KR920004141B1 - 스멕틱 액정조성물 - Google Patents

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겐지 후라가와
가네쓰구 데라시마
마사또 이소가이
신따로오 핫또리
기시로오 이와사끼
데루오 기다무라
신이찌 사이또오
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가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼
미다 가쓰시게
짓소 가부시기가이샤
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Abstract

내용 없음.

Description

스멕틱 액정조성물
제 1 도 및 제 3 도는 본원 발명의 실시예에 의한 액정성 화합물의 자발분극의 값과 온도의 관계를 나타낸 그래프.
제 2 도는 본원 발명의 실시예에 의한 액정성 화합물의 적외흡수스펙트럼선도.
제 4 도 및 제 5 도는 본원 발명의 실시예에 의한 액정조성물을 사용한 액정표시소자의 응답특성도.
본원 발명은 스멕틱 액정성 화합물을 포함하는 액정조성물에 관한 것이며, 특히 응답성에 우수한 강유전성(强誘電性) 액정재료로서 가장 적합한 스멕틱 액정조성물에 관한 것이다. 현재, 액정표시는 널리 실용에 제공되고 있지만, 그 대부분은 TN(Twisted Nematic)형 표시방식을 채용하고 있다. TN형 표시방식은 소비전력이 적고, 수광형(受光型)이기 때문에 눈의 피로가 적다는 등의 장점을 갖지만, 반면 응답속도가 늦다는 결점을 갖는다. 최근의 표시장치에 대한 요구는 특히 고속응답이 요구되는 경향에 있으며, 이것에 대처하기 위해 액정재료의 개량이 행해지고 있다. 그러나, 발광형의 표시방시(예를들면, 발광다이오드, EL(electroluminescence), 플라즈마디스플레이 등)과 비교하면 응답시간에는 아직 큰 차가 있다. 수광형으로 저소비전력인 액정표시의 장점을 살리고, 더욱이 고속응답할 수 있는 새로운 표시방식을 발견하는 것이 계속되고 있다. 그와 같은 시도의 하나로 강유전성 액정의 광스위칭현상을 이용한 표시디바이스[예를들면, N.A. Clark, S.T. Lagerwall, Appl. Phys. Lett., 36, 899(1980)]가 있다. 강유전성 액정은 메이어(R.B. Meyer)등에 의해 발견된 것으로서[R.B. Meyer등, J. Phyoique, 36, L-69(1975)], 분자배열상 카이럴스멕틱 C(이하, Sc *라고 함)상 또는 카이럴스멕틱 H(이하, SH *라고 함)상 등에 속하는 것으로 되어 있다. 현재까지 강유전성 액정성 화합물로서는 표 1에 나타낸 화합물이 알려져있다[Ph. Martino Lagarde, J. Phyoique, 37, C3-129(1976)]. 표 1에 있어서, C는 결정상, Sc *는 카이럴스멕틱 C상, SH *는 카이럴스멕틱 H상, SA는 스멕틱 A상, I는 등방성 액체상을 나타낸다.
[표 1]
Figure kpo00001
이들 강유전성 액정화합물은 C-C 2중결합(-CH=C)을 가지고 있으며, 이것이 원인으로 되어 내광성(耐光性)이 약해지고, 즉 광에 의해 단시간에 용이하게 이성화(異性化)를 일으켜 시스체로 되며, 액정상을 나타내지 않게 된다고 하는 결점이 있다. 이 때문에 표시소자용의 액정재료로서는 실용적인 것이 아니다. 그래서, 안정된 분자 구조를 추구한 결과 본원 발명에 도달했다. 본원 발명의 목적은 광에 대하여 안정된 스멕틱 액정성 화합물을 포함하는 액정조성물을 제공하는데 있다. 본 명세서에 있어서, 스멕틱 액정성 화합물이란 스멕틱 A상이나 카이럴스멕틱 C상 등, 어떤 스멕틱 액정상을 적당한 조건하에서 나타낸 것을 말한다. 따라서, 강유전성 액정화합물에는 한정되지 않는다. 본원 발명의 스멕틱 액정성 화합물은 다음의 일반식 I로 표시되는 것을 특징으로 한다.
Figure kpo00002
(식중, R은 알킬기, 알콕시기에서 선정되며, X는
Figure kpo00003
에서 선정되며, m, n은 자연수이고, R*은 부정(不整)탄소원자를 갖는 광학활성기임), R은 직쇄, 분지, 시클로환의 어느 것이라도 좋지만, 특히 직쇄가 바람직하다. 일반식(I)의 액정성 화합물중 대표적인 것은 다음 일반식(Ⅱ)로 표시되는 것이다.
Figure kpo00004
특히 R은 탄소수가 20이하, 또한 m, n이 모두 1일때 7이상의 것이 바람직하다. 또, m, n은 1 또는 2가 바람직하다. 그리고, 본원 발명의 제 2의 발명은 액정조성물의 발명으로서, 최소한 2종의 액정성분으로 이루어지며, 그중 최소한 1종은 상기 일반식 I로 표시되는 액정성 화합물을 포함하는 것을 특징으로 한다. 전술한 바와 같이, 강유전성 액정상은 대개의 경우 SC *상 또는 SH *상에 속하지만, 이들 2개의 액정상의 특징은 분자가 층을 형성하여 배열되어 있으며, 그 층의 면에 있어서 분자가 특정 방향으로 경사져 줄지으며, 또한 경사방향이 층과 층과의 사이에서 조금 어긋나서 전체로서 나선구조를 갖는데 있다[R.B.Meyer, Mol. Cryst. Liq. Cryst., 40, 33(1977)]. 자발분극(自發分極)은 이 나선축(층면에 대해 수직)에 수직의 방향을 향하고 있다. 그런데, 분자구조와 강유전성 발현의 관계를 상세히 검토한 결과, 이와 같은 애정상의 분자배열과 자발분극을 유기시키기 위해서는 분자구조로서 다음 2점이 필요하다는 것이 판명되었다. 즉, 나선구조를 유기(誘起)하기 위한 광학활성기를 분자말단에 갖는 것과, 자발분극을 유기시키기 위해 액정분자장축에 대해서 대략 수직방향으로 쌍극자(雙極子)를 갖는 치환기를 분자말단부분에 갖는 것이다. 따라서, 기준 강유전성, 액정성 화합물에서 볼 수 있는 벤젠환과 에스테르결합
Figure kpo00005
으로 사이에 있는 C-C 2중결합(-CH=CH-)은 강유전성 액정상 발현에 불가결한 분자구조가 아닌 것을 알았다. 본원 발명의 식 I의 화합물은 상기 2가지 조건을 충족시키며, 더욱이 C-C 2중결합을 포함하지 않기 때문에 기존의 강유전성 액정성 화합물에서 볼 수 없는 광에 대한 안정성을 갖는다. 또한, 후술하는 실시예에서 나타낸 것처럼 본원 발명의 식 I의 화합물은 단독으로도 강유전성을 나타내는 온도범위(이하, MR이라고 함)가 넓지만, 다른 강유전성 액정성 화합물과 혼합하여 MR을 실온부근까지 확대할 수 있다. 혼합하는 상대의 강유전성 액정화합물에는 기존의 강유전성 액정화합물이나 본원 발명의 식 I의 화합물등이 있다. 이들 강유전성 액정조성물은 앞에 기술한 강유전성 액정의 광스위칭 현상을 이용한 표시디바이스에 이용할 수 있으며, 고속응답 광스위칭을 행할 수 있다. 그리고, 상기 일반식 Ⅱ로 표시되는 화합물중 적합한 것에는 다음 일반식 Ⅲ :
Figure kpo00006
으로 표시되는 액정성 화합물, 다음 일반식 Ⅳ :
Figure kpo00007
으로 표시되는 액정성 화합물, 다음 일반식 Ⅴ :
Figure kpo00008
으로 표시되는 액정성 화합물등이 있다. 그리고, 각 식중의 R, R*은 모두 일반식 I, Ⅱ와 같은 의미이다. 그리고, 또, 식 Ⅲ 및 Ⅳ의 화합물은 p-히드록시 안식향산의 광학활성기함유, 에스테르에 상당하는 p-알콕시 또는 알킬안식향산, 4-알킬-4'-비페닐카르본산, 4-알콕시-4'-비페닐카르본산의 산할로겐화물을 피리딘과 같은 염기성 용매중에서 반응시킴으로써 가장 적절하게 합성할 수 있다. 또, 식 Ⅴ의 화합물은 4-히드록시-4'-비페닐카르본산의 광학활성기함유 에스테르에, p-알킬안식향산, p-알콕시안식향산의 산할로겐화물을 마찬가지로 반응시킴으로써 가장 적절하게 합성할 수 있다. 그리고, p-히드록시 안식향산 및 4-히드록시-4'-비페닐카르본산의 광학활성기함유 에스테르는 이들 히드록시카르본산과 광학활성기 함유 알콜에서 황산과 같은 광산(鑛酸)을 촉매로서 합성하거나 또는 p-히드록시벤조니트릴 및 4-히드록시-4'-시아노비페닐의 광학활성기 함유 알콜을 사용하는 산촉매하의 알콜리시스에 의해 적절하게 제조할 수 있다. 일반식 I의 액정성 화합물중에서 대표적이 것은 다음의 일반식Ⅵ으로 표시되는 것도 있다.
Figure kpo00009
상기 일반식 Ⅵ으로 표시되는 화합물중에서도, 다음의 일반식 Ⅶ, Ⅷ으로 표시되는 것이 적합하다.
Figure kpo00010
상기 일반식 Ⅶ, Ⅷ의 화합물은 상당하는 p-알킬 또는 p-알콕시 페놀 또는 4-알킬 또는 4-알콕시-4'-히드록시비페닐에 상당하는 산할로겐화물을 염기성 용매중, 예를들면 피리딘중에서 반응시킴으로써 합성된다. 이 산할로겐화물은 광학활기 함유의 p-알콕시카르보닐벤즈알데히드를 크롬산과 같은 산화제로 산화하여 얻은 p-알콕시카르보닐안식향산에 옥살리할라이드, 바람직하게는 염화옥살릴 또는 염화티오닐을 작용시킴으로써 합성된다. 또, 다음의 일반식 Ⅸ, Ⅹ, XⅠ, XⅡ, XⅢ으로 표시되는 화합물도 본원 발명의 대표적인 스멕틱 액정성 화합물이다.
Figure kpo00011
상기 식 Ⅸ에 의한 화합물의 경우는 R은 알콕시기이면 스멕틱으로 되며, 알킬기에서는 스멕틱상은 나타나지 않는다. 상기 각 식 모두 R, R*의 정의 식 I에 준한다. Ⅸ식의 화합물을 표 1의 기존의 강유전성 액정화합물과 비교하면, 먼저 광에 대한 불안정 용인인 C-C 2중결합(-CH=CH-)이 없어지며, 또한 물에 대한 불안정 요인인 아조메틴결합이 없어져서, 그 결과 매우 안정된 물질로 되어 있다. 더욱이, 이 화합물은 실온부근의 바람직한 온도범위에서 강유전성을 나타내지만, 이와 같은 것은 이미 알려진 여러 실험사실에서 용이하게 추정되는 것은 아니다. 식 Ⅸ의 화합물과 유연(類緣)관계에 있는 화합물로서 그레이(G.W. Gray)등 [Mol. Cryst. Liq. Cryst., 37, 157(1976)]에 의해 다음의 3계열의 화합물이 보고되어, 액정상 전이온도가 표시되어 있다.
Figure kpo00012
(상기 식중 CnH2n+1은 직쇄의 알킬기를 나타냄) 그것에 대해 식 Ⅸ의 화합물은 모두 분지알킬기를 가지며, 또한 광학활성체로서, 그 Sc *상이 강유전성을 나타낸다고 하는 것은 종래 전혀 알려지지 않았던 것이었다. 다시 부언하면 본원 발명의 화합물과 유사한 화학구조를 갖는 다음식 XⅣ의 화합물이 일본국 특개소 57-11944호에 개시되어 있다.
Figure kpo00013
(식중, R'는 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타냄) 그러나, 이들은 스멕틱상은 전혀 나타내지 않으며, 저온에 있어서 콜레스테릭상을 나타내는 것 뿐이다. 식 Ⅸ의 액정성 화합물의 화학구조의 특징은 이 식에서 명백한 것처럼 비페닐골격을 가지며, 그 4-위에 알콕시기를, 4'-의 위치에
Figure kpo00014
을 갖는 것에 있다. 4-위의 알콕시기는 탄소수 1∼18의 알콕시기이며, 바람직하게는 탄소수 4∼14의 알코시기이다. 4'-위의
Figure kpo00015
기에 있어서 R*는 광학활성기로서 다음식으로 표시되는 구조로 표시되는 것이다.
Figure kpo00016
여기서, R1, R2는 알킬기, 알콕시기, 시아노기, 할로겐원자중 어느 하나이지만, R1, R2는 상이한 것이며, 또한 R1, R2가 모두 할로겐원자일 경우는 제외된다. 또, 윗식에 있어서 1은 0∼8의 정수인 것이 바람직하다. Ⅸ식의 화합물중 실용적인 제소상 특히 적합한 것은 광학활성인 원재료의 입수의 용이성 등의 견지에서 1=1, R1=CH3, R2=C2H5의 것, 즉 R*가 2-메틸부틸기의 것 및 l=0, R1=CH3, R2=C6H13의 것, 즉 R*가 2-옥틸기의 화합물이다. 또한, 후술하는 실시예에 나타내는 것처럼 식 Ⅵ의 화합물은 다른 액정 화합물과 배합하여, 그 액정조성물의 강유전성을 나타내는 온도범위를 실온부근까지 저하시키는 효과도 나타낸다. 식 Ⅸ의 화합물은 4-알킬옥시-4′-비페닐카르본산을 염화티오닐, 5염화인과 같은 할로겐화제와의 반응에 의해 산할로겐화물로 하고, 이것을 피리딘과 같음 염기성 용매중에서 광학활성 알콜류와 반응시킴으로써, 가장 적합하게 합성되지만 에스테르화방법으로서 일반적으로 알려져 있는 다른 방법에 의한 에스테르화도 이용할 수 있다. 일반식 X의 화합물은 광학활성인 알콜류(R*OH)와 p-니트로염화벤조일
Figure kpo00017
을 작용시켜 p-니트로안식향산에스테르류
Figure kpo00018
를 얻으며, 다음에 이 p-니트로안식향산에스테르류를 환원하여 p-아미노안식향산에스테르류
Figure kpo00019
로 하고, 다시 이 p-아미노안식향산에스테르류에 p-알킬 또는 p-알콕시벤즈알데히드
Figure kpo00020
를 작용시킴으로써 양호하게 합성된다.
일반식 XI의 화합물은 테레프탈알데히드산류
Figure kpo00021
에 옥살릴할라이드, 바람직하게는 염화옥살릴 또는 염화티오닐을 작용시켜서 테레프탈산할로겐화물류
Figure kpo00022
를 얻고, 다음에 이 반응물에 염기성 용매중 광학할성인 알콜(R*OH)을 작용시켜 p-(알콕시카르보닐)-벤즈알데히드류
Figure kpo00023
를 얻고, 다시 이 반응물에 p-알킬 또는 알콕시-4′-아미노비페닐 등을 작용시킴으로써 양호하게 합성된다.
일반식 XⅢ의 화합물은
Figure kpo00024
CH2X(X=Cl, Br)을
Figure kpo00025
와 알칼리 존재하에서 반응시킴으로써 합성된다. 그리고,
Figure kpo00026
에 할로겐수소를 작용시킴으로써 합성된다. 일반식 XⅢ의 화합물은 다음의 루트로 가장 적합하게 합성된다.
Figure kpo00027
Ⅰ식의 화합물의 자발분극의 값은 예를들면 표 1에 표시된 이미 알려지 강유전성 액정화합물의 하나인 p-알콕시벤질리덴-p'-아미노-2-메틸부틸신나메이트의 그것에 비교하여 대략 2배 이상에도 달하는 것이다. Ⅰ식의 화합물은 단독의 화합물로서 사용하는 것보다 2종 이상으로 이루어진 조성물로서 사용하는 것이 바람직하다. 그것은 혼합에 의해 융점이 내려가 실온부근을 포함하는 온도역에 있어서 열역학적으로 안정된 Sc *상이 생기기 때문이다. 이와 같은 액정조성물은 Ⅰ식의 화합물 상호의 혼합에 의해 얻어지며, 또 표 1에 나타낸 바와 같은 이미 알려진 강유전성 액정물질(예를들면, p-알킬옥시벤질리덴-p′-아미노-2-메틸부틸신나메이트류)과의 혼합에 의해서도 얻어지며, 모두 강유전성을 갖는다. 이들 강유전성 액정조성물은 앞에 기술한 강유전성 액정의 광스위칭현상을 이용한 표시디바이스에 이용할 수 있고, 후술하는 실시예에 나타낸 것처럼 응답시간 1밀리초 정도의 고속응답광스위칭을 행할 수 있다. 식Ⅱ∼XⅢ의 각 화합물에 있어서, 라세미체의 경우는 결정구성상 나선구조로 되지 않으므로 강유전성을 나타내지 않는다. d체 또는 l체로 분리되어 비로서 강유전성을 나타내며, 실용으로 된다. 그리고, 본원 발명의 식Ⅰ로 표시되는 화합물에 있어서의 광학 활성기로서의 예를들어 3-메틸펜틸, 4-메틸헥실, 1-메틸헵틸, 2-메틸부틸 등을 들 수 있지만, 특히 식 Ⅸ에 대해 설명한 것처럼 2-메틸부틸기
Figure kpo00028
또는 2-옥틸기
Figure kpo00029
가 적합하다.
이상 설명한 것처럼 본원의 스멕틱 액정성화합물은 광안정성이 나쁜 비닐결합부가 배제되며, 또한 후술하는 실시예에 나타내는 것처럼 대부분은 강유전성을 나태내는 온도가 실온 부근으로 된다.
즉, 본원 발명의 액정성화합물은 강유전성 액정조성물의 배합성분으로서 유용하며, 또한 광안정성이 좋다. 또, 본원 발명의 액정성화합물을 배합성분으로 함으로써 광안정성이 양호한 강유전성 액정조성물이 얻어진다.
다음에, 본원 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본원 발명은 이것에 한정되지 않는다.
그리고 다음의 설명에 있어서 상전이온도의 값은 측정방법이나 순도에 의해 약간의 변동을 수반하는 것이다.
[실시예 1]
[p-n-데실옥시안식향산-p'-(2-메틸부톨시카르보닐)페닐 에스테르
Figure kpo00030
p-히드록시안식향산 690g, (-)2-메틸부탄올 650g, 벤젠 3ℓ, 진한 황산 30ml을 딘스타크형 환류냉각기를 부가하여 가열 교반하고, 생성되는 물을 제거했다. 약 11시간 환류 후, 냉각하고, 빙수를 가하여 황산을 제거한다. 반응모액을 탄산나트륨수용액, 물로 세정한 다음, 벤젠을 유거(留去)하여 오일상의 p-히드록시안식향산 2-메틸부틸에스테를를 얻었다. p-n-데실옥시안식향산 13.9g을 과잉의 염화티오닐과 함께 환류하에 1시간 가열한 다음, 미반응의 염화티오닐을 유거하여 p-n-데실옥시안식향산염화물을 얻었다. 앞에 합성한 p-히드록시안식향산-2-메틸부틸에스테르 10.6g을 피리딘 40ml에 용해하여 냉각한 것에 상기 p-n-데실옥시안식향상염화물의 톨루엔용액을 교반하에 가하고, 80℃에서 2시간 반응시켰다. 이어서, 얼음과 6N 염산을 가하여 산성으로 하고, 유기층을 물, 2N 수산화나트륨수용액, 물의 순으로 세정한 다음, 용매를 유거했다. 잔류물을 에탄올에서 2회 재결정하여 p-n-데실옥시안식향상-p-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르를 얻었다.
원소분석치 C29H40O5로서
계산치(%) : C ; 74.32, H ; 8.60
분석치(%) : C ; 74.2, H ; 8.6
비선광도(比旋光度)
Figure kpo00031
=+2.4℃(클로로포름용액)
[실시예 2]
실시예 1과 같은 합성방법에 의해 일반식 Ⅲ에 있어서 R(알킬기 또는알콕시기)이 실시예 1과 상이한 다음의 각 화합물을 합성할 수 있다. (1) p-n-헵틸옥시안식향산-p′-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (2) p-n-옥틸옥시안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (3) p-n-노닐옥시안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (4) p-n-운데실옥시안식향향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (5) p-n-도데실옥시안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (6) p-n-테트라데실옥시안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (7) p-n-테트라데실옥시안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (8) p-n-펜타데실옥시안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (9) p-n-헥사데실옥시안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (10) p-n-헵타데실옥시안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (11) p-n-옥타데실옥시안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (12) p-n-노나데실옥시안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (13) p-n-에이코실옥시안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (14) p-n-헵틸안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (15) p-n-옥틸안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (16) p-n-노닐안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (17) p-n-데실안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (18) p-n-운데실안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르,(19) p-n-도데실안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (20) p-n-트리데실안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (21) p-n-데트라데실안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (22) p-n-펜타데실안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (23) p-n-헥사데실안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (24) p-n-헵타데실안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (25) p-n-옥타데실안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (26)p-n-노나데실안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (27) p-n-에이코실안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, 표 2에 실시예 1, 실시예 2에서 제조한 p-n-알콕시안식향산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르의 상전이온를 나타낸다. 표 2중에 나타낸 것처럼 이들 화합물은 알칼기의 탄소수가 7 이상의 것으로 모노트로픽한 Sc*상이 관측되었다. 그리고, 약호는 표 1과 같다.
[표 2]
Figure kpo00032
[실시예 3]
[4-n-헵틱옥시-4'-비페닐카르본산-p-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르
Figure kpo00033
4-n-헵틸옥시-4'-비페닐카르본산 10g과 과잉의 염화티오닐 50ml을 환류하에서 3시간 가열한 다음, 미반응의 염화티오닐을 유거하여 4-헵틸옥시-4'-비페닐카르본산염화물을 얻었다. 실시예 1에 기재한 p-히드록시안식항산-2-메틸부틸에스테르 7.2g을 40ml의 피리딘에 용해한 것에 상기 산염화물의 톨루엔용액을 적하(滴下)한다. 다음에, 실시예 1과 같이 처리하여 조(租)생성물을 얻었다. 이것을 톨루엔에 용해하고, 활성알루미나의 크로마토그램컬럼을 통하여 부생성물을 제거하고, 다시 아세트산에틸에서 2회 재결정하여 4-n-헵틸옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르를 얻었다.
원소분석치 C32H38O5로서
계산치(%) : C ; 76.46, H ; 7.62
분석치(%) : C ; 76.4, H ; 7.7
비선광도
Figure kpo00034
=+2.8°(클로로포름용액)
[실시예 4]
실시예 3과 같은 합성방법에 의해 일반식 Ⅳ에 있어서 R(알킬기 또는 알콕시기)가 실시예 3과 상이한 다음의 각 화합물을 합성할 수 있다. (1)4-메톡시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르,(2)4-에톡시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르,(3) 4-n-프로폭시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르본닐)페닐에스테르, (4) 4-n-부톡시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (5) 4-n-펜틸옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (6) 4-n-헥실옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (7) 4-n-옥틸옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (8) 4-n-노닐옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (9) 4-n-데실옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (10) 4-n-운데실옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (11) 4-n-도데실옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (12)4-n-트리데실옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (13) 4-n-테트라데실옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (14) 4-n-펜타데실옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (15) 4-n-헥사데실옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (16) 4-n-헵타데실옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (17) 4-n-옥타데실옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (18) 4-n-노나데실옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (19) 4-n-에이코실옥시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (20) 4-메틸-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (21) 4-n-에틸-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (22) 4-n-프로필-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (23) 4-n-부틸-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (24) 4-n-펜틸-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (25) 4-n-헥실-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (26) 4-n-헵틸-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (27) 4-n-옥틸-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (28) 4-n-노닐-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (29) 4-n-데실-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (30) 4-n-운데실-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (31) 4-n-도데실-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (32) 4-n-트리데실-4'- 비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (33) 4-n-테트라데실-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (34) 4-n-펜타데실-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (35) 4-n-헥사데실-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (36) 4-n-헵타데실-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (37) 4-n-옥타데실-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (38) 4-n-노나데실-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르, (39) 4-n-에이코실-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르. 다음 표 3, 표 4에 실시예 3, 실시예 4에서 제조한 4-n-알콕시-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르와 4-n-알킬-4'-비페닐카르본산-p'-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐에스테르의 상전이온도를 나타낸다. 각 표중에 나타낸 것처럼 이들은 Sc*상을 넓은 온도범위로 나타냈다. 그리고, 약호는 Ch이외는 표1과 같다. 또, Ch는 다음의 각 표에서 표 3과 같으며, 즉 콜레스테릭상을 나타낸다.
[표 3]
Figure kpo00035
[표 4]
Figure kpo00036
[실시예 5]
[p-n-옥틸안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르
Figure kpo00037
4-히드록시-4'-비페닐카르본산 20g, (-)2-메틸부탄올 53g, 진한 황산 4g을 20분간 환류시킨 다음, 벤젠 500ml을 가하여 딘스타크형 환류냉각기를 부가하여 가열하고, 생성한 물을 제거했다. 반응모액을 냉각한 다음 모액을 수세하고, 용매를 유거하여 4-히드록시-4'-비페닐카르본산-2-메틸부틸에스테르의 조생성물을 얻었다. 이것을 벤젠-헵탄 혼합용매에서 재결정하여 융점 115∼116℃의 정제품을 얻었다. p-n-옥틸안식향산 7g과 과잉의 염화티오닐로 합성한 p-n-옥틸안산향산염화물을 톨루엔에 용해하고, 이것을 상기 4-히드록시-4'-비페닐카르본산-2-메틸부틸에스테르 8.3g의 피리딘용액에 가하여 80℃로 3시간 반응시켰다. 다음에, 실시예 1과 같이 처리하여 조생성물을 얻고, 이것을 아세트산에틸에서 2회 재결정하여 p-n-옥틸안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페닐에스테르를 얻었다.
원소분석치 C33H40O4로서
계산치(%) : C ; 79.16, H ; 8.05
분석치(%) : C ; 79.1, H ; 8.1
비선광도
Figure kpo00038
=+2.5℃(클로로포름용액)
[실시예 6]
실시예 5와 같은 합성방법에 의해 일반식 Ⅴ에 있어서 R(알킬기 또는 알콕시기)가 실시예 5와 상이한 다음의 각 화합물을 합성할 수있다. (1) p-메톡시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (2) p-에톡시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (3) p-n-프로폭시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (4) p-n-부톡시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (5) p-n-펜틸시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (6)p-n-헥실옥시안향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (7) p-n-헵틸옥시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (8) p-n-옥틸옥시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (9) p-n-노닐옥시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (10) p-n-데실옥시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (11) p-n-운데실옥시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (12) p-n-도데실시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (13) p-n-트리데실옥시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (14) p-n-테트라데실옥시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (15) p-n-펜타데실옥시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (16) p-n-헥사데실옥시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (17)p-n-헵타데실옥시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (18) p-n-옥타데실옥시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (19) p-n-노나데실옥시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (20) p-n-에이코실옥시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (21) p-n-메틸안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (22) p-n-에틸안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (23)p-n-프로필안식향상-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (24)p-n-부틸안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (25) p-n-펜틸안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (26) p-n-헥실안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (27) p-n-헵틸안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (28) p-n-노닐안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (29) p-n-데실안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (30) p-n-운데실안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (31) p-n-도데실안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (32) p-n-트리데실안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (33) p-n-테트라데실안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (34) p-n-펜타데실안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (35) p-n-헥사데실안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (36) p-n-헵타데실안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (37) p-n-옥타데실안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (38) p-n-노나데실안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르, (39) p-n-에이코실안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르. 다음 표 5, 표 6에 실시예 5, 실시예 6에서 제조한 p-n-알콕시안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르와 p-n-알킬안식향산-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에스테르의 상전이온도를 나타낸다. 각 표중에 나타낸 것처럼 이들은 Sc*상을 나타냈다. 그리고, 약호는 표 3과 같은 의미이다.
[표 5]
Figure kpo00039
[표 6]
Figure kpo00040
[실시예 7]
p-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐-4-옥틸옥시비페닐카르본산에스테르(표 3에서 R-가 C8H17O-의 화합물)과 p-(2-메틸부톡시카르보닐)페닐-4-헵틸비페닐카르본산에스테르(표 4에서 R-가 C7H15-의 화합물)와의 등몰비 혼합조성물은 결정상으로부터 Sc*상으로 50℃에서 상전이하며, 111℃에서 Sc*상으로부터 스멕틱 A상으로, 175℃에서 스멕틱 A상으로 액정을 상전이 했다.
[실시예 8]
p-n-옥틸옥시안식향산-p'-(2-메틸부툭시카르보닐)페닐에스테르(표 2에서 R-가 C8H17O-의 화합물)와 공지의 p-데실옥시벤질리덴-p'-아미노-2-메틸부틸신나메이트(표 1의 번호 1이 화합물)과의 등몰비 혼합물은 결정으로부터 Sc*상으로 23℃에서 상전이하며, 42℃에서 Sc*상으로부터 스멕틱 A상, 85℃에서 스멕틱 A상으로부터 액상으로 상전이 했다. 이와 같이 본원 발명의 화합물은 기준의 강유전성 액정화합물에 배합함으로써 강유전성을 나태내는 온도범위를 실온부근르로 확대할 수 있다.
[실시예 9]
[4-옥틸옥시-4'-비페닐카르본산-2-메틸부틸에스테르
Figure kpo00041
4-옥틸옥시-4'-비페닐카르본산 20g과 염화티오닐 50ml을 환류하에 2시간 가열하고, 과잉의 염화티오닐을 유거하여 4-옥틸옥시-4'-비페닐카르본산염화 물을 얻는다. 이것은 특히 정제하지 않으며, 톨루엔용액으로서 다음의 단계에서 사용된다. 한편, (-)2-메틸-1-부탄올(이스트만 코닥사제) 16g을 피리딘 50g에 용해한 것을 수냉해 두고, 그것에 상기 산염화물의 톨루엔용액을 교반하에 약 30분동안 첨가하고, 다시 90℃의 탕욕(湯浴)상에서 30분간 교반한다. 냉각후, 6N 염산 및 얼음을 가하여 산성으로 하고, 분액하여 유기층을 위해 수세, 2N 수산화나트륨용액에 의한 세정, 수세를 거치고 나서 톨루엔을 유거하여 목적물을 얻는다. 이것을 헵탄 약 70ml에 용해한 것을 알루미나/헵탄의 크로마토그래피컬럼에 통과시키고, 다시 에탄올에서 2회 재결정하여 무색의 침상결정 18.0g이 얻어졌다. 그 NMR 스펙트럼 및 원소분석치는 그것의 목적의 화합물 즉 4-옥틸옥시-4'-비페닐카르본산-2-메틸부틸에스테르인 것과 모순되지 않았다. 또, 클로로포름용액중에서의 비선광도
Figure kpo00042
는 +3.5°이었다. 상전이온도는 다른 Ⅸ식의 화합물의 그것과 함께 표 7에 나타난다. 그리고, 원료의 4-옥틸옥시-4'-비페닐카르본산은 시판의 4-옥틸옥시-4'-시아노비페닐(BDH 사제 M-24)의 알칼리 가수분해에 의해서 얻어지는 공지의 물질이다. 4-옥틸옥시-4'-비페닐카르본산-2-메틸부틸에스테르의 자발분극의 값과 온도와의 관계는 제 1 도의 곡선 A와 같다. 또, 같은 계통의 화합물, 4-헵틸옥시-4'-비페닐카르본산-2-메틸부틸에스테르의 자발분극의 값과 온도와의 관계는 제 1 도의 곡선 B와 같다.
[표 7]
Figure kpo00043
주) 종류불명인 스멕틱상의 존재를 나타냄
표 7에 나타낸 화합물중 n=7∼12인 것을 단독화합물에서 Sc *상이 관찰되지만, 그 밖의 것에서는 상전이 측정중에 결정화가 일어나 단독화합물의 Sc *상은 검지할 수 없었다.
[실시예 10]
[4-옥틸옥시-4'-비페닐카르본산-2-옥틸에스테르
Figure kpo00044
먼저, 실시예 9와 같이 하여 4-옥틸옥시-4'비페닐카르본산클로로이드를 제조했다. 그 19.8g의 톨루엔 용액을, (-)2-옥틸알콜(후르까사제) 10g를 피리딘 40ml에 용해하여 수냉한 것내에 교반하면서 적하(滴下)하고, 다시 90℃의 탕욕상에서 3시간 교반한다. 냉각후, 6N 염산을 가하여 산성으로 하고나서 분액하여, 그 유기층을 수세, 2N 수산화나트륨용액에 의한 세정, 수세를 거쳐 톨루엔을 유지하여 목적물인 잔류물을 얻는다. 이것을 에탄올로 2회 재결정하여 인편상(鱗片狀)결정 17.2g을 얻었다. 이것의 융점은 74.5∼75℃이었다. 또, NMR 스펙트럼 및 원소분석치는 목적물의 화학구조와 모순되지 않으며, 클르르포름용액중의 비선광도
Figure kpo00045
는 -33.2°이었다. 마찬가지로(-)2-옥틸알콜 대신에 (+)옥틸알콜(후루까사제)사용하여 동일물질의 대장체(對掌體)를 얻었다. 융점 74.5∼75℃, 비선광도
Figure kpo00046
=33.0°)클로로포름용액중). 또, 마찬가지로 4-펜틸옥시-4'-비페닐카르본산 클로라이드와 (-)2-옥틸알콜에서 4-펜틸옥시-4'-비페닐카르본산-2-옥틸에스테르를 얻었다. 융점 61.8℃.
[실시예 11]
4-헵틸옥시-4'-비페닐카르본산-2-메틸부틸에스테르와 4-옥틸옥시-4′-비페닐카르본산 -2-메틸부틸에스테르(모두 표 7기재의 Ⅸ식의 화합물)의 당몰화합물은 융점(C-Sc *점, 즉 결정상으로부터 카이럴스멕틱 C상으로의 상전이점, 이하 같음.)은 33℃, Sc *-SA점은 42.2℃, SA-I점은 65℃로 되어 단독의 화합물보다 표시소자용으로 적합한 특성을 갖고 있는 것을 나타낸다.
[실시예 12]
Ⅸ식에서 R이 각각 C7H15,C8H17,C9H19,C10H21,C12H25이며, R*이
Figure kpo00047
의 화합물(모두 표 7기재)의 14 : 11 : 6 : 10 : 9 혼합물(중량비)은 Sc *점 34.6℃, SA-I점 63.2℃에서 표시소자용으로 적합한 특성을 가지고 있다.
[실시예 13]
4-옥틸옥시-4'-비페닐카르본산-2-메틸부틸에스테르(표 7기재)와, 후술하는 p-옥틸옥시벤질리덴 p-(2-메틸부틸옥시카르보닐)아닐린의 당몰 혼합물은 C-Sc *점 20∼21℃, Sc *-SA점 33.6℃, SA-I점 62℃의 상전이점을 가지며, 이 혼합물의 자발자극의 값은 제 1 도에 곡선 C로 표시되어 있다.
[실시예 14]
[p-n-데실옥시벤질리덴-p'-(2-메틸부틸옥시카르보닐)아닐린
Figure kpo00048
(-)2-메틸부틸알콜 51g, 피리딘 200ml의 혼합액을 빙냉하고, p-니트로안식향산염화물을 가하여 30분간 교반한 다음, 탕욕상에서 5시간 가열 교반하였다. 실온으로 냉각해서 물 400ml과 톨루엔 200ml 을 가하여 분액하고, 유기층을 6N 염산, 2N 수산화나트륨, 물로 순차 세정하여, 감압증류에 이해 비점 134∼137℃(4mmHg)의 황색오일 97.5g을 얻었다. 이 물질은 p-니트로안식향산 2-메틸부틸에스테르이다. 이니트로화합물을 260ml의 에탄올중에서 5% Pd/C 촉매 6g의 존재하에 종온상압(從溫常壓)에서 수소환원했다. 촉매를 여과하고, 에탄올을 유거하여 얻어지는 결정을 헵탄 200ml과 벤젠 100ml의 혼합용매에서 재결정시켜서, 융점 44∼45℃의 결정 85g을 얻었다. 이 물질은 (+)p-아미노안식향산 2-메틸부틸에스테르이다. 그리고, 20% 톨루엔용액으로 측정한 비선강도
Figure kpo00049
는 +7.30였다. 다른 원료인 p-n-데실옥시벤즈알데히드는 다음의 방법으로 합성했다. p-히드록시벤즈알데히드 84g, 에탄올 400ml, 수한화칼륨 48g, 브롬 n-데실 170g을 환류하에서 5시간 가열 교반하였다. 다음에, 에탄올을 대부분 유거하고, 톨루엔과 물을 가하여 분액하여, 유기층을 2N 수산화나트륨, 물로 순차 세정한 다음, 감압 증류시켜 비점 157∼159℃(3mmHg)의 목적물을 127g 얻었다. 다음에, (+)p-아미노안식향산 2-메틸부틸에스테르 8g, p-n-데실옥시벤즈알데히드 10g, p-톨루엔술폰산 20mg과 톨루엔 150ml을 딘스타크형 환류냉각기를 부여하여 가열하고, 생성하는 물을 제거했다. 실온으로 냉각하여 2N 수산화나트륨, 다음에 물로 제정하고, 톨루엔을 감압 유거하여 얻어진 잔류물을 에탄올에 의해 2회 재결정하여 p-n데실옥시벤질리덴-p'-(2-메틸부틸옥시카르보닐)아닐린 11g을 얻었다. 여기서 얻은 물질이 p-n-데실옥시벤질리덴-p'-(2-메틸부틸옥시카르보닐)아닐린인 것은 원소분석, 질량스펙트럼 및 적외흡수스펙트럼에 의해 확인했다. 즉, 본 물질의 원소분석치(C : 77.09%, H : 9.18%, N : 3.08%)는 C29H41NO3의 분자량계산치(C : 77.13%, H : 9.15% N : 3.10%)와 일치하며, 질량스펙트럼에서는 m/e=451에서 분자이온피크가 나타나 있다. 또, 제 2 도에 본 물질의 적외흡수스펙트럼을 나타냈지만, 도면에서 명백한 것처럼 1710㎝-1와 1255㎝-1에서 에스테르결합의 흡수가, 1610㎝-1에서 시프결합의 흡수가 나타나 있다. 이상의 분석결과와 원료화합물과의 관계에서 본 화합물이 p-n-데실옥시벤질리덴-p'-(2-메틸부틸옥시카르보닐)아닐린인 것이 확인되었다.
[실시예 15]
상기 실시예 14에 나타낸 제조방법에 준하는 방법으로 합성한 p-n-(알콕시벤질리덴-p'-(2-메틸부틸옥시카르보닐)아닐린의 상전이온도를 표 8에 나타낸다.
[표 8]
Figure kpo00050
표 8에서 알 수 있듯이, R의 탄소수가 4∼12의 화합물은 모노트로픽으로 상전이하고, 스멕틱카이럴 C상을 나타낸다. 이 상에 있어서 이들 화합물이 강유전성을 나타내는 것을 확인했다. 제 3 도에 본 실시예 화합물이 자발분극의 크기와 온도와의 관계를 나타냈다. 도면중 곡선 D는 R=C7H15O-, 곡선 E는 R=C8H17O-, 곡선 F는 R=C10H21O-,곡선 G는 R=C12H25O-를 나타낸다. 다음에, 본 실시에의 광안정성에 대하여 다음의 실험을 했다. 시료를 2ψ 캐필러리에 넣고, 웨더미터에 의해 광을 조사(照射)했을때의 스멕틱 A상으로부터 등방성액체로의 상전이온도(TSA-I)의 변화를 조사했다. 웨더미터는 스가시험기제의 WE-SUN-DC형이며, 광원은 카본아크이다. 본 실시예에서 R=C8H17O-의 p-n-옥틸옥시벤질리덴-p'-(2-메틸부틸옥시카르보닐)아닐린을 시료로 하고, 참고시료로서 표 1에 나타낸 p-데실옥시벤질리덴 p'-아미노-2-메틸부틸신나메이트를 사용했다. 측정한 TSA-I와 광조사시간과의 관계를 표 9에 나타낸다.
[표 9]
Figure kpo00051
참고시료는 30h의 광조사에 의해 30℃이상이나 상전이온도가 저하되어 버리지만 본 실시예의 시료는 거의 변화를 볼 수 없으며, 광에 대해 안정되어 있는 것을 알 수 있다.
[실시예 16]
[p-n-옥틸벤질리덴-p'-(2-메틸부틸옥시카르보닐)아닐린
Figure kpo00052
실시예 14에 기재한 방법으로 합성한 (+)p-아미노안식향산 2-메틴부틸에스테르 7g, p-n-옥틸벤즈알데히드 9g, p-톨루엔술폰산 180mg과 톨루엔 135ml을 실시예 14와 같이 딘스타크형 환류냉각기를 부가하여 가열하고, 생성하는 물을 제거했다. 실온으로 냉각하여 2N 수산화나트륨, 다음에 물로 세정하고, 톨루엔을 감압 유거하여 얻어진 잔류물을 에탄올에 의해 2회 재결정하여 p-n-옥틸벤질리덴-p'-(2-메틸부틸옥시카르보닐)아닐린 10g을 얻었다. 여기서 얻은 물질의 원소분석치(C : 79.60%, H : 9.15%, N : 3.40%)는 C27H37NO2의 분자량계산치(C : 79.55%, H : 9.17%, N : 3.44%)와 일치하며, 질량스펙트럼의 분자이온피크는 m/e=407에 나타난다. 적외선흡수스펙트럼에는 1720cm-1, 1260cm-1에 에스테르결합의 흡수가, 1610cm-1에 아조메틴결합이 나타나있다. 이상의 사실과 원료화합물과의 관계에서 본 화합물이 p-n-옥틸벤질리덴-p'-(2-메틸부틸옥시카르보닐)아닐린인 것이 확인되었다. 본 물질은 융점(m.p.)이 12℃이며, 액정상은 나타나지 않았다. 실시예 14와 비교에서 알킬기는 알콕시기에 비해 액정으로 되기 어렵다고 생각되며, 액정상을 기대하는데는 알콕시기(실시예 14)가 바람직하다고 생각된다.
[실시예 17]
[p-n-알킬옥시벤질리덴-p'-(1-메틸헵틸옥시카르보닐)아닐린
Figure kpo00053
실시예 14에 기재한 방법에 준해서 2-옥탄올에서 합성한 (+)p-아미노안식향산 2-옥틸에스테르(m.p. 72.5∼73.5℃), 실시예 14에 기재한 방법으로 합성한 p-n-알킬옥시벤즈알데히드를 원료로 하여, 목적물인 p-n-알킬옥시벤질리덴-p'-(1-메틸헵틸옥시카르보닐)아닐린을 얻었다. 제조방법은 실시예 14, 15 또는 16과 같다. 얻어진 물질이 목적으로 하는 화합물인 것은 실시예 14, 15 및 16과 같은 방법으로 확인했다. 예를 들면 일반식에 있어서 n=4인 p-n-부틸옥시벤질리덴p'-(1-메틸헵틸옥시카르보닐)아닐린의 경우, 원소분석치(C : 76.29%, H : 8.59%, N : 3.38%)는 C26H35NO3의 분자량계산치(C : 76.23%, H : 8.63%, N : 3.42%)와 일치하며, 질량스펙트럼에서는 m/e=409에 분자이온피크가 나타나 있고, 또 적외흡수스펙트럼에 있어서 1700cm-1, 1265cm-1에 에스테르결합의 흡수가, 1620cm-1에 아조메틴결합의 흡수가 나타나 있는 것으로 해서 목적으로 하는 화합물인 것을 확인하였다. 본 실시예에 있어서, n=4 및 8의 물질의 상전이온도를 표 10에 나타낸다.
[표 10]
Figure kpo00054
이상, 실시예 16, 17에 나타낸 것처럼, 실시예 14의 화합물이 단독으로 강유전성을 나타낸 것인데 대해, 실시예 16, 17의 화합물은 단독으로는 강유전성을 나타내는 액정상으로는 되기 어렵다. 그러나, 이들 화합물은 기존의 강유전성 액정화합물에 배함시킴으로써 강유전성을 나타내는 온도를 실온부근까지 낮추는, 또는 광안전성을 종게 하는 효과가 있으며, 배합성분으로서 유용한 화합물이다.
[실시예 18]
실시예 15에서 제조한 화합물을 성분으로 하는 액정조성물을 조정했다. 표 11에 액정조성물의 조성, 상전이온도를 나타냈다. 표 11에서 명백한 것처럼 본 실시예에 의한 액정조성물 A은 실온부근에서 안정된(에난티오트로픽) 강유전성 스멕틱카이럴 C상을 나타낸다. 또, 실시예 15의 액정화합물을 종래의 강유전성 액정화합물과 혼합한 액정조성물 B은 강유전성을 나타내는 온도범위가 30℃∼61℃이며, 실시예 15의 액정성화합물이 강유전성을 나타내는 온도범위를 실온부근까지 저하시키는 효과가 있는 것도 알 수 있다.
[표 11]
Figure kpo00055
[실시예 18A]
실시예 18과 같이 본원 발명에 의해 제조한 화합물을 성분으로 하는 액정조성물을 조정했다. 표 11A에 조성과 상전이온도를 나타낸다.
Figure kpo00056
[표 11A]
Figure kpo00057
Figure kpo00058
표 11A에서 명백한 바와 같이 본원 발명에 의해 실온부근에서 안정된 강유전성 스멕틱카이럴 C상을 나타내는 액정조성물이 얻어지는 것을 알 수 있다.
[실시예 19]
[p-n-테트라데실옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린
Figure kpo00059
상기 물질은 다음에 기술하는 방법으로 합성했다. 시판의 테레프탈알데히드산 358g을 톨루엔 700ml, 피리딘 2g과 혼합한 것에 염화티오닐 300ml을 실온에서 적하한 다음, 반응액이 균일해질 때까지 서서히 가열하여 환류시켰다. 이어서, 실온까지 방치 냉각한 다음, 미반응의 염화티오닐과 용매의 톨루엔을 감압 유거했다. 남은 반응생성물을 감압 증류함으로써, 테레프탈알데히드산염화물을 얻었다(비점 133∼135℃/15Torr). 다음에, 시판의 S(-)-2-메틸부탄올(광학활성아밀알콜)과 피리딘 230g의 혼합액을 빙냉한 것에 상기 테레프탈알데트드산염화물 315g을 톨루엔 400ml에 용해한 것을 적하하고, 그 후 2시간 가열 환류했다. 이 반응액을 실온까지 냉각한 다음 다시 빙냉하고, 그것에 6N-염산을 가하여 산성으로 하여 유기층중의 피리딘을 제거하고, 이어서 물, 2N 수산화나트륨수용액, 물의 순서로 유기층을 세정했다. 용매의 톨루엔을 감압 유거하고, 남은 반응생성물을 감압증류하여 p-(2-메틸부톡시카르보닐)-벤즈알데히드(비점 118∼124℃/3.5Torr)를 얻었다. 한편, p-n-테트라데실옥시니트로벤젠을 에탄올중에서 파라듐/탄소촉매를 사용하여 수소환원함으로써 p-n-테트라데실옥시아닐린(융점 101℃)을 얻었다. 상기 p-(2-메틸부톡시카르보닐)-벤즈알데히드 44.3g와 p-n-테트라데실옥시아닐린 32g을 p-톨루엔술폰산 0.1g과 함께 톨루엔 용해한다. 이것을 가열 환류하면서 탈수축합으로 생성하는 수분을 딘스카크형 콘덴서로 제거한다. 반응액을 냉각후 유기층을 수세하고, 용매의 톨루엔을 감악 유거하여 남은 고체를 에탄올에서 재결정하여 황색 결정을 얻었다.
원소분석척치 C33H49NO3로서
계산치 : C ; 78.06%, H ; 9.73%
측정치 : C ; 77.8%, H ; 9.8%
[실시예 20]
[p-(2-메틸부톡시카르보닐)-벤질리덴-p'-n-데실아닐린
Figure kpo00060
실시예 19에 기재한 p-(2-메틸부톡시카르보닐)-벤즈알데히드 7g과 시판의 p-n-데실아닐린 7.4g을 실시예 19와 같이 탈수축합시켜 합성했다.
원소분석치 C29H41NO2로서
계산치 : C ; 79.95%, H ; 9.49%
측정치 : C ; 79.8%, H ; 9.5%
[실시예 21]
실시예 19와 같은 합성방법에 의해 다음의 화합물을 합성할 수 있다. (1) p-메톡시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (2) p-에톡시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (3) p-n-프로폭시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (4) p-n-부톡시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (5) p-n-펜틸옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (6) p-n-헥실옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (7) p-n-옥틸옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (8) p-n-노닐옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (9) p-n-데실옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (10) p-n-운데실옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (11) p-n-도데실옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (12) p-n-트리데실옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (13) p-n-테트라데실옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (14) p-n-펜타데실옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (15) p-n-헥사데실옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (16) p-n-헵타데실옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (17) p-n-옥타데실옥시-4-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질리덴아닐린, (18) p-n-노나데실옥시-4-(2-메틸부타시카르보닐)벤질리덴아닐린, (20) p-n-에이코실옥시-4-(2-메틸부타시카르보닐)벤질리덴아닐린.
[실시예 22]
[S-p-(2-메틸부틸시카르보닐)-벤질리덴-4-(4'-n-옥틸옥시페닐)-아닐린
Figure kpo00061
공지물질인 4'-n-옥틸옥시-4-니트로비페닐을 아세트산에틸용액중 파라듐/탄소촉매를 사용하여 수소환원하고, 에탄올에서 재결정함으로써 4'-n-옥틸옥시-4-아미노-비페닐을 얻었다. 이 3g을 상기 실시예 19와 같이 S-p-(2-메틸부틸옥시카르보닐)-벤즈알데히드 2.2g와 반응시켜서, 아세트산에틸에서 재결정하여 명황색 결정을 얻었다.
원소분석치 C33H41NO3로서
계산치 : C ; 79.32%, H ; 8.27%
측정치 : C ; 79.2%, H ; 8.3%
[실시예 23]
[S-p-(2-메틸부틸옥시카르보닐)-벤질리덴-4-(4'-n-헵틸페닐)-아닐린
Figure kpo00062
4'-n-헵틸-4-아미노비페닐은 4'-n-헵틸-4-비페닐카르본산아미드의 호프만분해에 의해 합성된다. 융점 79℃, 이 물질 4.1g과 S-p-(2-메틸부틸옥시카르보닐)-벤즈알데히드 3.3g에서, 실시예 19와 같이 탈수축합시켜서, 에탄올에서 재결정함으로써, 표기화합물을 얻었다.
원소분석치 C32H39NO2로서
계산치 : C ; 81.83%, H ; 8.37%
측정치 : C ; 81.5%, H ; 8.5%
이 합성법에 준해 일반식 XI의 n=1에서 R*가
Figure kpo00063
의 화합물을 만들고, 그 상전이온도를 조사하면 다음 표 12와 같다.
[표 12]
Figure kpo00064
주 1) 스멕틱 E상을 나타냄
주 2) 스멕틱 B상을 나타냄
주 3) 종류불명의 스멕틱상을 나타냄
[실시예 24]
[4'-n-데실옥시-4-비페니릴-S-p-(2-메틸부톡시카르보닐)-벤조에이트
Figure kpo00065
의 합성]
4'-n-데실옥시-4-히드록시비페닐은 시판 4, 4'-디히드록시비페닐을 당량의 n-데실 p-톨루엔술포네이트와 알칼리의 존재하에 모노알킬화함으로써 합성된 융점은 149℃이다. S-p-(2-메틸부틸옥시카르보닐)벤조익애시드는 다음과 같이 하여 얻어진 실시예 23에 기재한 S-p-(2-메틸부틸옥시카르보닐)벤즈알데히드 113g을 250ml의 아세트산에 용해하고, 교반하면서, 이것에 무수크롬산 70g, 아세트산 150ml과 물 70ml로 이루어진 용액을 약 3시간에 걸쳐 적하했다. 이 동안 액온은 20℃이하로 유지했다. 약 30℃에서 1시간 교반한 다음, 물 250ml을 가하고, 얻어진 결정을 흡인여과에 의해 모으고, 이것을 에탄올에서 2회 재결정함으로써, 이 치환벤조익애시드 78g를 얻었다. 이 산은 m.p.가 158℃∼160℃이었다. 이 산 12g을 옥살릴클로라이드 15ml, 톨루엔 25ml와 함께 3시간 가열 환류하고, 이어서 과잉의 옥살릴클로라이드 및 톨루엔을 감압 유거함으로써, S-p-(2-메틸부틸옥시카르보닐)벤조일클로라이드를 얻었다. 이것은 정제하지 않고, 다음의 반응에 사용했다. 즉, 얻어진 증류잔사를 톨루엔 50ml에 용해하고, 이것을 4'-n-데실옥시-4-히드록시페닐 15g을 무수피리딘 80ml의 빙냉된 용액에 교반하면서 적하하고, 그 후 80℃에서 2시간 반응시켰다. 통상의 방법에 의해 생성물을 꺼내서, 아세트산에틸에서 2회 재결정하여 무색 결정을 얻었다. 이것 및 이것에 준해서 얻어진 화합물의 상전이온도를 다음 표 13에 나타낸다. 그리고, 표 13에 나타낸 것은 일반식 Ⅵ에서 n=1, R*은
Figure kpo00066
에 해당하며, R, m을 적절히 변화시킨 것이다.
[표 13]
Figure kpo00067
[실시예 25]
[p-n-옥틸옥시벤질-S-4'-(2-메틸부톡시카르보닐)-4-비페니릴에테르
Figure kpo00068
의 합성]
p-n-옥틸옥시벤즈알데히드에서 나트륨 보로하이드라이드 환원에 의해 합성된 p-n-옥틸옥시벤질알콜 10g을 30ml의 벤젠에 용해하고, 60℃의 탕욕상에서 염화수소가스를 통하게 했다. 생성하는 물을 제거하고, 염화칼슘으로 건조하여, 벤젠을 감압하 유거함으로써 12.3g의 치환 벤질크로라이드를 얻었다. 한편, S-4'-(2-메틸부틸옥시카르보닐)-4-히드록시-비페닐 9.6g, 수산화칼륨 2.3g, 95% 에탄올 35ml을 가열 교반하고, 여기에 상기의 벤질클로라이드의 톨루엔(40ml)용액을 가하여, 2시간 가열 환류했다. 반응생성물을 통상의 방법에 의해 꺼내고, 에탄올 다음으로 아세트산 에틸에 의해 재결정함으로써, 목적물인 인편상 결정 2.9g을 얻었다. 이 화합물의 m.p.는 97.3g이었다. 상전이온도는 표 14에 나타낸 것과 같다.
[실시예 26]
[4'-n-옥틸옥시-4-비페니릴-S-p-(2-메틸부톡시카르보닐)벤질에테르
Figure kpo00069
의 합성]
4'-n-옥틸옥시-4-히드록시비페닐 5g, 수산화칼륨 1.5g, 95% 에탄올 100g을 환류하에 가열한 것에, p-브롬벤질브로마이드 4.2g의 100ml 에탄올용액을 가하여, 2시간 반응하였다. 반응액을 통상의 방법으로 처리하고, 아세트산에틸에서 재결정함으로써 4'-n-옥틸옥시-4-비페니릴-p-브롬벤질에테르 6.1g를 얻었다. 이것은 C-SH가 105.8℃, SH-SB가 189.5℃, SB-I가 206℃의 각 상전이온도를 나타냈다. 이 브름화합물 6g을 N-메틸-2-피롤리돈중에서 시안화제 1동 1.4g과 8시간 환류하에 교반 가열했다. 이어서, 염화제 2철의 산성수용액으로 60℃, 1시간 처리한 다음, 이 액에서 시아노화합물을 클로로포름으로 추출했다. 산성수, 이어서 알칼리성수로 유기층을 세정했다. 클로로포름을 감압하 유거하여, 흑색잔류물을 얻었다. 이것을 톨루엔에 용해하여 알루미나를 사용하는 크로마토그래피컬럼을 통과하여 탈색해서, 용매를 감압하 유거한 다음 고체를 에탄올과 아세트산에틸의 혼합용매에서 재결정하여, 4'-n-옥틸옥시-4-비페니릴-p-시아노벤질에테르를 얻었다. 이것은 C-N이 127℃, N-I가 171.5℃의 각 상전이 온도를 나타냈다. 이 시아노화합물 4.4g을 73ml의 에틸렌글리콜, 1.8g의 수산화칼륨, 3ml의 물과 함께 13시간 가열 환류했다. 냉각후 희염산을 가하여 반응액을 산성으로 하여, 결정을 여취(濾取)한다. 결정을 아세트산 400ml에서 재결정하여 4.1g의 4-(4-n-옥틸옥시비페니릴-4'-옥시메틸)안식향산을 얻었다. 이것은 C-Sc193.6℃, SC-N이 254℃, N-I가 279.2℃의 각 상전이온도를 나타냈다. 4-(4-n-옥틸옥시비페니릴-4'-옥시메틸)안식향산 2g에 염화티오닐 5ml을 가하여 70∼80℃로 5시간 가열 교반후, 감압으로 하여 과잉의 염화티오닐을 유거하면 산클로라이드의 결정이 얻어진다. 다른 플라스크에 S(-)-2-메틸-1-부탄올 0.5g을 피리딘 5ml에 용해하고, 여기에 앞의 산클로라이드를 가했다. 교반한 다음, 하루밤 방치후, 톨루엔 20ml, 물 10ml을 가하여 유기층을 6N-HC1, 이어서 2N-NaOH 수용액으로 세정하고, 다시 중성이 되기까지 수세했다. 톨루엔을 감압 유거하여 잔류물을 에탄올에서 재결정하여 목적물인 4'-n-옥틸옥시-4-비페니릴 S-p-(2-메틸부틸옥시카르보닐)벤질에테르 1.1g을 얻었다. 상전이온도는 표 14에 나타냈다.
[표 14]
Figure kpo00070
주) 종류불명의 스멕틱상을 나타냄
[응용예 1]
실시예 8의 액정조성물을 액정상으로 하는 액정표시 소자를 제작하고, 그 응답특성을 평가했다. 액정표시 소자는 산화인듐 투명전극이 설치되어 있는 유리기판상에 폴리이미드계 고분자막을 설치하여 일정방향으로 가제를 사용하여 문지른 다음, 2매의 기판의 문지른 방향이 평행으로 되도록 유리화이버를 스페이서로 하여 액정셀을 조립하고, 이것에 실시예 8의 액정조성물을 진공 봉입하여 제작한 것이다. 셀간격은 5.4㎛이다. 이 액정표시소자를 2매의 직교하는 편광자(偏鑛子)사이에 설치하고, 전계를 인가했을 때에 투과하는 빛의 강도변화를 측정했다. 제 4 도는 30℃에서 측정한 응답파형을 나타내는 그래프이다. 제 4 도에 있어서, 종축은 인가전압(V) 및 투과광강도(임의의 단위)를, 횡축은 시간(ms)을 나타낸다. 도면에서 명백한 것처럼 응답시간은 1ms로 매우 짧고, 이 액정표시소자가 우수한 고속응답성을 갖는 것을 나타내고 있다.
[응답예 2]
실시예 13의 액정조성물을 액정상으로 하는 액정표시소자를 제작하고, 그 응답특성을 평가했다. 액정표시 소자는 산화인듐 투명전극이 설치되어 있는 유리기판상에 폴리이미드계 고분자막을 설치하여, 일정방향으로 가재를 사용하여 문지른 다음, 2매의 기판의 문지른 방향이 평행으로 되도록 유리화이버를 스페이서로 하여 액정셀을 조립하고, 이것에 실시예 13의 액정조성물을 진공봉입하여 제작한 것이다. 셀간격은 5.4㎛이다. 이 액정표시소자를 2매의 직교하는 편광자의 사이에 설치하고, 전계를 인가했을 때에 투과하는 앞서의 강도 변화를 측정했다. 24℃에서 측정한 응답파형을 제 5 도에 나타냈지만, 그것에서 명백한 것처럼 이 액정표시소자의 응답시간은 1밀리초 정도로 매우 짧고, 이 액정표시소자가 뛰어난 고속응답성을 갖는 것을 나타내고 있다.

Claims (2)

  1. 다음식
    Figure kpo00071
    (식중, R은 알킬기, 알콕시기에서 선택되고, X는
    Figure kpo00072
    Figure kpo00073
    에서 선택되고, m, n은 자연수이고, R*은 부정탄소원자를 가진 광학활성기임)으로 표시되는 하나이상의 화합물 5∼95%을 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는 액정조성물.
  2. 다음식
    Figure kpo00074
    (식중, R은 탄소수 6∼10의 알콕시기를 나타내고, X는
    Figure kpo00075
    중 어느 하나를 나타내고, R*은
    Figure kpo00076
    을 나타냄)으로 표시되는 하나이상의 화합물 5∼95%을 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는 액정조성물.
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Families Citing this family (108)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4613209A (en) * 1982-03-23 1986-09-23 At&T Bell Laboratories Smectic liquid crystals
EP0115693B1 (en) * 1983-01-06 1987-08-26 Chisso Corporation Liquid crystalline compounds and mixtures thereof
US4614609A (en) * 1983-06-14 1986-09-30 Chisso Corporation Liquid crystalline biphenyl derivatives and mixtures thereof
JPS6028487A (ja) * 1983-07-27 1985-02-13 Alps Electric Co Ltd 液晶組成物
JPS6054341A (ja) * 1983-09-05 1985-03-28 Chisso Corp 液晶性炭酸エステル類
DE3332692A1 (de) * 1983-09-10 1985-03-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Anisotrope verbindungen und fluessigkristallmischungen
US5252252A (en) * 1983-09-10 1993-10-12 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschraenkter Haftung Anisotropic compounds and liquid crystal mixtures
JPS6090290A (ja) * 1983-10-05 1985-05-21 Chisso Corp カイラルスメクチツク液晶組成物
US4647398A (en) * 1984-02-03 1987-03-03 Chisso Corporation Liquid-crystalline carbonic acid esters and liquid crystal compositions containing same
JPS60203692A (ja) * 1984-03-28 1985-10-15 Seiko Instr & Electronics Ltd 液晶組成物
EP0163229A3 (en) * 1984-05-23 1988-08-17 Hitachi, Ltd. Ferroelectric liquid crystal composition
US4725688A (en) * 1984-06-07 1988-02-16 Seiko Instruments Inc. Liquid crystal compound
JPS6143A (ja) * 1984-06-11 1986-01-06 Chisso Corp 強誘電性液晶化合物及び液晶組成物
JPS6117552A (ja) * 1984-07-03 1986-01-25 Seiko Instr & Electronics Ltd 液晶化合物
US5236618A (en) * 1984-07-11 1993-08-17 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Liquid crystal phase
US5301049A (en) * 1984-07-13 1994-04-05 Canon Kabushiki Kaisha Liquid crystal device with at least two liquid crystal compounds, one having one not having a cholesteric phase
US5120466A (en) * 1984-07-13 1992-06-09 Canon Kabushiki Kaisha Fluid crystal device
US5311343A (en) * 1984-07-13 1994-05-10 Canon Kabushiki Kaisha Liquid crystal device with at least two liquid crystal compounds, one having and one not having a chiral smectic phase
US5726460A (en) * 1984-07-13 1998-03-10 Canon Kabushiki Kaisha Liquid crystal device
US4979805A (en) * 1984-07-23 1990-12-25 Canon Kabushiki Kaisha Ferroelectric liquid crystal device containing optically active azo or azoxy benzene type mesomorphic compound with extended life
JPH0662476B2 (ja) * 1984-09-04 1994-08-17 チッソ株式会社 メチレンオキシ基を有する液晶性化合物及びその組成物
EP0174816B1 (en) * 1984-09-10 1990-05-23 Ajinomoto Co., Inc. Biphenyl-based diester compounds and liquid crystal compositions containing same
US5167857A (en) * 1984-09-20 1992-12-01 Canon Kabushiki Kaisha Lactic acid derivative, liquid crystal composition containing same and liquid crystal device
US4775223A (en) * 1984-09-20 1988-10-04 Canon Kabushiki Kaisha Lactic acid derivative, liquid crystal composition containing same and liquid crystal device
EP0178647B1 (en) * 1984-10-18 1993-09-29 Chisso Corporation Ferroelectric chiral smectic liquid crystal composition
GB8524879D0 (en) * 1985-10-09 1985-11-13 Secr Defence N-substituted amino acid derivatives
GB8428653D0 (en) * 1984-11-13 1984-12-19 Secr Defence Diesters
GB2170214A (en) * 1985-01-26 1986-07-30 Stc Plc Ferroelectric smectic liquid crystal mixture
JPH0610170B2 (ja) * 1984-12-26 1994-02-09 チッソ株式会社 新規光学活性化合物及び液晶組成物
JPS61156229A (ja) * 1984-12-28 1986-07-15 Canon Inc 液晶装置
DE3685032D1 (de) * 1985-01-09 1992-06-04 Dainippon Ink & Chemicals Substituierte fluessigkristallverbindungen.
US4943386A (en) * 1985-01-09 1990-07-24 Dainippon Ink & Chemicals, Inc. Liquid crystalline compounds having substituents
DE3683062D1 (de) * 1985-02-08 1992-02-06 Ajinomoto Kk Auf polyphenyl basierende esterverbindungen und sie enthaltende fluessigkristalline zusammensetzungen.
US5076962A (en) * 1985-03-12 1991-12-31 Chisso Corporation Ferroelectric chiral smectic liquid crystal composition
JPS61210056A (ja) * 1985-03-14 1986-09-18 Chisso Corp 含ハロゲン光学活性液晶化合物及び液晶組成物
US4764619A (en) * 1985-03-26 1988-08-16 Asahi Glass Company Ltd. Optically active compounds, smectic liquid crystal compositions containing them and smectic liquid crystal display devices
US4721367A (en) * 1985-04-01 1988-01-26 Canon Kabushiki Kaisha Liquid crystal device
US4923285A (en) * 1985-04-22 1990-05-08 Canon Kabushiki Kaisha Drive apparatus having a temperature detector
DE3667052D1 (en) * 1985-07-01 1989-12-28 Ajinomoto Kk Biphenyl carbonic acid ester compounds and liquid crystal composition containing the same
JPH0688952B2 (ja) * 1985-07-26 1994-11-09 チッソ株式会社 メチレンオキシ基とエステル基を有する新規光学活性液晶化合物及びその組成物
US4780240A (en) * 1985-08-02 1988-10-25 Chisso Corporation Liquid crystal composition
GB2181429B (en) * 1985-08-13 1989-11-15 Canon Kk Lactic acid derivative and liquid crystal composition containing same
GB8520715D0 (en) * 1985-08-19 1985-09-25 Secr Defence Secondary alcohol derivatives
DE3627964C2 (de) * 1985-08-26 2000-11-02 Samsung Electronic Devices Ferroelektrische kristallin-flüssige Derivate verzweigter acyclischer chiraler alpha-Chlorcarbonsäuren, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung in Gemischen für schnell schaltende Displays in der Optoelektronik
JPH0615508B2 (ja) * 1985-08-27 1994-03-02 チッソ株式会社 液晶性カルボナ−ト安息香酸誘導体及び組成物
DE3533333A1 (de) * 1985-09-18 1987-03-26 Merck Patent Gmbh Smektische fluessigkristalline phasen
US4754051A (en) * 1985-09-30 1988-06-28 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Optically active tolan derivative
US4638073A (en) * 1985-10-01 1987-01-20 Walba David M Synthesis of new liquid crystal materials possessing phenylbenzoate or biphenyl core units and (2,3)-epoxyalkyloxiranemethanol chiral tails
US4705874A (en) * 1985-10-01 1987-11-10 University Patents, Inc. Synthesis of new liquid crystal materials possessing phenylbenzoate or biphenyl core units and (2,3)-epoxyalkyloxiranemethanol chiral tails
JPS6287556A (ja) * 1985-10-14 1987-04-22 Chisso Corp エステル化合物
US4798680A (en) * 1985-10-18 1989-01-17 Canon Kabushiki Kaisha Optically active compound, process for producing same and liquid crystal composition containing same
US4812259A (en) * 1985-11-01 1989-03-14 Canon Kabushiki Kaisha Lactic acid derivative, liquid crystal composition containing same and liquid crystal device
JPS62106061A (ja) * 1985-11-01 1987-05-16 Dainippon Ink & Chem Inc 光学活性な安息香酸エステル誘導体
JPS62114937A (ja) * 1985-11-14 1987-05-26 Chisso Corp 液晶性炭酸エステル及び液晶組成物
US4844835A (en) * 1985-12-26 1989-07-04 Idenitsu Kosan Co., Ltd. Ferroelectric liquid crystal polymer
ATE110368T1 (de) * 1986-02-17 1994-09-15 Merck Patent Gmbh Optisch aktive verbindungen.
WO1987005012A2 (en) * 1986-02-21 1987-08-27 The Secretary Of State For Defence In Her Britanni Liquid crystal compounds, mixtures and devices
CA1341038C (en) * 1986-03-10 2000-06-27 Masanao Kamei Fluoroalkaned derivative
US4751018A (en) * 1986-03-11 1988-06-14 Mitsubishi Rayon Company Ltd. Alpha-methylcinnamic acid ester derivative and liquid crystal composition
DE3620049A1 (de) * 1986-06-14 1987-12-17 Hoechst Ag Chirale ester aus (alpha)-substituierten phenylalkansaeuren und mesogenen hydroxylverbindungen und ihre verwendung als dotierstoff in fluessigkristall-phasen
GB8615316D0 (en) * 1986-06-23 1986-07-30 Secr Defence Chiral liquid crystal compounds
US5384071A (en) * 1986-06-23 1995-01-24 Secretary Of State For Defence In Her Britannic Majesty's Government Of The U.K. Of Gt. Britian And Northern Ireland Chiral liquid crystal compounds
US4886619A (en) * 1986-06-30 1989-12-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluorine-containing chiral smectic liquid crystals
US5254747A (en) * 1986-06-30 1993-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluorine-containing chiral smectic liquid crystals
JPH0733353B2 (ja) * 1986-07-04 1995-04-12 チッソ株式会社 ハロゲン置換フエニルベンジルエ−テル誘導体
US5132041A (en) * 1986-07-21 1992-07-21 Polaroid Corporation Liquid crystal compounds having ether tail moiety
DE3783826T2 (de) * 1986-08-08 1993-05-19 Canon Kk Optisch aktive mesomorphische verbindung.
US4879059A (en) * 1986-09-02 1989-11-07 Canon Kabushiki Kaisha Liquid crystal device
GB8623582D0 (en) * 1986-10-01 1986-11-05 Secr Defence Mandelic acid derivatives
US5328639A (en) * 1986-11-10 1994-07-12 Canon Kabushiki Kaisha Fluoroalkane derivative, its composition and liquid crystal device using the same
JP2538578B2 (ja) * 1987-02-02 1996-09-25 チッソ株式会社 ２−置換アルキルエ−テル類および液晶組成物
US6146547A (en) * 1987-02-02 2000-11-14 Chisso Corporation 2-substituted-alkyl ether and liquid crystal composition
US5397504A (en) * 1987-05-29 1995-03-14 Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha Biphenyl compound
US5165076A (en) * 1987-06-12 1992-11-17 Canon Kabushiki Kaisha Ferroelectric liquid crystal device with particular primer alignment, and liquid crystal layers
US4857227A (en) * 1987-07-02 1989-08-15 Polaroid Corporation Patent Department Liquid crystal mixtures having widened smectic temperature range
ATE78285T1 (de) * 1987-07-31 1992-08-15 Wako Pure Chem Ind Ltd Fluessigkristalline verbindungen und zwischenprodukte davon.
US4921632A (en) * 1987-08-26 1990-05-01 Nec Corporation Liquid crystal compounds and compositions
JP2678604B2 (ja) * 1987-10-15 1997-11-17 チッソ株式会社 新規光学活性液晶性化合物及び組成物
US5238603A (en) * 1987-10-15 1993-08-24 Chisso Corporation Optically active liquid crystalline compound and a composition containing same
US5059345A (en) * 1987-11-06 1991-10-22 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Optically active compound and chiral liquid crystal composition containing the same
US4917821A (en) * 1987-11-09 1990-04-17 Canon Kabushiki Kaisha Optically active mesomorphic compound and liquid crystal composition containing same
JP2566807B2 (ja) * 1987-11-11 1996-12-25 キヤノン株式会社 光学活性物質、その製造方法およびそれを含む液晶組成物
JP2610467B2 (ja) * 1987-11-12 1997-05-14 キヤノン株式会社 液晶性化合物、それを含有する液晶組成物およびそれを使用した液晶素子
EP0385692B1 (en) * 1989-02-27 1993-10-06 Sanyo Chemical Industries Ltd. Optcally active compounds
US5068054A (en) * 1989-03-13 1991-11-26 International Business Machines Corporation Ferroelectric liquid crystals
JP2706308B2 (ja) * 1989-04-07 1998-01-28 チッソ株式会社 強誘電性液晶組成物及びそれを用いた光スイッチング素子
US5164113A (en) * 1989-05-02 1992-11-17 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Optical active compound and liquid crystal composition
US5241102A (en) * 1989-05-29 1993-08-31 Ricoh Company, Ltd. Schiff base compounds
US5141669A (en) * 1989-06-30 1992-08-25 Polaroid Corporation Liquid crystal compounds having chiral ester head groups
JPH03128371A (ja) * 1989-07-12 1991-05-31 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光学活性体及び液晶組成物
JP3021477B2 (ja) * 1989-08-28 2000-03-15 昭和シェル石油株式会社 三安定状態で駆動する光学素子用液晶
JPH03141323A (ja) * 1989-10-27 1991-06-17 Showa Shell Sekiyu Kk 液晶化合物
JPH04359990A (ja) * 1991-06-06 1992-12-14 Mitsui Petrochem Ind Ltd 液晶組成物、その用途およびその製造方法
EP0617109B1 (en) * 1993-03-25 1997-09-17 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Liquid crystal material, liquid crystal composition and liquid crystal element
GB9325438D0 (en) 1993-12-13 1994-02-16 Secr Defence Ferroelectric liquid crystal devices
DE19509304A1 (de) * 1994-03-16 1995-09-21 Nippon Soken Antiferroelektrische Flüssigkristallzusammensetzung
JPH07278059A (ja) * 1994-04-08 1995-10-24 Nippon Soken Inc 反強誘電性液晶化合物
EP0676462A1 (en) * 1994-04-08 1995-10-11 Nippon Soken, Inc. Antiferroelectric liquid crystal composition and liquid crystal indicating element
EP0678566B1 (en) 1994-04-18 2001-08-29 Nippon Soken, Inc. Antiferroelectric liquid crystal composition
JP3501866B2 (ja) * 1994-07-19 2004-03-02 株式会社日本自動車部品総合研究所 反強誘電性液晶組成物及びそれを用いた液晶表示素子
US5702637A (en) * 1995-04-19 1997-12-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Liquid crystal compounds having a chiral fluorinated terminal portion
US5658491A (en) * 1995-10-12 1997-08-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process for controlling cone tilt angle in mixtures of smectic liquid crystal compounds
JP3052817B2 (ja) * 1995-12-28 2000-06-19 株式会社日本自動車部品総合研究所 反強誘電性液晶組成物
JPH1036844A (ja) * 1996-07-25 1998-02-10 Nippon Soken Inc 反強誘電性液晶組成物
JPH10279534A (ja) * 1997-04-07 1998-10-20 Mitsubishi Gas Chem Co Inc ラセミ化合物及びそれを含む反強誘電性液晶組成物
US5855812A (en) * 1997-04-11 1999-01-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Compounds and process for controlling cone tilt angle in mixtures of smectic liquid crystal compounds
US6309561B1 (en) 1997-12-24 2001-10-30 3M Innovative Properties Company Liquid crystal compounds having a chiral fluorinated terminal portion
US7524870B2 (en) * 2004-12-03 2009-04-28 Hoffmann-La Roche Inc. Biaryloxymethylarenecarboxylic acids as glycogen synthase activators

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2253814B1 (ko) * 1973-12-05 1978-12-29 Rca Corp
GB1456359A (en) * 1974-10-22 1976-11-24 Merck Patent Gmbh Biphenyl carboxylic esters
US4113647A (en) * 1976-08-13 1978-09-12 The Secretary Of State For Defence In Her Britannic Majesty's Government Of The United Kingdom Of Great Britain And Northern Ireland Liquid crystalline materials
GB1592161A (en) * 1976-08-13 1981-07-01 Secr Defence Biphenyl carboxylic esters and their use as liquid crystal materials
GB1596012A (en) * 1976-08-16 1981-08-19 Secr Defence Optically active liquid crystal materials and liquid crystal devices containing them
JPS6049624B2 (ja) * 1977-03-08 1985-11-02 チッソ株式会社 ｐ−（ｐ′−ｎ−アルコキシシンナモイルオキシ）安息香酸及びその２−メチル−１−ブチルエステル
GB1603076A (en) * 1977-04-05 1981-11-18 Secr Defence Esters of (+)-4-(2'-methylbutyl)phenol and their use as liquid crystal materials
JPS56122334A (en) * 1980-02-29 1981-09-25 Chisso Corp Liquid crystal 4-alkylcyclohexyl ester
JPS56156817A (en) * 1980-05-09 1981-12-03 Hitachi Ltd Liquid-crystal display element
SU899536A1 (ru) * 1980-05-20 1982-01-23 Научно-исследовательский институт прикладных физических проблем им.А.Н.Севченко 2-Метилбутиловый эфир п-/п @ -(п @ -децилоксифенилазо)-ортохлорбензоилокси/-бензойной кислоты,обладающий сегнетоэлектрической хиральной смектической фазой с
JPS5763380A (en) * 1980-10-03 1982-04-16 Casio Comput Co Ltd Guest-host-type liquid crystal display device

Also Published As

Publication number Publication date
EP0110299A2 (en) 1984-06-13
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