JPH0610170B2 - 新規光学活性化合物及び液晶組成物 - Google Patents
新規光学活性化合物及び液晶組成物Info
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- JPH0610170B2 JPH0610170B2 JP60283110A JP28311085A JPH0610170B2 JP H0610170 B2 JPH0610170 B2 JP H0610170B2 JP 60283110 A JP60283110 A JP 60283110A JP 28311085 A JP28311085 A JP 28311085A JP H0610170 B2 JPH0610170 B2 JP H0610170B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Description
【発明の詳細な説明】 〔利用分野〕 本発明は新規な光学活性化合物及び光学活性化合物を含
有する液晶組成物に関し、更に詳しくは新規な光学活性
カルボン酸の置換フエニルエステル類及びそれらを含有
するカイラルスメクチツク液晶組成物に関する。
有する液晶組成物に関し、更に詳しくは新規な光学活性
カルボン酸の置換フエニルエステル類及びそれらを含有
するカイラルスメクチツク液晶組成物に関する。
現在、液晶表示素子としてはTN(Twisted Nematic)
型表示方式が最も広く用いられているが、応答速度の点
に於いて発光型表示素子(エレクトロルミネツセンス、
プラズマデイスプレイ等)と比較して劣つており、この
点に於ける改善は種々試みられているにも拘らず、大巾
な改善の可能性はあまり残つていないようである。その
ためTN型表示素子に代わる別の原理による液晶表示装
置が種々試みられているが、その一つに強誘導性液晶を
利用する表示方法がある(N.A.Clarkら;Applied Phys.
Lett.,36,899(1980))。この方式は強誘電性液晶のカイ
ラルスメクチツクC相(以下SC*相と略称する)あるい
はカイラルスメクチツクH相(以下SH*相と略称する)
を利用するもので、これらの相が室温付近にあるのが望
ましい。
型表示方式が最も広く用いられているが、応答速度の点
に於いて発光型表示素子(エレクトロルミネツセンス、
プラズマデイスプレイ等)と比較して劣つており、この
点に於ける改善は種々試みられているにも拘らず、大巾
な改善の可能性はあまり残つていないようである。その
ためTN型表示素子に代わる別の原理による液晶表示装
置が種々試みられているが、その一つに強誘導性液晶を
利用する表示方法がある(N.A.Clarkら;Applied Phys.
Lett.,36,899(1980))。この方式は強誘電性液晶のカイ
ラルスメクチツクC相(以下SC*相と略称する)あるい
はカイラルスメクチツクH相(以下SH*相と略称する)
を利用するもので、これらの相が室温付近にあるのが望
ましい。
本発明者らはこの表示方法に利用されるに適した液晶物
質の開発を主たる目的として、光学活性基を有する液晶
化合物及び液晶類似化合物を種々探索した結果、本発明
の光学活性化合物を見出し本発明に到達した。
質の開発を主たる目的として、光学活性基を有する液晶
化合物及び液晶類似化合物を種々探索した結果、本発明
の光学活性化合物を見出し本発明に到達した。
即ち、本発明は一般式 (上式に於てRは炭素数2〜15のアルキル基を、Xは
CN基又はハロゲン原子を、Y、Zはいずれもハロゲン
原子又は水素原子を夫々示すが、Y、Zのいずれか一方
は水素原子であり、又lは1又は2、mは0又は1であ
り、*はその炭素原子が光学活性中心であることを示
す) で表わされる光学活性化合物及びそれを1成分含有する
カイラルスメクチツク液晶組成物である。
CN基又はハロゲン原子を、Y、Zはいずれもハロゲン
原子又は水素原子を夫々示すが、Y、Zのいずれか一方
は水素原子であり、又lは1又は2、mは0又は1であ
り、*はその炭素原子が光学活性中心であることを示
す) で表わされる光学活性化合物及びそれを1成分含有する
カイラルスメクチツク液晶組成物である。
(I)式の化合物の代表的なものの相転移温度を第1表に
示す。
示す。
1.(1)式に於けるRはすべてn-C6H13である。
2.相転移点の相を示す欄の・印はその相が現れることを
示し、−印はその相が現れないことを示す。又・印の右
側の数字はその相からその右側の・印の相への転移温度
を示す。又はSAはスメクチツクA液晶相を、Chはコレ
ステリツク液晶相を、Cは液晶相を、Iは透明性を夫々
示す。
示し、−印はその相が現れないことを示す。又・印の右
側の数字はその相からその右側の・印の相への転移温度
を示す。又はSAはスメクチツクA液晶相を、Chはコレ
ステリツク液晶相を、Cは液晶相を、Iは透明性を夫々
示す。
(I)式に於てl=1、m=0の化合物の大部分のものに
於ては液晶相は観察されず、主として液晶相が観察され
るのはl=1、m=1の場合及びl=2、m=0の場合
である。しかも、液晶相を示す場合に於ても、その液晶
相はスメクチツクA相又はコレステリツク相であること
を考えれば、本発明の化合物は上記の強誘電性液晶組成
物の成分として適当ではないと考えられがちである。し
かし、そのような早まつた判断が正しくないことは以下
に配すことによつて理解される。
於ては液晶相は観察されず、主として液晶相が観察され
るのはl=1、m=1の場合及びl=2、m=0の場合
である。しかも、液晶相を示す場合に於ても、その液晶
相はスメクチツクA相又はコレステリツク相であること
を考えれば、本発明の化合物は上記の強誘電性液晶組成
物の成分として適当ではないと考えられがちである。し
かし、そのような早まつた判断が正しくないことは以下
に配すことによつて理解される。
即ち、本発明の化合物(I)はそれ自体では強誘電性液晶
として不適当であるが、これらを他のカイラルスメクチ
ツクC相(SC*相)を有する材料又はスメクチツクC相
(SC相)を有する材料に添加することによつて、自発
分極(PS)の極めて大きな液晶材料が得られる。外挿
法によつて確定される(I)式の化合物のPSの値は約8
0nC/cm2にも達する。この値は(I)式の化合物自体につ
いて実測されたものではないので、これが(I)式の化合
物のPSであるとは云えないが、実際上の使用に於ては
この様な作用効果を有することは極めて有用で、かつ驚
くべきことである。それに対し、例えば特開昭53-22883
号に記載されている、式 で示される化合物のPS値は本発明者ら測定によれば約
1nC/cm2であつて、本発明の化合物のPS値を大きくす
る効果は極めて大きいと云うことができる。
として不適当であるが、これらを他のカイラルスメクチ
ツクC相(SC*相)を有する材料又はスメクチツクC相
(SC相)を有する材料に添加することによつて、自発
分極(PS)の極めて大きな液晶材料が得られる。外挿
法によつて確定される(I)式の化合物のPSの値は約8
0nC/cm2にも達する。この値は(I)式の化合物自体につ
いて実測されたものではないので、これが(I)式の化合
物のPSであるとは云えないが、実際上の使用に於ては
この様な作用効果を有することは極めて有用で、かつ驚
くべきことである。それに対し、例えば特開昭53-22883
号に記載されている、式 で示される化合物のPS値は本発明者ら測定によれば約
1nC/cm2であつて、本発明の化合物のPS値を大きくす
る効果は極めて大きいと云うことができる。
前記以外の公知の強誘電性液晶化合物のPS値も大きいも
のでもせいぜい20位である。
のでもせいぜい20位である。
SC*相の光スイツチング効果を表示素子として応用する
場合TN表示方式にくらべて3つのすぐれた特徴があ
る。第1の特徴は非常に高速で応答し、その応答時間は
通常のTN表示方式の素子と比較すると、応答時間は1/
100以下である。第2の特徴はメモリー効果があること
であり、上記の高速応答性とあいまつて、時分割駆動が
容易である。第3の特徴はTN表示方式で濃淡の階調を
とるには、印加電圧を調節して行なうが、しきい値電圧
の温度依存性や応答速度の電圧依存性などの難問があ
る。しかし、SC*相の光スイツチング効果を応用する場
合には極性の反転時間を調節することにより、容易に階
調を得ることができ、グラフイツク表示に非常に適して
いる。
場合TN表示方式にくらべて3つのすぐれた特徴があ
る。第1の特徴は非常に高速で応答し、その応答時間は
通常のTN表示方式の素子と比較すると、応答時間は1/
100以下である。第2の特徴はメモリー効果があること
であり、上記の高速応答性とあいまつて、時分割駆動が
容易である。第3の特徴はTN表示方式で濃淡の階調を
とるには、印加電圧を調節して行なうが、しきい値電圧
の温度依存性や応答速度の電圧依存性などの難問があ
る。しかし、SC*相の光スイツチング効果を応用する場
合には極性の反転時間を調節することにより、容易に階
調を得ることができ、グラフイツク表示に非常に適して
いる。
表示方法としては、2つの方式が考えられ、1つの方法
は2枚の偏光子を使用する複届折型、他の1つの方法は
二色性色素を使用するゲストホスト型である。SC*相は
自発分極をもつため、印加電圧の極性を反転することに
より、らせん軸を回転軸として分子が反転する。SC*相
を有する液晶組成物を液晶分子が電極面に平行にならぶ
ように配向処理を施した液晶表示セルに注入し、液晶分
子のダイレクターと一方の偏光面を平行になるように配
置した2枚の偏光子の間に該液晶セルをはさみ、電圧を
印加して、極性を反転することにより、明視野および暗
視野(偏光子の対向角度により決まる)が得られる。一
方ゲスト・ホスト型で動作する場合には、印加電圧の極
性を反転することにより明視野及び着色視野(偏光板の
配置により決まる)を得ることができる。
は2枚の偏光子を使用する複届折型、他の1つの方法は
二色性色素を使用するゲストホスト型である。SC*相は
自発分極をもつため、印加電圧の極性を反転することに
より、らせん軸を回転軸として分子が反転する。SC*相
を有する液晶組成物を液晶分子が電極面に平行にならぶ
ように配向処理を施した液晶表示セルに注入し、液晶分
子のダイレクターと一方の偏光面を平行になるように配
置した2枚の偏光子の間に該液晶セルをはさみ、電圧を
印加して、極性を反転することにより、明視野および暗
視野(偏光子の対向角度により決まる)が得られる。一
方ゲスト・ホスト型で動作する場合には、印加電圧の極
性を反転することにより明視野及び着色視野(偏光板の
配置により決まる)を得ることができる。
一般にスメクチツク状態で液晶分子をガラス壁面に平行
に配向させることは難かしく、数十キロガウス以上の磁
場中で等方性液体から非常にゆつくりと冷却する(1℃
〜2℃/hr)ことにより、液晶分子を配向させている
が、スメクチツク相を呈する温度より高温域でコレステ
リツク相を有する液晶物質では、磁場の代わりに50V
〜100Vの直流電圧を印加しながらコレステリツク相
を呈する温度から1℃/minの冷却速度でスメクチツク
相を呈する温度へ冷却することにより、容易に均一に配
向したモノドメイン状態を得ることができる。
に配向させることは難かしく、数十キロガウス以上の磁
場中で等方性液体から非常にゆつくりと冷却する(1℃
〜2℃/hr)ことにより、液晶分子を配向させている
が、スメクチツク相を呈する温度より高温域でコレステ
リツク相を有する液晶物質では、磁場の代わりに50V
〜100Vの直流電圧を印加しながらコレステリツク相
を呈する温度から1℃/minの冷却速度でスメクチツク
相を呈する温度へ冷却することにより、容易に均一に配
向したモノドメイン状態を得ることができる。
本発明の(I)式の化合物は上記及び後の実施例に示され
るようにカイラルスメクチツク液晶相を利用した表示方
式に用いるSC*組成物の成分として好適なものである
が、この場合、それ自身液晶相を示すものの方がそうで
ないものよりも一般的には好ましいと云える。
るようにカイラルスメクチツク液晶相を利用した表示方
式に用いるSC*組成物の成分として好適なものである
が、この場合、それ自身液晶相を示すものの方がそうで
ないものよりも一般的には好ましいと云える。
(I)式の化合物のもう一つの驚くべき特徴についても言
及しておく。(I)式の化合物は光学活性体であるから、
これをネマチツク液晶に添加することによりカイラルネ
マチツク相(コレステリツク相)を与える、即ち、捩れ
た構造を誘起することは当然であるが、この際(I)式の
化合物の誘起するコレステリツクピツチ(P)は温度の低
下により長い方へシフトすると云う異常な挙動を示す。
及しておく。(I)式の化合物は光学活性体であるから、
これをネマチツク液晶に添加することによりカイラルネ
マチツク相(コレステリツク相)を与える、即ち、捩れ
た構造を誘起することは当然であるが、この際(I)式の
化合物の誘起するコレステリツクピツチ(P)は温度の低
下により長い方へシフトすると云う異常な挙動を示す。
例えば、4-(4′−アルキルシクロヘキシル)−ベンゾ
ニトリル系ネマチツク液晶組成物であるZN1-1132(メル
ク社製)に、(I)式の化合物を夫々4重量%添加してえ
られるカイラルネマチツク(コレステリツク)液晶のコ
レステリツクピツチは、第2表に例示されるように、温
度の低下とともに長くなる。
ニトリル系ネマチツク液晶組成物であるZN1-1132(メル
ク社製)に、(I)式の化合物を夫々4重量%添加してえ
られるカイラルネマチツク(コレステリツク)液晶のコ
レステリツクピツチは、第2表に例示されるように、温
度の低下とともに長くなる。
これは、一般に知られている光学活性物質により誘起さ
れるコレステリツクピツチの温度変化の逆である。(I)
式の化合物のこの驚くべき特徴に基づいた(I)式の化合
物の実用上の重要性は、本出願人の出願に係る特願昭60
-170,951号及び特願昭60-172,090号に詳細に説明されて
いるところによつて明らかであるので、こゝでは詳細に
論じないが、その一部分を要約すると次の如くである。
即ち、ネマチツク液晶に(I)式の光学活性体を添加する
ことによつて誘起されるコレステリツクピツチが、通常
の場合とは逆に温度の低下とともに長くなるのでその液
晶組成物を用いたねじれネマチツク型表示素子の電気光
学効果のしきい値電圧の温度による変化(これは一般に
温度低下とともに上昇してしまうが)減少するというす
ぐれた効果が見られる。しきい値電圧の温度依存性を抑
制する従来の方法は、右捩りのコレステリツクら旋構造
を誘起する光学活性体と、左捩りのコレステリツクら旋
構造を誘起する光学活性体との両者を添加して、夫々の
ねじり力の温度による変化の差異にもとづいて残存ねじ
り力の温度低下による減少(即ち、温度低下でコレステ
リツクピツチが増大する)をもたらせるようにするもの
である(例えば特開昭55-38869号)。この公知方法と比
較して、こゝに提出される新しい方法ははるかにすぐれ
ている。
れるコレステリツクピツチの温度変化の逆である。(I)
式の化合物のこの驚くべき特徴に基づいた(I)式の化合
物の実用上の重要性は、本出願人の出願に係る特願昭60
-170,951号及び特願昭60-172,090号に詳細に説明されて
いるところによつて明らかであるので、こゝでは詳細に
論じないが、その一部分を要約すると次の如くである。
即ち、ネマチツク液晶に(I)式の光学活性体を添加する
ことによつて誘起されるコレステリツクピツチが、通常
の場合とは逆に温度の低下とともに長くなるのでその液
晶組成物を用いたねじれネマチツク型表示素子の電気光
学効果のしきい値電圧の温度による変化(これは一般に
温度低下とともに上昇してしまうが)減少するというす
ぐれた効果が見られる。しきい値電圧の温度依存性を抑
制する従来の方法は、右捩りのコレステリツクら旋構造
を誘起する光学活性体と、左捩りのコレステリツクら旋
構造を誘起する光学活性体との両者を添加して、夫々の
ねじり力の温度による変化の差異にもとづいて残存ねじ
り力の温度低下による減少(即ち、温度低下でコレステ
リツクピツチが増大する)をもたらせるようにするもの
である(例えば特開昭55-38869号)。この公知方法と比
較して、こゝに提出される新しい方法ははるかにすぐれ
ている。
一般式(I)の化合物は、又、光学活性炭素原子を有する
ため、これをネマチツク液晶に添加することによつて捩
れた構造を誘起する能力を有する。捩れた構造を有する
ネマチツク液晶、即ちカイラルネマチツク液晶はTN型
表示素子のいわゆるリバース・ドメイン(reverse doma
in、しま模様)を生成することがないので(I)式の化合
物はリバース・ドメイン生成の防止剤として使用でき
る。
ため、これをネマチツク液晶に添加することによつて捩
れた構造を誘起する能力を有する。捩れた構造を有する
ネマチツク液晶、即ちカイラルネマチツク液晶はTN型
表示素子のいわゆるリバース・ドメイン(reverse doma
in、しま模様)を生成することがないので(I)式の化合
物はリバース・ドメイン生成の防止剤として使用でき
る。
次に一般式(I)の化合物の製造法について述べる。(I)式
の化合物は次のような経路により製造することができ
る。
の化合物は次のような経路により製造することができ
る。
(上式中R2は短鎖アルキル基を示す。その他は前記と
同じ) 即ち、既知物質である光学活性1−メチル−1−アルカ
ノール(II)をピリジン存在下、P−トルエンスルホン酸
クロリドと反応して化合物(III)を得る。これを化合物
(IV)(P−ヒロドキシ安息香酸アルキルエステル又は4
−ヒドロキシ−4′−ビフエニルカルボン酸アルキルエ
ステル)と水酸化カリウムの存在下、反応させて化合物
(V)を得る。化合物(V)を水酸化ナトリウム水の存在下で
加水分解をして化合物(VI)を得る。次いで化合物(VI)を
塩化チオニルと反応して化合物(VII)とし、それをピリ
ジン存在下で、最終目的化合物に対応する(VIII)式のフ
エノール類即ちP−シアノフエノール、P−フルオロフ
エノール、P−クロルフエノール、P−ブロムフエノー
ル、P′−ヒドロキシ−P−シアノフエニル、P′−ヒ
ドロキシ−P′−フルオロビフエニル、P′−ヒドロキ
シ−P−クロルビフエニル、P′−ヒドロキシ−P−ブ
ロムビフエニル、2,4−ジフルオロフエノール、3,4−ジ
フルオロフエノール、2−フルオロ−4−シアノフエノ
ール、3−フルオロ−4−シアノフエノール、2−フル
オロ−4−ブロモフエノール、3−フルオロ−4−ブロ
モフエノール、3−クロロ−4−シアノフエノール、3
−クロロ−4−フルオロフエノール等と反応させて目的
の(I)式の化合物を得る。
同じ) 即ち、既知物質である光学活性1−メチル−1−アルカ
ノール(II)をピリジン存在下、P−トルエンスルホン酸
クロリドと反応して化合物(III)を得る。これを化合物
(IV)(P−ヒロドキシ安息香酸アルキルエステル又は4
−ヒドロキシ−4′−ビフエニルカルボン酸アルキルエ
ステル)と水酸化カリウムの存在下、反応させて化合物
(V)を得る。化合物(V)を水酸化ナトリウム水の存在下で
加水分解をして化合物(VI)を得る。次いで化合物(VI)を
塩化チオニルと反応して化合物(VII)とし、それをピリ
ジン存在下で、最終目的化合物に対応する(VIII)式のフ
エノール類即ちP−シアノフエノール、P−フルオロフ
エノール、P−クロルフエノール、P−ブロムフエノー
ル、P′−ヒドロキシ−P−シアノフエニル、P′−ヒ
ドロキシ−P′−フルオロビフエニル、P′−ヒドロキ
シ−P−クロルビフエニル、P′−ヒドロキシ−P−ブ
ロムビフエニル、2,4−ジフルオロフエノール、3,4−ジ
フルオロフエノール、2−フルオロ−4−シアノフエノ
ール、3−フルオロ−4−シアノフエノール、2−フル
オロ−4−ブロモフエノール、3−フルオロ−4−ブロ
モフエノール、3−クロロ−4−シアノフエノール、3
−クロロ−4−フルオロフエノール等と反応させて目的
の(I)式の化合物を得る。
尚、原料の光学活性2−アルカノール類のうちS(+)−
2−オクタノール及びR(-)−2−オクタノールは市販
品として容易に入手できるが、他の光学活性2−アルカ
ノール類は現在のところ高価で大量の使用には向かな
い。本発明者らは文献(R.H.Pickardら、J.Chem.Soc.,
99,45(1911))記載の方法に従つてラセミ体の光学分
割をおこなつて得たものを原料として使用したが、これ
らの光学活性2−アルカノール類を使用することによつ
て(I)式に於けるRの異る諸物質が得られる。しかしR
の鎖長による液晶相転移温度の変化はわずかであるので
最も容易に入手し得る2−オクタノール以外の光学活性
2−アルカノールを原料とすることによる格別な利点は
ない。
2−オクタノール及びR(-)−2−オクタノールは市販
品として容易に入手できるが、他の光学活性2−アルカ
ノール類は現在のところ高価で大量の使用には向かな
い。本発明者らは文献(R.H.Pickardら、J.Chem.Soc.,
99,45(1911))記載の方法に従つてラセミ体の光学分
割をおこなつて得たものを原料として使用したが、これ
らの光学活性2−アルカノール類を使用することによつ
て(I)式に於けるRの異る諸物質が得られる。しかしR
の鎖長による液晶相転移温度の変化はわずかであるので
最も容易に入手し得る2−オクタノール以外の光学活性
2−アルカノールを原料とすることによる格別な利点は
ない。
以下、実施例により本発明の光学活性エステル化合物に
つき更に詳細に説明する。
つき更に詳細に説明する。
尚、以下の実施例に於いては原料の光学活性2−アルカ
ノールとしてS(+)型のものを使用した例だけを記載す
るが、R(-)型の2−アルカノールを原料とした場合に
も夫々同一の相転移温度のものが得られる。これは理論
上からも当然の事である。但し旋光度、ら旋の捩れ向
き、自発分極の向きはS(+)型とR(-)型とでは逆にな
る。
ノールとしてS(+)型のものを使用した例だけを記載す
るが、R(-)型の2−アルカノールを原料とした場合に
も夫々同一の相転移温度のものが得られる。これは理論
上からも当然の事である。但し旋光度、ら旋の捩れ向
き、自発分極の向きはS(+)型とR(-)型とでは逆にな
る。
そしてS(+)型−2−アルカノールを出発原料としてえ
られる物質は、誘起するコレステリツク相のら旋の捩り
の向きは左向き、又、自発分極の方向は(+)である。
られる物質は、誘起するコレステリツク相のら旋の捩り
の向きは左向き、又、自発分極の方向は(+)である。
実施例1 〔光学活性4′−(1−メチル−ヘプチルオキシ)−4
−ビフエニルカルボン酸P−フルオロフエニルエステル
((I)式に於いてl=2、m=0、R=C6H13、X=F、Y=
H、Z=Hのもの(試料No.16))の製造〕 S(+)−2−オクタノール200g(1.536モル)を乾燥ピリ
ジン600mに溶解し、そこへ系内の温度が10℃以
上にならないようにしながらP−トルエンスルホン酸ク
ロリド292.8g(1.536モル)を乾燥トルエン440mに
溶解した溶液を滴下する。滴下終了後、室温で1時間攪
拌したのち、系内の温度を50℃に加温し、そのまま2
時間保つてから冷却する。更に水1とトルエン500
mを加えて攪拌する。分離したトルエン層を6N−HC
l、次いで2N−苛性ソーダ水溶液で洗浄し、更に中性
になるまで水洗する。トルエンを留去すると残留物とし
て321.0gの光学活性P−トリエンスルホン酸1−メチ
ル−ヘプチルエステル(III)を得た。
−ビフエニルカルボン酸P−フルオロフエニルエステル
((I)式に於いてl=2、m=0、R=C6H13、X=F、Y=
H、Z=Hのもの(試料No.16))の製造〕 S(+)−2−オクタノール200g(1.536モル)を乾燥ピリ
ジン600mに溶解し、そこへ系内の温度が10℃以
上にならないようにしながらP−トルエンスルホン酸ク
ロリド292.8g(1.536モル)を乾燥トルエン440mに
溶解した溶液を滴下する。滴下終了後、室温で1時間攪
拌したのち、系内の温度を50℃に加温し、そのまま2
時間保つてから冷却する。更に水1とトルエン500
mを加えて攪拌する。分離したトルエン層を6N−HC
l、次いで2N−苛性ソーダ水溶液で洗浄し、更に中性
になるまで水洗する。トルエンを留去すると残留物とし
て321.0gの光学活性P−トリエンスルホン酸1−メチ
ル−ヘプチルエステル(III)を得た。
一方、4−ヒドロキシ−4′−ビフエニルカルボン酸エ
チルエステル(IV)38.7g(0.160モル)をエタノール2
00mに溶解し、更に水酸化カリウム9g(0.160モ
ル)を加え溶解する。そこへ先に得られた光学活性P−
トルエンスルホン酸1−メチル−ヘプチルエステル50g
(0.176モル)を加えて還流しながら4時間を保つたの
ち冷却、トルエン200mと6N−HCl50mを加
える。そのトルエン層を2N−苛性ソーダ水溶液で洗浄
したのち、中性になるまで水で洗浄した。トルエンを留
去し残留物として38.6gの光学活性4′−(1−メチル
−ヘプチルオキシ)−4−ビフエニルカルボン酸エチル
エステル(V)を得た。この光学活性4′−(1−メチル
−ヘプチルオキシ)−4−ビフエニルカルボン酸エチル
エステル38.6g(0.109モル)を、エタノール6m、水
酸化ナトリウム5.3g(0.130モル)、水26mに溶かし
た溶液を10分間加熱還流すると結晶が析出する。冷却
し6N−HCl20mを加えて結晶を別し、更に酢酸
から再結晶して23.4gの光学活性4′−(1−メチル−
ヘプチルオキシ)−4−ビフエニルカルボン酸(VI)を得
た。このものは液晶相を示し、その相転移点はC−SC*
点160℃、SC*−Ch点177℃、Ch−I点196℃で
あつた。
チルエステル(IV)38.7g(0.160モル)をエタノール2
00mに溶解し、更に水酸化カリウム9g(0.160モ
ル)を加え溶解する。そこへ先に得られた光学活性P−
トルエンスルホン酸1−メチル−ヘプチルエステル50g
(0.176モル)を加えて還流しながら4時間を保つたの
ち冷却、トルエン200mと6N−HCl50mを加
える。そのトルエン層を2N−苛性ソーダ水溶液で洗浄
したのち、中性になるまで水で洗浄した。トルエンを留
去し残留物として38.6gの光学活性4′−(1−メチル
−ヘプチルオキシ)−4−ビフエニルカルボン酸エチル
エステル(V)を得た。この光学活性4′−(1−メチル
−ヘプチルオキシ)−4−ビフエニルカルボン酸エチル
エステル38.6g(0.109モル)を、エタノール6m、水
酸化ナトリウム5.3g(0.130モル)、水26mに溶かし
た溶液を10分間加熱還流すると結晶が析出する。冷却
し6N−HCl20mを加えて結晶を別し、更に酢酸
から再結晶して23.4gの光学活性4′−(1−メチル−
ヘプチルオキシ)−4−ビフエニルカルボン酸(VI)を得
た。このものは液晶相を示し、その相転移点はC−SC*
点160℃、SC*−Ch点177℃、Ch−I点196℃で
あつた。
この光学活性4′−(1−メチル−ヘプチルオキシ)−
4−ビフエニルカルボン酸20g(0.063モル)に塩化
チオニル11.3g(0.095モル)を加え、1時間加熱還流
したのち過剰の塩化チオニルを留去して21gの光学活
性4′−(1−メチル−ヘプチルオキシ)−4−ビフエ
ニルカルボン酸クロリド(VII)を得た。
4−ビフエニルカルボン酸20g(0.063モル)に塩化
チオニル11.3g(0.095モル)を加え、1時間加熱還流
したのち過剰の塩化チオニルを留去して21gの光学活
性4′−(1−メチル−ヘプチルオキシ)−4−ビフエ
ニルカルボン酸クロリド(VII)を得た。
P−フルオロフエノール(VIII)0.78g(0.007モル)を
ピリジン5mに溶解したものに、この光学活性4′−
(1−メチル−ヘプチルオキシ)−4−ビフエニルカル
ボン酸クロリド(VII)2.0g(0.006モル)を加え反応さ
せた。加熱攪拌してから一夜放置後トルエン30m、
水20mを加えて攪拌し、そのトルエン層を6N−HC
l次いで2N−苛性ソーダ水溶液で洗浄し、更に中性に
なるまで水洗した。トルエンを留去し残留物をエタノー
ルで再結晶して目的物である光学活性4′−(1−メチ
ル−ヘプチルオキシ)−4−ビフエニルカルボン酸P−
フルオロフエニルエステル1.3gを得た。このものの相
転移点はC−SA点108.7℃、SA−I点132.0℃であつ
た。
ピリジン5mに溶解したものに、この光学活性4′−
(1−メチル−ヘプチルオキシ)−4−ビフエニルカル
ボン酸クロリド(VII)2.0g(0.006モル)を加え反応さ
せた。加熱攪拌してから一夜放置後トルエン30m、
水20mを加えて攪拌し、そのトルエン層を6N−HC
l次いで2N−苛性ソーダ水溶液で洗浄し、更に中性に
なるまで水洗した。トルエンを留去し残留物をエタノー
ルで再結晶して目的物である光学活性4′−(1−メチ
ル−ヘプチルオキシ)−4−ビフエニルカルボン酸P−
フルオロフエニルエステル1.3gを得た。このものの相
転移点はC−SA点108.7℃、SA−I点132.0℃であつ
た。
本物質の絶対立体配置は決定できていないが、化合物
(V)を合成する段階でワルデン反転が起つたと考えられ
るので、絶対立体配置はR系統であると推定される。
又、元素分析値は次の如く計算値とよく一致した。
(V)を合成する段階でワルデン反転が起つたと考えられ
るので、絶対立体配置はR系統であると推定される。
又、元素分析値は次の如く計算値とよく一致した。
実施例2 〔光学活性P−(1−メチル−ヘプチルオキシ)安息香
酸4′−ブロム−4−ビフエニリルエステル((I)式に
於いて、l=1、m=1、R=C6H13、X=Br,Y=
H、Z=Hのもの(試料No.9)の製造〕 P−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル(IV)28.5g(0.18
7モル)をメチルアルコール120mに溶解し、更に水酸
化カリウム10.1g(0.187モル)を加え溶解する。そこ
へ実施例1で得られた光学活性P−トルエンスルホン酸
1−メチル−ヘプチルエステル(III)58.6g(0.206モル)
を加えて4時間還流を保つたのち冷却し、トルエン20
0mと6N−HCll50mを加える。そのトルエン
層を2N−苛性ソーダ水溶液で洗浄したのち中性になる
まで洗浄した。トルエンを留去し残留物として14.2g
の光学活性P−(1−メチル−ヘプチルオキシ)安息香
酸メチルエステル(V)を得た。このP−(1−メチル−
ヘプチルオキシ)安息香酸メチルエステル14.2g(0.05
4モル)を、エタノール5m、水酸化ナトリウム3.2g
(0.081モル)、水20mと共に溶解し1時間加熱還流
する。冷却後、反応液を50mの6N−HCl水溶液の
中に攪拌しながら注ぎ込む。析出した結晶を別し更に
エタノールから再結晶して8.1gの光学活性P−(1−
メチル−ブチルオキシ)安息香酸(VI)を得た。このもの
の融点は61.2〜63.1℃であつた。この光学活性P−(1
−メチル−ブチルオキシ)安息香酸7.5g(0.030モル)
に塩化チオニル6.0g(0.047モル)を加え、1時間加熱
還流したのち、過剰の塩化チオニルを留去し5.8gの光
学活性P−(1−メチル−ヘプチルオキシ)安息香酸ク
ロリド(VII)を得た。
酸4′−ブロム−4−ビフエニリルエステル((I)式に
於いて、l=1、m=1、R=C6H13、X=Br,Y=
H、Z=Hのもの(試料No.9)の製造〕 P−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル(IV)28.5g(0.18
7モル)をメチルアルコール120mに溶解し、更に水酸
化カリウム10.1g(0.187モル)を加え溶解する。そこ
へ実施例1で得られた光学活性P−トルエンスルホン酸
1−メチル−ヘプチルエステル(III)58.6g(0.206モル)
を加えて4時間還流を保つたのち冷却し、トルエン20
0mと6N−HCll50mを加える。そのトルエン
層を2N−苛性ソーダ水溶液で洗浄したのち中性になる
まで洗浄した。トルエンを留去し残留物として14.2g
の光学活性P−(1−メチル−ヘプチルオキシ)安息香
酸メチルエステル(V)を得た。このP−(1−メチル−
ヘプチルオキシ)安息香酸メチルエステル14.2g(0.05
4モル)を、エタノール5m、水酸化ナトリウム3.2g
(0.081モル)、水20mと共に溶解し1時間加熱還流
する。冷却後、反応液を50mの6N−HCl水溶液の
中に攪拌しながら注ぎ込む。析出した結晶を別し更に
エタノールから再結晶して8.1gの光学活性P−(1−
メチル−ブチルオキシ)安息香酸(VI)を得た。このもの
の融点は61.2〜63.1℃であつた。この光学活性P−(1
−メチル−ブチルオキシ)安息香酸7.5g(0.030モル)
に塩化チオニル6.0g(0.047モル)を加え、1時間加熱
還流したのち、過剰の塩化チオニルを留去し5.8gの光
学活性P−(1−メチル−ヘプチルオキシ)安息香酸ク
ロリド(VII)を得た。
4−(4′−ブロムフエニル)フエノール(VIII)1.0g
(0.004モル)をピリジン10mに溶解したもので、この
光学活性P−(1−メチル−ヘプチルオキシ)安息香酸
クロリド(VII)1.1g(0.004モル) を加え反応させた。加熱攪拌してから一夜放置後、トル
エン30m、水20mを加え攪拌し、そのトルエン
層を6N-HCl次いで2N−苛性ソーダ水溶液で洗浄し、更
に中性になるまで水洗した。トルエンを留去し残留物を
酢酸エチルエステルで再結晶して目的物である光学活性
P−(1−メチル−ヘプチルオキシ)−4′−ブロム−
4−ビフエニルエステル(I)0.8gを得た。このものの相
転移点はC-SA点:134.5℃、SA−I点:147.8℃であつ
た。
(0.004モル)をピリジン10mに溶解したもので、この
光学活性P−(1−メチル−ヘプチルオキシ)安息香酸
クロリド(VII)1.1g(0.004モル) を加え反応させた。加熱攪拌してから一夜放置後、トル
エン30m、水20mを加え攪拌し、そのトルエン
層を6N-HCl次いで2N−苛性ソーダ水溶液で洗浄し、更
に中性になるまで水洗した。トルエンを留去し残留物を
酢酸エチルエステルで再結晶して目的物である光学活性
P−(1−メチル−ヘプチルオキシ)−4′−ブロム−
4−ビフエニルエステル(I)0.8gを得た。このものの相
転移点はC-SA点:134.5℃、SA−I点:147.8℃であつ
た。
又、この化合物の元素分析値は次の如く計算値とよく一
致した。
致した。
実施例1又は2と同様にして得た他の(I)式の化合物の
相転移点は先の第1表に示した通りである。
相転移点は先の第1表に示した通りである。
実施例3(使用例1) 4−エチル−4′−シアノビフエニル 20重量% 4−ペンチル−4′−シアノビフエニル 40重量% 4−オクチルオキシ−4′−シアノビフエニル25重量% 4−ペンチル−4′−シアノタ−フエニル 15重量% からなるネマチツク液晶組成物を配向処理剤として、ポ
リボニルアルコール(PVA)を塗布しその表面をラビ
ングして平行配向処理を施した透明電極からなる電極間
隔10μmのセルに注入してTN型表示セルとし、これ
を偏光顕微鏡下で観察したところ、リバース・ツイスト
ドメインを生じているのが観察された。
リボニルアルコール(PVA)を塗布しその表面をラビ
ングして平行配向処理を施した透明電極からなる電極間
隔10μmのセルに注入してTN型表示セルとし、これ
を偏光顕微鏡下で観察したところ、リバース・ツイスト
ドメインを生じているのが観察された。
この上記のネマチツク液晶組成物に本願の(I)式でl=
2、m=0、X=CN、Y=H、Z=HでR=C6H13な
る化合物(試料No.19)を0.1重量%添加し、同様にTN
型セルにて観察したところ、リバース・ツイストドメイ
ンは解消され、均一なネマチツク相が観察された 実施例4(使用例2) 本発明の化合物4′−(1−メチル−ヘプチルオキシ)
−4−ビフエニルカルボン酸P−フルオロフエニルエス
テル(第1表る下記の組成のカイラルスメクチツク液晶
組成物を調製した。
2、m=0、X=CN、Y=H、Z=HでR=C6H13な
る化合物(試料No.19)を0.1重量%添加し、同様にTN
型セルにて観察したところ、リバース・ツイストドメイ
ンは解消され、均一なネマチツク相が観察された 実施例4(使用例2) 本発明の化合物4′−(1−メチル−ヘプチルオキシ)
−4−ビフエニルカルボン酸P−フルオロフエニルエス
テル(第1表る下記の組成のカイラルスメクチツク液晶
組成物を調製した。
組成物の調製法は、上記4種の液晶化合物を所定の重量
秤量し、4種の化合物を試料ビン中で加熱溶解しながら
混合するものである。
秤量し、4種の化合物を試料ビン中で加熱溶解しながら
混合するものである。
得られたカイラルスメクチツク液晶組成物を用いて実験
用液晶素子を作製した。即ち、酸化インジウム透明電極
が設けられているガラス基板上にPVA膜を設け、一定
方向にラビングし2板の基板のラビング方向が平行にな
るほうにガラスフアイバー(径4μm)をスペーサーと
して液晶セルを組み立て、これに上記液晶組成物を真空
封入したものである。この液晶素子を2枚の直交する偏
光子の間に配置し、電界を印加したところ、20Vの印
加によつて透過光強度の変化が観測された。
用液晶素子を作製した。即ち、酸化インジウム透明電極
が設けられているガラス基板上にPVA膜を設け、一定
方向にラビングし2板の基板のラビング方向が平行にな
るほうにガラスフアイバー(径4μm)をスペーサーと
して液晶セルを組み立て、これに上記液晶組成物を真空
封入したものである。この液晶素子を2枚の直交する偏
光子の間に配置し、電界を印加したところ、20Vの印
加によつて透過光強度の変化が観測された。
この時の透過強度の変化から応答時間を求めると、25
℃で約1.3msecの値を示した。
℃で約1.3msecの値を示した。
尚、上記液晶組成物について、偏光顕微鏡によりテクス
チユアの温度変化を調べたところ、20℃から45℃の
温度範囲で強誘電性液晶となることが判明し、その自発
分極の大きさは、25℃で12nC/cm2であつた。
チユアの温度変化を調べたところ、20℃から45℃の
温度範囲で強誘電性液晶となることが判明し、その自発
分極の大きさは、25℃で12nC/cm2であつた。
上記の液晶組成物から本発明の試料No.16の化合物を除
いた液晶組成物の自発分極の大きさは、25℃で3nC/cm
2であり、本発明の化合物を使用することにより、自発
分極の大きさは非常に大きくなることが確められた。
いた液晶組成物の自発分極の大きさは、25℃で3nC/cm
2であり、本発明の化合物を使用することにより、自発
分極の大きさは非常に大きくなることが確められた。
実施例5 〔光学活性p−(1−メチル−ブチルオキシ)安息香酸
−3−フルオロ−4−シアノフェニルエステル(式(I)
においてl=1、m=0、R=C3H7、X=CN、Y=
F、Z=Hのもの(試料No.20))の製造〕 実施例1におけるS(+)−2−オクタノールに代えてS
(+)−2−ペンタノールを用い、実施例1と同様にp−
トルエンスルホン酸クロリドと反応させ、光学活性p−
トルエンスルホン酸−1−メチルブチルエステルを得
た。
−3−フルオロ−4−シアノフェニルエステル(式(I)
においてl=1、m=0、R=C3H7、X=CN、Y=
F、Z=Hのもの(試料No.20))の製造〕 実施例1におけるS(+)−2−オクタノールに代えてS
(+)−2−ペンタノールを用い、実施例1と同様にp−
トルエンスルホン酸クロリドと反応させ、光学活性p−
トルエンスルホン酸−1−メチルブチルエステルを得
た。
この光学活性p−トルエンスルホン酸−1−メチルブチ
ルエステルを実施例2と同様にp−ヒドロキシ安息香酸
メチルエステルと反応させ、光学活性p−(1−メチル
ブチルオキシ)安息香酸メチルエステルを得た。
ルエステルを実施例2と同様にp−ヒドロキシ安息香酸
メチルエステルと反応させ、光学活性p−(1−メチル
ブチルオキシ)安息香酸メチルエステルを得た。
この光学活性p−(1−メチルブチルオキシ)安息香酸
メチルエステルを実施例1と同様にして光学活性p−
(1−メチルブチルオキシ)安息香酸クロリドとした
後、3−フルオロ−4−シアノフェノールと反応させて
光学活性p−(1−メチルブチルオキシ)安息香酸−3
−フルオロ−4−シアノフェニルエステル(油状)を得
た。
メチルエステルを実施例1と同様にして光学活性p−
(1−メチルブチルオキシ)安息香酸クロリドとした
後、3−フルオロ−4−シアノフェノールと反応させて
光学活性p−(1−メチルブチルオキシ)安息香酸−3
−フルオロ−4−シアノフェニルエステル(油状)を得
た。
試料No.19の化合物に代えて試料No.20の化合物を用いて
実施例3と同様にTNセルにて観測したところ、リバー
ス・ツイストドメインは解消され、均一なネマチック相
が観察された。
実施例3と同様にTNセルにて観測したところ、リバー
ス・ツイストドメインは解消され、均一なネマチック相
が観察された。
実施例6 〔光学活性p−(1−メチル−ブチルオキシ)安息香酸
−4′−フルオロ−4−ビフェニリルエステル(式(I)
において、l=1、m=1、R=C3H7、X=F、Y=Z
=Hのもの(試料No.21))の製造〕 実施例5で得られた光学活性p−(1−メチルブチルオ
キシ)安息香酸クロリドを実施例2と同様にして4−
(4′−フルオロフェニル)フェノールと反応させて光
学活性p−(1−メチル−ブチルオキシ)安息香酸−
4′−フルオロ−4−ビフェニリルエステル(融点15
4℃)を得た。
−4′−フルオロ−4−ビフェニリルエステル(式(I)
において、l=1、m=1、R=C3H7、X=F、Y=Z
=Hのもの(試料No.21))の製造〕 実施例5で得られた光学活性p−(1−メチルブチルオ
キシ)安息香酸クロリドを実施例2と同様にして4−
(4′−フルオロフェニル)フェノールと反応させて光
学活性p−(1−メチル−ブチルオキシ)安息香酸−
4′−フルオロ−4−ビフェニリルエステル(融点15
4℃)を得た。
メルク社製ネマチック液晶組成物(ZL1−1132)
に上記試料No.20及び21の化合物をそれぞれ4重量%
添加して得られるカイラルネマチック(コレステリッ
ク)液晶のコレステリックピッチは、第3表に示したよ
うに温度の低下とともに長くなることが分かつた。
に上記試料No.20及び21の化合物をそれぞれ4重量%
添加して得られるカイラルネマチック(コレステリッ
ク)液晶のコレステリックピッチは、第3表に示したよ
うに温度の低下とともに長くなることが分かつた。
実施例7 試料No.16の化合物に代えて実施例6で得られた試料No.
21の化合物を用いた以外は実施例4と同様してに調製し
た液晶組成物は下記の相転移温度を示した。
21の化合物を用いた以外は実施例4と同様してに調製し
た液晶組成物は下記の相転移温度を示した。
C室温以下Sc*46.0Sa69.8N*79.4Is また、この液晶組成物を用いて実施例4と同様に作製し
た液晶素子は、20Vの電界印加によって透過光強度の
変化が観測され、応答時間は25℃で約3msecであ
つた。
た液晶素子は、20Vの電界印加によって透過光強度の
変化が観測され、応答時間は25℃で約3msecであ
つた。
Claims (5)
- 【請求項1】一般式 (上式に於てRは炭素数2〜15のアルキル基を、Xは
CN基又はハロゲン原子を、Y、Zはいずれもハロゲン
原子又は水素原子を夫々示すが、Y、Zのいずれか一方
は水素原子であり、又lは1又は2、mは0又は1であ
り、*はその炭素原子が光学活性中心であることを示
す) で表わされる光学活性化合物。 - 【請求項2】(I)式のlが1、mが0である特許請求の
範囲第1項記載の光学活性化合物。 - 【請求項3】(I)式のlが1、mが1である特許請求の
範囲第1項記載の光学活性化合物。 - 【請求項4】(I)式のlが2、mが0である特許請求の
範囲第1項記載の光学活性化合物。 - 【請求項5】一般式 (上式に於てRは炭素数2〜15のアルキル基を、Xは
CN基又はハロゲン原子を、Y、Zはいずれもハロゲン
原子又は水素原子であり、又lは1又は2、mは0又は
1であり、*はその炭素原子が光学活性中心であること
を示す) で表わされる光学活性化合物を少くとも1成分含有する
ことを特徴とする表示素子用カイラルスメクチツク液晶
組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27707784 | 1984-12-26 | ||
JP59-277077 | 1984-12-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61267540A JPS61267540A (ja) | 1986-11-27 |
JPH0610170B2 true JPH0610170B2 (ja) | 1994-02-09 |
Family
ID=17578453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60283110A Expired - Lifetime JPH0610170B2 (ja) | 1984-12-26 | 1985-12-18 | 新規光学活性化合物及び液晶組成物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4689176A (ja) |
JP (1) | JPH0610170B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
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---|---|---|---|---|
JPH0794406B2 (ja) * | 1984-02-08 | 1995-10-11 | チッソ株式会社 | 液晶性置換ビフエニルエステル類 |
JPS6143A (ja) * | 1984-06-11 | 1986-01-06 | Chisso Corp | 強誘電性液晶化合物及び液晶組成物 |
JPS61210056A (ja) * | 1985-03-14 | 1986-09-18 | Chisso Corp | 含ハロゲン光学活性液晶化合物及び液晶組成物 |
US4780240A (en) * | 1985-08-02 | 1988-10-25 | Chisso Corporation | Liquid crystal composition |
DE3534777A1 (de) * | 1985-09-30 | 1987-04-02 | Hoechst Ag | Fluessigkristall-phase mit eine temperaturkompensation bewirkenden dotierstoffen |
GB8608114D0 (en) * | 1986-04-03 | 1986-05-08 | Secr Defence | Smectic liquid crystal devices |
JP2554473B2 (ja) * | 1986-08-18 | 1996-11-13 | チッソ株式会社 | シアノ基を有する新規光学活性液晶化合物 |
JPH07116131B2 (ja) * | 1987-06-15 | 1995-12-13 | チッソ株式会社 | チオエ−テル化合物及び液晶組成物 |
US5238603A (en) * | 1987-10-15 | 1993-08-24 | Chisso Corporation | Optically active liquid crystalline compound and a composition containing same |
GB8804330D0 (en) * | 1988-02-24 | 1988-03-23 | Secr Defence | Laterally fluorinated 4-cyanophenyl & 4-cyanobiphenyl benzoates |
GB2233649B (en) * | 1988-02-24 | 1991-11-06 | Secr Defence | Laterally fluorinated 4-cyanophenyl and 4'-cyanobiphenyl benzoates |
US4925590A (en) * | 1988-03-10 | 1990-05-15 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Derivatives of 4-cyano-2,3-difluorophenol |
US5211878A (en) * | 1988-03-10 | 1993-05-18 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Difluorobenzonitrile derivatives |
JPH0768519B2 (ja) * | 1988-11-24 | 1995-07-26 | 荒川化学工業株式会社 | 液晶組成物 |
JP4963863B2 (ja) * | 2006-04-27 | 2012-06-27 | 株式会社Adeka | 新規化合物及び該化合物を含有してなる液晶組成物 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US4017416A (en) * | 1974-10-11 | 1977-04-12 | Chisso Corporation | P-cyanophenyl 4-alkyl-4'-biphenylcarboxylate, method for preparing same and liquid crystal compositions using same |
GB1456359A (en) * | 1974-10-22 | 1976-11-24 | Merck Patent Gmbh | Biphenyl carboxylic esters |
FR2297201A1 (fr) * | 1975-01-10 | 1976-08-06 | Thomson Csf | Produits mesogenes pour cellules a cristal liquide, et procede de fabrication desdits produits |
JPS5187181A (ja) * | 1975-01-29 | 1976-07-30 | Chisso Corp | Kogakukatsuseitaioganjusuru ekishososeibutsu |
JPS5811431B2 (ja) * | 1976-01-10 | 1983-03-02 | チッソ株式会社 | 光学活性エステル |
US4029594A (en) * | 1976-06-17 | 1977-06-14 | Rca Corporation | Novel liquid crystal compounds and electro-optic devices incorporating them |
GB1596012A (en) * | 1976-08-16 | 1981-08-19 | Secr Defence | Optically active liquid crystal materials and liquid crystal devices containing them |
JPS6042225B2 (ja) * | 1976-09-29 | 1985-09-20 | チッソ株式会社 | 液晶化合物 |
JPS5943506B2 (ja) * | 1976-11-11 | 1984-10-22 | 大日本印刷株式会社 | 液晶表示装置 |
JPS5945021B2 (ja) * | 1976-12-21 | 1984-11-02 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶組成物 |
GB1603076A (en) * | 1977-04-05 | 1981-11-18 | Secr Defence | Esters of (+)-4-(2'-methylbutyl)phenol and their use as liquid crystal materials |
DE2827471C2 (de) * | 1978-06-22 | 1982-09-02 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Flüssigkristallzelle mit einer induzierten cholesterischen Phase |
DE2967129D1 (en) * | 1979-05-28 | 1984-08-30 | Merck Patent Gmbh | Liquid-crystal compositions |
CH645876A5 (de) * | 1980-01-25 | 1984-10-31 | Chisso Corp | Halogenierte esterderivate mit positiver anisotropie und diese verbindungen enthaltende fluessigkristallmischungen. |
JPS57165334A (en) * | 1981-04-02 | 1982-10-12 | Chisso Corp | Halogenobenzene derivative having optical active 2- methylbutyloxyphenyl group |
US4490277A (en) * | 1981-05-29 | 1984-12-25 | Grebenkin Mikhail F | Mesomorphic material with low optical anisotropy and process for producing same |
DE3151356A1 (de) * | 1981-12-24 | 1983-07-07 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | 4-fluorbiphenylderivate, verfahren zu ihrer herstellung, diese enthaltende dielektrika und elektrooptisches anzeigeelement |
US4424371A (en) * | 1982-09-23 | 1984-01-03 | Timex Corporation | 3-Chloro-4-cyanophenyl 4'-substituted benzoates |
JPH0233697B2 (ja) * | 1982-11-24 | 1990-07-30 | Chisso Corp | Makenojudenihoseiomotsukogakukatsuseibutsushitsu |
DE3377219D1 (en) * | 1982-11-26 | 1988-08-04 | Hitachi Ltd | Smectic liquid crystal compounds and liquid crystal compositions |
EP0115693B1 (en) * | 1983-01-06 | 1987-08-26 | Chisso Corporation | Liquid crystalline compounds and mixtures thereof |
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JPS6122051A (ja) * | 1984-07-10 | 1986-01-30 | Chisso Corp | 液晶性エステル類及び液晶組成物 |
-
1985
- 1985-12-18 JP JP60283110A patent/JPH0610170B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1985-12-20 US US06/811,757 patent/US4689176A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4689176A (en) | 1987-08-25 |
JPS61267540A (ja) | 1986-11-27 |
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