JP2021064809A - ゲルタイプの熱界面材料 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2016年7月26日に出願された米国仮特許出願第62/366,704
号及び2016年12月20日に出願された同第62/436,746号に対する優先権
を主張するものであり、これらの開示内容は、参照によりその全体が本明細書に明確に組
み込まれる。
。
、中央処理装置、ビデオグラフィックスアレイ、サーバー、ゲーム機、スマートフォン、
LEDボード等の電子部品からの熱を放散するために広く使用されている。熱界面材料は
、典型的には、過剰の熱を電子部品からヒートシンク等のヒートスプレッダに伝達するた
めに用いられる。
ケージ構造体10は、例示的に、電子チップ12等の発熱部品と、ヒートスプレッダ14
及びヒートシンク16等の1つ以上の放熱部品とを含む。例示的なヒートスプレッダ14
及びヒートシンクとしては、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金、又はニッケ
ルメッキ銅等の金属、金属合金、又は金属メッキ基板が挙げられる。TIM18及びTI
M20等のTIM材料は、発熱部品と1つ以上の放熱部品との間に熱的接続を提供する。
電子パッケージ構造体10は、電子チップ12とヒートスプレッダ14とを接続する第1
のTIM18を含む。TIM18は、通常、「TIM1」と呼ばれる。電子パッケージ構
造体10は、ヒートスプレッダ14とヒートシンク16とを接続する第2のTIM20を
含む。TIM20は、典型的には、「TIM2」と呼ばれる。別の実施形態では、電子パ
ッケージ構造体10は、ヒートスプレッダ14を含まず、TIM(図示せず)は、電子チ
ップ12をヒートシンク16に直接接続する。電子チップ12をヒートシンク16に直接
接続するそのようなTIMは、典型的には、TIM1.5と呼ばれる。
ャップパッドは、非常に薄い厚さの要件を満たすことができないこと、自動化された製造
に使用することが困難であること等のいくつかの欠点を有する。
に自動的に分注され、所望の形状及び厚さに形成され得る。しかしながら、典型的なゲル
生成物は、極端な場合には、生成物が機能しなくなる可能性がより高いことを含む、温度
サイクル試験における滴下及び亀裂の問題を有する。
シンク等の放熱構造体に熱を伝達するのに有用な熱界面材料を提供する。熱界面材料は、
少なくとも1種のシリコーン油と、少なくとも1種の熱伝導性充填剤と、少なくとも1種
の付加阻害剤を含む。
トン未満の重量(Mw)平均分子量を有する少なくとも1種の低分子量シリコーン油と、
少なくとも1種の熱伝導性充填剤と、少なくとも1種の添加触媒と、少なくとも1種の高
分子量シリコーン油を含み、高分子量シリコーン油が、少なくとも60,000ダルトン
の重量(Mw)平均分子量を有するビニル官能性シリコーン油を含む。より具体的な実施
形態では、少なくとも1種の低分子量シリコーン油が、第1のシリコーン油と第2のシリ
コーン油とを含み、第1のシリコーン油が、ビニル官能性シリコーン油であり、第2のシ
リコーン油が、水素化物官能性シリコーン油である。
性ファイラーとを含み、第1の熱伝導性充填剤が、1ミクロンより大きい粒子サイズを有
する金属酸化物であり、第2の熱伝導性充填剤が、1ミクロン未満の粒子サイズを有する
金属酸化物である。別のより具体的な実施形態では、熱伝導性充填剤は、第1の熱伝導性
充填剤と、第2の熱伝導性充填剤と、第3の熱伝導性充填剤と、を含み、第1の熱伝導性
充填剤が、10ミクロンより大きい平均粒子サイズを有する金属酸化物であり、第2の熱
伝導性充填剤が、1ミクロン〜10ミクロンの平均粒子サイズを有する金属酸化物であり
、第3の熱伝導性充填剤が、1ミクロン未満の平均粒子サイズを有する金属酸化物である
。
シリコーン油と、50重量%〜95重量%の熱伝導性充填剤と、0.1重量%〜5重量%
の高分子量シリコーン油を含む。更に別のより具体的な実施形態では、低分子量シリコー
ン油が、第1のシリコーン油と第2のシリコーン油とを含み、第1のシリコーン油が、ビ
ニル官能性シリコーン油であり、第2のシリコーン油が、水素化物官能性シリコーン油で
ある。
。熱界面材料は、少なくとも1種のシリコーン油と、少なくとも1種の熱伝導性充填剤と
、少なくとも1種の付加阻害剤を含み、付加阻害剤が、アルキニル化合物を含む。更によ
り具体的な実施形態では、付加阻害剤が、マルチビニル官能性ポリシロキサン、エチニル
シクロヘキサノールで終端するポリジメチルシロキサンビニル、2−メチル−3−ブチン
−2−オール、及び3−メチル−1−ペンチン−3−オールからなる群から選択される。
上記実施形態のうちのいずれかのより具体的な実施形態では、少なくとも1種のシリコー
ン油が、第1のシリコーン油と第2のシリコーン油とを含み、第1のシリコーン油が、ビ
ニル官能性シリコーン油であり、第2のシリコーン油が、水素化物官能性シリコーン油で
ある。
の熱伝導性充填剤と第2の熱伝導性充填剤とを含み、第1の熱伝導性ファイラーが、1ミ
クロンより大きい粒子サイズを有する金属であり、第2の熱伝導性充填剤が1ミクロン未
満の粒子サイズを有する金属酸化物である。上記実施形態のうちのいずれかのより具体的
な実施形態では、第1の熱伝導性充填剤と第2の熱伝導性充填剤との比が、1.5:1〜
3:1である。
〜20重量%のシリコーン油と、0.1重量%〜5重量%のシランカップリング剤と、5
0重量%〜95重量%の熱伝導性充填剤と、0.01重量%〜5重量%の付加阻害剤と、
を含む。より具体的な実施形態では、付加阻害剤は、エチニルシクロヘキサノールで終端
するポリジメチルシロキサンビニルである。より具体的な実施形態では、シリコーン油は
、第1のシリコーン油と、第2のシリコーン油とを含み、第1のシリコーン油が、ビニル
官能性シリコーン油であり、第2のシリコーン油が、水素化物官能性シリコーン油である
。
チップと、第1の表面層及び第2の表面層を含む熱界面材料であって、熱界面材料が、ヒ
ートシンクと電子チップとの間に配置され、熱界面材料が、少なくとも1種のシリコーン
油、少なくとも1種の熱伝導性充填剤、及び少なくとも1種の付加阻害剤を含み、付加阻
害剤が、アルキニル化合物を含む。より具体的な実施形態では、少なくとも1種のシリコ
ーンは、少なくとも1種の低分子量シリコーン油及び少なくとも1種の高分子量シリコー
ン油を含む。
0,000ダルトンの重量(Mw)平均分子量を有するビニル官能性シリコーン油を含む
。別のより具体的な実施形態では、第1の表面層は、電子チップの表面と接触し、第2の
表面層は、ヒートシンクと接触している。別のより具体的な実施形態では、電子部品は、
ヒートシンクと電子チップとの間に配置されたヒートスプレッダを更に備え、第1の表面
層が、電子チップの表面と接触し、第2の表面層はヒートスプレッダと接触している。更
により具体的な実施形態では、電子部品は、ヒートシンクと電子チップとの間に配置され
たヒートスプレッダを更に備え、第1の表面層が、ヒートスプレッダの表面と接触し、第
2の表面層が、ヒートシンクと接触している。
よって、本開示の上述及び他の特徴並びに有利性、並びにそれらを達成する方法がより明
らかになり、本発明自体がより良好に理解されるであろう。
れる実施形態は、本発明の例示的な実施態様を示すものであり、このような例示は、いか
なる方法によっても本発明の範囲を限定するものとして解釈されるべきではない。
本発明は、電子部品から熱を逃がすのに有用な熱界面材料(TIM)に関する。例示的
な一実施形態では、TIMは、少なくとも1種のシリコーン油、少なくとも1種の触媒、
少なくとも1種の熱伝導性充填剤、並びにアミン官能基及びアルキル官能基の両方を含む
少なくとも1種の接着促進剤を含む。
、及び融剤のうちの1つ以上の成分を任意に含むことができる。
a.概要
本開示は、少なくとも1種の低分子量シリコーン油と、少なくとも1種の高分子量シリ
コーン油とを含むTIM材料用のマトリックスを提供する。シリコーン油は、触媒によっ
て架橋さる、ビニル、水酸化物、ヒドロキシル、及びアクリレート官能基等の1種以上の
架橋性基を含む。一実施形態では、1種以上のシリコーン油は、第1のシリコーン油と、
第2のシリコーン油とを含み、第1のシリコーン油はビニル官能性シリコーン油であり、
第2のシリコーン油は水素化物官能性シリコーン油である。シリコーン油は、熱伝導性充
填剤を湿潤し、TIMのための分注可能な(dispensable)流体を形成する。
Eシリーズ製品、Bluestarから入手可能なSILBIONE(登録商標)、Wa
ckerから入手可能なELASTOSIL(登録商標)、SilGel(登録商標)、
SILPURAN(登録商標)、及びSEMICOSIL(登録商標)、Momenti
veから入手可能なSilopren(登録商標)、Dow Corningから入手可
能なDow Corning(登録商標)、Silastic(登録商標)、XIAME
TER(登録商標)、Syl−off(登録商標)、及びSYLGARD(登録商標)、
Square Siliconeから入手可能なSQUARE(登録商標)、AB sp
ecialty Siliconesから入手可能なAndril(登録商標)等のシリ
コーンゴムを含む。他のポリシロキサンは、Wacker、Shin−etets、Do
wcoring、Momentive、Bluestar、RUNHE、AB Spec
ialty Silicones、Gelest、及びUnited Chemical
Technologiesから入手可能である。
1.ビニル官能性シリコーン油
TIMは、ゲル浸透クロマトグラフィ(gel permeation chroma
tography、GPC)で測定して、低重量平均分子量のシリコーン油を含む。例示
的な低分子量シリコーン油は、以下に示す一般式を有するビニルシリコーン油を含み得る
。
む。例示的なビニル官能性シリコーン油としては、ビニル末端シリコーン油、Si−CH
=CH2基がポリマー鎖にグラフトされたビニルグラフトシリコーン油、及びそれらの組
み合わせが挙げられる。
能なDMS−V00(186ダルトンの重量平均分子量(Mw)を有する)、DMS−V
03(約500ダルトンのMwを有する)、DMS−V05(約800ダルトンのMwを
有する)、DMS−V21(約6,000ダルトンのMwを有する)、DMS−V22(
約9,400ダルトンのMwを有する)、DMS−V25(約17,200ダルトンのM
wを有する)、DMS−V25R(約17,200ダルトンのMwを有する)、DMS−
V35(約49,500ダルトンのMwを有する)、DMS−V35R(約49,500
ダルトンのMwを有する)等のビニル末端ポリジメチルシロキサンが挙げられる。例示的
なビニル末端シリコーン油としては、各々、Gelest,Inc.から入手可能なPD
V−0325(約15,500ダルトンのMwを有する)、PDV−0331(約27,
000ダルトンのMwを有する)、PDV−0525(約14,000ダルトンのMwを
有する)、PDV−1625(約9,500ダルトンのMwを有する)、PDV−163
1(約19,000ダルトンのMwを有する)、PDV−2331(約12,500ダル
トンのMwを有する)等のビニル末端ジフェニルシロキサン−ジメチルシロキサンコポリ
マーが挙げられる。例示的なビニル末端シリコーン油としては、Gelest,Inc.
から入手可能なPMV−9925(約2,000〜3,000ダルトンのMwを有する)
等のビニル末端ポリフェニルメチルシロキサンが挙げられる。例示的なビニル末端シリコ
ーン油の例としては、Gelest,Inc.から入手可能なEDV−2025(約16
,500〜19,000ダルトンのMwを有する)等のビニル末端ジエチルシロキサン−
ジメチルシロキサンコポリマーが挙げられる。
手可能なVMS−005(約258〜431ダルトンのMwを有する)、VMS−T11
(約1,000〜1,500ダルトンのMwを有する)等のビニルメチルシロキサンホモ
ポリマーが挙げられる。例示的なビニルグラフトシリコーン油としては、トリメチルシロ
キシ末端シリコーン油、シラノール末端シリコーン油、及びビニル末端シリコーン油等の
ビニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサンコポリマーが挙げられる。
c.から入手可能なVAT−4326(約10,000〜12,000ダルトンのMwを
有する)等のビニルメチルシロキサン−オクチルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン
ターポリマー、VBT−1323(約8,000〜12,000ダルトンのMwを有する
)等のビニルメチルシロキサン−メトキシポリエチレンオキシプロピルメチルシロキサン
−ジメチルシロキサンターポリマー、又はビニルメチルシロキサン−フェニルメチルシロ
キサン−ジメチルシロキサン(約2,500〜3,000ダルトンのMwを有する)を含
む、ビニルメチルシロキサンターポリマーである。
脂を含む。
i301等、AB Specialty SiliconesのAndril(登録商標
)VS200、Andril(登録商標)VS1000等のビニル官能性油である。
別の例示的な低分子量シリコーン油は、以下に示す一般式を有するヒドロシリコーン油
を含み得る。
る水素化物官能性シリコーン油を含む。例示的な水酸化物官能性シリコーン油としては、
Si−H基がポリマー鎖にグラフトされている、水酸化物末端シリコーン油及び水素化物
グラフトシリコーン油、並びにそれらの組み合わせが挙げられる。
Inc.から入手可能なDMS−H03(約400〜500ダルトンのMwを有する)、
DMS−H11(約1,000〜1,100ダルトンのMwを有する)、DMS−H21
(約6,000ダルトンのMwを有する)、DMS−H25(約17,200ダルトンの
Mwを有する)、又はDMS−H31(約28,000ダルトンのMwを有する)等の水
素化物末端ポリジメチルシロキサンが挙げられる。例示的な一実施形態では、水素化物末
端シリコーン油は、トリメチルシロキシ末端又は水素化物末端等のメチルヒドロシロキサ
ン−ジメチルシロキサンコポリマーである。例示的なトリメチルシロキシ末端コポリマー
としては、HMS−031(約1,900〜2,000ダルトンのMwを有する)、HM
S−071(約1,900〜2,000ダルトンのMwを有する)、HMS−082(約
5,500〜6,500ダルトンのMwを有する)HMS−151(約1,900〜2,
000ダルトンのMwを有する)、HMS−301(約1,900〜2,000ダルトン
のMwを有する)、HMS−501(約900〜1,200ダルトンのMwを有する)が
挙げられ、例示的な水素化物末端コポリマーとしては、HMS−H271(約2,000
〜2,600ダルトンのMwを有する)が挙げられ、それらの各々がGelest,In
c.から入手可能である。例示的な一実施形態では、水素化物グラフトシリコーン油は、
各々、Gelest,Inc.から入手可能なHMS−991(約1,400〜1,80
0ダルトンのMwを有する)、HMS−992(約1,800〜2,100ダルトンのM
wを有する)、HMS−993(約2,100〜2,400ダルトンのMwを有する)等
のトリメチルシロキシ末端のポリメチルヒドロシロキサンである。
ンもの軽さ、5,000ダルトン、10,000ダルトン、50,000ダルトンもの重
さ、又は上記の値のうちのいずれか2つの間に規定される任意の範囲内の重量(Mw)平
均分子量を有し得る。
t、5cSt、100cStもの低さ、5,000cSt、10,000cSt、50,
000cStもの高さ、又は上記の値のうちのいずれか2つの間に規定される任意の範囲
内の動粘度を有し得る。
、1重量%もの少なさ、3重量%、5重量%、10重量%、20重量%もの多さ、又は0
.1重量%〜15重量%、0.1重量%〜3重量%、若しくは0.67重量%〜10重量
%等の、上記の値のうちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内の量の1種以上の低
分子量シリコーン油を含む。
TIMは、ゲル浸透クロマトグラフィ(GPCで測定して、高分子量のシリコーン油を
含む。例示的な高分子量シリコーン油は、上記の低分子量シリコーン油と同様に、以下に
示す一般式を有するビニルシリコーン油を含み得る。
む。例示的なビニル官能性シリコーン油としては、ビニル末端シリコーン油、Si−CH
=CH2基がポリマー鎖にグラフトされたビニルグラフトシリコーン油、及びそれらの組
み合わせが挙げられる。
能なDMS−V41(約62,700ダルトンのMwを有する)、DMS−V42(約7
2,000ダルトンのMwを有する)、DMS−V46(約117,000ダルトンのM
wを有する)、DMS−V51(約140,000ダルトンのMwを有する)、及びDM
S−V52(約155,000ダルトンのMwを有する)等のビニル末端ポリジメチルシ
ロキサンが挙げられる。
、シラノール末端シリコーン油、及びビニル末端シリコーン油等のビニルメチルシロキサ
ン−ジメチルシロキサンコポリマーが挙げられる。
ーポリマーである。例示的な一実施形態では、ビニル官能性シリコーン油は、ビニルT樹
脂又はビニルQ樹脂を含む。
素化物官能性シリコーン油を含み得る。例示的な水酸化物官能性シリコーン油としては、
Si−H基がポリマー鎖にグラフトされている、水酸化物末端シリコーン油、水素化物グ
ラフトシリコーン油、及びそれらの組み合わせが挙げられる。
入手可能なDMS−H41(約62,700ダルトンのMwを有する)等の水素化物末端
ポリジメチルシロキサンである。例示的な一実施形態では、水素化物末端シリコーン油は
、トリメチルシロキシ末端又は水素化物末端等のメチルヒドロシロキサン−ジメチルシロ
キサンコポリマーである。例示的なトリメチルシロキシ末端コポリマーとしては、Gel
est,Inc.から入手可能なHMS−064(約60,000〜65,000ダルト
ンのMwを有する)が挙げられる。
00,000ダルトンもの軽さ、1,000,000ダルトン、10,000,000ダ
ルトン、100,000,000ダルトンもの重さ、又は上記の値のうちのいずれか2つ
の間に規定される任意の範囲内の重量(Mw)平均分子量を有し得る。
0cSt、20,000cSt、100,000cStの低さ、1,000,000cS
t、10,000,000cSt、100,000,000cStもの高さ、又は上記の
値のうちのいずれか2つの間に規定される任意の範囲内の動粘度を有し得る。例示的な一
実施形態では、例示的な高分子量シリコーン油は、2,000,000cStの動粘度を
有する高分子量ビニルシリコーン油である。
%、0.5重量%、0.67重量%、0.75重量%もの少なさ、1重量%、1.5重量
%、2重量%、5重量%もの多さ、又は0.1重量%〜5重量%、0.1重量%〜1重量
%、若しくは0.25重量%〜0.67重量%等の上記の値のうちの任意の2つの間に規
定される任意の範囲内の量の1種以上の高分子量シリコーン油を含み得る。例示的な一実
施形態では、TIMは、約0.6重量%の量の高分子量シリコーン油を含む。別の例示的
な実施形態では、TIMは、約2.68重量%の量の高分子量シリコーン油を含む。
TIMは、付加反応を触媒するための1種以上の触媒を更に含む。例示的な触媒は、白
金含有材料及びロジウム含有材料を含む。例示的な白金含有触媒は、以下に示す一般式を
有し得る。
Karstedt触媒)、白金カルボニルシクロビニルメチルシロキサン錯体(Oss
ko触媒)、白金ジビニルテトラメチルジシロキサンジメチルフマレート錯体、白金ジビ
ニルテトラメチルジシロキサンジメチルマレイン酸錯体等が挙げられる。白金カルボニル
シクロビニルメチルシロキサン錯体の例としては、SIP6829.2が挙げられ、白金
ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の例としては、SIP6830.3及びSIP6
831.2が挙げられ、白金シクロビニルメチルシロキサン錯体の例としては、SIP6
833.2が挙げられ、これらは全て、Gelest,Inc.から入手可能である。白
金含有材料触媒の更なる例としては、Wacker Chemie AGから入手可能な
Catalyst OL、及びUnited Chemical Technologi
es Inc.から入手可能なPC065、PC072、PC073、PC074、PC
075、PC076、PC085、PC086、PC087、PC088が挙げられる。
ジブチルスルフィド)ロジウムトリクロライド(製品コードINRH078)が挙げられ
る。
ビニルシリコーン油及びヒドロシリコーン油と反応すると考えられる。
0ppm物低さ、25ppm、30ppm、40ppm、50ppm、100ppm、2
00ppm、500ppm、1000ppmもの高さ、又は10ppm〜30ppm、2
0ppm〜100ppm、若しくは5ppm〜500ppm等の、上記の値のうちのいず
れか2つの間に規定される任意の範囲内の量の1種以上の触媒を含み得る。
供される。例示的な一実施形態では、白金含有材料触媒は、Shin−Etsuから入手
可能なKE−1012−A、KE−1031−A、KE−109E−A、KE−1051
J−A、KE−1800T−A、KE1204A、KE1218A等、Bluestar
から入手可能なSILBIONE(登録商標)RT Gel 4725 SLD A等、
Wackerから入手可能なSilGel(登録商標)612A、ELASTOSIL(
登録商標)LR3153A、ELASTOSIL(登録商標)LR3003A、ELAS
TOSIL(登録商標)LR3005A、SEMICOSIL(登録商標)961A、S
EMICOSIL(登録商標)927A、SEMICOSIL(登録商標)205A、S
EMICOSIL(登録商標)9212A、SILPURAN(登録商標)2440等、
Momentiveから入手可能なSilopren(登録商標)LSR 2010A等
、Dow Corningから入手可能なXIAMETER(登録商標)RBL−920
0A、XIAMETER(登録商標)RBL−2004A、XIAMETER(登録商標
)RBL−9050A、XIAMETER(登録商標)RBL−1552A、Silas
tic(登録商標)FL30−9201A、Silastic(登録商標)9202A、
Silastic(登録商標)9204A、Silastic(登録商標)9206A、
SYLGARD(登録商標)184A、Dow Corning(登録商標)QP−1A
、Dow corning(登録商標)C6A、Dow Corning(登録商標)C
V9204A等の官能性シリコーン油と合わせられる。
もの少なさ、0.3重量%、0.4重量%、0.5重量%もの多さ、又は上記の値のうち
の任意の2つの間に規定される任意の範囲内の量の触媒を含み得る。例示的な一実施形態
では、TIMは、約0.04重量%の量の触媒を含む。別の例示的な実施形態では、TI
Mは、約0.4重量%の量の触媒を含む。
される。
TIMは、1種以上の熱伝導性充填剤を含む。例示的な熱伝導性充填剤としては、金属
、合金、非金属、金属酸化物及びセラミック、並びにそれらの組み合わせが挙げられる。
金属としては、アルミニウム、銅、銀、亜鉛、ニッケル、スズ、インジウム、及び鉛が挙
げられるが、それらに限定されない。非金属としては、カーボン、グラファイト、カーボ
ンナノチューブ、炭素繊維、グラフェン、窒化ホウ素、及び窒化ケイ素が挙げられるが、
それらに限定されない。金属酸化物又はセラミックとしては、アルミナ(酸化アルミニウ
ム)、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、及び酸化スズが挙げられるが、それら
に限定されない。
量%もの少なさ、75重量%、80重量%、85重量%、90重量%、95重量%、97
重量%もの多さ、又は10重量%〜95重量%、50重量%〜95重量%、若しくは85
重量%〜97重量%等の、上記の値のうちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内の
量の1種以上の熱伝導性充填剤を含み得る。
50ミクロン、75ミクロン、100ミクロンもの大きさ、又は上記の値のうちの任意の
2つの間に規定される任意の範囲内の平均粒子サイズを有し得る。
とを含んでもよく、第1の熱伝導性ファイラーが、1ミクロンより大きい平均粒子サイズ
を有し、第2の熱伝導性充填剤が、1ミクロン未満の平均粒子サイズを有する。より具体
的な実施形態では、第1の熱伝導性充填剤と第2の熱伝導性充填剤との比は、1:5、1
:4、1:3、1:2もの小ささ、1:1、1.5:1、2:1、3:1、4:1、5:
1もの大きさ、又は1:5〜5:1 1:1〜3:1、若しくは1.5:1〜3:1等の
上記の値のうちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内の平均粒子サイズであり得る
。
と、第3の熱伝導性充填剤と、を含んでもよく、第1の熱伝導性ファイラーが、10ミク
ロンより大きい粒子サイズを有し、第2の熱伝導性充填剤が、1ミクロン、2ミクロン、
4ミクロンもの小ささ、6ミクロン、8ミクロン、10ミクロンもの大きさ、又はそれら
の間に規定される任意の範囲内の粒子サイズを有し、第3の熱伝導性充填剤が、1ミクロ
ン未満の平均粒子サイズを有する。
、45重量%、50重量%、60重量%もの多さ、又は全TIM組成物に関して上記の値
のうちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内の量の第1の熱伝導性充填剤を含む。
第1の熱伝導性充填剤の平均粒子サイズは、30ミクロンもの小ささである。35ミクロ
ン、40ミクロン、多くは45ミクロン、50ミクロン、60ミクロン、又は上記の値の
うちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内にある。例示的なTIMは、5重量%、
10重量%、15重量%もの少なさ、25重量%、30重量%、40重量%の多さ、又は
全TIM組成物に関して上記の値のうちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内の量
の第2の熱伝導性充填剤を更に含む。第2の熱伝導性充填剤は、1ミクロン、3ミクロン
もの小ささの平均粒子サイズを有する。5ミクロン、多くは10ミクロン、15ミクロン
、20ミクロン、又は上記の値のうちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内にある
。例示的なTIMは、5重量%、10重量%、15重量%もの少なさ、25重量%、30
重量%、40重量%もの多さ、又は全TIM組成物に関して上記の値のうちの任意の2つ
の間に規定される任意の範囲内の量の第3の熱伝導性充填剤を更に含む。第3の熱伝導性
充填剤は、0.1ミクロン、0.3ミクロンもの小ささの平均粒子サイズを有する。0.
5ミクロン、多くは1ミクロン、1.5ミクロン、2ミクロン、又は上記の値のうちの任
意の2つの間に規定される任意の範囲内にある。
25重量%、30重量%、40重量%もの多さ、又は全TIM組成物に関して上記の値の
うちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内の量の第1の熱伝導性充填剤を含む。3
0ミクロンもの小ささの平均粒子サイズを有する第1の熱伝導性充填剤。35ミクロン、
40ミクロン、多くは45ミクロン、50ミクロン、60ミクロン、又は上記の値のうち
の任意の2つの間に規定される任意の範囲内にある。例示的なTIMは、30重量%、3
5重量%、40重量%もの少なさ、45重量%、50重量%、60重量%もの多さ、又は
全TIM組成物に関して上記の値のうちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内の量
の第2の熱伝導性充填剤を更に含む。1ミクロン、3ミクロンもの小ささの平均粒子サイ
ズを有する第2の熱伝導性充填剤。5ミクロン、多くは10ミクロン、15ミクロン、2
0ミクロン、又は上記の値のうちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内にある。例
示的なTIMは、5重量%、10重量%、15重量%もの少なさ、25重量%、30重量
%、40重量%もの多さ、又は全TIM組成物に関して上記の値のうちの任意の2つの間
に規定される任意の範囲内の量の第3の熱伝導性充填剤を更に含む。0.1ミクロン、0
.3ミクロンもの小ささの平均粒子サイズを有する第3の熱伝導性充填剤。0.5ミクロ
ン、多くは1ミクロン、1.5ミクロン、2ミクロン、又は上記の値のうちの任意の2つ
の間に規定される任意の範囲内にある。
TIMは、シリコーン油の架橋を阻害又は制限するための1種以上の付加阻害剤を含む
。付加阻害剤は、少なくとも1種のアルキニル化合物を含み、任意選択的に、付加阻害剤
は、マルチビニル官能性ポリシロキサンを更に含む。
3−ブチン−2−オール、2−フェニル−3−ブチン−2−オール、2−エチニル−イソ
プロパノール、2−エチニル−ブタン−2−オール、及び3,5−ジメチル−1−ヘキシ
ン−3−オール等のアセチレンアルコール、トリメチル(3,5−ジメチル−1−ヘキシ
ン−3−オキシ)シラン、ジメチル−ビス−(3−メチル−1−ブチンオキシ)シラン、
メチルビニルビス(3−メチル−1−ブチン−3−オキシ)シラン、及び((1,1−ジ
メチル−2−プロピニル)オキシ)トリメチルシラン等のシリル化アセチレンアルコール
、マレイン酸ジアリル、マレイン酸ジメチル、フマル酸ジアチル、フマル酸ジアリル、及
びマレイン酸ビス−2−メトキシ−1−メチルエチル、マレイン酸モノオクチル、マレイ
ン酸モノイソオクチル、マレイン酸モノアリル、マレイン酸モノメチル、フマル酸モノエ
チル、フマル酸モノアリル、フマル酸2−メトキシ−1−メチルエチル等の不飽和カルボ
ン酸エステル、アルコールがベンジルアルコール又は1−オクタノール及びエテニルシク
ロヘキシル−1−オールから選択される混合物等のフマル酸/アルコール混合物、2−イ
ソブチル−1−ブテン−3−イン、3,5−ジメチル−3−ヘキセン−1−イン、3−メ
チル−3−ペンテン−1−イン、3−メチル−3−ヘキセン−1−イン、1−エチニルシ
クロヘキセン、3−エチル−3−ブテン−1−イン、及び3−フェニル−3−ブテン−1
−イン等の共役エンイン、I,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニ
ルシクロテトラシロキサン等のビニルシクロシロキサン、及び共役エンインとビニルシク
ロシロキサンの混合物が挙げられる。例示的な一実施形態において、付加阻害剤は、2−
メチル−3−ブチン−2−オール又は3−メチル−1−ペンチン−3−オールから選択さ
れる。
を更に含む。例示的なマルチビニル官能性ポリシロキサンは、Wacker Chemi
e AGから入手可能なPt Inhibitor88の等のエチニルシクロヘキサノー
ル中のビニル末端ポリジメチルシロキサンである。特定の理論に拘束されることを望むも
のではないが、白金触媒は、以下に示すようにエチニルシクロヘキサノール及びビニル末
端ポリジメチルシロキサンと錯体を形成すると考えられる。
維持すると考えられている。硬化工程のより高い温度で、Ptは錯体から放出され、ビニ
ル官能性シリコーン油及び水素化物官能性シリコーン油のヒドロシリル化を助け、「架橋
」をより制御する。
量%、0.02重量%、0.05重量%、0.1重量%、0.15重量%もの少なさ、0
.2重量%、0.25重量%、0.3重量%、0.5重量%、1重量%、3重量%、5重
量%もの多さ、又は0.01重量%〜1重量%、0.01重量%〜0.5重量%、若しく
は0.05重量%〜0.2重量%等の、上記の値のうちの任意の2つの間に規定される任
意の範囲内の量の1種以上の付加阻害剤を含み得る。例示的な一実施形態では、TIMは
、0.1重量%の量の付加阻害剤を含む。別の例示的な実施形態では、TIMは、0.1
3重量%の量の付加阻害剤を含む。
ニル官能性シリコーン油は、添加ヒドロシリル化メカニズムに基づいて非常に迅速に水素
化物官能性シリコーン油と反応して、典型的な方法によって自動的に分注され得ない固相
を形成する。
056、KE−1151、KE−1820、KE−1825、KE−1830、KE−1
831、KE−1833、KE−1842、KE−1884、KE−1885、KE−1
886、FE−57、FE−61等、Dow Corningから入手可能なSyl−o
ff(登録商標)7395、Syl−off(登録商標)7610、Syl−off(登
録商標)7817、Syl−off(登録商標)7612、Syl−off(登録商標)
7780等の官能性シリコーン油と合わせられる。
いくつかの実施形態では、TIMは、シランカップリング剤、有機可塑剤、界面活性剤
、及びフラックス剤のうちの1つ以上の成分を任意に含むことができる。
的なカップリング剤としては、一般式Y−(CH2)n−Si−X3(式中、Yは有機官
能基であり、Xは加水分解性基である)を有するシランカップリング剤が挙げられる。有
機官能基Yとしては、アルキル、グリシドキシ、アクリルオキシル、メチルアクリロキシ
ル、アミンが挙げられる。加水分解性基Xとしては、アルキルオキシ、アセトキシが挙げ
られる。いくつかの例示的な実施形態では、シランカップリング剤としては、アルキルト
リアルコキシシランが挙げられる。例示的なアルキルトリアルコキシシランとしては、デ
シルトリメトキシシラン、ウンデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシ
ラン、オクタデシルトリメトキシシランが挙げられる。例示的な一実施形態では、TIM
は、カップリング剤として以下の式に示すヘキサデシルトリメトキシシランを含む。
用する。アルミナは、以下の反応で使用される典型的な充填剤である。しかしながら、他
の代替的な充填剤を使用してもよい。示すように、カップリング剤を水に添加し、エトキ
シド基を除去するために加水分解を施す。次いで、生成物に、水が除去され、カップリン
グ剤とアルミナが結合される改質反応を施す。
%、0.25重量%、0.5重量%、0.67重量%、0.75重量%もの少なさ、1重
量%、1.5重量%、2重量%、5重量%、10重量%もの多さ、又は0.1重量%〜1
0重量%、0.1重量%〜1重量%、若しくは0.25重量%〜0.67重量%等の、上
記の値のうちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内の量の1種以上のカップリング
剤を含み得る。例示的な一実施形態では、TIMは、0.4重量%の量のカップリング剤
を含む。
有機可塑剤として、フタル酸ビス(2−エチルヘキシル)(DEHP)、フタル酸ジnブ
チル(DnBP、DBP)、フタル酸ジオクチル(DOP又はDnOP)、フタル酸ジエ
チル(DEP)、フタル酸ジイソブチル(DIBP)、フタル酸ジイソデシル(DIDP
)、フタル酸ジイソノニル(DINP)、フタル酸ブチルベンジル(BBzP)等のフタ
ル酸系可塑剤を含む。
量%、0.1重量%、0.25重量%、0.5重量%、0.67重量%、0.75重量%
もの少なさ、1重量%、1.5重量%、2重量%、5重量%、10重量%もの多さ、又は
0.01重量%〜10重量%、0.1重量%〜1重量%、若しくは0.25重量%〜0.
67重量%等の、上記の値のうちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内の量の1種
以上の有機可塑剤を含み得る。
面活性剤として、BYK−307、BYK−306及びBYK−222を含む、BYK
Chemie GmbHから入手可能なBYK界面活性剤等のシリコーン系表面添加剤を
含む。
量%、0.1重量%、0.25重量%、0.5重量%、0.67重量%、0.75重量%
もの少なさ、1重量%、1.5重量%、2重量%、5重量%、10重量%もの多さ、又は
0.1重量%〜10重量%、0.1重量%〜1重量%、若しくは0.25重量%〜0.6
7重量%等の、上記の値のうちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内の量の1種以
上の界面活性剤を含み得る。
しては、ヒュームドシリカが挙げられる。
%、0.25重量%、0.5重量%、0.67重量%、0.75重量%もの少なさ、1重
量%、1.5重量%、2重量%、5重量%、10重量%もの多さ、又は0.1重量%〜1
0重量%、0.1重量%〜1重量%、若しくは0.25重量%〜0.67重量%等の、上
記の値のうちの任意の2つの間に規定される任意の範囲内の量の1種以上の融剤を含み得
る。
第1の非限定的な例示的な実施形態では、TIMは、約2重量%〜約20重量%のシリ
コーン油、約0.1重量%〜約5重量%のカップリング剤、約50重量%〜約95重量%
の熱伝導性充填剤、約0.1重量%〜約5重量%の付加阻害剤、及び約0.1重量%〜約
5重量%の添加触媒を含む。
の低分子シリコーン油、約2重量%〜約10重量%の第2の低分子シリコーン油、約0.
1重量%〜約5重量%の高分子量シリコーン油、約0.1重量%〜約5重量%のカップリ
ング剤、約25重量%〜約50重量%の第1の熱伝導性充填剤、約25重量%〜約50重
量%の第2の熱伝導性充填剤、約25重量%〜約50重量%の第3の熱伝導性充填剤、約
0.1重量%〜約5重量%の付加阻害剤、及び約0.1重量%〜約5重量%の添加触媒を
含む。
いくつかの例示的な実施形態では、上記のような熱界面材料は、高加速応力試験(HA
ST)に対する優れた耐性を有する。HAST試験は、典型的には、熱界面材料の熱性能
について、湿度及び温度に対する熱界面材料の耐性に関するものと理解される。例示的な
HAST試験標準は、JESD22−A110−Bである。具体的な一実施形態では、熱
界面材料は、ガラスと例示的な銅ヒートシンクとの間に垂直に配向された1.6mmギャ
ップに配置され、−55℃〜+125℃で10,000回の熱サイクルを1週間以上受け
る。他の実施形態では、熱界面材料は、熱サイクル試験後に亀裂がほとんど又は全くない
ことを示している。
優れた耐性を有する。温度サイクルは、典型的には、高温及び低温の極限に対する熱界面
材料の抵抗、並びに周期的な熱応力に耐えるその能力に関連すると理解される。例示的な
温度サイクル試験標準は、JESD22−A104−Bである。具体的な一実施形態にお
いて、熱界面材料は、垂直に配向された1.6mmギャップのガラスと例示的銅ヒートシ
ンクとの間に配置され、1週間にわたって−55℃〜+125℃の間で10,000回の
熱サイクルを受けたときでも、滴下を示さない。他の実施形態では、熱界面材料は、温度
サイクル試験に続いてほとんど又は全く亀裂を示していない。
Kの熱伝導率を有する。例示的な熱伝導率試験方法標準は、ASTM D5470である
。例示的な一修正形態では、上記のような熱界面材料は、約4W/m・Kの熱伝導率を有
する。別の例示的な実施形態では、上記のような熱界面材料は、約2W/m・Kの熱伝導
率を有する。
100,000Pa.sの範囲内、より具体的には、100Pa.s〜10,000Pa
.sの範囲内の粘度を有する。例示的な粘度試験法標準は、DIN 53018である。
具体的な一実施形態では、粘度は、ブルックフィールドレオメーターによって、せん断速
度2s−1で試験される。
ることができる。いくつかの例示的な実施形態では、上記のような熱界面材料は、0.0
5mm、0.5mm、1mmもの小ささ、3mm、5mm、7mm、10mmもの大きさ
、又は0.05mm〜5mm等の上記の値のうちの任意の2つの間に規定される任意の範
囲内の厚さを有する。
温度で圧縮可能である。例示的な一実施形態では、熱界面材料は、約25℃の温度で少な
くとも10%圧縮可能である。
g/分の範囲、より具体的には10g/分〜100g/分の範囲の分注速度を有する。具
体的な一実施形態では、分注速度は、直径0.1インチの分注ヘッダ開口部を有する10
mlシリンジを用いて、0.6MPaの圧力下で試験する。
いくつかの例示的な実施形態では、TIMは、個々の成分を加熱ミキサー中で合わせ、
組成物を一緒に混合することによって調製する。次いで、混合された組成物は、焼成する
ことなく、基材に直接塗布することができる。
ここでも図1を参照すると、いくつかの例示的な実施形態では、熱界面材料は、TIM
18によって示されるように、電子部品12とヒートスプレッダ14との間にTIM1と
して配置される。いくつかの例示的な実施形態では、熱界面材料は、TIM20によって
示されるように、ヒートスプレッダ14とヒートシンク16との間にTIM2として配置
される。いくつかの例示的な実施形態では、熱界面材料は、電子部品12とヒートシンク
16との間にTIM1.5(図示せず)として配置される。
熱界面材料は、表1に提供される配合に従って調製した。
であった。低MWシリコーン油の分子量は50,000ダルトン未満であり、白金触媒を
更に含んでいた。低MWシリコーン油Bは、水素化物官能基を含む液体シリコーンゴムで
あり、50,000ダルトン未満の分子量を有する。シランカップリング剤は、ヘキサデ
シルトリメトキシシランであった。熱伝導性充填剤Aは、1〜10ミクロンの粒子径を有
するアルミニウム粒子であった。熱伝導性充填剤Bは、1ミクロン未満の粒子径を有する
酸化亜鉛粒子であった。付加阻害剤は、Wacker Chemie AGから入手可能
なPt Inhibitor88であった。
阻害剤を合わせ、スピードミキサーで混合した。次いで、熱伝導性充填剤を添加し、混合
物を再び混合した。
ィスペンスゲルを得た。GEL30は、部分的に架橋されたシリコーンゴム及びアルミナ
を含む。
配向された1.6mmのギャップで挟み込まれ、−55℃〜+125℃で1週間熱サイク
ルにかけられた。
クル試験前のGEL30比較例から形成された試料を示す。図3Aは、熱サイクル試験後
の実施例1から形成された試料を示し、図3Bは、熱サイクル試験後のGEL30の比較
例から形成された試料を示す。
板との間にその元の垂直位置を維持することによって示されるように、滴下がないことを
示した。対照的に、比較例から形成されたサンプルは、図2Bと図3Bとの間の下方への
移動によって示されるように、著しい滴下を示した。
裂を示した。対照的に、図3Bは、比較例において著しくより多くの亀裂を示した。
熱界面材料は、表2に提供される処方に従って調製した。
であった。低MWシリコーン油の分子量は50,000ダルトン未満であり、白金触媒を
更に含んでいた。低MWシリコーン油Bは、水素化物官能基を含む低分子量液状シリコー
ンゴムであった。低MWシリコーン油Bの分子量は、50,000ダルトン未満であった
。高MWシリコーン油の分子量は、60,000ダルトンより大きかった。シランカップ
リング剤は、ヘキサデシルトリメトキシシランであった。熱伝導性充填剤Aは、1〜10
ミクロンの粒子径を有するアルミニウム粒子であった。熱伝導性充填剤Bは、1ミクロン
未満の粒子径を有する酸化アルミニウム粒子であった。付加阻害剤は、Wacker C
hemie AGから入手可能なPt Inhibitor88であった。
示すように、調製した混合物をシリンジ50に挿入して封入する。シリンジ50は、自動
ディスペンサツール52に接続されている。混合物は、ディスペンサツール52によって
生成される空気圧によってシリンジ50からパージすることができる。ディスペンサツー
ル52はまた、オリフィスの直径を制御する。実際には、ディスペンサツール52は、2
つのパラメータ、すなわちオリフィスの直径及び空気圧を変化させることによって、シリ
ンジ50からの混合物の分注速度を制御する。一実施形態では、配合物は、シリンジ50
の0.100インチのオリフィスを通して90psiの圧縮下で、10立方センチメート
ルの先端取り付けなしでシリンジ50から分注される。
注した後、例えば、図2Aに示すように、装置が垂直に配置されている場合には、ヒート
シンクとガラスとの間に1.6mmのギャップが存在する例示的なヒートシンク上にガラ
スプレートを配置した。配合物に加えられた圧力は、配合物を所望の領域に拡散させる。
ヒートシンクとガラスとの間には1.6mmのギャップがある。上記のようなガラス及び
例示的なヒートシンク装置は、−55℃〜+125℃の熱サイクルを、1週間の間、各サ
イクルで40分の継続時間で行う。全部で約250サイクルを実施し、各個別のサイクル
は、40分間の継続時間を有する。
、及び実施例2Bを、図5A〜図5Cに示す熱サイクル試験後の比較例2、実施例2A、
及び実施例2Bから生じた配合物と共に示している。
ラスと基板との間のそれぞれの元の垂直位置を維持しないことによって示されるように、
顕著な滴下を示した。これに対し、図5Cに示すように、実施例2Bは、試験中にサンプ
ルがガラスと基板との間の元の垂直位置を維持することによって示されるように、限られ
た滴下を示した。
された試料の限られた亀裂を示した。これに対して、比較例2及び実施例2A(それぞれ
図5A及び図5B)は、比較例においてかなり多くの割れを示した。
範囲内で更に修正することができる。従って、本出願は、その一般的原理を利用した本発
明のあらゆる変形、使用、又は適応を包含することが意図されている。更に、本出願は、
本発明が関連し、添付の特許請求の範囲の範囲内に入る技術分野における既知の又は慣
習的な実践に属する本開示からのそのような逸脱を包含することが意図されている。
本明細書は以下の発明の態様を包含する。
[1]
熱界面材料であって、
50,000ダルトン未満の重量(Mw)平均分子量を有する少なくとも1種の低分子量シリコーン油と、
少なくとも1種の熱伝導性充填剤と、
少なくとも1種の高分子量シリコーン油と、を含み、前記高分子量シリコーン油が、少なくとも60,000ダルトンの重量(Mw)平均分子量を有するビニル官能性シリコーン油を含む、熱界面材料。
[2]
前記少なくとも1種の低分子量シリコーン油が、第1のシリコーン油と第2のシリコーン油とを含み、前記第1のシリコーン油が、ビニル官能性シリコーン油であり、前記第2のシリコーン油が、水素化物官能性シリコーン油である、[1]に記載の熱界面材料。
[3]
前記熱伝導性充填剤が、第1の熱伝導性充填剤と第2の熱伝導性充填剤とを含み、第1の熱伝導性ファイラーが、1ミクロンより大きい粒子サイズを有する金属酸化物であり、前記第2の熱伝導性充填剤が、1ミクロン未満の粒子サイズを有する金属酸化物である、[1]に記載の熱界面材料。
[4]
前記熱界面材料が、
2重量%〜20重量%の前記低分子量シリコーン油と、
50重量%〜95重量%の前記熱伝導性充填剤と、
0.1重量%〜5重量%の前記高分子量シリコーン油と、を含む、[1]に記載の熱界面材料。
[5]
熱界面材料であって、
少なくとも1種のシリコーン油と、
少なくとも1種の熱伝導性充填剤と、
少なくとも1種の付加阻害剤と、を含み、前記付加阻害剤が、アルキニル化合物を含む、熱界面材料。
[6]
前記付加阻害剤が、マルチビニル官能性ポリシロキサン、エチニルシクロヘキサノールで終端するポリジメチルシロキサンビニル、2−メチル−3−ブチン−2−オール、及び3−メチル−1−ペンチン−3−オールからなる群から選択される、[5]に記載の熱界面材料。
[7]
前記少なくとも1種のシリコーン油が、第1のシリコーン油と第2のシリコーン油とを含み、前記第1のシリコーン油が、ビニル官能性シリコーン油であり、前記第2のシリコーン油が、水素化物官能性シリコーン油である、[5]に記載の熱界面材料。
[8]
前記熱伝導性充填剤が、第1の熱伝導性充填剤と第2の熱伝導性充填剤とを含み、第1の熱伝導性ファイラーが、1ミクロンより大きい粒子サイズを有する金属であり、前記第2の熱伝導性充填剤が、1ミクロン未満の粒子サイズを有する金属酸化物である、[5]に記載の熱界面材料。
[9]
前記第1の熱伝導性充填剤と前記第2の熱伝導性充填剤との比が、1.5:1〜3:1である、[8]に記載の熱界面材料。
[10]
前記熱界面材料が、
2重量%〜20重量%の前記シリコーン油と、
0.1重量%〜5重量%のシランカップリング剤と、
50重量%〜95重量%の前記熱伝導性充填剤と、
0.01重量%〜5重量%の前記付加阻害剤と、を含む、[5]に記載の熱界面材料。
Claims (10)
- 熱界面材料であって、
50,000ダルトン未満の重量(Mw)平均分子量を有する少なくとも1種の低分子
量シリコーン油と、
少なくとも1種の熱伝導性充填剤と、
少なくとも1種の高分子量シリコーン油と、を含み、前記高分子量シリコーン油が、少
なくとも60,000ダルトンの重量(Mw)平均分子量を有するビニル官能性シリコー
ン油を含む、熱界面材料。 - 前記少なくとも1種の低分子量シリコーン油が、第1のシリコーン油と第2のシリコー
ン油とを含み、前記第1のシリコーン油が、ビニル官能性シリコーン油であり、前記第2
のシリコーン油が、水素化物官能性シリコーン油である、請求項1に記載の熱界面材料。 - 前記熱伝導性充填剤が、第1の熱伝導性充填剤と第2の熱伝導性充填剤とを含み、第1
の熱伝導性ファイラーが、1ミクロンより大きい粒子サイズを有する金属酸化物であり、
前記第2の熱伝導性充填剤が、1ミクロン未満の粒子サイズを有する金属酸化物である、
請求項1に記載の熱界面材料。 - 前記熱界面材料が、
2重量%〜20重量%の前記低分子量シリコーン油と、
50重量%〜95重量%の前記熱伝導性充填剤と、
0.1重量%〜5重量%の前記高分子量シリコーン油と、を含む、請求項1に記載の熱
界面材料。 - 熱界面材料であって、
少なくとも1種のシリコーン油と、
少なくとも1種の熱伝導性充填剤と、
少なくとも1種の付加阻害剤と、を含み、前記付加阻害剤が、アルキニル化合物を含む
、熱界面材料。 - 前記付加阻害剤が、マルチビニル官能性ポリシロキサン、エチニルシクロヘキサノール
で終端するポリジメチルシロキサンビニル、2−メチル−3−ブチン−2−オール、及び
3−メチル−1−ペンチン−3−オールからなる群から選択される、請求項5に記載の熱
界面材料。 - 前記少なくとも1種のシリコーン油が、第1のシリコーン油と第2のシリコーン油とを
含み、前記第1のシリコーン油が、ビニル官能性シリコーン油であり、前記第2のシリコ
ーン油が、水素化物官能性シリコーン油である、請求項5に記載の熱界面材料。 - 前記熱伝導性充填剤が、第1の熱伝導性充填剤と第2の熱伝導性充填剤とを含み、第1
の熱伝導性ファイラーが、1ミクロンより大きい粒子サイズを有する金属であり、前記第
2の熱伝導性充填剤が、1ミクロン未満の粒子サイズを有する金属酸化物である、請求項
5に記載の熱界面材料。 - 前記第1の熱伝導性充填剤と前記第2の熱伝導性充填剤との比が、1.5:1〜3:1
である、請求項8に記載の熱界面材料。 - 前記熱界面材料が、
2重量%〜20重量%の前記シリコーン油と、
0.1重量%〜5重量%のシランカップリング剤と、
50重量%〜95重量%の前記熱伝導性充填剤と、
0.01重量%〜5重量%の前記付加阻害剤と、を含む、請求項5に記載の熱界面材料
。
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US10190031B2 (en) * | 2016-06-06 | 2019-01-29 | Jiali Wu | Thermally conductive interface composition and use thereof |
US11041103B2 (en) | 2017-09-08 | 2021-06-22 | Honeywell International Inc. | Silicone-free thermal gel |
US10428256B2 (en) * | 2017-10-23 | 2019-10-01 | Honeywell International Inc. | Releasable thermal gel |
EP3522212A1 (en) * | 2018-01-31 | 2019-08-07 | ABB Schweiz AG | Power electronics module and a method of producing a power electronics module |
US11072706B2 (en) * | 2018-02-15 | 2021-07-27 | Honeywell International Inc. | Gel-type thermal interface material |
MX2021006375A (es) | 2018-11-29 | 2021-08-11 | Ethicon Inc | Aplicador y metodo para revestimiento de sala de operaciones. |
US11373921B2 (en) * | 2019-04-23 | 2022-06-28 | Honeywell International Inc. | Gel-type thermal interface material with low pre-curing viscosity and elastic properties post-curing |
JP2021051905A (ja) * | 2019-09-25 | 2021-04-01 | 富士高分子工業株式会社 | シーリング材用熱伝導シート及びこれを組み込んだ発熱性電気・電子部品 |
TW202134045A (zh) * | 2019-10-25 | 2021-09-16 | 德商漢高智慧財產控股公司 | 可三維圖案化之熱介面 |
KR20220100592A (ko) * | 2019-11-19 | 2022-07-15 | 헨켈 아게 운트 코. 카게아아 | 열 계면 재료 및 적용 방법 |
US11479669B2 (en) * | 2020-05-28 | 2022-10-25 | Ethicon, Inc. | Topical skin closure compositions and systems |
US11718753B2 (en) * | 2020-05-28 | 2023-08-08 | Ethicon, Inc. | Topical skin closure compositions and systems |
US11712229B2 (en) | 2020-05-28 | 2023-08-01 | Ethicon, Inc. | Systems, devices and methods for dispensing and curing silicone based topical skin adhesives |
US11518604B2 (en) | 2020-05-28 | 2022-12-06 | Ethicon, Inc. | Systems, methods and devices for aerosol spraying of silicone based topical skin adhesives for sealing wounds |
US11589867B2 (en) | 2020-05-28 | 2023-02-28 | Ethicon, Inc. | Anisotropic wound closure systems |
CN114163818A (zh) * | 2021-12-01 | 2022-03-11 | 深圳先进电子材料国际创新研究院 | 一种兼具高导热和阻尼功能的导热凝胶及其制备方法和应用 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06209057A (ja) * | 1992-02-21 | 1994-07-26 | Toshiba Corp | 高熱伝導性放熱体およびその製造方法 |
JP2000204259A (ja) * | 1999-01-11 | 2000-07-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 放熱部材 |
JP2005325211A (ja) * | 2004-05-13 | 2005-11-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 熱伝導性シリコーンゴム組成物及び成型品 |
JP2011144234A (ja) * | 2010-01-13 | 2011-07-28 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 熱伝導性樹脂組成物 |
WO2012067247A1 (ja) * | 2010-11-18 | 2012-05-24 | 電気化学工業株式会社 | 高耐久性熱伝導性組成物及び低脱油性グリース |
JP2012201106A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 熱伝導性成形体とその用途 |
JP2016506992A (ja) * | 2013-02-11 | 2016-03-07 | ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation | クラスタ化官能性ポリオルガノシロキサン、これを生成するプロセス、及びこれを使用する方法 |
JP2016216523A (ja) * | 2015-05-14 | 2016-12-22 | デンカ株式会社 | 熱伝導性グリース用組成物、熱伝導性グリースおよび放熱部材 |
JP2019522711A (ja) * | 2016-07-26 | 2019-08-15 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドHoneywell International Inc. | ゲルタイプ熱界面材料 |
Family Cites Families (269)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5314131A (en) | 1975-05-02 | 1978-02-08 | Nobuyasu Doi | Luster tinnlead alloy electroplating method |
US4180498A (en) | 1976-07-30 | 1979-12-25 | Ciba-Geigy Corporation | Hindered phenyl phosphites |
DE2933870A1 (de) | 1979-08-21 | 1981-03-12 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | N.n'-bis-salicyloyl-hydrazin als metalldesaktivator. |
JPS5967387A (ja) | 1982-10-08 | 1984-04-17 | Hiyougoken | すず、鉛及びすず―鉛合金メッキ浴 |
US4565610A (en) | 1983-12-22 | 1986-01-21 | Learonal, Inc. | Bath and process for plating lead and lead/tin alloys |
JPS61105583A (ja) | 1984-10-30 | 1986-05-23 | 松下電器産業株式会社 | カラ−液晶表示装置 |
US4604424A (en) | 1986-01-29 | 1986-08-05 | Dow Corning Corporation | Thermally conductive polyorganosiloxane elastomer composition |
JPS644518A (en) | 1987-06-27 | 1989-01-09 | Kanzaki Kokyukoki Mfg Co Ltd | Hst integral type axle driving device |
JP2611364B2 (ja) | 1988-08-26 | 1997-05-21 | 上村工業株式会社 | 無電解錫めっき浴及び無電解錫めっき方法 |
EP0433816B1 (de) | 1989-12-18 | 1994-04-20 | Riedel-De Haen Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Lösung eines Buntmetallsulfonats |
US5167851A (en) | 1991-04-22 | 1992-12-01 | Thermoset Plastics, Inc. | Hydrophilic thermally conductive grease |
US5562814A (en) | 1995-09-01 | 1996-10-08 | Dale Electronics, Inc. | Sludge-limiting tin and/or lead electroplating bath |
PT876427E (pt) | 1996-01-22 | 2003-01-31 | Dow Chemical Co | Misturas de elastomeros de poliolefinicos apresentando caracteristicas aperfeicoadas |
EP0956590A1 (en) | 1996-04-29 | 1999-11-17 | Parker-Hannifin Corporation | Conformal thermal interface material for electronic components |
JP3662715B2 (ja) | 1997-06-16 | 2005-06-22 | アルプス電気株式会社 | 導電性材料および導電ペーストと電子機器 |
JP4015722B2 (ja) | 1997-06-20 | 2007-11-28 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 熱伝導性ポリマー組成物 |
US6432497B2 (en) | 1997-07-28 | 2002-08-13 | Parker-Hannifin Corporation | Double-side thermally conductive adhesive tape for plastic-packaged electronic components |
US6096414A (en) | 1997-11-25 | 2000-08-01 | Parker-Hannifin Corporation | High dielectric strength thermal interface material |
FR2775481B1 (fr) | 1998-02-27 | 2003-10-24 | Rhodia Chimie Sa | Composition silicone adhesive reticulable et utilisation de cette composition pour le collage de substrats divers |
JP3948642B2 (ja) | 1998-08-21 | 2007-07-25 | 信越化学工業株式会社 | 熱伝導性グリース組成物及びそれを使用した半導体装置 |
US20040069454A1 (en) | 1998-11-02 | 2004-04-15 | Bonsignore Patrick V. | Composition for enhancing thermal conductivity of a heat transfer medium and method of use thereof |
US6432320B1 (en) | 1998-11-02 | 2002-08-13 | Patrick Bonsignore | Refrigerant and heat transfer fluid additive |
JP2000143808A (ja) | 1998-11-17 | 2000-05-26 | Fuji Kobunshi Kogyo Kk | 熱伝導性・電気絶縁性シリコーンゲル組成物 |
JP2002532914A (ja) | 1998-12-15 | 2002-10-02 | パーカー−ハニフイン・コーポレーシヨン | 相変化熱的インターフェース材料の塗布方法 |
US6238596B1 (en) | 1999-03-09 | 2001-05-29 | Johnson Matthey Electronics, Inc. | Compliant and crosslinkable thermal interface materials |
US6391442B1 (en) | 1999-07-08 | 2002-05-21 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Phase change thermal interface material |
US6605238B2 (en) | 1999-09-17 | 2003-08-12 | Honeywell International Inc. | Compliant and crosslinkable thermal interface materials |
US6706219B2 (en) | 1999-09-17 | 2004-03-16 | Honeywell International Inc. | Interface materials and methods of production and use thereof |
US6975944B1 (en) | 1999-09-28 | 2005-12-13 | Alpha Mos | Method and apparatus for monitoring materials used in electronics |
US6496373B1 (en) | 1999-11-04 | 2002-12-17 | Amerasia International Technology, Inc. | Compressible thermally-conductive interface |
JP2001139818A (ja) | 1999-11-12 | 2001-05-22 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | 熱伝導性シリコーンゴム組成物 |
US6673434B2 (en) | 1999-12-01 | 2004-01-06 | Honeywell International, Inc. | Thermal interface materials |
US6451422B1 (en) | 1999-12-01 | 2002-09-17 | Johnson Matthey, Inc. | Thermal interface materials |
US6797382B2 (en) | 1999-12-01 | 2004-09-28 | Honeywell International Inc. | Thermal interface materials |
US6372997B1 (en) | 2000-02-25 | 2002-04-16 | Thermagon, Inc. | Multi-layer structure and method for forming a thermal interface with low contact resistance between a microelectronic component package and heat sink |
US6940721B2 (en) | 2000-02-25 | 2005-09-06 | Richard F. Hill | Thermal interface structure for placement between a microelectronic component package and heat sink |
US7369411B2 (en) | 2000-02-25 | 2008-05-06 | Thermagon, Inc. | Thermal interface assembly and method for forming a thermal interface between a microelectronic component package and heat sink |
US7078109B2 (en) | 2000-02-25 | 2006-07-18 | Thermagon Inc. | Heat spreading thermal interface structure |
US6649325B1 (en) | 2001-05-25 | 2003-11-18 | The Bergquist Company | Thermally conductive dielectric mounts for printed circuitry and semi-conductor devices and method of preparation |
US6984685B2 (en) | 2000-04-05 | 2006-01-10 | The Bergquist Company | Thermal interface pad utilizing low melting metal with retention matrix |
US6339120B1 (en) | 2000-04-05 | 2002-01-15 | The Bergquist Company | Method of preparing thermally conductive compounds by liquid metal bridged particle clusters |
US6797758B2 (en) | 2000-04-05 | 2004-09-28 | The Bergquist Company | Morphing fillers and thermal interface materials |
US20030207128A1 (en) | 2000-04-10 | 2003-11-06 | Tomoaki Uchiya | Thermally conductive sheet |
US6400565B1 (en) | 2000-04-21 | 2002-06-04 | Dell Products L.P. | Thermally conductive interface member |
US6616999B1 (en) | 2000-05-17 | 2003-09-09 | Raymond G. Freuler | Preapplicable phase change thermal interface pad |
US6500891B1 (en) | 2000-05-19 | 2002-12-31 | Loctite Corporation | Low viscosity thermally conductive compositions containing spherical thermally conductive particles |
JP2002003830A (ja) | 2000-06-26 | 2002-01-09 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 高熱伝導性組成物とその用途 |
US6610635B2 (en) | 2000-09-14 | 2003-08-26 | Aos Thermal Compounds | Dry thermal interface material |
US6475962B1 (en) | 2000-09-14 | 2002-11-05 | Aos Thermal Compounds, Llc | Dry thermal grease |
US20040206941A1 (en) | 2000-11-22 | 2004-10-21 | Gurin Michael H. | Composition for enhancing conductivity of a carrier medium and method of use thereof |
US20030151030A1 (en) | 2000-11-22 | 2003-08-14 | Gurin Michael H. | Enhanced conductivity nanocomposites and method of use thereof |
US6573328B2 (en) | 2001-01-03 | 2003-06-03 | Loctite Corporation | Low temperature, fast curing silicone compositions |
WO2002059965A1 (en) | 2001-01-22 | 2002-08-01 | Parker Hannifin Corporation | Clean release, phase change thermal interface |
US20020187364A1 (en) | 2001-03-16 | 2002-12-12 | Shipley Company, L.L.C. | Tin plating |
CN1260399C (zh) | 2001-08-31 | 2006-06-21 | 罗姆和哈斯电子材料有限责任公司 | 电解镀锡溶液和用于电镀的方法 |
FR2831548B1 (fr) | 2001-10-31 | 2004-01-30 | Rhodia Chimie Sa | Composition silicone adhesive reticulable comprenant comme agent thixotropant un compose a fonction amine cyclique portee par une chaine siloxanique |
US20030112603A1 (en) | 2001-12-13 | 2003-06-19 | Roesner Arlen L. | Thermal interface |
US6620515B2 (en) | 2001-12-14 | 2003-09-16 | Dow Corning Corporation | Thermally conductive phase change materials |
US6597575B1 (en) * | 2002-01-04 | 2003-07-22 | Intel Corporation | Electronic packages having good reliability comprising low modulus thermal interface materials |
US6946190B2 (en) | 2002-02-06 | 2005-09-20 | Parker-Hannifin Corporation | Thermal management materials |
DE60229072D1 (de) | 2002-02-06 | 2008-11-06 | Parker Hannifin Corp | Wärmesteuerungsmaterialien mit phasenumwandlungsdispersion |
US6926955B2 (en) | 2002-02-08 | 2005-08-09 | Intel Corporation | Phase change material containing fusible particles as thermally conductive filler |
US20040149587A1 (en) | 2002-02-15 | 2004-08-05 | George Hradil | Electroplating solution containing organic acid complexing agent |
US20030159938A1 (en) | 2002-02-15 | 2003-08-28 | George Hradil | Electroplating solution containing organic acid complexing agent |
KR101013189B1 (ko) | 2002-03-05 | 2011-02-10 | 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈, 엘.엘.씨 | 주석 또는 주석 합금 전기도금조 용액에서 산화를 통해주석의 손실을 제한하는 방법 |
US6913686B2 (en) | 2002-12-10 | 2005-07-05 | Advanced Technology Materials, Inc. | Methods for analyzing solder plating solutions |
US6815486B2 (en) | 2002-04-12 | 2004-11-09 | Dow Corning Corporation | Thermally conductive phase change materials and methods for their preparation and use |
US20030203181A1 (en) | 2002-04-29 | 2003-10-30 | International Business Machines Corporation | Interstitial material with enhanced thermal conductance for semiconductor device packaging |
US7147367B2 (en) | 2002-06-11 | 2006-12-12 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Thermal interface material with low melting alloy |
US20030230403A1 (en) | 2002-06-14 | 2003-12-18 | Webb Brent J. | Conductive thermal interface and compound |
US6791839B2 (en) | 2002-06-25 | 2004-09-14 | Dow Corning Corporation | Thermal interface materials and methods for their preparation and use |
US20060040112A1 (en) | 2002-07-15 | 2006-02-23 | Nancy Dean | Thermal interconnect and interface systems, methods of production and uses thereof |
JP4016326B2 (ja) | 2002-08-02 | 2007-12-05 | 石原薬品株式会社 | 無電解スズメッキ浴 |
US6657297B1 (en) | 2002-08-15 | 2003-12-02 | The Bergquist Company | Flexible surface layer film for delivery of highly filled or low cross-linked thermally conductive interface pads |
US6908682B2 (en) | 2002-09-12 | 2005-06-21 | 3M Innovative Properties Company | Photocured silicone sealant having improved adhesion to plastic |
US6783692B2 (en) | 2002-10-17 | 2004-08-31 | Dow Corning Corporation | Heat softening thermally conductive compositions and methods for their preparation |
CN1296994C (zh) | 2002-11-14 | 2007-01-24 | 清华大学 | 一种热界面材料及其制造方法 |
FR2848215B1 (fr) | 2002-12-04 | 2006-08-04 | Rhodia Chimie Sa | Composition elastomere silicone, adhesive, monocomposante et reticulable par polyaddition |
US7326042B2 (en) | 2002-12-24 | 2008-02-05 | Bostik Findley, Inc. | Apparatus for packaging hot melt adhesives using a mold and carrier |
JP4288469B2 (ja) | 2003-03-12 | 2009-07-01 | 石原薬品株式会社 | 銅侵食防止用の無電解スズメッキ浴、及び銅侵食防止方法 |
WO2004090938A2 (en) | 2003-04-02 | 2004-10-21 | Honeywell International Inc. | Thermal interconnect and interface systems, methods of production and uses thereof |
US7013965B2 (en) | 2003-04-29 | 2006-03-21 | General Electric Company | Organic matrices containing nanomaterials to enhance bulk thermal conductivity |
US7744991B2 (en) | 2003-05-30 | 2010-06-29 | 3M Innovative Properties Company | Thermally conducting foam interface materials |
US7229683B2 (en) | 2003-05-30 | 2007-06-12 | 3M Innovative Properties Company | Thermal interface materials and method of making thermal interface materials |
TWI251320B (en) | 2003-07-04 | 2006-03-11 | Fuji Polymer Ind | Thermal conductive composition, a heat-dissipating putty sheet and heat-dissipating structure using the same |
KR100981571B1 (ko) | 2003-07-26 | 2010-09-10 | 삼성전자주식회사 | 다중 입력 다중 출력 적응 안테나 어레이 방식을 사용하는이동 통신 시스템에서 신호 송수신 시스템 및 방법 |
US6951182B2 (en) | 2003-07-29 | 2005-10-04 | Onweller Arthur E | Marine Mooring Line Vermin Shield |
US6874573B2 (en) | 2003-07-31 | 2005-04-05 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Thermal interface material |
US6985690B2 (en) | 2003-07-31 | 2006-01-10 | Xerox Corporation | Fuser and fixing members containing PEI-PDMS block copolymers |
JP2005060822A (ja) | 2003-08-08 | 2005-03-10 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 複合基体の電気メッキ |
US8039961B2 (en) | 2003-08-25 | 2011-10-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Composite carbon nanotube-based structures and methods for removing heat from solid-state devices |
US20050049350A1 (en) | 2003-08-25 | 2005-03-03 | Sandeep Tonapi | Thin bond-line silicone adhesive composition and method for preparing the same |
US7550097B2 (en) | 2003-09-03 | 2009-06-23 | Momentive Performance Materials, Inc. | Thermal conductive material utilizing electrically conductive nanoparticles |
US20050072334A1 (en) | 2003-10-07 | 2005-04-07 | Saint-Gobain Performance Plastics, Inc. | Thermal interface material |
KR101155940B1 (ko) | 2003-11-05 | 2012-07-05 | 다우 코닝 코포레이션 | 열 전도성 그리스, 당해 그리스가 사용되는 방법 및디바이스 |
US7306823B2 (en) | 2004-09-18 | 2007-12-11 | Nanosolar, Inc. | Coated nanoparticles and quantum dots for solution-based fabrication of photovoltaic cells |
US20050228097A1 (en) | 2004-03-30 | 2005-10-13 | General Electric Company | Thermally conductive compositions and methods of making thereof |
BRPI0418816A (pt) | 2004-05-20 | 2007-11-13 | Gen Electric | matrizes orgánicas contendo nanomateriais para aumentar condutividade térmica em volume |
US20050287362A1 (en) | 2004-06-23 | 2005-12-29 | 3M Innovative Properties Company | Halogen free tapes & method of making same |
EP1797155B1 (en) | 2004-08-23 | 2015-10-07 | General Electric Company | Thermally conductive composition and method for preparing the same |
CN101010369B (zh) | 2004-08-31 | 2010-12-22 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 有机材料的稳定 |
KR101175948B1 (ko) | 2004-10-28 | 2012-08-23 | 다우 코닝 코포레이션 | 전도성 경화성 조성물 |
US7328547B2 (en) | 2004-10-29 | 2008-02-12 | Bostik, Inc. | Process for packaging plastic materials like hot melt adhesives |
US20060094809A1 (en) * | 2004-11-02 | 2006-05-04 | Simone Davide L | Electrically and thermally conductive silicone adhesive compositions |
PL1846480T3 (pl) | 2005-02-01 | 2009-06-30 | Dow Corning | Kompozycja powłokowa zdolna do utwardzania |
US7241707B2 (en) | 2005-02-17 | 2007-07-10 | Intel Corporation | Layered films formed by controlled phase segregation |
CN100543103C (zh) | 2005-03-19 | 2009-09-23 | 清华大学 | 热界面材料及其制备方法 |
US20060228542A1 (en) | 2005-04-08 | 2006-10-12 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Thermal interface material having spheroidal particulate filler |
CN100404242C (zh) | 2005-04-14 | 2008-07-23 | 清华大学 | 热界面材料及其制造方法 |
US20060260948A2 (en) | 2005-04-14 | 2006-11-23 | Enthone Inc. | Method for electrodeposition of bronzes |
KR100934401B1 (ko) | 2005-04-28 | 2009-12-29 | 멜텍스 가부시키가이샤 | 주석 도금액, 그 주석 도금액을 이용한 주석 도금 방법,주석 도금액 조정 방법 및 그 주석 도금액을 이용하여형성된 주석 도금층을 구비한 칩 부품 |
US20060264566A1 (en) | 2005-05-19 | 2006-11-23 | Wacker Chemical Corporation | HCR room temperature curable rubber composition |
JP2007002002A (ja) | 2005-06-21 | 2007-01-11 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 伝熱性樹脂組成物 |
US20070051773A1 (en) | 2005-09-02 | 2007-03-08 | Ruchert Brian D | Thermal interface materials, methods of preparation thereof and their applications |
US20070097651A1 (en) | 2005-11-01 | 2007-05-03 | Techfilm, Llc | Thermal interface material with multiple size distribution thermally conductive fillers |
CN1970666A (zh) | 2005-11-24 | 2007-05-30 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 导热胶 |
CN1978582A (zh) | 2005-12-09 | 2007-06-13 | 富准精密工业(深圳)有限公司 | 导热膏及使用该导热膏的电子装置 |
US7465605B2 (en) | 2005-12-14 | 2008-12-16 | Intel Corporation | In-situ functionalization of carbon nanotubes |
US7964542B2 (en) | 2006-01-12 | 2011-06-21 | International Business Machines Corporation | Enhanced thermo-oxidative stability thermal interface compositions and use thereof in microelectronics assembly |
US20070179232A1 (en) | 2006-01-30 | 2007-08-02 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Thermal Interface Material |
US20070219312A1 (en) * | 2006-03-17 | 2007-09-20 | Jennifer Lynn David | Silicone adhesive composition and method for preparing the same |
US7955900B2 (en) | 2006-03-31 | 2011-06-07 | Intel Corporation | Coated thermal interface in integrated circuit die |
TWI313695B (en) | 2006-04-20 | 2009-08-21 | Taiwan Textile Res Inst | Melted-spinning grains containing thermal-stable phase-change polymer and preparation method thereof |
US20080023665A1 (en) * | 2006-07-25 | 2008-01-31 | Weiser Martin W | Thermal interconnect and interface materials, methods of production and uses thereof |
EP2094822A1 (en) | 2006-09-05 | 2009-09-02 | 3M Innovative Properties Company | Thermally conductive grease |
JP2008063412A (ja) | 2006-09-06 | 2008-03-21 | Showa Denko Kk | 熱伝導性樹脂組成物およびシート |
JP5231236B2 (ja) | 2006-10-17 | 2013-07-10 | 電気化学工業株式会社 | グリース |
US7554793B2 (en) | 2006-11-16 | 2009-06-30 | Kemet Electronics Corporation | Low temperature curable conductive adhesive and capacitors formed thereby |
US8431647B2 (en) | 2006-12-27 | 2013-04-30 | Bluestar Silicones France Sas | Adhesive silicone compositions and adhesive bonding/seaming therewith |
KR101547343B1 (ko) | 2007-02-20 | 2015-08-28 | 다우 코닝 코포레이션 | 수소결합 폴리오가노실록세인을 기반으로 하는 충전물 처리제 |
CN101067030A (zh) | 2007-03-30 | 2007-11-07 | 广东华南精细化工研究院有限公司 | 新型聚烯烃高效耐热氧化复合型抗氧剂及其生产工艺和应用 |
US20100075135A1 (en) * | 2007-04-02 | 2010-03-25 | Kendall Philip E | Thermal grease article and method |
US8431655B2 (en) | 2007-04-09 | 2013-04-30 | Designer Molecules, Inc. | Curatives for epoxy compositions |
JP5489409B2 (ja) * | 2007-04-10 | 2014-05-14 | コスモ石油ルブリカンツ株式会社 | 高熱伝導性コンパウンド |
GB0707176D0 (en) | 2007-04-16 | 2007-05-23 | Dow Corning | Hydrosilylation curable compositions |
US7462294B2 (en) | 2007-04-25 | 2008-12-09 | International Business Machines Corporation | Enhanced thermal conducting formulations |
US7646778B2 (en) | 2007-04-27 | 2010-01-12 | Cisco Technology, Inc. | Support of C-tagged service interface in an IEEE 802.1ah bridge |
US20080291634A1 (en) * | 2007-05-22 | 2008-11-27 | Weiser Martin W | Thermal interconnect and interface materials, methods of production and uses thereof |
FR2919615A1 (fr) | 2007-08-02 | 2009-02-06 | Bluestar Silicones France Soc | Composition elastomere silicone adhesive |
JP5269366B2 (ja) | 2007-08-22 | 2013-08-21 | コスモ石油ルブリカンツ株式会社 | 耐熱型熱伝導性グリース |
WO2009032212A1 (en) | 2007-08-31 | 2009-03-12 | Cabot Corporation | Thermal interface materials |
US8586650B2 (en) | 2007-09-14 | 2013-11-19 | Henkel US IP LLC | Thermally conductive composition |
JP2009102577A (ja) | 2007-10-25 | 2009-05-14 | Polymatech Co Ltd | 熱伝導性組成物 |
US20090111925A1 (en) | 2007-10-31 | 2009-04-30 | Burnham Kikue S | Thermal interface materials, methods of production and uses thereof |
US9795059B2 (en) | 2007-11-05 | 2017-10-17 | Laird Technologies, Inc. | Thermal interface materials with thin film or metallization |
US8445102B2 (en) | 2007-11-05 | 2013-05-21 | Laird Technologies, Inc. | Thermal interface material with thin transfer film or metallization |
JP5137538B2 (ja) | 2007-11-28 | 2013-02-06 | リンテック株式会社 | 粘接着剤組成物、粘接着シートおよび半導体装置の製造方法 |
JP2009138036A (ja) | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Momentive Performance Materials Japan Kk | 熱伝導性シリコーングリース組成物 |
US8076773B2 (en) | 2007-12-26 | 2011-12-13 | The Bergquist Company | Thermal interface with non-tacky surface |
KR101184467B1 (ko) | 2008-01-16 | 2012-09-19 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 감광성 접착제 조성물, 필름상 접착제, 접착 시트, 접착제 패턴, 접착제층 부착 반도체 웨이퍼, 반도체 장치, 및, 반도체 장치의 제조방법 |
US20090184283A1 (en) | 2008-01-18 | 2009-07-23 | Deborah Duen Ling Chung | Antioxidants for phase change ability and thermal stability enhancement |
US20090215225A1 (en) | 2008-02-24 | 2009-08-27 | Advanced Technology Materials, Inc. | Tellurium compounds useful for deposition of tellurium containing materials |
US10358535B2 (en) | 2008-04-25 | 2019-07-23 | The University Of Kentucky Research Foundation | Thermal interface material |
US8632879B2 (en) | 2008-04-25 | 2014-01-21 | The University Of Kentucky Research Foundation | Lightweight thermal management material for enhancement of through-thickness thermal conductivity |
WO2009136508A1 (ja) | 2008-05-08 | 2009-11-12 | 富士高分子工業株式会社 | 熱伝導性樹脂組成物 |
JP5607298B2 (ja) | 2008-07-29 | 2014-10-15 | 株式会社カネカ | 熱伝導材料 |
CN102112568A (zh) | 2008-08-04 | 2011-06-29 | 日立化成工业株式会社 | 胶粘剂组合物、膜状胶粘剂、胶粘片和半导体装置 |
US8394746B2 (en) | 2008-08-22 | 2013-03-12 | Exxonmobil Research And Engineering Company | Low sulfur and low metal additive formulations for high performance industrial oils |
EP2194165A1 (en) | 2008-10-21 | 2010-06-09 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Method for replenishing tin and its alloying metals in electrolyte solutions |
JP2010120979A (ja) * | 2008-11-17 | 2010-06-03 | Taika:Kk | 熱伝導性シリコーンゲル硬化物 |
US20100129648A1 (en) | 2008-11-26 | 2010-05-27 | Jun Xu | Electronic packaging and heat sink bonding enhancements, methods of production and uses thereof |
CN101445627A (zh) | 2008-12-11 | 2009-06-03 | 上海交通大学 | 高压直流电缆绝缘材料及其制备方法 |
US8138239B2 (en) | 2008-12-23 | 2012-03-20 | Intel Corporation | Polymer thermal interface materials |
JP5390202B2 (ja) | 2009-01-21 | 2014-01-15 | 株式会社カネカ | 放熱構造体 |
US7816785B2 (en) | 2009-01-22 | 2010-10-19 | International Business Machines Corporation | Low compressive force, non-silicone, high thermal conducting formulation for thermal interface material and package |
KR20110123763A (ko) | 2009-02-04 | 2011-11-15 | 다우 코닝 코포레이션 | 비-무작위적 공중합체의 제조 방법 |
US9353304B2 (en) | 2009-03-02 | 2016-05-31 | Honeywell International Inc. | Thermal interface material and method of making and using the same |
US8618211B2 (en) | 2009-03-16 | 2013-12-31 | Dow Corning Corporation | Thermally conductive grease and methods and devices in which said grease is used |
JP2010248277A (ja) | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Panasonic Corp | 熱伝導性樹脂ペーストおよびそれを用いた光ディスク装置 |
CA2760003C (en) | 2009-05-05 | 2019-02-26 | Parker Hannifin Corporation | Thermally conductive foam product |
JP5577553B2 (ja) | 2009-05-27 | 2014-08-27 | 協同油脂株式会社 | 放熱コンパウンド組成物 |
US8081468B2 (en) | 2009-06-17 | 2011-12-20 | Laird Technologies, Inc. | Memory modules including compliant multilayered thermally-conductive interface assemblies |
WO2010147759A2 (en) | 2009-06-19 | 2010-12-23 | Dow Corning Corporation | Use of ionomeric silicone thermoplastic elastomers in electronic devices |
US8535787B1 (en) | 2009-06-29 | 2013-09-17 | Juniper Networks, Inc. | Heat sinks having a thermal interface for cooling electronic devices |
US20130199724A1 (en) | 2009-10-09 | 2013-08-08 | Designer Molecules, Inc. | Curatives for epoxy compositions |
JP5463116B2 (ja) | 2009-10-14 | 2014-04-09 | 電気化学工業株式会社 | 熱伝導性材料 |
US9593209B2 (en) | 2009-10-22 | 2017-03-14 | Dow Corning Corporation | Process for preparing clustered functional polyorganosiloxanes, and methods for their use |
US8223498B2 (en) | 2009-11-11 | 2012-07-17 | Juniper Networks, Inc. | Thermal interface members for removable electronic devices |
JP5318733B2 (ja) | 2009-11-26 | 2013-10-16 | コスモ石油ルブリカンツ株式会社 | 熱伝導性グリース |
GB2508320B (en) | 2009-12-09 | 2014-07-23 | Intel Corp | Polymer thermal interface materials |
TWI475103B (zh) | 2009-12-15 | 2015-03-01 | Ind Tech Res Inst | 散熱結構 |
KR101524506B1 (ko) | 2009-12-21 | 2015-06-01 | 생-고뱅 퍼포먼스 플라스틱스 코포레이션 | 열전도성 폼 재료 |
KR101023241B1 (ko) | 2009-12-28 | 2011-03-21 | 제일모직주식회사 | 반도체용 접착제 조성물 및 이를 이용한 접착 필름 |
CN101735619B (zh) | 2009-12-28 | 2011-11-09 | 华南理工大学 | 一种无卤阻燃导热有机硅电子灌封胶及其制备方法 |
JP2011165792A (ja) | 2010-02-08 | 2011-08-25 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 放熱性二軸延伸フィルム |
US9260645B2 (en) | 2010-02-23 | 2016-02-16 | Laird Technologies, Inc. | Thermal interface materials including thermally reversible gels |
US9771508B2 (en) | 2010-02-23 | 2017-09-26 | Laird Technologies, Inc. | Thermal interface materials including thermally reversible gels |
US20120288725A1 (en) | 2010-03-15 | 2012-11-15 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Heat-Resistant Adhesive |
CN102893391B (zh) | 2010-04-30 | 2017-08-29 | 铟泰公司 | 具有良好可靠性的热界面材料 |
US8308861B2 (en) | 2010-05-13 | 2012-11-13 | E I Du Pont De Nemours And Company | Phase change material compositions |
US8647752B2 (en) | 2010-06-16 | 2014-02-11 | Laird Technologies, Inc. | Thermal interface material assemblies, and related methods |
CN102134474B (zh) | 2010-12-29 | 2013-10-02 | 深圳市优宝惠新材料科技有限公司 | 导热硅脂组合物 |
US8917510B2 (en) | 2011-01-14 | 2014-12-23 | International Business Machines Corporation | Reversibly adhesive thermal interface material |
JP6048416B2 (ja) | 2011-01-26 | 2016-12-21 | ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation | 高温安定熱伝導性材料 |
US8277774B2 (en) | 2011-01-27 | 2012-10-02 | Honeywell International | Method for the preparation of high purity stannous oxide |
DK2691398T3 (en) | 2011-03-30 | 2017-01-16 | Infacare Pharmaceutical Corp | Methods for synthesizing metal mesoporphyrins |
US20120285673A1 (en) | 2011-05-11 | 2012-11-15 | Georgia Tech Research Corporation | Nanostructured composite polymer thermal/electrical interface material and method for making the same |
JP2012241063A (ja) | 2011-05-17 | 2012-12-10 | Nitto Denko Corp | 半導体装置製造用の接着シート |
KR101865150B1 (ko) | 2011-08-10 | 2018-06-08 | 가부시키가이샤 아데카 | 규소함유 경화성 조성물 및 그 경화물 |
JP5687167B2 (ja) | 2011-09-27 | 2015-03-18 | コスモ石油ルブリカンツ株式会社 | 耐熱型熱伝導性グリース |
CN103102689B (zh) | 2011-11-15 | 2015-04-01 | 佛山市金戈消防材料有限公司 | 一种高导热有机硅灌封胶组合物及其应用 |
CN103131138B (zh) | 2011-11-23 | 2016-05-11 | 合肥杰事杰新材料股份有限公司 | 一种热塑性聚酯组合物及其制备方法 |
CN103254647A (zh) | 2012-02-20 | 2013-08-21 | 深圳德邦界面材料有限公司 | 一种导热缝隙界面材料及其制备方法 |
CN102627943A (zh) | 2012-04-11 | 2012-08-08 | 北京化工大学常州先进材料研究院 | 一种湿气/紫外光双固化有机硅胶粘剂 |
CN102634212B (zh) * | 2012-04-23 | 2015-11-25 | 湖州明朔光电科技有限公司 | 一种导热硅脂组合物 |
JP5783128B2 (ja) | 2012-04-24 | 2015-09-24 | 信越化学工業株式会社 | 加熱硬化型熱伝導性シリコーングリース組成物 |
US8937384B2 (en) | 2012-04-25 | 2015-01-20 | Qualcomm Incorporated | Thermal management of integrated circuits using phase change material and heat spreaders |
TWI598385B (zh) | 2012-05-10 | 2017-09-11 | 國立清華大學 | 絕緣化熱介面材料 |
WO2013168291A1 (ja) * | 2012-05-11 | 2013-11-14 | 信越化学工業株式会社 | 熱伝導性シリコーングリース組成物 |
JP2014003152A (ja) | 2012-06-18 | 2014-01-09 | Dow Corning Toray Co Ltd | サーマルインターフェース材の形成方法および放熱構造体 |
JP5522500B1 (ja) | 2012-07-04 | 2014-06-18 | Dic株式会社 | ヒートシール剤、それを用いた積層体及び太陽電池モジュール |
US8587945B1 (en) | 2012-07-27 | 2013-11-19 | Outlast Technologies Llc | Systems structures and materials for electronic device cooling |
WO2014021980A1 (en) | 2012-07-30 | 2014-02-06 | Dow Corning Corporation | Thermally conductive condensation reaction curable polyorganosiloxane composition and methods for the preparation and use of the composition |
GB201220099D0 (en) | 2012-09-19 | 2012-12-26 | Dow Corning | Production of blend of polyolefin and organopolysiloxane |
JP5944306B2 (ja) | 2012-12-21 | 2016-07-05 | コスモ石油ルブリカンツ株式会社 | 高熱伝導性グリース |
CN103087389B (zh) | 2013-01-31 | 2015-06-10 | 合肥工业大学 | 一种高导热高韧性复合材料及其制备方法 |
US9593275B2 (en) | 2013-02-11 | 2017-03-14 | Dow Corning Corporation | In situ method for forming thermally conductive thermal radical cure silicone composition |
JP5372270B1 (ja) | 2013-02-19 | 2013-12-18 | ビッグテクノス株式会社 | 熱放射性フィルム及び熱放射性粘着テープ |
JP6263042B2 (ja) | 2013-02-28 | 2018-01-17 | コスモ石油ルブリカンツ株式会社 | 基油拡散防止性能を有する熱伝導性グリース |
CN103102552A (zh) | 2013-03-12 | 2013-05-15 | 泰山体育产业集团有限公司 | 一种相变保温聚烯烃泡沫材料及其制备方法 |
WO2014160067A1 (en) | 2013-03-14 | 2014-10-02 | Dow Corning Corporation | Thermally curable silicone compositions as temporary bonding adhesives |
US9070660B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-06-30 | Intel Corporation | Polymer thermal interface material having enhanced thermal conductivity |
CN103214848B (zh) | 2013-04-28 | 2015-07-22 | 深圳市新亚新材料有限公司 | 一种用于cpu散热的相变导热硅脂组合物及其制备方法 |
CN103333447A (zh) | 2013-06-26 | 2013-10-02 | 苏州天脉导热科技有限公司 | 一种相变化热界面材料及其制备方法 |
JP6436081B2 (ja) | 2013-07-16 | 2018-12-12 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、フィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ及び半導体装置 |
CN103409116B (zh) | 2013-07-30 | 2015-07-22 | 深圳德邦界面材料有限公司 | 一种绝缘增强型导热界面材料及其制备方法 |
CN103436027B (zh) | 2013-09-09 | 2015-10-28 | 北京化工大学 | 一种导热电绝缘硅橡胶热界面材料及其制备方法 |
US20150125646A1 (en) | 2013-11-05 | 2015-05-07 | Espci Innov | Self-Healing Thermally Conductive Polymer Materials |
WO2015068551A1 (ja) | 2013-11-08 | 2015-05-14 | リンテック株式会社 | 保護膜形成用組成物、保護膜形成用シート、及び保護膜付きチップ |
JP2015097134A (ja) | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 日東電工株式会社 | 回路付サスペンション基板 |
CN103756631B (zh) | 2013-11-28 | 2015-06-03 | 常熟市恒信粘胶有限公司 | 双组份自粘性加成型阻燃导热室温固化有机硅灌封胶 |
EP3077578A4 (en) | 2013-12-05 | 2017-07-26 | Honeywell International Inc. | Stannous methansulfonate solution with adjusted ph |
CN104152103B (zh) | 2013-12-23 | 2016-08-17 | 郑州中原应用技术研究开发有限公司 | 一种加成型双组分导热灌封胶及其制备方法 |
CN103709757A (zh) | 2013-12-30 | 2014-04-09 | 无锡中石油润滑脂有限责任公司 | 一种绝缘导热硅脂及其制备方法 |
CN104449550B (zh) | 2013-12-31 | 2016-08-17 | 弗洛里光电材料(苏州)有限公司 | 有机硅组合物及其应用 |
CN103773322A (zh) | 2014-02-08 | 2014-05-07 | 中国电子科技集团公司第三十三研究所 | 一种相变微胶囊导热材料及其制备方法 |
KR20160122172A (ko) | 2014-02-13 | 2016-10-21 | 허니웰 인터내셔날 인코포레이티드 | 압축성 열전도 재료 |
CN103865271B (zh) | 2014-03-20 | 2017-04-05 | 北京化工大学 | 一种纳米杂化材料改性的有机硅导热电子灌封胶的制备方法 |
CN103849356A (zh) | 2014-03-20 | 2014-06-11 | 中国电子科技集团公司第三十三研究所 | 一种电气绝缘相变导热材料及其制备方法 |
JP6348434B2 (ja) | 2014-03-28 | 2018-06-27 | 信越化学工業株式会社 | シリコーン粘着剤組成物、その製造法及び粘着フィルム |
US20150334871A1 (en) | 2014-05-19 | 2015-11-19 | Laird Technologies, Inc. | Thermal interface materials with thin film sealants |
CN104140678B (zh) | 2014-06-29 | 2017-04-12 | 惠州市永卓科技有限公司 | 一种具有自粘性的导热硅脂及其制备方法 |
CN104098914B (zh) | 2014-07-02 | 2017-09-29 | 深圳市安品有机硅材料有限公司 | 有机硅导热界面材料 |
MX2016016984A (es) | 2014-07-07 | 2017-05-03 | Honeywell Int Inc | Material de interconexion termica con depurador ionico. |
CN106605310B (zh) | 2014-09-01 | 2019-11-01 | 株式会社钟化 | 汽车用led灯散热器 |
KR102185645B1 (ko) | 2014-09-22 | 2020-12-02 | 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 | 과분지화된 올레핀성 유체 기반의 열 그리스 |
WO2016063540A1 (ja) | 2014-10-23 | 2016-04-28 | 株式会社カネカ | Ledランプヒートシンク |
US10287471B2 (en) | 2014-12-05 | 2019-05-14 | Honeywell International Inc. | High performance thermal interface materials with low thermal impedance |
CN104513487B (zh) | 2014-12-10 | 2017-05-10 | 东莞兆舜有机硅科技股份有限公司 | 一种双组分导热硅凝胶及其用途 |
CN104497574A (zh) | 2014-12-10 | 2015-04-08 | 深圳市博恩实业有限公司 | 多功能有机硅热界面材料 |
WO2016103424A1 (ja) | 2014-12-25 | 2016-06-30 | ポリマテック・ジャパン株式会社 | シリコーン組成物 |
US10431858B2 (en) | 2015-02-04 | 2019-10-01 | Global Web Horizons, Llc | Systems, structures and materials for electrochemical device thermal management |
CN104804705A (zh) | 2015-05-06 | 2015-07-29 | 成都拓利化工实业有限公司 | 低释气量加成型无卤阻燃导热有机硅灌封胶及其制备方法 |
CN104861661A (zh) | 2015-05-13 | 2015-08-26 | 浙江中天氟硅材料有限公司 | 一种低密度导热灌封胶及其制备方法 |
CN107532001B (zh) * | 2015-05-22 | 2021-05-25 | 迈图高新材料日本合同公司 | 导热性组合物 |
EP3305519B1 (en) | 2015-06-03 | 2021-06-30 | Kaneka Corporation | Metal resin composite |
EP3348618B1 (en) | 2015-09-09 | 2021-12-29 | Kaneka Corporation | Heat-conductive resin composition |
CN105111750A (zh) | 2015-09-09 | 2015-12-02 | 蓝星(成都)新材料有限公司 | 一种led灌封用有机硅密封胶 |
JP6497291B2 (ja) | 2015-10-14 | 2019-04-10 | 信越化学工業株式会社 | 絶縁放熱シート |
CN105349113A (zh) | 2015-10-14 | 2016-02-24 | 文雪烽 | 一种导热界面材料 |
US10312177B2 (en) | 2015-11-17 | 2019-06-04 | Honeywell International Inc. | Thermal interface materials including a coloring agent |
CN105419339A (zh) | 2015-12-01 | 2016-03-23 | 江苏晶河电子科技有限公司 | 一种高性能硅基导热凝胶及其制备方法 |
CN105670555A (zh) | 2016-01-22 | 2016-06-15 | 何挺 | 一种高导热型的有机硅灌封胶 |
CN105925243A (zh) | 2016-05-23 | 2016-09-07 | 东莞珂洛赫慕电子材料科技有限公司 | 一种室温固化型高导热柔性硅胶 |
CN105838322A (zh) | 2016-05-26 | 2016-08-10 | 张学健 | 一种新型有机硅灌封胶 |
PT3839005T (pt) | 2016-10-12 | 2023-09-07 | Honeywell Int Inc | Materiais de interface térmica incluindo agente corante |
JP7129181B2 (ja) | 2017-03-17 | 2022-09-01 | 旭化成株式会社 | ヘッドマウントディスプレイ用部材 |
CN107057370A (zh) | 2017-05-18 | 2017-08-18 | 平湖阿莱德实业有限公司 | 一种高导热填隙界面材料及其制备方法 |
US11041103B2 (en) | 2017-09-08 | 2021-06-22 | Honeywell International Inc. | Silicone-free thermal gel |
-
2017
- 2017-07-05 US US15/642,082 patent/US10501671B2/en active Active
- 2017-07-11 CN CN201780041122.7A patent/CN109417061B/zh active Active
- 2017-07-11 BR BR112019000641-9A patent/BR112019000641B1/pt active IP Right Grant
- 2017-07-11 WO PCT/US2017/041498 patent/WO2018022293A2/en unknown
- 2017-07-11 EP EP17834952.8A patent/EP3491666A4/en active Pending
- 2017-07-11 JP JP2018568724A patent/JP2019525979A/ja active Pending
- 2017-07-11 MX MX2019000504A patent/MX2019000504A/es unknown
- 2017-07-11 KR KR1020197001427A patent/KR102330536B1/ko active IP Right Grant
- 2017-07-25 TW TW106124929A patent/TWI732006B/zh active
-
2021
- 2021-01-14 JP JP2021003897A patent/JP2021064809A/ja active Pending
-
2023
- 2023-02-01 JP JP2023013777A patent/JP2023055838A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06209057A (ja) * | 1992-02-21 | 1994-07-26 | Toshiba Corp | 高熱伝導性放熱体およびその製造方法 |
JP2000204259A (ja) * | 1999-01-11 | 2000-07-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 放熱部材 |
JP2005325211A (ja) * | 2004-05-13 | 2005-11-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 熱伝導性シリコーンゴム組成物及び成型品 |
JP2011144234A (ja) * | 2010-01-13 | 2011-07-28 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 熱伝導性樹脂組成物 |
WO2012067247A1 (ja) * | 2010-11-18 | 2012-05-24 | 電気化学工業株式会社 | 高耐久性熱伝導性組成物及び低脱油性グリース |
JP2012201106A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 熱伝導性成形体とその用途 |
JP2016506992A (ja) * | 2013-02-11 | 2016-03-07 | ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation | クラスタ化官能性ポリオルガノシロキサン、これを生成するプロセス、及びこれを使用する方法 |
JP2016216523A (ja) * | 2015-05-14 | 2016-12-22 | デンカ株式会社 | 熱伝導性グリース用組成物、熱伝導性グリースおよび放熱部材 |
JP2019522711A (ja) * | 2016-07-26 | 2019-08-15 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドHoneywell International Inc. | ゲルタイプ熱界面材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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CN109417061A (zh) | 2019-03-01 |
JP2023055838A (ja) | 2023-04-18 |
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