JP2012093690A - 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(A)中空又は多孔質粒子、(B)活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物、及び(C)前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する化合物を含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス及び電子デバイス。
【選択図】なし
Description
即ち、本発明は、屈折率が低く、更には、現像残渣が少なく、ドライエッチング耐性に優れたパターンを高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供することを目的とする。
[2] 前記中空又は多孔質粒子の屈折率が1.10〜1.40である、上記[1]に記載の感光性組成物。
[3] 前記化合物(C)が、前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少する化合物である、上記[1]又は[2]に記載の感光性組成物。
[4] 前記化合物(C)が、アルカリ可溶性基を有するバインダー樹脂である、上記[1]〜[3]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[5] 前記バインダー樹脂が、更に、重合性基を有する、上記[4]に記載の感光性組成物。
[6] 更に、(D)重合性化合物を含有する、上記[1]〜[5]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[7] 更に、(A’)粒子分散剤を含有する、上記[1]〜[6]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[8] マイクロレンズの被覆用途に使用される上記[1]〜[7]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[9] 上記[1]〜[8]のいずれか1項に記載の感光性組成物であるパターン形成材料。
[10] 上記[1]〜[8]のいずれか1項に記載の感光性組成物により形成される感光性膜。
[11] 上記[10]に記載の感光性膜を形成する工程、前記感光性膜を露光する工程、及び、アルカリ現像液により現像してパターン膜を得る現像工程を含むパターン形成方法。
[12] 前記現像工程後、更に、前記パターン膜をエッチングする工程を含む上記[11]に記載のパターン形成方法。
[13] 上記[11]又は[12]に記載のパターン形成方法により得られるパターン膜。
[14] 上記[13]に記載のパターン膜である低屈折率膜。
[15] 上記[14]に記載の低屈折率膜を有する光学デバイス。
[16] 上記[15]に記載の光学デバイスを備えた固体撮像素子。
[17] 前記化合物(C)が、前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物である、上記[1]、[2]、[7]及び[8]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[18] 前記化合物(B)が、光重合開始剤である、上記[1]〜[8]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[19] 前記化合物(B)が、光酸発生剤である、上記[1]、[2]、[7]、[8]及び[17]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[20] 前記中空又は多孔質粒子(A)が中空粒子である、上記[1]〜[8]、[17]〜[19]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[21] 前記中空又は多孔質粒子(A)がシリカ粒子である、上記[1]〜[8]、[17]〜[20]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
なお、本明細書に於ける基(原子団)の表記に於いて、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
また本明細書中における「活性光線」又は「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X線、電子線等を意味する。また本発明において光とは、活性光線又は放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、X線、EUV光などによる露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
更に、その作用は不明であるが、中空又は多孔質粒子(A)と化合物(C)とを組み合わせて使用することが、何らかしらの理由で、現像残渣の抑制に寄与しているものと推察される。
また、本発明は、上記感光性組成物であるパターン形成材料にも関する。
中空粒子は、内部に空洞を有する構造のものであり、外郭に包囲された空洞を有する粒子を指し、多孔質粒子は、多数の空洞を有する多孔質の粒子を指す。
中空又は多孔質粒子は、より良好なドライエッチング耐性が得られるという観点から、多孔質粒子であることが好ましい。
このような粒子の空隙率は、好ましくは10〜80体積%、更に好ましくは20〜60体積%、最も好ましくは30〜60体積%である。中空又は多孔質粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。
中空又は多孔質粒子は、屈折率を低下しやすい観点から、中空粒子であることがより好ましい。例えば、中空粒子をシリカで構成した場合には、中空シリカ粒子は、屈折率の低い空気(屈折率=1.0)を有しているため、その屈折率は、通常のシリカ(屈折率=1.46)と比較して著しく低くなる。
中空又は多孔質粒子の平均粒子径は、分散した粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。粒子の投影面積を求め、そこから円相当径を求め平均粒径とする(通常、平均粒径を求めるために300個以上の粒子について測定する)。
ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、粒子が中空粒子である場合、中空粒子を形成している外殻のみの屈折率を表すものではない。粒子が多孔質粒子である場合、多孔質粒子の屈折率は、アッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定することができる。
これらの無機粒子の一次粒子径は、1〜100nmであることが好ましく、1〜60nmであることがより好ましい。
無機粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球形状が最も好ましいが、数珠状、長径と短径の比が1以上の形状、あるいは不定形状であってもよい。
すなわち、無機粒子がシリカ粒子であり、カップリング剤がシラン化合物である場合、シラン化合物とシラノール基との反応により、オルガノシリル基(モノオルガノシリル、ジオルガノシリル、トリオルガノシリル基)がシリカ粒子の表面に結合するものである。表面処理されたシリカ粒子がその表面に有する有機基としては、飽和又は不飽和の炭素数1〜18の炭化水素基、炭素数1〜18のハロゲン化炭化水素基などが挙げられる。
上記カップリング剤は、無機粒子の表面処理剤として低屈折率膜用塗布液の調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられても、塗布液調製時に更に添加剤として添加してもよい。
無機粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
例えば日揮触媒化成(株)製スルーリアシリーズ(イソプロパノール(IPA)分散、4−メチル−2−ペンタノン(MIBK)分散など)、OSCALシリーズ、日産化学(株)製スノーテックスシリーズ(IPA分散、エチレングリコール分散、メチルエチルケトン(MEK)分散、ジメチルアセトアミド分散、MIBK分散、プロピレングリコールモノメチルアセテート分散、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散、メタノール分散、酢酸エチル分散、酢酸ブチル分散、キシレン−n−ブタノール分散、トルエン分散など)、日鉄鉱業(株)製シリナックス、扶桑化学工業(株)製PLシリーズ(IPA分散、トルエン分散、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散、メチルエチルケトン分散など)、EVONIK社製アエロジルシリーズ(プロピレングリコールアセテート分散、エチレングリコール分散、MIBK分散など)、EVONIK社製AERODISPシリーズなどのシリカ粒子を用いることができる。
本発明の感光性組成物は、中空又は多孔質粒子の分散性を向上させる観点から、更に、(A’)粒子分散剤を含有することが好ましい。
分散樹脂は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
また、分散樹脂は、化合物(C)において後述する一般式(E−1)で表される化合物を共重合体として使用することにより得られる樹脂であってもよい。
また、フォスファノール ML−200、エマール20T、E−27、ネオペレックスGS、ペレックスNBL、SS−H、SS−L、ポイズ532A、ラムテルASK、E−118B、E−150(花王(株))、EMULSOGEN COL−020、070、080(クラリアント)、プライサーフ A208B、A210B、A210G、A219B、AL、ラベリンFC−45(第一工業製薬)、パイオニン A−24−EA、A−28−B、A−29−M、A−44−B、A−44TW(竹本油脂)、AKYPO RLM100NV、RLM45、RLM45NV、ECT−3、ECT−3NEX、ECT−7、ホステンHLP、HLP−1、HLP−TEA(日本サーファクタント工業)が挙げられる。
これらの粒子分散剤は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
具体的には、粒子分散剤が分散樹脂である場合、その使用量は、中空又は多孔質粒子に対して、5〜100質量%であることが好ましく、10〜80質量%であることがより好ましい。
本発明の感光性組成物は、(B)活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物を含有する。
化合物(B)を含有することによって感光性が付与された本発明の感光性組成物は、フォトレジスト、カラーレジスト、光学用コーティング材料等に好適に用いることができるようになる。
化合物(B)としては、感光性組成物がネガ型である場合は光重合開始剤を、感光性組成物がポジ型である場合は光酸発生剤を、それぞれ、好適に挙げることができる。すなわち、上記活性種としては、感光性組成物がネガ型である場合はラジカル、カチオン種又はアニオン種(より好ましくはラジカル又はカチオン種)を、感光性組成物がポジ型である場合は酸を、それぞれ、好適に挙げることができる。
以下、光重合開始剤及び光酸発生剤について、詳細に説明する。
光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができ、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましく、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、光重合開始剤は、約200〜800nm(300〜450nmがより好ましい。)の範囲内に少なくとも約50の分子吸光係数を有する成分を少なくとも1種含有していることが好ましい。
光ラジカル重合開始剤においては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体(例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、など)、ヘキサアリールビイミダゾール化合物類、ロフィンダイマー類、ベンゾイン類、ケタール類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、有機過酸化物、チオ化合物、ジスルフィド化合物類、アゾ化合物、ホウ酸塩類、無機錯体、クマリン類、ケトン化合物(ベンゾフェノン類、チオキサントン類、チオクロマノン類、アントラキノン類)、芳香族オニウム塩、フルオロアミン化合物類、ケトオキシムエーテル、アセトフェノン類(アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノン化合物)、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、オキシム誘導体等のオキシム化合物、などが挙げられるが感度、解像性の観点からオキシム化合物であることが好ましい。
上記Rv1としてのアルキル基及びアルコキシ基、Rv2及びRv3としてのアルキル基、並びに、Rv2とRv3とが結合して形成される環は、更に置換基を有していてもよい。
また、市販のα−ヒドロキシアセトフェノン化合物として、BASFジャパン社製からイルガキュア184(IRGACURE 184)、ダロキュア1173(DAROCURE 1173)、イルガキュア127(IRGACURE 127)、イルガキュア2959(IRGACURE 2959)、イルガキュア1800(IRGACURE 1800)、イルガキュア1870(IRGACURE 1870)及びダロキュア4265(DAROCURE 4265)の商品名で入手可能な重合開始剤も使用することができる。
市販品ではIRGACURE−OXE01(BASFジャパン社製)、IRGACURE−OXE02(BASFジャパン社製)も好適に用いられる。
更に、特開2007−231000公報、及び、特開2007−322744公報に記載される環状オキシム化合物も好適に用いることができる。
最も好ましくは、特開2007−269779公報に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開2009−191061公報に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物が挙げられる。
具体的には、オキシム化合物としては、下記式(I)で表される化合物が好ましい。なお、オキシム結合のN−O結合が(E)体のオキシム化合物であっても、(Z)体のオキシム化合物であっても、(E)体と(Z)体との混合物であってもよい。
前記Rで表される一価の置換基としては、一価の非金属原子団であることが好ましい。
前記一価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、1以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。
置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。
具体的には、チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、ナフト[2,3−b]チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H−インドリル基、インドリル基、1H−インダゾリル基、プリニル基、4H−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH−カルバゾリル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、及び、チオキサントリル基が例示できる。
下記の構造中、Y、X、及び、nは、それぞれ、後述する式(II)におけるY、X、及び、nと同義であり、好ましい例も同様である。
中でも、Aとしては、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、無置換のアルキレン基、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基)で置換されたアルキレン基、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基)で置換されたアルキレン基、アリール基(例えば、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、スチリル基)で置換されたアルキレン基が好ましい。
なかでも、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換又は無置換のフェニル基が好ましい。
式(II)におけるR、A、及びArは、前記式(I)におけるR、A、及びArと同義であり、好ましい例も同様である。
また、式(2)におけるnは、0〜5の整数を表し、0〜2の整数が好ましい。
式(III)におけるR、X、A、Ar、及び、nは、前記式(II)におけるR、X、A、Ar、及び、nとそれぞれ同義であり、好ましい例も同様である。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計(Varian社製Carry−5 spctrophotometer)にて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。
光カチオン重合開始剤としては、例えば、紫外線等のエネルギー線を受けることにより光カチオン重合を開始させる物質を生成する化合物であれば良く、オニウム塩が好ましく、芳香族オニウム塩がより好ましく、アリールスルホニウム塩及びアリールヨウドニウム塩が更に好ましい。
光酸発生剤としては、上記光カチオン重合開始剤を用いることができるが、好ましくはオニウム塩の対アニオンがスルホネートの場合である。
本発明の感光性組成物は、(C)活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する化合物を含有する。
化合物(C)としては、感光性組成物がネガ型である場合は、活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少する化合物を、感光性組成物がポジ型である場合は、活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物を、それぞれ、挙げることができる。
活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少する化合物は、未露光部においてアルカリ現像液に対する現像性を示すのみならず、中空又は多孔質粒子を膜中に分散させる観点から、バインダー樹脂(以下、現像性バインダー樹脂とも言う)であることが好ましい。
現像性バインダー樹脂としては、アルカリ可溶性であるとともに、活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少する樹脂であれば特には限定されないが、耐熱性、現像性、硬化性、入手性等の観点から選ばれることが好ましい。ここで、「アルカリ可溶性」とは、アルカリ現像液に対して可溶性を示すことのみならず、アルカリ現像液に対して膨潤性を示すことも含まれる。
このような現像性バインダー樹脂は、アルカリ可溶性基を有するバインダー樹脂であることが好ましい。
酸基としては、特に制限されないが、例えば、カルボキシル基、活性メチレン基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基、カルボン酸無水基等が挙げられ、カルボキシル基、活性メチレン基が好ましく、カルボン酸基がより好ましい。これら酸基は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。バインダー樹脂に酸基を導入するには、例えば、酸基を有するモノマー及び/又は重合後に酸基を付与しうるモノマー(以下「酸基を導入するための単量体」と称することもある。)を、単量体成分として重合するようにすればよい。
なお、重合後に酸基を付与しうるモノマーを単量体成分として酸基を導入する場合には、重合後に例えば後述するような酸基を付与するための処理が必要となる。
前記酸基を有するモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸やイタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマー、N−ヒドロキシフェニルマレイミド等のフェノール性水酸基を有するモノマー、無水マレイン酸、無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマー等が挙げられるが、これらの中でも特に、(メタ)アクリル酸が好ましい。
前記重合後に酸基を付与しうるモノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の水酸基を有するモノマー、グリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基を有するモノマー、2−イソシアナートエチル(メタ)アクリレート等のイソシアネート基を有するモノマー等が挙げられる。これら酸基を導入するための単量体は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。
重合後に酸基を付与しうるモノマーを用いる場合において、重合後に酸基を付与するための処理としては、ポリマー側鎖の極性基の一部を、ポリマー反応により変性する処理が挙げられる。
また、現像性バインダー樹脂としては、側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体を用いることもできる。この他に、水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
また、特公平7−12004号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号、特開平11−352691号等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーや、特開2002−107918に記載される酸基と二重結合を側鎖に有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、好適である。
また、硬化皮膜の強度を上げるために、アルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。
これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して用いられる。
これらのラジカル重合開始剤は、モノマー100質量部に対して、好ましくは1質量部〜20質量部使用される。
R4〜R6は各々独立に、水素原子又は1価の置換基を表すが、R4としては、例えば、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、中でも、水素原子、メチル基、エチル基が好ましい。また、R5、R6としては、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有しもよいアリール基が好ましい。ここで、導入しうる置換基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピオキシカルボニル基、メチル基、エチル基、フェニル基等が挙げられる。
G1は、2価の連結基を表すが、置換基を有してもよいアルキレン基が好ましい。より好ましくは、炭素数1〜20の置換基を有してもよいアルキレン基、炭素数3〜20の置換基を有してもよいシクロアルキレン基、炭素数6〜20の置換基を有してもよい芳香族基などが挙げられ、中でも、置換基を有してもよい炭素数1〜10の直鎖状或いは分岐アルキレン基、炭素数3〜10の置換基を有してもよいシクロアルキレン基、炭素数6〜12の置換基を有してもよい芳香族基が強度、現像性等の性能上、好ましい。
R10〜R12は、各々独立に1価の有機基を表すが、この有機基としては、具体的には例えば、水素原子、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
ここで、導入可能な置換基としては、一般式(21)において挙げたものが同様に例示される。
G2は、2価の連結基を表すが、置換基を有してもよいアルキレン基が好ましい。好ましくは、炭素数1〜20の置換基を有してもよいアルキレン基、炭素数3〜20の置換基を有してもよいシクロアルキレン基、炭素数6〜20の置換基を有してもよい芳香族基などが挙げられ、中でも、置換基を有してもよい炭素数1〜10の直鎖状或いは分岐アルキレン基、炭素数3〜10の置換基を有してもよいシクロアルキレン基、炭素数6〜12の置換基を有してもよい芳香族基が強度、現像性等の性能上、好ましい。
ここで、G2における置換基としては、水素原子がヘテロ原子に結合した基の中でも水酸基を除くもの、例えば、アミノ基、チオール基、カルボキシル基を含まないものが好ましい。
Yは、酸素原子、硫黄原子、−N(R23)−又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。ここで、R23としては、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。
R16〜R20は、各々独立に1価の有機基を表すが、R16〜R20は、例えば、水素原子、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。導入しうる置換基としては、一般式(1)においてあげたものが例示される。
A3は、酸素原子、硫黄原子、又は−N(R21)−を表し、Zは、酸素原子、硫黄原子、又は−N(R22)−を表す。R21、R22としては、一般式(21)におけるのと同様のものが挙げられる。
ここで、G3における置換基としては、水素原子がヘテロ原子に結合した基の中でも水酸基を除くもの、例えば、アミノ基、チオール基、カルボキシル基を含まないものが好ましい。
また、現像性バインダー樹脂が重合性基を有する場合であって、重合性基が不飽和基である場合、光感度向上の観点から、現像性バインダー樹脂の不飽和価は、0.5mmol/g以上が好ましく、更に0.7mmol/g以上が好ましく、1.0mmol/g以上が最も好ましい。また、解像性の観点から1.8mmol/g以下であることが好ましく、1.5mmol/g以下であることがより好ましい。
ここで、不飽和価とは、バインダー樹脂1gあたりの不飽和結合のミリモル数を意味する。
現像性バインダー樹脂の不飽和当量を0.5mmol/g以上とすることにより、つまり、この樹脂中において不飽和二重結合数が増加することにより、光重合性、感度が向上し、更に、この重合性向上により、支持体などの固体表面への密着性や含有する中空又は多孔質粒子の固定化性も向上し、結果として、現像におけるパターン膜中の中空又は多孔質粒子の欠損が少なく、テーパー状〜矩形状の断面形状を有するパターンが得られ易い傾向となり、好ましい。
Rc31は、水素原子、アルキル基、シアノ基又は−CH2−O−Rac2基を表す。式中、Rac2は、水素原子、アルキル基又はアシル基を表す。
Rc32は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基を有する基を表す。これらの基はシアノ基で置換されていても良い。
但し、Rc31、Rc32の少なくとも一つはシアノ基を含む。
Lc3は、単結合又は2価の連結基を表す。
シクロアルキル基は、炭素数3〜20のシクロアルキル基が好ましい。
アルケニル基は、炭素数3〜20のアルケニル基が好ましい。
シクロアルケニル基は、炭素数3〜20のシクロアルケニル基が好ましい。
Rc32は無置換のアルキル基が好ましい。
Lc3の2価の連結基は、アルキレン基(好ましくは炭素数1〜5)、オキシ基、エステル結合(−COO−で表される基)が好ましい。
好ましい架橋環式炭化水素環として、ノルボルニル基、アダマンチル基、ビシクロオクタニル基、トリシクロ[5、2、1、02,6]デカニル基、などが挙げられる。より好ましい架橋環式炭化水素環としてノルボニル基、アダマンチル基が挙げられる。
前記エーテルダイマーを示す前記一般式(E−1)中、R1及びR2で表される炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、t−アミル基、ステアリル基、ラウリル基、2−エチルヘキシル基、等の直鎖状又は分岐状のアルキル基;フェニル基等のアリール基;シクロヘキシル基、t−ブチルシクロヘキシル基、ジシクロペンタジエニル基、トリシクロデカニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、2−メチル−2−アダマンチル基、等の脂環式基;1−メトキシエチル基、1−エトキシエチル基、等のアルコキシで置換されたアルキル基;ベンジル基等のアリール基で置換されたアルキル基;等が挙げられる。
これらの中でも特に、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等のような酸や熱で脱離しにくい1級又は2級炭素を含む基が耐熱性の点で好ましい。
なお、R1及びR2は、同種の置換基であってもよいし、異なる置換基であってもよい。
活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物は、露光部においてアルカリ現像液に対する現像性を示すのみならず、中空又は多孔質粒子を膜中に分散させる観点から、前記と同様に、バインダー樹脂(この樹脂についても、以下、現像性バインダー樹脂とも言う)であることが好ましい。
すなわち、この現像性バインダー樹脂は、アルカリ不溶性であるとともに、活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂であり、公知のものをいずれも使用できる。
本発明の感光性組成物は、更に、重合性化合物(重合性基を有する現像性バインダー樹脂は、当該重合性化合物(D)には含めない)を含有していても良い。重合性化合物は、感光性組成物をネガ型に構成する場合に主として含まれる。特に、前記化合物(C)が重合性基を有していない場合、感光性組成物は、更に、重合性化合物(D)を有することが好ましい。
以下、重合性化合物について説明する。
これらの具体的な化合物としては、特開2009−288705号公報の段落番号0095〜段落番号0108に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。
上記一般式(MO−1)〜(MO−5)で表されるラジカル重合性モノマーの各々において、複数のRの内の少なくとも1つは、−OC(=O)CH=CH2、又は、−OC(=O)C(CH3)=CH2で表される基を表す。
上記一般式(MO−1)〜(MO−5)で表される、ラジカル重合性モノマーの具体例としては、特開2007−269779号公報の段落番号0248〜段落番号0251に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。
本発明の感光性組成物は、一般には、有機溶剤を含有する。有機溶剤は、各成分の溶解性や感光性組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はないが、特に紫外線吸収剤、バインダーの溶解性、塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。
本発明の感光性組成物は、組成物を用いて得られる膜の特性(耐熱性、機械強度、塗布性、密着性等)を損なわない範囲で、界面活性剤、密着促進剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、凝集防止剤、増感剤などの添加剤を添加してもよい。
本発明の感光性組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する感光性組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
界面活性剤は、1種のみを用いてもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。
感光性組成物は、界面活性剤を含んでも含まなくてもよいが、含む場合、界面活性剤の含有量は、本発明の感光性組成物の全固形分質量に対して、0.001質量%以上1質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以上0.1質量%以下であることがより好ましい。
本発明の感光性組成物は、本発明の目的を損なわない範囲で、いかなる密着促進剤を含有していてもよい。密着促進剤としては、例えば、3−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、1−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノグリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。他には、特開2008−243945号公報の段落番号[0048]に記載の化合物が使用される。
本発明の感光性組成物は、密着促進剤を含有してもしなくても良いが、含有する場合、密着促進剤の好ましい使用量は、特に制限されないが、通常、組成物中の全固形分に対して、10質量%以下、特に0.005〜5質量%であることが好ましい。
本発明の感光性組成物は、該感光性組成物の製造中又は保存中において、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために、少量の重合禁止剤を添加してもよい
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
重合禁止剤の含有量は、感光性組成物の全固形分に対して、0.0005質量%〜5質量%であることが好ましい。
本発明の感光性組成物は、紫外線吸収剤を含有しても良い。
紫外線吸収剤としては、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、トリアジン系の紫外線吸収剤を使用することができる。
サリシレート系紫外線吸収剤の例としては、フェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレートなどが挙げられ、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例としては、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−アミル−5’−イソブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−イソブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−イソブチル−5’−プロピルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチル)フェニル]ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
本発明においては、前記各種の紫外線吸収剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
感光性組成物は、紫外線吸収剤を含んでも含まなくてもよいが、含む場合、紫外線吸収剤の含有量は、本発明の感光性組成物の全固形分質量に対して、0.001質量%以上1質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以上0.1質量%以下であることがより好ましい。
本発明の感光性組成物は、低屈折率材料に代表される種々の用途に用いることができ、その目的に応じて各成分の含有量や添加する添加剤などの種類が決められる。
感光性組成物は、各種膜を形成するために用いられることが好ましく、低屈折率膜を形成するために用いられることが特に好ましい。
本発明のパターン形成方法は、感光性膜を形成する工程、前記感光性膜を露光する工程、及び、アルカリ現像液により現像してパターン膜を得る現像工程を含む。
ここで、感光性膜は、本発明の感光性組成物から形成される。
また、本発明は、このパターン形成方法により得られるパターン膜にも関する。
本発明の感光性組成物から形成される感光性膜の形成方法は特に限定されないが、例えば、感光性組成物をスピンコーティング法、ローラーコーティング法、ディップコーティング法、スキャン法、スプレー法、バー塗布法、インクジェット法等の任意の方法により、基板に塗布した後、溶媒を必要に応じて加熱処理で除去して塗膜(感光性膜)を形成し、プリベーク処理を施すことにより形成することができる。
基板としては、シリコンウエハ基板、SiO2ウエハ基板、SiNウエハ基板、ガラス基板、又は、これらの表面に各種金属層が形成された基板や、プラスチックフィルム、マイクロレンズ、イメージセンサー用オンチップカラーフィルターが塗布された基板などを挙げることができる。
洗浄液としては、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、又はアルキレングリコールモノアルキルエーテルを用いることが好ましい。
洗浄液として用いうるこれら溶剤は、単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
溶剤を2種以上を混合する場合、水酸基を有する溶剤と水酸基を有しない溶剤とを混合してなる混合溶剤が好ましい。水酸基を有する溶剤と水酸基を有しない溶剤との質量比は、1/99〜99/1、好ましくは10/90〜90/10、更に好ましくは20/80〜80/20である。混合溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)とプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)の混合溶剤で、その比率が60/40であることが特に好ましい。
なお、感光性組成物に対する洗浄液の浸透性を向上させるために、洗浄液には、感光性組成物が含有しうる界面活性剤として前掲した界面活性剤を添加してもよい。
この露光に適用し得る活性光線又は放射線としては、赤外光、g線、h線、i線、KrF光、ArF光、X線、電子線等を挙げることができる。露光量、感度、解像度の観点から、i線、KrF光、ArF光、電子線が好ましく、更に汎用性の観点から、i線、KrF光が最も好ましい。照射光にi線を用いる場合、100mJ/cm2〜10000mJ/cm2の露光量で照射することが好ましい。KrF光を用いる場合は、30mJ/cm2〜300mJ/cm2の露光量で照射することが好ましい。
また、露光した組成物層は、必要に応じて、次の現像処理前にホットプレートやオーブンを用いて、70℃〜180℃で、0.5分間〜15分間程度加熱することができる。
更に、上記アルカリ性水溶液にアルコール類、界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。
アルカリ現像液のアルカリ濃度は、通常0.1〜20質量%である。
アルカリ現像液のpHは、通常10.0〜15.0である。
特に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの0.3%質量の水溶液が望ましい。
上記各種の現像方法が、現像装置の現像ノズルから現像液を感光性膜に向けて吐出する工程を含む場合、吐出される現像液の吐出圧(吐出される現像液の単位面積あたりの流速)は好ましくは2mL/sec/mm2以下、より好ましくは1.5mL/sec/mm2以下、更に好ましくは1mL/sec/mm2以下である。流速の下限は特に無いが、スループットを考慮すると0.2mL/sec/mm2以上が好ましい。
吐出される現像液の吐出圧を上記の範囲とすることにより、現像後のレジスト残渣に由来するパターンの欠陥を著しく低減することができる。
このメカニズムの詳細は定かではないが、恐らくは、吐出圧を上記範囲とすることで、現像液が感光性膜に与える圧力が小さくなり、感光性膜・パターン膜が不用意に削られたり崩れたりすることが抑制されるためと考えられる。
なお、現像液の吐出圧(mL/sec/mm2)は、現像装置中の現像ノズル出口における値である。
このポストベークにおいて、加熱温度は、通常、120〜250℃、好ましくは160〜230℃である。また加熱時間は、加熱手段により異なるが、ホットプレート上で加熱する場合、通常、5〜30分間程度であり、オーブン中で加熱する場合、通常、30〜90分間程度である。
また、ポストベークに際しては、2回以上加熱するステップベーク法等を採用することもできる。
これにより、耐光性、耐気候性、膜強度が向上し、更に低屈折率性も向上させることができる場合がある。
高エネルギー線として、電子線を使用した場合のエネルギーは0.1〜50keVが好ましく、より好ましくは0.2〜30keV、特に好ましくは0.5〜20keVである。電子線の総ドーズ量は好ましくは0.01〜5μC/cm2、より好ましくは0.01〜2μC/cm2、特に好ましくは0.01〜1μC/cm2である。電子線を照射する際の基板温度は0〜500℃が好ましく、より好ましくは20〜450℃、特に好ましくは20〜400℃である。圧力は好ましくは0〜133kPa、より好ましくは0〜60kPa、特に好ましくは0〜20kPaである。
重合体の酸化を防止するという観点から、基板周囲の雰囲気はAr、He、窒素などの不活性雰囲気を用いることが好ましい。また、電子線との相互作用で発生するプラズマ、電磁波、化学種との反応を目的に酸素、炭化水素、アンモニアなどのガスを添加してもよい。電子線照射は複数回行ってもよく、この場合は電子線照射条件を毎回同じにする必要はなく、毎回異なる条件で行ってもよい。
ここで、エッチング工程のエッチング条件は、特に限定されず、目的に応じて、種々、設定可能であり、本明細書における「エッチング工程」とは、パターン膜の除去を目的とした工程のみならず、パターン膜の改質を目的とした工程も含むものである。
本発明において、上記エッチング工程は、パターン膜の改質を目的に行うエッチング工程であることが好ましい。ここで、パターン膜の改質を目的に行うエッチング工程とは、パターン膜の除去を目的としたエッチング条件が強いエッチング工程とは異なり、より弱いエッチング条件にて、パターン膜の機械的強度を大きく損なうことなく(例えば、パターン膜の形状を大きく変えることなく)、パターン膜の改質を行うことを目的とする工程である。
また、エッチング工程は、通常、プロセスガスを用いて実施される。プロセスガスとしては酸素(例えば10〜400ml/min.)を好適に挙げることができ、RFパワーは、例えば1.0〜7.0W/cm2、圧力は例えば1〜10Paが好適である。エッチング時間は、5秒〜60秒であることが好ましい。また、ガスは窒素やアルゴンを酸素と併用して用いても良い。
しかしながら、本発明のパターン膜は、上記したように、ドライエッチング耐性が優れている。より具体的には、本発明のパターン膜は、中空又は多孔質粒子(A)を含有しているため、膜のエッチング速度が遅い。よって、中空又は多孔質粒子(A)を含有しないパターン膜と比較して、本発明のパターン膜においてはエッチング工程を充分に実施できるため、機械的強度が保たれつつも、屈折率が大きく低下されたパターン膜を得ることができる。
よって、本発明は、上記した本発明のパターン形成方法により得られるパターン膜である低屈折率膜にも関する。
更に、本発明は、上記低屈折率膜を有する光学デバイスにも関する。
また、本発明は、このような光学デバイスを備えた固体撮像素子にも関する。
以下、このような低屈折率膜(例えば、反射防止膜)について詳述する。ただし、低屈折率膜における下記の各種物性の好ましい範囲は、特に低屈折率膜の用途においては好ましい範囲であるものの、その用途に限られたものではない。
上述した組成物を用いて得られるパターン膜は、優れた低屈折率性を示す。具体的には、パターン膜の屈折率(波長633nm、測定温度25℃)は、1.35以下であることが好ましく、1.23〜1.34であることがより好ましく、1.25〜1.33であることが特に好ましい。上記範囲内であれば、後述する反射防止膜として有用である。
上述した本発明の組成物を用いて得られるパターン膜の好適な使用態様として、反射防止膜が挙げられる。特に、光学デバイス(例えば、イメージセンサ用マイクロレンズ、プラズマディスプレイパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスなど)用の反射防止膜として好適である。
反射防止膜として使用した場合の反射率は低いほど好ましい。具体的には、450〜650nmの波長領域での鏡面平均反射率が3%以下であることが好ましく、2%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。なお、反射率は小さければ小さいほど好ましく、最も好ましくは0である。
反射防止膜のヘイズは、3%以下であることが好ましく、1%以下であることが更に好ましく、0.5%以下であることが最も好ましい。なお、反射率は小さければ小さいほど好ましく、最も好ましくは0である。
けてもよい。
以下に、多層型の場合の各層について詳述する。
低屈折率層は、上述のように本発明の組成物を用いて得られるパターン膜から構成される。低屈折率層の屈折率及び厚さについて説明する。
本発明の組成物を用いて得られるパターン膜の屈折率(波長633nm、測定温度25℃)、即ち、低屈折率膜(低屈折率層ともいう)の屈折率を1.35以下とすることが好ましい。この理由は、低屈折率膜の屈折率が1.35以下であることにより、高屈折率膜(高屈折率層ともいう)と組み合わせた場合に、反射防止効果を確実に発現させることができるためである。
低屈折率膜の屈折率を1.34以下とするのがより好ましく、1.33以下とするのが更に好ましい。なお、低屈折率膜を複数層設ける場合には、そのうちの少なくとも一層が上述した範囲内の屈折率の値を有していればよい。
低屈折率層の厚さについても特に制限されるものではないが、例えば、20〜300nmであることが好ましい。低屈折率層の厚さが20nm以上となると、下地としての高屈折率膜に対する密着力が確実に得られ、一方、厚さが300nm以下となると、光干渉が生じにくく、反射防止効果がより確実に得られやすい。従って、低屈折率層の厚さを20〜250nmとするのがより好ましく、20〜200nmとするのが更に好ましい。なお、より高い反射防止性を得るために、低屈折率層を複数層設けて多層構造とする場合には、その合計した厚さを20〜300nmとすればよい。
高屈折率層を形成するための硬化性組成物としては、特に制限されるものでないが、膜形成成分として、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド系樹脂、シアネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シロキサン樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせを含むことが好ましい。これらの樹脂であれば、高屈折率層として、強固な薄膜を形成することができ、結果として、反射防止膜の耐擦傷性を著しく向上させることができる。
しかしながら、通常、これらの樹脂単独での屈折率は1.45〜1.62であり、高い反射防止性能を得るには十分で無い場合がある。そのため、高屈折率の無機粒子、例えば金属酸化物粒子を配合することにより、屈折率1.70〜2.20とすることが好ましい。また、硬化形態としては、熱硬化、紫外線硬化、電子線硬化できる硬化性組成物を用いることができるが、より好適には生産性の良好な紫外線硬化性組成物が用いられる。
本発明の反射防止膜に用いるハードコート層の構成材料については特に制限されるものでない。このような材料としては、シロキサン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせを挙げることができる。
本発明の低屈折率膜に用いる基板の種類は特に制限されるものではないが、例えば、ガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、トリアセチルセルロース樹脂(TAC)等からなる透明基板及びシリコンウエハを挙げることができる。これらの基板を含む反射防止膜とすることにより、カメラのレンズ部、テレビ(CRT)の画面表示部、液晶表示装置におけるカラーフィルターあるいは撮影素子等の広範な反射防止膜の利用分野において、優れた反射防止効果を得ることができる。
下記表1に示す成分を下記表1に示す溶媒に溶解させ、孔径0.2μmのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過して、実施例1〜13並びに比較例1及び2の感光性組成物を調製した。
表1中の化合物(B)、化合物(C)(ただし、(C−10)は除く)及び化合物(D)における記号は、各成分の具体例として、前述したものに対応する。
また、化合物(B)として、BASFジャパン社製のIRGACURE−OXE01、IRGACURE−OXE02及びIRGACURE−907を使用した。
シリナックスSP−PN(b): 日鉄鉱業社製の中空シリカの粉末
スルーリア2320: 日揮触媒化成社製の中空シリカの20質量%分散液
スルーリア1110: 日揮触媒化成社製の中空シリカの20質量%分散液
PL−2L−PGME: 扶桑化学社製の多孔質シリカの20質量%分散液
AERODISP G1220: EVONIK社製の多孔質シリカの20質量%分散液
OSCAL: 日揮触媒化成社製の中空シリカの20質量%分散液
スノーテックス MIBK−SD−L: 日産化学社製の多孔質シリカの30質量%分散液
AERODISP 1030: EVONIK社製の多孔質シリカの20質量%分散液
Disperbyk−101: BYKChemie社製のポリアミドアミン燐酸塩
ペレックス SS−L:花王社製のアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム
上記で得られた感光性組成物をシリコンウエハ上にスピンコート法で塗布し、その後、ホットプレート上で100℃で2分間加熱して膜厚0.3μmの感光性膜を得た。
次いで、得られた感光性膜に対し、i線ステッパーFPA−3000i5+(Canon(株)製)を使用して、365nmの波長で、0.5ミクロンスクエアから100ミクロンスクエアまでのサイズが異なるドットアレイパターンのマスクを介して露光した。
前記露光後の感光性膜に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの0.3質量%水溶液を用い、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにて水を用いてリンスを行い、更に純水にて水洗し、膜厚0.3μmの透明パターンを得た。
得られた透明パターンを測長SEM(S−7800H、(株)日立製作所製)を用いてシリコンウエハー上から30000倍で観察した。得られたドットパターンの最小サイズを解像性として表2に示した。この最小サイズの数値が低い程、解像性が高いことを意味する。
また、パターン周辺に残渣が観察された場合を×、残渣が観察されなかった場合を○として同じく表2に示した。
上記最小サイズを有するドットパターンに対して、ドライエッチング装置(日立ハイテクノロジーズ社製、U−621)(RFパワー:800W、アンテナバイアス:400W、ウエハバイアス:200W、チャンバーの内部圧力:4.0Pa、基板温度:50℃、混合ガスのガス種及び流量をCF4:80mL/min.、O2:40mL/min.、Ar:800mL/min.)を用いて、90秒の第1段階のドライエッチング処理を実施した。90秒間のドライエッチング処理により、表面荒れが大きいものを×、表面荒れの小さいものを○とした。
上記で得られた感光性樹脂組成物をシリコンウエハ上に塗布し、その後、ホットプレート上で100℃で2分間加熱して透明膜を得た。ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製エリプソメーター(VASE)を用いて、この透明膜における波長633nm、25℃で測定した値を屈折率とした。
それぞれの結果を表2に示した。
一方、本発明の化合物(C)に対応する化合物を含有しない比較例は、解像(パターン形成)できなかった(表2中、比較例の残渣については、パターン形成できなかったため測定できなかった。比較例のドライエッチング耐性に関しては、パターン形成が見られない膜のドライエッチング耐性を測定した)。
Claims (16)
- (A)中空又は多孔質粒子、(B)活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物、及び(C)前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する化合物を含有する感光性組成物。
- 前記中空又は多孔質粒子の屈折率が1.10〜1.40である、請求項1に記載の感光性組成物。
- 前記化合物(C)が、前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少する化合物である、請求項1又は2に記載の感光性組成物。
- 前記化合物(C)が、アルカリ可溶性基を有するバインダー樹脂である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の感光性組成物。
- 前記バインダー樹脂が、更に、重合性基を有する、請求項4に記載の感光性組成物。
- 更に、(D)重合性化合物を含有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の感光性組成物。
- 更に、(A’)粒子分散剤を含有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の感光性組成物。
- マイクロレンズの被覆用途に使用される請求項1〜7のいずれか1項に記載の感光性組成物。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の感光性組成物であるパターン形成材料。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の感光性組成物により形成される感光性膜。
- 請求項10に記載の感光性膜を形成する工程、前記感光性膜を露光する工程、及び、アルカリ現像液により現像してパターン膜を得る現像工程を含むパターン形成方法。
- 前記現像工程後、更に、前記パターン膜をエッチングする工程を含む請求項11に記載のパターン形成方法。
- 請求項11又は12に記載のパターン形成方法により得られるパターン膜。
- 請求項13に記載のパターン膜である低屈折率膜。
- 請求項14に記載の低屈折率膜を有する光学デバイス。
- 請求項15に記載の光学デバイスを備えた固体撮像素子。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021032944A (ja) * | 2019-08-19 | 2021-03-01 | 東京応化工業株式会社 | カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター、及び樹脂組成物 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI459137B (zh) * | 2012-05-10 | 2014-11-01 | Chi Mei Corp | 彩色濾光片用感光性樹脂組成物及其應用 |
EP2878607B1 (en) * | 2012-07-24 | 2018-11-28 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition and antireflection film |
JP5976575B2 (ja) * | 2012-08-31 | 2016-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 低屈折率膜形成用硬化性組成物、光学部材セットの製造方法及び硬化性組成物の製造方法 |
TW201431685A (zh) * | 2012-11-14 | 2014-08-16 | Fujifilm Corp | 感光性轉印材料、具有感光性低折射率轉印層的基板、感光性低折射率轉印層的製造方法、永久膜的形成方法、光學元件及其製造方法 |
JP6061911B2 (ja) * | 2014-02-27 | 2017-01-18 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版の製版方法 |
JP6386278B2 (ja) | 2014-07-09 | 2018-09-05 | マクセルホールディングス株式会社 | 透明遮熱断熱部材及びその製造方法 |
JP6553897B2 (ja) * | 2015-03-05 | 2019-07-31 | マクセルホールディングス株式会社 | 透明遮熱断熱部材及びその製造方法 |
KR102028439B1 (ko) * | 2015-03-19 | 2019-10-04 | 동우 화인켐 주식회사 | 자발광 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 화상표시장치 |
JP6520490B2 (ja) * | 2015-07-08 | 2019-05-29 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法 |
TW201800860A (zh) * | 2015-12-17 | 2018-01-01 | 陶氏全球科技責任有限公司 | 具有高介電常數之光可成像薄膜 |
JP2018205598A (ja) * | 2017-06-07 | 2018-12-27 | メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH | 感光性シロキサン組成物、およびそれを用いて形成した硬化膜 |
KR102525822B1 (ko) | 2017-07-06 | 2023-04-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 소자 및 그 제조 방법 |
CN115166888A (zh) * | 2017-09-29 | 2022-10-11 | 富士胶片株式会社 | 滤光器的制造方法 |
KR102228070B1 (ko) * | 2017-11-01 | 2021-03-12 | 주식회사 엘지화학 | 화학 증폭형 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 필름 |
KR102486552B1 (ko) | 2018-01-15 | 2023-01-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
US11264437B2 (en) | 2018-05-14 | 2022-03-01 | Samsung Display Co., Ltd. | Display devices |
JP2021182042A (ja) * | 2020-05-18 | 2021-11-25 | 東京応化工業株式会社 | 化学増幅型感光性組成物、感光性ドライフィルム、パターン化されたレジスト膜の製造方法、めっき造形物の製造方法、化合物、及び化合物の製造方法 |
TWI732580B (zh) * | 2020-06-03 | 2021-07-01 | 新應材股份有限公司 | 感光性樹脂組成物、隔壁、光轉換層以及光發射裝置 |
KR102618634B1 (ko) * | 2020-07-17 | 2023-12-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 표시장치 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001026416A (ja) * | 1999-07-12 | 2001-01-30 | Kansai Research Institute | 粒子分散体 |
JP2003055036A (ja) * | 2001-08-23 | 2003-02-26 | Toray Ind Inc | 感光性セラミックス組成物及びセラミックス基板 |
JP2005219352A (ja) * | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 周長調整層を有する円筒状印刷原版 |
JP2005221655A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Asahi Kasei Chemicals Corp | フレキソ印刷原版用感光性樹脂組成物 |
JP2011075691A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ |
JP2011075786A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Sekisui Chem Co Ltd | 感光性組成物 |
Family Cites Families (100)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1248036A (en) | 1968-01-12 | 1971-09-29 | Agfa Gevaert | Photopolymerisation of ethylenically unsaturated organic compounds |
JPS494319B1 (ja) | 1969-10-24 | 1974-01-31 | ||
JPS4841708B1 (ja) | 1970-01-13 | 1973-12-07 | ||
JPS506034B1 (ja) | 1970-08-11 | 1975-03-10 | ||
DE2064080C3 (de) | 1970-12-28 | 1983-11-03 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches Gemisch |
US3987037A (en) | 1971-09-03 | 1976-10-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines |
JPS5324989B2 (ja) | 1971-12-09 | 1978-07-24 | ||
JPS5230490B2 (ja) | 1972-03-21 | 1977-08-09 | ||
JPS4917040A (ja) | 1972-06-10 | 1974-02-15 | ||
US4212976A (en) | 1973-06-15 | 1980-07-15 | Merck & Co., Inc. | 3,4α-Di-O-derivatives of mercaptomethylpyridine and pyridylmethyldisulfide |
DE2363806B2 (de) | 1973-12-21 | 1979-05-17 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches Gemisch |
AU497960B2 (en) | 1974-04-11 | 1979-01-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable compositions |
GB1516512A (en) | 1974-05-02 | 1978-07-05 | Gen Electric | Chalcogenium salts |
GB1512982A (en) | 1974-05-02 | 1978-06-01 | Gen Electric | Salts |
GB1516351A (en) | 1974-05-02 | 1978-07-05 | Gen Electric | Curable epoxide compositions |
JPS5311314B2 (ja) | 1974-09-25 | 1978-04-20 | ||
US4256828A (en) | 1975-09-02 | 1981-03-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials |
DE2718259C2 (de) | 1977-04-25 | 1982-11-25 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Strahlungsempfindliches Gemisch |
JPS5474728A (en) | 1977-11-28 | 1979-06-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
US4139655A (en) | 1978-05-09 | 1979-02-13 | W. R. Grace & Co. | Photocurable epoxy compositions containing thiopyrylium salts |
US4197174A (en) | 1979-03-14 | 1980-04-08 | American Can Company | Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bis-MX6 |
JPS568428A (en) | 1979-06-19 | 1981-01-28 | Ciba Geigy Ag | Photopolymerizing and thermopolymerizing composition |
ZA805273B (en) | 1979-09-28 | 1981-11-25 | Gen Electric | Process of deep section curing photocurable compositions |
JPH0245641B2 (ja) | 1980-03-07 | 1990-10-11 | Ciba Geigy | Hikarijugoseisoseibutsuoyobisonojugoho |
US4387216A (en) | 1981-05-06 | 1983-06-07 | Ciba-Geigy Corporation | Heat-polymerizable compositions comprising epoxide resins, aromatic sulfoxonium salts, and organic oxidants |
JPS5944615A (ja) | 1982-09-07 | 1984-03-13 | Furuno Electric Co Ltd | ジヤイロ装置 |
JPS5953836A (ja) | 1982-09-21 | 1984-03-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JPS5971048A (ja) | 1982-10-18 | 1984-04-21 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光重合系感光性組成物 |
JPH0766185B2 (ja) | 1985-09-09 | 1995-07-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPS63287944A (ja) | 1987-05-21 | 1988-11-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS63287947A (ja) | 1987-05-21 | 1988-11-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH07120041B2 (ja) | 1987-05-21 | 1995-12-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPH07120042B2 (ja) | 1987-05-21 | 1995-12-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPH0812424B2 (ja) | 1987-11-19 | 1996-02-07 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPH01271741A (ja) | 1988-04-25 | 1989-10-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH0712004B2 (ja) | 1988-10-19 | 1995-02-08 | 日本電装株式会社 | コイル用ボビン |
JP2764769B2 (ja) | 1991-06-24 | 1998-06-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
JPH0519475A (ja) | 1991-07-12 | 1993-01-29 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
JP2706859B2 (ja) | 1991-07-30 | 1998-01-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 光硬化性樹脂組成物、保護層の形成方法及びカラーフイルター |
JPH05281728A (ja) | 1992-04-01 | 1993-10-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
JPH06348011A (ja) | 1993-06-04 | 1994-12-22 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光重合性組成物 |
JP3248780B2 (ja) | 1993-06-28 | 2002-01-21 | 東京応化工業株式会社 | レジスト洗浄除去用溶剤及びこの溶剤を用いた電子部品製造用基材の製造方法 |
JP3248781B2 (ja) | 1993-06-28 | 2002-01-21 | 東京応化工業株式会社 | レジスト洗浄除去用溶剤及びそれを使用する電子部品製造用基材の製造方法 |
JP3446909B2 (ja) | 1993-09-28 | 2003-09-16 | 日立化成工業株式会社 | 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法 |
JPH07128785A (ja) | 1993-11-02 | 1995-05-19 | Konica Corp | 画像形成材料及び画像形成方法 |
JPH07140589A (ja) | 1993-11-19 | 1995-06-02 | Konica Corp | 画像形成材料および画像形成方法 |
JP3321288B2 (ja) | 1994-04-25 | 2002-09-03 | 日本ペイント株式会社 | 近赤外光重合性組成物 |
JPH07306527A (ja) | 1994-05-11 | 1995-11-21 | Konica Corp | 画像形成材料及び画像形成方法 |
JP3525309B2 (ja) | 1995-04-05 | 2004-05-10 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. | 洗浄液及び洗浄方法 |
TW452575B (en) | 1996-12-06 | 2001-09-01 | Ciba Sc Holding Ag | New Α-aminoacetophenone photoinitiators and photopolymerizable compositions comprising these photoinitiators |
JP3718031B2 (ja) | 1997-07-23 | 2005-11-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 反射防止膜及びそれを用いた画像表示装置 |
JP3907144B2 (ja) | 1998-04-09 | 2007-04-18 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法、レーザ走査露光用平版印刷版原版、および光重合性組成物 |
SG77689A1 (en) | 1998-06-26 | 2001-01-16 | Ciba Sc Holding Ag | New o-acyloxime photoinitiators |
DK199901098A (da) | 1998-08-18 | 2000-02-19 | Ciba Sc Holding Ag | Sylfonyloximer til i-linie-fotoresists med høj følsomhed og høj resisttykkelse |
DE19847033A1 (de) | 1998-10-13 | 2000-04-20 | Agfa Gevaert Ag | Negativ arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch zur Herstellung eines mit Wärme oder Infrarotlaser bebilderbaren Aufzeichnungsmaterials |
JP2000187322A (ja) | 1998-10-15 | 2000-07-04 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性組成物、画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法 |
JP2000273370A (ja) | 1999-03-25 | 2000-10-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 着色組成物用洗浄液 |
NL1016815C2 (nl) | 1999-12-15 | 2002-05-14 | Ciba Sc Holding Ag | Oximester-fotoinitiatoren. |
JP4046921B2 (ja) | 2000-02-24 | 2008-02-13 | 触媒化成工業株式会社 | シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材 |
JP2001242612A (ja) | 2000-03-01 | 2001-09-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録材料 |
JP4295418B2 (ja) | 2000-05-11 | 2009-07-15 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版 |
JP4129113B2 (ja) | 2000-08-21 | 2008-08-06 | 京セラ株式会社 | 画像形成機 |
JP2002139828A (ja) | 2000-11-06 | 2002-05-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JP4102014B2 (ja) | 2000-10-03 | 2008-06-18 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
JP4202589B2 (ja) | 2000-10-11 | 2008-12-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4166443B2 (ja) | 2001-04-13 | 2008-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 酸分解型感光性組成物及び酸分解型平版印刷版 |
JP4213876B2 (ja) | 2001-04-13 | 2009-01-21 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物及びネガ型平版印刷版 |
JP2002363207A (ja) | 2001-06-07 | 2002-12-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料 |
JP2002363208A (ja) | 2001-06-07 | 2002-12-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料 |
JP2002363209A (ja) | 2001-06-07 | 2002-12-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料 |
JP2002363206A (ja) | 2001-06-07 | 2002-12-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料 |
EP1395615B1 (en) | 2001-06-11 | 2009-10-21 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators having a combined structure |
ATE430329T1 (de) | 2001-08-21 | 2009-05-15 | Ciba Holding Inc | Bathochromische mono- und bis-acylphosphinoxide und sulfide und ihre verwendung als photoinitiatoren |
JP2003226516A (ja) | 2001-11-27 | 2003-08-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | シリカ及びその製造方法 |
JP3877608B2 (ja) | 2002-02-12 | 2007-02-07 | 三井化学株式会社 | シリル化された多孔質シリカの製造方法 |
JP4019142B2 (ja) | 2002-03-05 | 2007-12-12 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 高多孔質シリカキセロゲルの製造方法 |
JP3908569B2 (ja) | 2002-03-11 | 2007-04-25 | 富士フイルム株式会社 | 画像記録材料 |
JP2003335515A (ja) | 2002-05-17 | 2003-11-25 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 微細孔を有する三次元高規則性ナノポーラス無機多孔体及びその製造方法並びにその評価方法 |
JP4033863B2 (ja) * | 2002-06-25 | 2008-01-16 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | レーザー彫刻可能な印刷原版用の感光性樹脂組成物 |
JP4265734B2 (ja) * | 2002-07-08 | 2009-05-20 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置 |
WO2005095115A1 (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | 中空円筒状印刷基材 |
JP4108070B2 (ja) | 2004-07-13 | 2008-06-25 | 三菱重工業株式会社 | 流体機械及びその製作方法及び弁板の検査方法 |
JP4005092B2 (ja) | 2004-08-20 | 2007-11-07 | 東京応化工業株式会社 | 洗浄除去用溶剤 |
JP4463841B2 (ja) | 2004-08-20 | 2010-05-19 | 東京応化工業株式会社 | 洗浄除去用溶剤 |
JP2007002102A (ja) | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 洗浄剤、及びそれを用いた樹脂組成物の除去方法 |
JP2007002101A (ja) | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 洗浄剤 |
JP5312743B2 (ja) | 2006-02-01 | 2013-10-09 | 富士フイルム株式会社 | オキシム化合物及びそれを含む感光性組成物 |
JP5354863B2 (ja) | 2006-02-24 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | オキシム誘導体、光重合性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法 |
JP2007322744A (ja) | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Fujifilm Corp | 着色感光性樹脂組成物、及び感光性樹脂転写材料、並びに、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示装置 |
KR101474900B1 (ko) | 2006-09-27 | 2014-12-19 | 후지필름 가부시키가이샤 | 화합물 또는 이것의 토토머, 금속착체 화합물, 착색 감광성경화 조성물, 컬러필터, 및 제조 |
JP2008243945A (ja) | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 絶縁膜及びその製造方法 |
JP4890388B2 (ja) * | 2007-08-22 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP5496482B2 (ja) | 2007-08-27 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
JP5216501B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2013-06-19 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP4997081B2 (ja) | 2007-11-30 | 2012-08-08 | 富士フイルム株式会社 | ホログラフィック記録媒体 |
US8043787B2 (en) * | 2008-03-14 | 2011-10-25 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements with improved abrasion resistance |
JP5538688B2 (ja) | 2008-05-30 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法、及び、固体撮像素子 |
JP2010032996A (ja) | 2008-06-27 | 2010-02-12 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | シリカ系塗膜のパターニング方法および該方法から得られるシリカ系塗膜 |
JP5761890B2 (ja) | 2008-06-27 | 2015-08-12 | 日揮触媒化成株式会社 | シリカ系塗膜形成用塗布液の調製方法 |
JP2010102322A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-05-06 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の製版方法 |
-
2010
- 2010-12-28 JP JP2010294339A patent/JP5622564B2/ja active Active
-
2011
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- 2011-06-30 US US13/172,937 patent/US8753801B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001026416A (ja) * | 1999-07-12 | 2001-01-30 | Kansai Research Institute | 粒子分散体 |
JP2003055036A (ja) * | 2001-08-23 | 2003-02-26 | Toray Ind Inc | 感光性セラミックス組成物及びセラミックス基板 |
JP2005221655A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Asahi Kasei Chemicals Corp | フレキソ印刷原版用感光性樹脂組成物 |
JP2005219352A (ja) * | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 周長調整層を有する円筒状印刷原版 |
JP2011075691A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ |
JP2011075786A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Sekisui Chem Co Ltd | 感光性組成物 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021032944A (ja) * | 2019-08-19 | 2021-03-01 | 東京応化工業株式会社 | カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター、及び樹脂組成物 |
JP7452959B2 (ja) | 2019-08-19 | 2024-03-19 | 東京応化工業株式会社 | カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター、及び樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20120002484A (ko) | 2012-01-05 |
US20120003436A1 (en) | 2012-01-05 |
TWI516862B (zh) | 2016-01-11 |
US8753801B2 (en) | 2014-06-17 |
TW201207560A (en) | 2012-02-16 |
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EP2402818A1 (en) | 2012-01-04 |
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