JPH0466857B2 - - Google Patents

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JPH0466857B2
JPH0466857B2 JP58219378A JP21937883A JPH0466857B2 JP H0466857 B2 JPH0466857 B2 JP H0466857B2 JP 58219378 A JP58219378 A JP 58219378A JP 21937883 A JP21937883 A JP 21937883A JP H0466857 B2 JPH0466857 B2 JP H0466857B2
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acid
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pyridine
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Tadao Nakada
Teruo Kitamura
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Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕 本発明は、新規なエステル型液晶性化合物、そ
れを含有する液晶組成物、及び該液晶組成物を液
晶層とする液晶表示素子に関する。 〔発明の背景〕 液晶を用いた電気光学的表示素子には、従来よ
り様々な表示原理が応用され、実用化されてい
る。なかでも、ねじれ配向をもつネマチツク液晶
を用いたTN型の液晶表示体は、腕時計、電卓な
どに広く利用されている。一方、情報の多様化に
伴い高精細で大面積の表示方式が期待される液晶
表示素子としては、スメクチツク液晶を用いて熱
と電界との相互使用によつて表示する熱書込み方
式が検討されている。それらの中で、ネマチツク
液晶を用いたTN型液晶表示素子と同じ様にスメ
クチツク液晶を用いた熱書込み表示素子にも低電
圧、低出力で駆動することが非常に重要視されて
おり、それに適した液晶化合物を見出すことが要
求されている。一般に液晶表示素子の動作電圧に
対応する液晶のしきい値電圧(Vth)を低くする
には、液晶の誘電率異方性(△ε)を大きくする
必要がある。これまで知られている中で、代表的
なスメクチツク液晶で比較的大きな正の誘導異方
性を示す例としては、一般式及び: (式中、R′は炭素数8〜12の直鎖アルキル基を
示す) (式中、R′O−は炭素数8〜12の直鎖アルコキシ
基を示す) で示される液晶化合物(以下、従来形と略記す
る)がある。しかし、ビフエニル系の液晶化合物
では、液晶の誘電率異方性の物性が不十分であ
り、小さい欠点がある。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、スメクチツク液晶相を示す正
の誘電率異方性が大きい新規なエステル型液晶性
化合物を提供するにあり、またこの液晶性化合物
を一組成成分とする液晶組成物及びそれを液晶層
とする液晶表示素子を提供することにある。 〔発明の概要〕 本発明を概説すれば、本発明の第1の発明は液
晶性化合物の発明であつて、下記一般式: (式中Rはアルキル基を示す)で表されることを
特徴とする。 また、本発明の第2の発明は液晶組成物の発明
であつて、前記一般式で表される液晶性化合物
の少なくとも1種を含有することを特徴とする。 そして、本発明の第3の発明は液晶表示素子の
発明であつて、2枚の対向する電極基板間に液晶
層を挟持し、該電極基板間に電圧を印加して該液
晶層を光学的に変調させる液晶表示素子におい
て、該液晶層を形成する液晶組成物が、前記一般
式で表される液晶性化合物の少なくとも1種を
含有する液晶組成物であることを特徴とする。 従来型のように6員環同志が直接に結合してい
る液晶性化合物では誘導率異方性が小さくなつて
しまう。本発明者等の検討によれば6員環同士の
間にエステル基を結合させると液晶性化合物の誘
電率異方性が従来型よりも比較的大きくなる。し
かし、6員環同士の間にエステル基を用いた、一
般式
【式】で示さ れる液晶化合物はスメクチツク液晶相を示さず、
更に期待する程誘電率異方性が大きくない。 そこで本発明者等は別の方面からスメクチツク
液晶で誘電率異方性が大きくなる液晶性化合物を
見出すべく検討を重ねた。その結果分子長軸方向
に双極子モーメント誘電率が大きいシアノ基(−
CN)などは誘電率異方性は大きくなる。しか
し、シアノ基が導入されるとスメクチツク相を示
しにくい。また、分子長軸方向に双極子モーメン
ト誘電率が小さいアルキル基(−R)及びアルコ
キシ基(−OR)などは誘導率異方性は小さくな
る。しかし、スメクチツク液晶相を示しやすい。
したがつて、スメクチツク液晶相の示しやすさと
誘導率異方性の大きくなる方向は相反する傾向が
見られる。そこで本発明者等は、スメクチツク液
晶相と誘電率異方性を大きくする両立性を考慮
し、分子間力異方性の観点から6員環に直接結合
する一方の非環状基にはシアノ基の代りにニトロ
基(−NO2)を介在させ、他方の非環状基には
6員環同士を結合させたエステル基と同じ効果を
有すアシルオキシ基(RCO2−)を介在させるこ
とを試み、分子長軸方向と短軸方向の分子間力異
方性を考慮させたエステル型の新規な液晶性化合
物を合成し、本発明に至つた。 なお、両端の非環状末端基の両端にアシルオキ
シ基が導入されると、スメクチツク液晶になりや
すく誘電率異方性が非常に小さくなる。したがつ
て、本発明ではアシルオキシ基を含む非環状末端
基がある場合、そのような基は一端だけに設けら
れる。 また、非環状末端基は6員環同士の結合部に対
してそれぞれパラ位に位置することによつて液晶
分子が直線化し、スメクチツク液晶相がより一層
図れる。 他方、非環状末端基のアシルオキシ基の炭素原
子数15以下が望ましい。これはやはりスメクチツ
ク液晶層がより一層図れるからである。 本発明の液晶性化合物は例えば次のようにして
得られる。 (
【式】の合 成) RCOlの酸塩化物と
【式】 をベンゼン−ピリジン混液のような塩基の作用に
より縮合させて
【式】を得 る。これに塩化チオニルを加えて還流下に加熱し
て酸塩化物とし、過剰の塩化チオニルを減圧下で
完全に留去して、式
【式】 の酸塩化物を得る。更に
【式】 を室温で溶解可能な量の例えばピリジンに溶解し
た冷溶液を調製し、これに先の酸塩化物の不活性
溶媒溶液をかくはん下に滴下し室温で反応させ
る。反応終了後、反応物は氷冷して水に注ぎ出
し、水層を分離しピリジン塩を洗浄する。次い
で、不活性溶媒を留出後、適当な再結晶溶媒(エ
タノールなど)を用いて精製すると無色の結晶で
ある
〔発明の実施例〕
以下に本発明を実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されない。なお、相
転移温度の値は測定方法や純度により若干の変動
を伴うものである。以下の説明中、相転移温度に
おいて()に示す値はモノトロピツク転移温度を
示す。 なおまた、添付図面の第1図及び第2図は、本
発明の液晶性化合物の例の赤外吸収スペクトル線
図である。 実施例 1 <4−イナノイルオキシ安息香酸−4′−ニトロ
フエニル(略号8AN)の製造方法と物性> まず、p−ヒドロキシ安息香酸13.8g(0.1
モル)をベンゼン−ピリジン混液(ベンゼン:
ピリジン=10:0.1、以下同じ)中で懸濁させ
ながら氷中で冷す。その後、塩化ノナノイル
21.3g(0.12モル)を10℃以下で適下した。更
に、適下後15℃で4時間熟成する。熟成後減圧
にしてベンゼン及びピリジンを留去して水洗し
た。水洗した後エーテルを注加して更に水洗、
K2CO3乾燥後エーテルを蒸着留去し、残つた
結晶物をエタノールで再結晶して無色の結晶
【式】を得た。 その後、
【式】 27.8g(0.1モル)をベンゼン50mlに溶解後氷
中で冷す。更に過剰の塩化チオニル23.8g
(0.2モル)を加え60〜70℃の油浴中で3時間還
流する。終了後過剰の塩化チオニルを留去後蒸
留して
【式】を得た。 更に、p−ニトロフエノール13.9g(0.1モ
ル)をベンゼン−ピリジン混液中で懸濁させな
がら氷中で冷す。その後前記で合成した
【式】35.6g(0.12モ ル)を10℃以下で適下した。更に、滴下後15℃
で4時間熟成する。熟成後減圧にしてベンゼン
及びピリジンを留去して水洗した。水洗した後
エーテルを注加して更に水洗、K2CO3乾燥後
エーテルを蒸留留去し、残つた結晶物をエタノ
ールで再結晶して無色の結晶 を得た。この化合物すなわち4−ノナノイルオ
キシ安息香酸−4′−ニトロフエニルは55〜69℃
でネマチツク液晶状態(51℃でスメクチツク液
晶状態)を示す液晶性化合物であつた。また、
その元素分析値は次のごとくで、その赤外吸収
スペクトルは第1図に示す。 分析値 計算値(C22H25NO6として) C 66.18% 66.16% H 6.24% 6.30% N 3.48% 3.51% 実施例 2 <4−ドデカノイルオキシ安息香酸−4′−ニト
ロフエニル(略号11AN)の製造方法と物性> まず、p−ヒドロキシ安息香酸13.8g(0.1モ
ル)をベンゼン−ピリジン混液中で懸濁させなが
ら氷中で冷す。その後、塩化ドデカノイル26.3g
(0.12モル)を10℃以下で適下した。更に、適下
後15℃で4時間熟成する。熟成後減圧にしてベン
ゼン及びピリジンを留去して水洗した。水洗した
後エーテルを注加して更に水洗、K2CO3乾燥後
エーテルを蒸留留去し、残つた結晶物をエタノー
ルで再結晶して無色の結晶
【式】を得た。 その後、
【式】31.6 g(0.1モル)をベンゼン50mlに溶解後氷中で冷
す。更に過剰の塩化チオニル23.8g(0.2モル)
を加え60〜70℃の油浴中で3時間還流する。終了
後過剰の塩化チオニルを留去後蒸留して
【式】を得た。 更に、p−ニトロフエノール13.9g(0.1モル)
をベンゼン−ピリジン混液中で懸濁させながら氷
中で冷す。その後前記で合成した
【式】40.6g(0.12モ ル)を10℃以下でベンゼンに溶解して滴下した。
更に、滴下後15℃で4時間熟成する。熟成後減圧
にしてベンゼン及びピリジンを留去して水洗し
た。水洗した後エーテルを注加して更に水洗、
K2CO3乾燥後エーテルを蒸留留去し、残つた結
晶物をエタノールで再結晶して無色の結晶 を得た。この化合物すなわち4−ドデカノイルオ
キシ安息香酸−4′−ニトロフエニルは65〜83℃で
スメクチツク液晶状態を示す液晶性化合物であつ
た。また、その元素分析値は次のごとくである。 分析値 計算値(C25H31NO6として) C 68.10% 69.02% H 7.11% 7.07% N 3.16% 3.17% 実施例 3 <4−テトラドデカノイルオキシ安息香酸−
4′−ニトロフエニル(略号13AN)の製造方法
と物性> まず、p−ヒドロキシ安息香酸13.8g(0.1モ
ル)をベンゼン−ピリジン混液中で懸濁させなが
ら氷中で冷す。その後、塩化テトラデカノイル
29.6g(0.12モル)を10℃以下で滴下した。更
に、滴下後15℃で4時間熟成する。熟成後減圧に
してベンゼン及びピリジンを留去して水洗した。
水洗した後エーテルを注加して更に水洗、
K2CO3乾燥後エーテルを蒸留留去し、残つた結
晶物をエタノールで再結晶して無色の結晶
【式】を得た。 その後、
【式】34.8 g(0.1モル)をベンゼン50mlに溶解後氷中で冷
す。更に過剰の塩化チオニル23.8g(0.2モル)
を加え60〜70℃の油浴中で3時間還流する。終了
後過剰の塩化チオニルを留去後蒸留して
【式】を得た。 更に、p−ニトロフエノール13.9g(0.1モル)
をベンゼン−ピリジン混液中で懸濁させながら氷
中で冷す。その後前記で合成した
【式】44.0g(0.12モ ル)を10℃以下でベンゼンに溶解して滴下した。
更に、滴下後20℃で5時間熟成する。熟成後減圧
にしてベンゼン及びピリジンを留去して水洗し
た。水洗した後エーテルを注加して更に水洗、
K2CO3乾燥後エーテルを蒸留留去し、残つた結
晶物をエタノールで再結晶して無色の結晶 を得た。この化合物すなわち4−テトラデカノイ
ルオキシ安息香酸−4′−ニトロフエニルは73〜90
℃でスメクチツク液晶状態を示す液晶性化合物で
あつた。また、その元素分析値は次のごとくで、
その赤外吸収スペクトルは第2図に示す。 分析値 計算値(C27H35NO6として) C 69.12% 69.07% H 7.51% 7.51% N 2.99% 2.98% 同様にして以下に例示する化合物が得られる。
4−プロパノイルオキシ安息香酸−4−ニトロフ
エニルエステル、4−ブタノイルオキシ安息香酸
−4−ニトロフエニルエステル、4−ペンタノイ
ルオキシ安息香酸−4−ニトロフエニルエステ
ル、4−ヘキサノイルオキシ安息香酸−4−ニト
ロフエニルエステル、4−ヘプタノイルオキシ安
息香酸−4−ニトロフエニルエステル、4−デカ
ノイルオキシ安息香酸−4−ニトロフエニルエス
テル、4−ウンデカノイルオキシ安息香酸−4−
ニトロフエニルエステル、4−トリデカノイルオ
キシ安息香酸−4−ニトロフエニルエステル、4
−ペンタデカノイルオキシ安息香酸−4−ニトロ
フエニルエステルなど。 実施例 4 (
【式】の 合成) R−OHのアルコールと1/2モルの
【式】をベンゼン−ピリジ ン混液のような塩基の作用により縮合させて
【式】を得る。他方、
【式】を室温で溶解可能な量の ピリジンに溶解した冷溶液を調製し、これに先の
酸塩化物の不活性溶媒溶液をかくはん下に滴下し
室温で反応させる。反応終了後、反応物は氷冷し
て水に注ぎ出し水層を分離しピリジン塩を洗浄す
る。次いで、不活性溶媒を留出後、適当な再結晶
溶媒を用いて精製すると無色の結晶である
【式】を得る。 下記に合成化合物の一例を示す。 4−プロポキシカルボニル安息香酸−4−ニト
ロフエニルエステル、4−ブトキシカルボニル安
息香酸−4−ニトロフエニルエステル、4−ペン
チルオキシカルボニル安息香酸−4−ニトロフエ
ニルエステル、4−ヘキシルオキシカルボニル安
息香酸−4−ニトロフエニルエステル、4−ヘプ
チルオキシカルボニル安息香酸−4−ニトロフエ
ニルエステル、4−オクチルオキシカルボニル安
息香酸−4−ニトロフエニルエステル、4−ノニ
ルオキカルボニル安息香酸−4−ニトロフエニル
エステル、4−デシルオキシカルボニル安息香酸
−4−ニトロフエニルエステル、4−ウンデシル
オキシカルボニル安息香酸−4−ニトロフエニル
エステル、4−ドデシルオキシカルボニル安息香
酸−4−ニトロフエニルエステル、4−トリデシ
ルオキシカルボニル安息香酸−4−ニトロフエニ
ルエステル、4−テトラデシルオキシカルボニル
安息香酸−4−ニトロフエニルエステル、4−ペ
ンタデシルオキシカルボニル安息香酸−4−ニト
ロフエニルエステルなど。 実施例 5 ( の合成)
【式】に塩化チオニルを加 えて還流下に加熱して酸塩化物とし、過剰の塩化
チオニルを減圧下で完全に留去して、
【式】酸塩化物を得る。他 方、
【式】を室温で溶解可能 な量のピリジンに溶解した冷溶液を調整し、これ
に先の酸塩化物の不活性溶媒溶液をかくはん下に
滴下し室温で反応させて を得る。次いでこれに塩化チオニルを加えて還流
下に加熱して酸塩化物とし、過剰の塩化チオニル
を減圧下で完全に留去して、
【式】する。 更に、上記で得た酸塩化物にR−OHを縮合させ
て、 を得る。 下記に合成化合物の一例を示す。 4−ニトロ安息香酸−4−プロポキシカルボニ
ルフエニルエステル、4−ニトロ安息香酸−4−
ブトキシカルボニルフエニルエステル、4−ニト
ロ安息香酸−4−ペンチルオキシルカルボニルフ
エニルエステル、4−ニトロ安息香酸−4−ヘキ
シルオキシカルボニルフエニルエステル、4−ニ
トロ安息香酸−4−ヘプチルオキシカルボニルフ
エニルエステル、4−ニトロ安息香酸−4−オク
チルオキシカルボニルフエニルエステル、4−ニ
トロ安息香酸−4−ノニルオキシカルボニルフエ
ニルエステル、4−ニトロ安息香酸−4−デシル
オキシカルボニルフエニルエステル、4−ニトロ
安息香酸−4−ウンデシルオキシカルボニルフエ
ニルエステル、4−ニトロ安息香酸−4−ドデシ
ルオキシカルボニルフエニルエステル、4−ニト
ロ安息香酸−4−トリデシルオキシカルボニルフ
エニルエステル、4−ニトロ安息香酸−4−テト
ラデシルオキシルカルボニルフエニルエステル、
4−ニトロ安息香酸−4−ペンタデシルオキシカ
ルボニルフエニルエステルなど。 実施例 6 (
【式】の 合成) R−COClの酸塩化物と1/2モルの
【式】をベンゼン−ピリジン混液 のような塩基の作用により縮合させて
【式】を得る。他方、
【式】に塩化チオニルを加え て還流下に加熱して酸塩化物とし、過剰の塩化チ
オニルを減圧下で完全に留去して、
【式】酸塩化物を得る。更 に、前記で得た
【式】を室温で 溶解可能な量のピリジンに溶解した冷溶液を調製
し、これに先の酸塩化物の不活性溶媒液をかくは
ん下に滴下し室温で反応させる。反応終了後、反
応物は氷冷して水に注ぎ出し、水層を分離しピリ
ジン塩を洗浄する。次いで、不活性溶媒を留出
後、適当な再結晶溶媒を用いて精製すると無色の
結晶である
【式】を得る。 下記に合成化合物の一例を示す。 4−ニトロ安息香酸−4−プロパノイルオキシ
フエニルエステル、4−ニトロ安息香酸−4−ブ
タノイルオキシフエニルエステル、4−ニトロ安
息香酸−ペンタノイルオキシフエニルエステル、
4−ニトロ安息香酸−ヘキサノイルオキシフエニ
ルエステル、4−ニトロ安息香酸−ヘプタノイル
オキシフエニルエステル、4−ニトロ安息香酸−
オクタノイルオキシフエニルエステル、4−ニト
ロ安息香酸−ノナノイルオキシフエニルエステ
ル、4−ニトロ安息香酸−デカノイルオキシフエ
ニルエステル、4−ニトロ安息香酸−ウンデカノ
イルオキシフエニルエステル、4−ニトロ安息香
酸−ドデカノイルオキシフエニルエステル、4−
ニトロ安息香酸−トリデカノイルオキシフエニル
エステル、4−ニトロ安息香酸−テトラデカノイ
ルオキシフエニルエステル、4−ニトロ安息香酸
−ペンタデカノイルオキシフエニルエステルな
ど。 実施例 7 (
【式】の 合成) RCOClの酸塩化物と
【式】 をベンゼン−ピリジン混液のような塩基の作用に
より縮合させて
【式】を得 る。これに塩化チオニルを加えて還流下に加熱し
て酸塩化物とし、過剰の塩化チオニルを減圧下で
完全に留去して、
【式】酸 塩化物を得る。更に
【式】を室 温で溶解可能な量のピリジンに溶解した冷溶液を
調製し、これに先の酸塩化物の不活性溶媒溶液を
かくはん下に滴下し室温で反応させる。反応終了
後、反応物は氷冷して水に注ぎ出し、水層を分離
しピリジン塩を洗浄する。次いで、不活性溶媒を
留出後、適当な再結晶溶媒を用いて精製すると無
色の結晶である
【式】を得る。 下記に合成化合物の一例を示す。 トランス−4−プロパノイルオキシシクロヘキ
サンカルボン酸−4−ニトロフエニルエステル、
トランス−4−ブタノイルオキシシクロヘキサン
カルボン酸−4−ニトロフエニルエステル、トラ
ンス−4−ペンタノイルオキシシクロヘキサンカ
ルボン酸−4−ニトロフエニルエステル、トラン
ス−4−ヘキサノイルオキシシクロヘキサンカル
ボン酸−4−ニトロフエニルエステル、トランス
−4−ヘプタノイルオキシシクロヘキサンカルボ
ン酸−4−ニトロフエニルエステル、トランス−
4−オクタノイルオキシシクロヘキサンカルボン
酸−4−ニトロフエニルエステル、トランス−4
−ノナノイルオキシシクロヘキサンカルボン酸−
4−ニトロフエニルエステル、トランス−4−デ
カノイルオキシシクロヘキサンカルボン酸−4−
ニトロフエニルエステル、トランス−4−ウンデ
カノイルオキシシクロヘキサンカルボン酸−4−
ニトロフエニルエステル、トランス−4−トリデ
カノイルオキシシクロヘキサンカルボン酸−4−
ニトロフエニルエステル、トランス−4−テトラ
デカノイルオキシシクロヘキサンカルボン酸−4
−ニトロフエニルエステル、トランス−4−ペン
タデカノイルオキシシクロヘキサンカルボン酸−
4−ニトロフエニルエステルなど。 実施例 8 ( の合成) R−OHのフエノールと1/2モルの
【式】をベンゼン−ピリジ ン混液のような塩基の作用により縮合させて
【式】を得る。他方、
【式】を室温で溶解可 能な量のピリジンに溶解した冷溶液を調製し、こ
れに先の酸塩化物の不活性溶媒溶液をかくはん下
に滴下し室温で反応させる。反応終了後、反応物
は氷冷して水に注ぎ出し、水層を分離しピリジン
塩を洗浄する。次いで、不活性溶媒を留出後、適
当な再結晶溶媒を用いて精製すると無色の結晶で
ある を得る。 下記に合成化合物の一例を示す。 4−プロボキシカルボニル安息香酸−4−ニト
ロ−4′−ビフエニリルエステル、4−ブトキシカ
ルボニル安息香酸−4−ニトロ−4′−ビフエニリ
ルエステル、4−ペンチルオキシカルボニル安息
香酸−4−ニトロ−4′−ビフエニリルエステル、
4−ヘキシルオキシカルボニル安息香酸−4−ニ
トロ−4′−ビフエニルエステル、4−ヘプチオキ
シルカルボニル安息香酸−4−ニトロ−4′−ビフ
エニリルエステル、4−オクチルオキシカルボニ
ル安息香酸−4−ニトロ−4′−ビフエニリルエス
テル、4−ノニルオキシカルボニル安息香酸−4
−ニトロ−4′−ビフエニリルエステル、4−デシ
ルオキシカルボニル安息香酸−4−ニトロ−4′−
ビフエニリルエステル、4−ウンデシルオキシル
カルボニル安息香酸−4−ニトロ−4′−ビフエニ
リルエステル、4−ドデシルオキシルカルボニル
安息香酸−4−ニトロ−4′−ビフエニリルエステ
ル、4−トリデシルオキシカルボニル安息香酸−
4−ニトロ−4′−ビフエニリルエステル、4−テ
トラデシルオキシカルボニル安息香酸−4−ニト
ロ−4′−ビフエニリルエステル、4−ペンタデシ
ルオキシカルボニル安息香酸−4−ニトロ−4′−
ビフエニルエステルなど。 実施例 9 ( の合成) RCOClの酸塩化物と
【式】 をベンゼン−ピリジン混液のような塩基の作用に
より縮合させて
【式】を得 る。これに塩化チオニルを加えて還流下に加熱し
て酸塩化物とし、過剰の塩化チオニルを減圧下で
完全に留去して、
【式】酸 塩化物を得る。更に
【式】を室温で溶解可 能な量のピリジンに溶解した冷溶液を調製し、こ
れに先の酸塩化物の不活性溶媒液をかくはん下に
滴下し室温で反応させる。反応終了後、反応物は
氷冷して水に注ぎ出し、水層を分離しピリジン塩
を洗浄する。次いで、不活性溶媒を留出後、適当
な再結晶溶媒を用いて精製すると無色の結晶であ
を得る。 下記に合成化合物の一例を示す。 4−プロパノイルオキシ安息香酸−4−ニトロ
−4′−ビフエニリルエステル、4−ブタノイルオ
キシ安息香酸−4−ニトロ−4′−ビフエニリルエ
ステル、4−ペンタノイルオキシ安息香酸−4−
ニトロ−4′−ビフエニリルエステル、4−ヘキサ
ノイルオキシ安息香酸−4−ニトロ−4′−ビフエ
ニリルエステル、4−ヘブタノイルオキシ安息香
酸−4−ニトロ−4′−ビフエニリルエステル、4
−オクタノイルオキシ安息香酸−4−ニトロ−
4′−ビフエニリルエステル、4−ノナノイルオキ
シ安息香酸−4−ニトロ−4′−ビフエニリルエス
テル、4−デカノイルオキシ安息香酸−4−ニト
ロ−4′−ビフエニリルエステル、4−ウンデカノ
イルオキシ安息香酸−4−ニトロ−4′−ビフエニ
リルエステル、4−ドデカノイルオキシ安息香酸
−4−ニトロ−4′−ビフエニリルエステル、4−
トリデカノイルオキシ安息香酸−4−ニトロ−
4′−ビフエニリルエステル、4−テトラデカノイ
ルオキシ安息香酸−4−ニトロ−4′−ビフエニリ
ルエステル、4−ペンタデカノイルオキシ安息香
酸−4−ニトロ−4′−ビフエニリルエステルな
ど。 実施例 10 ( の合成) RCOClの酸塩化物と
【式】をベンゼン− ピリジン混液のような塩基の使用により縮合させ
【式】を得る。 これに塩化チオニルを加えて還流下に加熱して酸
塩化物とし、過剰の塩基チオニルを減圧下で完全
に留去して、
【式】酸塩化物を 得る。更に
【式】を室 温で溶解可能な量のピリジンに溶解した冷溶液を
調製し、これに先の酸塩化物の不活性溶媒溶液を
かくはん下に滴下し室温で反応させる。反応終了
後、反応物は氷冷して水に注ぎ出し、水層を分離
しピリジン塩を洗浄する。次いで、不活性溶媒を
留出後、適当な再結晶溶媒を用いて精製すると無
色の結晶である を得る。 下記に合成化合物の一例を示す。 4−プロパノイルオキシ−4′−ビフエニルカル
ボン酸−4−ニトロフエニルエステル、4−ブタ
ノイルオキシ−4′−ビフエニルカルボン酸−4−
ニトロフエニルエステル、4−ペンタノイルオキ
シ−4′−ビフエニルカルボン酸−4−ニトロフエ
ニルエステル、4−ヘキサノイルオキシ−4′−ビ
フエニルカルボン酸−4−ニトロフエニルエステ
ル、4−ヘプタノイルオキシ−4′−ビフエニルカ
ルボン酸−4−ニトロフエニルエステル、4−オ
クタノイルオキシ−4′−ビフエニルエカルボン酸
−4−ニトロフエニルエステル、4−ノナノイル
オキシ−4′−ビフエニルカルボン酸−4−ニトロ
フエニルエステル、4−デカノイルオキシ−4′−
ビフエニルカルボン酸−4−ニトロフエニルエス
テル、4−ウンデカノイルオキシ−4′−ビフエニ
ルカルボン酸−4−ニトロフエニルエステル、4
−ドデカノイルオキシ−4′−ビフエニルカルボン
酸−4−ニトロフエニルエステル、4−トリデカ
ノイルオキシ−4′−ビフエニルカルボン酸−4−
ニトロフエニルエステル、4−テトラデカノイル
オキシ−4′−ビフエニルカルボン酸−4−ニトロ
フエニルエステル、4−ペンタデカノイルオキシ
−4′−ビフエニルカルボン酸−4−ニトロフエニ
ルエステルなど。 実施例 11 ビフエニル系の既存液晶を、
【式】と
【式】とを1:1に 混合して調製した。その後、合成した液晶性化合
物8ANを10、20、又は30重量%混合して組成物
を調合し、相転移温度並びに誘電率異方性を測定
した。その結果を表1に他の例を一緒に示す。 実施例 12 実施例11のビフエニル系の既存液晶に合成した
液晶性化合物11ANを10、20、又は30重量%混合
して組成物を調合し、相転移温度並びに誘電率異
方性を測定した。その結果を表1に示す。 実施例 13 実施例11のビフエニル系の既存液晶に合成した
液晶性化合物13ANを10、20、又は30重量%混合
して組成物を調合し、相転移温度並びに誘電率異
方性を測定した。その結果を表1に示す。
【表】
〔発明の効果〕
以上、説明したように本発明の新規なエステル
型液晶性化合物は、スメクチツク液晶相を示す誘
電率異方性を大きくできることから、これを用い
た液晶組成物で熱書込み液晶表示素子の全面消去
電圧を低下させる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明による各種の液晶性
物質の赤外吸収スペクトル線図であり、第3図は
熱書込み液晶表示素子の構成概略図である。 1:ガラス基板、2:透明電極、3:配向膜、
4:スペーサ、5:スメクチツク液晶、6:電圧
電源、7:半透明鏡、8:収束レンズ、9:レー
ザ光、10:白色ランプ、11:拡大鏡、12:
スクリーン。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記一般式: (式中Rはアルキル基を示す)で表されることを
    特徴とする液晶性化合物。 2 下記一般式: (式中Rはアルキル基を示す)で表される液晶性
    化合物の少なくとも1種を含有することを特徴と
    する液晶組成物。 3 該液晶性化合物の配合量が、5重量%以上で
    ある特許請求の範囲第2項記載の液晶組成物。 4 2枚の対向する電極基板間に液晶層を挟持
    し、該電極基板間に電圧を印加して該液晶層を光
    学的に変調させる液晶表示素子において、該液晶
    層を形成する液晶組成物が、下記一般式: (式中Rはアルキル基を示す)で表される液晶性
    化合物の少なくとも1種を含有する液晶組成物で
    あることを特徴とする液晶表示素子。 5 該液晶表示素子が、熱書込み液晶表示素子で
    ある特許請求の範囲第4項記載の液晶表示素子。
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EP0149754A2 (en) 1985-07-31
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