内 0発 明 者 横倉久男 日立市幸町3丁目1番1号株式 %式% 日立市幸町3丁目1番1号株式 会社日立製作所日立研究所内 0発 明 者 服部紳太部 日立市幸町3丁目1番1号株式 %式% 日立市幸町3丁目1番1号株式 会社日立製作所日立研究所内 0発 明 者 向尾昭夫 日立市幸町3丁目1番1号株式 %式% 日立市幸町3丁目1番1号株式 会社日立製作所日立研究所内 ■出 願 人 株式会社日立製作所 東京都千代田区丸の内−丁目5 番1号
続き 0発 明 者 古藤薫 東京都中央区日本橋本町3丁目 7番地関東化学株式会社内 0発 明 者 大森秀樹 東京都中央区日本橋本町3丁目 7番地関東化学株式会社内 0発 明 者 横倉久男 日立市幸町3丁目1番1号株式 %式% 日立市幸町3丁目1番1号株式 会社日立製作所日立研究所内 0発 明 者 服部紳太部 日立市幸町3丁目1番1号株式 %式% 日立市幸町3丁目1番1号株式 会社日立製作所日立研究所内 0発 明 者 向尾昭夫 日立市幸町3丁目1番1号株式 %式% 日立市幸町3丁目1番1号株式 会社日立製作所日立研究所内 ■出 願 人 株式会社日立製作所 東京都千代田区丸の内−丁目5 番1号
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式B−X−X’−Co、−Y−Y’−R’(式
中B、B/は夫々アルキル基を示し、x。 8、前記壷アルキル基4り*素原子数が−ずれも1〜易
で番ることを特徴とする特許請求の範−纂ligvas
ot晶化合物。 3、一般式&=−X−X’−CO,−Y−Y’−1’と
することを脣黴とする液晶組成物。 4.3枚の対向す為電極基板間に液晶層を挾持し。 該電極基板間に電圧を印加して骸液晶層を光学的に変調
させる液晶表示素子において、前記液晶層を形成する液
晶組成物が一般式凡−x−x’−Co、 −Y−Y’
−R’ (式中、R,R’は夫々晶化合物を少なくとも
一組成成分とすることを特徴とす411晶表示素子。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57021083A JPS58140045A (ja) | 1982-02-15 | 1982-02-15 | 液晶化合物,液晶組成物並びに液晶表示素子 |
DE8383101410T DE3361514D1 (en) | 1982-02-15 | 1983-02-14 | Liquid crystal compound and liquid crystal composition |
EP83101410A EP0087102B1 (en) | 1982-02-15 | 1983-02-14 | Liquid crystal compound and liquid crystal composition |
US06/610,439 US4584120A (en) | 1982-02-15 | 1984-05-15 | Liquid crystal compound and liquid crystal composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57021083A JPS58140045A (ja) | 1982-02-15 | 1982-02-15 | 液晶化合物,液晶組成物並びに液晶表示素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58140045A true JPS58140045A (ja) | 1983-08-19 |
JPS6126980B2 JPS6126980B2 (ja) | 1986-06-23 |
Family
ID=12044984
Family Applications (1)
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JP57021083A Granted JPS58140045A (ja) | 1982-02-15 | 1982-02-15 | 液晶化合物,液晶組成物並びに液晶表示素子 |
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DE3604899A1 (de) * | 1986-02-17 | 1987-08-20 | Hoechst Ag | Chirale umsetzungsprodukte aus mesogenen molekuelbausteinen und bifunktionell reaktionsfaehigen butantetraolderivaten und ihre verwendung als dotierstoff in fluessigkristall-phasen |
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US5288427A (en) * | 1987-02-18 | 1994-02-22 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Electrooptical display element |
JP2917286B2 (ja) * | 1989-03-28 | 1999-07-12 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置 |
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GB2009219B (en) * | 1977-11-02 | 1982-04-28 | Secr Defence | Liquid ctystal material mixtures and devices incorporating such mixtures |
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-
1983
- 1983-02-14 EP EP83101410A patent/EP0087102B1/en not_active Expired
- 1983-02-14 DE DE8383101410T patent/DE3361514D1/de not_active Expired
-
1984
- 1984-05-15 US US06/610,439 patent/US4584120A/en not_active Expired - Lifetime
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EP0087102B1 (en) | 1985-12-18 |
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