JP2007002102A - 洗浄剤、及びそれを用いた樹脂組成物の除去方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 本発明では、ブラックマトリックスパターンやカラーフィルターを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用として少量で高い洗浄効果を発揮する洗浄剤を提供する。
【解決手段】 半導体基板または液晶パネル用基板に固着した感光性樹脂組成物を溶解させて除去可能な少なくとも一種の溶剤と、その感光性樹脂組成物中に含有される無機顔料をその基板の表面から剥離させることを促進させる芳香族化合物とを有することにより、上記課題の解決を図る。
【選択図】 なし

Description

本発明は、感光性樹脂組成物の洗浄除去する洗浄剤に関する。

半導体素子や液晶表示素子の製造においては、フォトリソグラフイー技術が用いられているが、それらは、ポジ型やネガ型の感光性樹脂組成物が利用される。
当該感光性樹脂組成物は塗布液の形で、半導体基板や、ガラス基板等の基板上に塗布され、適宜乾燥処理を施し被膜を形成し、これに選択的露光を行い、次いで現像処理を行うことでパターン化された感光性樹脂被膜が形成される。

感光性樹脂組成物の基板への塗布方法としては、回転式塗布方法が一般的であるが、特に大型化が進む液晶表示素子製造の分野においては、コートアンドスピン方式、ノンスピン方式等の塗布手段が提案されてきている。

塗布工程においては、感光性樹脂組成物を吐出するノズルや、塗布装置内壁、基板周縁、基板裏面、その他配管系が感光性樹脂組成物により汚染されるため、定期的あるいは随時、洗浄処理を行う必要がある。

特に顔料が分散された材料、例えばカラーフィルターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物は、洗浄除去が困難であり、洗浄性に優れた洗浄除去液の実現が求められていた。

なお、本発明に関連する文献としては、特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４がある。
特開平７−７４１３６号公報 特開平１０−２０４４９７号公報 特開平１１−１７４６９１号公報 特開２０００−４４９９４号公報 特開２００４−１６７４７６号公報 特開２０００−２８８４８８号公報

従来の半導体用洗浄剤として、たとえばＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、１−メトキシ−２−アセトキシプロパン）：ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル、すなわち１−メトキシ−２−プロパノール）＝７：３の混合溶液が用いられてきた。しかしながら、このような洗浄剤は顔料分散型レジスト、特にカーボンブラック用には適さず、顔料の凝集によるノズルの異物発生が問題となった。

また、高沸点の非プロトン性強制溶媒のＤＭＡＣ（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド）は極性が強すぎるためにカーボンが凝集して沈降してしまっていた。そのため、配管が詰まるなど不具合が発生した。

また、これら従来の洗浄剤は洗浄性能が乏しく、十分な洗浄効果を得るのに大量の洗浄剤を使用しなければならなかった。そのため、廃液処理量が増え、環境への負荷が大きかった。

また、単一の成分のアルキル芳香族化合物を使用する場合には、混合系アルキル芳香族化合物を使用する場合よりも配合量を多くしないと効果を得ることができなかった。
上記の課題に鑑み、本発明では、ブラックマトリックスパターンやカラーフィルターを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用として少量で高い洗浄効果を発揮する洗浄剤を提供する。

本発明にかかる洗浄剤は、物の表面に固着した樹脂組成物を溶解させて除去可能な少なくとも一種の溶剤と、前記樹脂組成物中に含有される前記物の表面に固着した無機顔料を該表面から剥離させることを促進させる芳香族化合物とを有することを特徴とする。

また、上記の芳香族化合物は、少なくともアルキルベンゼンを含有していることを特徴とする。
また、上記の洗浄剤は、前記アルキルベンゼンの有する全アルキル基の炭素の総数が３〜５であり、前記洗浄剤組成物中における該アルキル基を有する芳香族化合物の含有量は５重量％〜５０重量％であることを特徴とする。

また、上記の洗浄剤は、前記芳香族化合物の有する全アルキル基の炭素の総数が４であり、該芳香族化合物中における該炭素数４の芳香族化合物の含有量は２０重量％〜９０重量％であることを特徴とする。

また、上記の芳香族化合物は、プロピルベンゼン、クメン、エチルメチルベンゼン、トリメチルベンゼン、エチルジメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、メチルプロピルベンゼン、ジエチルベンゼン、エチルトリメチルベンゼン、ジメチルプロピルベンゼン、ジエチルメチルベンゼンから選ばれる１種以上が混合されていることを特徴とする。

また、上記の前記芳香族化合物に、さらに、インダン、テトラメチルシクロペンタジエン、ジヒドロメチル−１Ｈインデンのうち少なくとも１種が混合されていることを特徴とする。

また、上記の溶剤は、シクロヘキサノン、１−メトキシ−２−アセトキシプロパン（すなわちＰＧＭＥＡ）、１−メトキシ−２−プロパノール（すなわちＰＧＭＥ）、１−（３−メトキシ）ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸ヘプチル、酢酸オクチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸ペンチル、乳酸ヘキシル、乳酸ヘキシル、乳酸オクチル、アセトン、４−メチル−２−ペンタノン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ジエチルエーテル、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、ジオキサン、オキセタン、フェノール、クレゾール、キシレノールから選ばれる１種以上から構成されていることを特徴とする。

また、上記の樹脂組成物は、感光性樹脂組成物であることを特徴とする。
また、上記の洗浄剤は、さらに、ケイ素系の界面活性剤を含有することを特徴とする。
また、上記の物は、基板状部材の表面に前記樹脂組成物を用いて樹脂膜を形成するためのコーティング装置であることを特徴とする。

また、上記の基板状部材は、半導体基板または液晶パネル用基板であることを特徴とする。
本発明にかかる、基板状部材の表面に無機顔料を含む樹脂組成物を塗布する塗布装置のスリットノズル、プライミングローラー、またはノズルディップの表面に付着した該樹脂組成物を除去する樹脂組成物の除去方法は、シクロヘキサノン、１−メトキシ−２−アセトキシプロパン（すなわちＰＧＭＥＡ）、１−メトキシ−２−プロパノール（すなわちＰＧＭＥ）、１−（３−メトキシ）ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸ヘプチル、酢酸オクチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸ペンチル、乳酸ヘキシル、乳酸ヘキシル、乳酸オクチル、アセトン、４−メチル−２−ペンタノン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ジエチルエーテル、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、ジオキサン、オキセタン、フェノール、クレゾール、キシレノールから選ばれる１種以上から構成される溶剤に所定量の芳香族化合物を添加して得られた混合溶剤を用いて、前記樹脂組成物を前記表面から溶解除去することを特徴とする。

また、上記の芳香族化合物は、少なくともアルキルベンゼンを含有していることを特徴とする。

本発明にかかる洗浄剤を用いることにより、従来品に比べ、少量の洗浄剤で同等以上の洗浄効果を得ることができる。また、本発明にかかる洗浄剤は環境への負荷も少なく、さらに、顔料の凝集、沈降が起こりにくいため、作業効率の面からも優れている。

また、アルキル基の炭素数に起因するものとして、炭素数が多いものほどその化合物を添加する量を少なくすることができる（すなわち、添加効率がよい）ので、本発明にかかる洗浄剤を用いることにより、少量の芳香族化合物の添加量で従来品と同等以上の洗浄効果が得られる。

以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明にかかる洗浄剤は、半導体基板または液晶パネル用基板に固着した感光性樹脂組成物を溶解させて除去可能な少なくとも一種の溶剤と、その感光性樹脂組成物中に含有される無機顔料をその基板の表面から剥離させることを促進させる芳香族化合物とを有する。

その芳香族化合物は、少なくともアルキルベンゼンを含有している。このアルキルベンゼンの有する全アルキル基の炭素の総数は３〜５である。当該洗浄剤におけるこのアルキル基を有する芳香族化合物の含有量は５重量％〜５０重量％である。

なお、好ましくは、芳香族化合物の有する全アルキル基の炭素の総数が４である。芳香族化合物中における、その炭素数４の芳香族化合物の含有量は、２０重量％〜９０重量％である。

芳香族化合物が含有しているアルキルベンゼンは、プロピルベンゼン、クメン、エチルメチルベンゼン、トリメチルベンゼン、エチルジメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、メチルプロピルベンゼン、ジエチルベンゼン、エチルトリメチルベンゼン、ジメチルプロピルベンゼン、ジエチルメチルベンゼンから選ばれるものである。

なお、これらのアルキルベンゼンの他に、さらに、インダン、テトラメチルシクロペンタジエン、ジヒドロメチル−１Ｈ−インデンのうち少なくとも１種が混合されていてもよい。

本発明にかかる洗浄剤中に含まれる溶剤は、１種の溶剤だけから構成してもよいが、洗浄性、乾燥性、洗浄された顔料の沈降を防止する等の種々の特性を満足させるために複数種の溶剤を用いた混合溶剤の方が、バランスの取れた洗浄液を容易に設計することができて好ましい。

たとえば、本発明の溶剤には、シクロヘキサノン、１−メトキシ−２−アセトキシプロパン（すなわちＰＧＭＥＡ）、１−メトキシ−２−プロパノール（すなわちＰＧＭＥ）、１−（３−メトキシ）ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸ヘプチル、酢酸オクチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸ペンチル、乳酸ヘキシル、乳酸ヘキシル、乳酸オクチル、アセトン、４−メチル−２−ペンタノン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ジエチルエーテル、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、ジオキサン、オキセタン、フェノール、クレゾール、キシレノールから選ばれる１種以上が含まれている。

また、感光性樹脂組成物としては顔料分散型のものを用い、たとえば、ブラックマトリックスパターン系形成用の黒色顔料（カーボンブラック）を用いることができる。本発明の洗浄剤によれば、該洗浄剤によって洗浄除去された感光性樹脂組成物中に分散していたカーボン等の顔料粒子の凝集が抑えられ、洗浄除去用溶剤中に顔料が効率良く分散される。すなわち、洗浄剤中における顔料の分散性が悪いと、一旦洗浄除去された顔料粒子が凝集して被洗浄面に沈降し易くなるが、これを防止して洗浄残りをなくすことできる。

また、感光性樹脂組成物を塗布する塗布装置の吐出ノズル先端部分を洗浄する場合、洗浄液がノズル等に付着した状態のままでいると、洗浄後に再び感光性樹脂組成物を吐出する際、ノズル等に付着していた洗浄液が感光性樹脂組成物に溶け込み、感光性樹脂組成物の組成を変化させることになる。

このように感光性樹脂組成物の組成を変化させることは、感光性樹脂組成物の塗布性等の特性劣化につながるおそれがあり、例えば塗布ムラ発生の原因となる場合がある。特に、感光性樹脂組成物に界面活性剤が配合されている場合は、溶剤との接触によって該界面活性剤濃度が低下し、その結果、塗布ムラが発生し易い。

そこで、乾燥性（速乾性）にも優れている本発明の洗浄剤を用いることで、感光性樹脂組成物への洗浄液の溶け込みを抑制することができる。特にプロピレングリコールモノアルキルエーテルを含有させると、乾燥性の向上に有効である。

また、感光性樹脂組成物はカーボンブラックに限定されず、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のカラーフィルター形成用感光性樹脂組成物を用いてもよい。特に、緑（Ｇ）のカラーフィルター形成用感光性樹脂組成物について洗浄する場合には、ケイ素系の界面活性剤（たとえば、Ａｄｄｉｔｏｌ ＸＬ １２１（ソルーシア社製））を洗浄剤に添加するのが好ましい。

本願発明に係る洗浄剤が除去対象とする感光性樹脂組成物には特に制限は無く、従来より半導体、液晶、カラーフィルターなどに用いられてきたポジ型、ネガ型、化学増幅型、非化学増幅型のあらゆる感光性樹脂組成物を対象とすることができる。感光性樹脂組成物は、基本的には樹脂成分および光重合開始剤などの感光成分を必須成分として含有し、その他にモノマー成分、界面活性剤、酸成分、含窒素有機化合物、顔料、溶剤などを含有する場合がある。

本願発明に係る洗浄剤が特に洗浄効果を発揮する感光性樹脂組成物は、顔料が分散された感光性樹脂組成物であり、さらに好ましくは、赤（R）、緑（G）、青（B）のカラーフィルター形成用感光性樹脂組成物、ブラックマトリックスパターン形成用感光性樹脂組成物である。

上記樹脂成分としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸などのカルポキシ基を有するモノマーから選ばれる一種以上と、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、N-ブチルアクリレート、N-ブチルメタクリレート、イソブチルアクリート、イソブチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシアクリレート、フェノキシメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、スチレン、アクリルアミド、アクリロニトリルなどから選ばれる一種以上との共重合体、フェノールノボラック型エポキシアタリレート重合体、フェノールノボラック型エポキシメタクリレート重合体、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート重合体、クレゾールノポラック型エポキシメタクリレート重合体、ビスフェノールA型エポキシアクリレート重合体、ビスフェノールS型エポキシアタリレート重合体などの樹脂が挙げられる。

上記光重合開始剤としては、1-ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-[4-(2-ヒドロキンエトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-(4-ドデシルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、ビス(4-ジメチルアミノフェニル)ケトン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-ベンゾイル-4'-メチルジメチルスルフィド、4-ジメチルアミノ安息香酸、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4-ジメチルアミノ-2-エチルヘキシル安息香酸、4-ジメチルアミノ-2-イソアミル安息香酸、ベンジル-β-メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルポニル)オキシム、o-ベンゾイル安息香酸メチル、2,4-ジエチルチオキサントン、2-タロロチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、2-クロロチオキサンテン、2,4-ジエチルチオキサンテン、2-メチルチオキサンテン、2-イソプロピルチオキサンテン、2-エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2-ベンズアントラキノン、2,3-ジフェニルアントラキノン、アゾビス(イソプチロ)ニトリル、ベンゾイルペルオキシド、クメンペルオキシド、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジ(m-メトキシフェニル)-イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、2-クロロベンゾフェノン、p,p'-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’-ジクロロベンゾフェノン、3．3-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロビルエーテル、ペンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、p-ジメチルアセトフェノン、p-ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p-tert-ブチルアセトフェノン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、p-tert-ブチルトリクロロアセトフェノン、p-tert-ブチルジクロロアセトフェノン、α,α-ジクロロ-4-フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、2-メチルチオキサントン、2-イノプロビルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル-4-ジメチルアミノベンゾェート、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス-(9-アクリジニル)ヘプタン、1,5-ビス-(9-アクリジニル)ペンタン、1,3-ビス(9-アクリジニル)プロパン、p-メトキシトリアジン、2,4,6-トリス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(5-メチルフラン-2-イル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(フラン-2-イル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(3,4-ジメトキシフェニル)エテニル］-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-エトキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-n-ブトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(3-ブロモ-4-メトキシ)フェニル-s-トリアジン 、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(2-ブロモ-4-メトキシ)フェニル-s-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(3-ブロモ-4-メトキシ)スチリルフェニル-s-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(2-ブロモ-4-メトキシ)スチリルフェニル-s-トリアジンなどを挙げることができる。

上記顔料としては、例えば
C.I.Pigment Yellow 11,24,31,53,83,99,108,109,139,150,151,154,167,180,185,193；
C.I.Pigment Orange 36,38,43；
C.I.Pigment Red 105,122,149,150,155,171,175,176,177,209,224,254,264；
C.I.Pigment Violet 19,23,32,39；
C.I.Pigment Blue 1,2,15:1,15:2,15:3,16,22,60,66；
C.I.Pigment Green 7,36,37；
C.I.Pigment Brown 25,28；
C.I.Pigment Black 1,7；
カーボンブラック などが挙げられる。

このようなカラーフィルター形成用、またはブラックマトリックスパターン形成用の感光性樹脂組成物については多くの提案がなされており、例えば特開２００４−６９７５４号公報、特開平１１−２３１５２３号公報、特開平１１−８４１２５号公報、特開平１０−２２１８４３号公報、特開平９−２６９４１０号公報、特開平１０−９０５１６号公報等に記載の感光性材料等が好ましく用いられる。

そして、この洗浄剤は、たとえば、半導体基板等に感光性樹脂組成物を塗布する塗布装置のノズル、プライミングローラー（回転ローラ）、またはノズル洗浄装置のうち少なくとも１つに塗布された前記感光性樹脂組成物を除去するために使用することができる。

また、洗浄剤の組成を調整することで洗浄剤の共沸点が変動するため、芳香族化合物または溶剤の選択に際して高沸点または低沸点の化合物を考慮して混合することで、乾燥性に関して調整することもできる。

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
以下の実施例では、カーボンブラックレジスト１ｍｌをポリエチレンチューブに吸い取り、レジストを排泄し、以下に示す洗浄剤を何ｍｌ使用したら汚れたポリエチレンチューブを洗浄できるかを比較した。

以下に示す実施例１では、芳香族炭化水素のソルベッソ１００（エクソン化学社製）のより高沸点石油留分であるスワゾール１５００（丸善石油化学株式会社製）を使用した。スワゾール１５００の成分を表１に示す。

上記の表１は、スワゾール１５００をガスクロマトグラフィー測定により分析して、その結果得られた各成分のエリア面積比（％）を表したものである。
［実施例１］
ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ：スワゾール１５００＝７：２：１の重量比で洗浄剤を調製した。この洗浄剤を７ｍｌ使用したら、汚れたポリエチレンチューブを洗浄することができた。

［比較例１］
ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ：トルエン＝６：２：２の重量比で洗浄剤を調製した。この洗浄剤を９ｍｌ使用したら、汚れたポリエチレンチューブを洗浄することができた。

［比較例２］
ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ：キシレン＝６：２：２の重量比で洗浄剤を調製した。この洗浄剤を９ｍｌ使用したら、汚れたポリエチレンチューブを洗浄することができた。

［比較例３］
ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ：アニソール＝６：２：２の重量比で洗浄剤を調製した。この洗浄剤を９ｍｌ使用したら、汚れたポリエチレンチューブを洗浄することができた。

［比較例４］
ＰＧＭＥＡを１０ｍｌ以上使用したら、汚れたポリエチレンチューブを洗浄することができた。

［比較例５］
ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ＝７：３の重量比で洗浄剤を調製した。この洗浄剤を１０ｍｌ以上使用したら、汚れたポリエチレンチューブを洗浄することができた。

［比較例６］
ソルベッソ１００単一溶剤を１０ｍｌ以上使用したら、汚れたポリエチレンチューブを洗浄することができた。

実施例１、及び比較例１〜６の結果を表２に示す。

上記結果から明らかなように、実施例１の洗浄剤は、比較例１〜６のいずれよりも少ない量で洗浄効果を発揮することができた。
［用途］
以下では、本発明にかかる洗浄剤の使用方法の一例として、半導体等の基板材料に感光性樹脂組成物を塗布及び洗浄する装置（たとえば、特許文献５、特許文献６）での使用方法を示す。

図１は、半導体等の基板材料に感光性樹脂組成物を塗布及び洗浄する装置の一例である。同図の装置は、スリットノズル１、プライミングローラー（回転ローラ）２、洗浄槽３、スリットノズル洗浄装置５、洗浄剤供給槽７、塗布液供給槽９、配管４，６，８，１０から構成される。

洗浄剤供給槽７には、本発明にかかる洗浄剤が充填されており、配管８を通してスリットノズル１に供給される。塗布液供給槽９には、塗布液（たとえば、カラーフィルターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物）が充填されており、配管１０を通してスリットノズル１に供給される。

スリットノズル１は細長い形状をしており、たとえば水平面内において短手方向に移動する。スリットノズルの下面には、塗布液供給槽９より供給された塗布液や洗浄剤供給槽７より供給された洗浄剤を噴出するための孔が複数設けてある。スリットノズル１の下方には、たとえば半導体基板や液晶パネル用基板（以下、基板１１という）が設置されており、スリットノズル１は移動しながらその基板１１の表面の一面に、塗布液を噴出する。

洗浄槽３には、円筒形状のプライミングローラー２が設置されている。また、洗浄槽３は配管４から本発明にかかる洗浄剤が供給される。この供給量を調整することにより、洗浄槽３は所定量の洗浄剤で常に満たされている。プライミングローラー２は、塗布直前のスリットノズル１からの噴出される塗布液の噴出コンディションを調整するためのものである。すなわち、プライミングローラー２の上部方向からスリットノズル１が近接して、余分な塗布液をスリットノズル１から引き出して、プライミングローラー２の表面に付着させて除去することができる。

また、プライミングローラー２は回転しながら洗浄槽３内の洗浄剤に接触することで、プライミングローラー２の表面に塗布された塗布液を洗浄することができる。
スリットノズル洗浄装置５は、塗布後のスリットノズル１に付着した塗布液を洗浄したり、塗布を休止する場合にスリットノズル１に付着した塗布液が乾燥固着するのを防止するためにスリットノズル１を待機させておいたりするためのものである。スリットノズル洗浄装置（たとえば特許文献６）は、スリットノズル１を待機させておくためにスリットノズルを支持するスリットノズル待機部（詳細は不図示）が設けられている。そのスリットノズル待機部の中央に、スリットノズル先端部を洗浄したり、乾燥を防いだりするためのノズルディップ洗浄部（詳細は不図示）が設けられている。スリットノズル洗浄装置５には、配管６から本発明にかかる洗浄剤が供給されている。

従来は、スリットノズル１、洗浄槽３、スリットノズル洗浄装置５に供給される洗浄剤の種類は、各装置のタクトタイムに応じて（たとえば、乾燥性、凝集性、洗浄性等）、それぞれ異なっていた。たとえば、スリットノズル１及び洗浄槽３に関しては、速乾性が高く、凝集しないもので、洗浄能力が高い洗浄剤が求められていた。また、たとえば、スリットノズル洗浄装置５に関しては、速乾性が高く、凝集しない洗浄剤が求められ、特に、スリットノズル内の塗布液に浸透して凝集を起こさないように、凝集せずかつ高い表面張力が求められていた。

本発明にかかる洗浄剤は、高い速乾性、凝集しない、高い洗浄力、及び高い表面張力を有しており、従来における要求に全て応えることができる。そのため、本発明にかかる洗浄剤１種類だけで、スリットノズル１、洗浄槽３、スリットノズル洗浄装置５のすべてに適用することができる。

また、ケイ素系の界面活性剤（たとえば、Ａｄｄｉｔｏｌ ＸＬ １２１（ソルーシア社製））を本発明にかかる洗浄剤に所定量添加（たとえば、実施例１で調製した洗浄剤にＡｄｄｉｔｏｌ ＸＬ １２１を５０ｐｐｍ配合する）することにより、カラーフィルター（特にＧ（緑））を形成する顔料分散型感光性樹脂組成物を塗布液に用いた場合でも、本発明にかかる洗浄剤を適用することができる。

半導体等の基板材料に感光性樹脂組成物を塗布及び洗浄する装置の一例を示す図である。

符号の説明

１ スリットノズル
２ プライミングローラー
３ 洗浄槽
５ スリットノズル洗浄装置
７ 洗浄剤供給槽
９ 塗布液供給槽
４，６，８，１０ 配管
１１ 基板

Claims (13)

1. 物の表面に固着した樹脂組成物を溶解させて除去可能な少なくとも一種の溶剤と、前記樹脂組成物中に含有される前記物の表面に固着した無機顔料を該表面から剥離させることを促進させる芳香族化合物とを有する洗浄剤。
2. 前記芳香族化合物は、少なくともアルキルベンゼンを含有していることを特徴とする請求項１に記載の洗浄剤。
3. 前記アルキルベンゼンの有する全アルキル基の炭素の総数が３〜５であり、前記洗浄剤組成物中における該アルキル基を有する芳香族化合物の含有量は５重量％〜５０重量％であることを特徴とする請求項２に記載の洗浄剤。
4. 前記芳香族化合物の有する全アルキル基の炭素の総数が４であり、該芳香族化合物中における該炭素数４の芳香族化合物の含有量は２０重量％〜９０重量％であることを特徴とする請求項３に記載の洗浄剤。
5. 前記芳香族化合物は、プロピルベンゼン、クメン、エチルメチルベンゼン、トリメチルベンゼン、エチルジメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、メチルプロピルベンゼン、ジエチルベンゼン、エチルトリメチルベンゼン、ジメチルプロピルベンゼン、ジエチルメチルベンゼンから選ばれる１種以上が混合されていることを特徴とする請求項３に記載の洗浄剤。
6. 前記芳香族化合物に、さらに、インダン、テトラメチルシクロペンタジエン、ジヒドロメチル−１Ｈインデンのうち少なくとも１種が混合されていることを特徴とする請求項５に記載の洗浄剤。
7. 前記溶剤は、シクロヘキサノン、１−メトキシ−２−アセトキシプロパン、１−メトキシ−２−プロパノール、１−（３−メトキシ）ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸ヘプチル、酢酸オクチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸ペンチル、乳酸ヘキシル、乳酸ヘキシル、乳酸オクチル、アセトン、４−メチル−２−ペンタノン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ジエチルエーテル、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、ジオキサン、オキセタン、フェノール、クレゾール、キシレノールから選ばれる１種以上から構成されていることを特徴とする請求項１〜６のうちいずれか１項に記載の洗浄剤。
8. 前記樹脂組成物は、感光性樹脂組成物であることを特徴とする請求項１〜７のうちいずれか１項に記載の洗浄剤。
9. 前記洗浄剤は、さらに、ケイ素系の界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１〜８のうちいずれか1項に記載の洗浄剤。
10. 前記物は、基板状部材の表面に前記樹脂組成物を用いて樹脂膜を形成するためのコーティング装置であることを特徴とする請求項１〜９のうちいずれか１項に記載の洗浄剤。
11. 前記基板状部材は、半導体基板または液晶パネル用基板であることを特徴とする請求項１０に記載の洗浄剤。
12. 基板状部材の表面に無機顔料を含む樹脂組成物を塗布する塗布装置のスリットノズル、プライミングローラー、またはノズルディップの表面に付着した該樹脂組成物を除去する樹脂組成物の除去方法であって、
    シクロヘキサノン、１−メトキシ−２−アセトキシプロパン、１−メトキシ−２−プロパノール、１−（３−メトキシ）ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸ヘプチル、酢酸オクチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸ペンチル、乳酸ヘキシル、乳酸ヘキシル、乳酸オクチル、アセトン、４−メチル−２−ペンタノン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ジエチルエーテル、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、ジオキサン、オキセタン、フェノール、クレゾール、キシレノールから選ばれる１種以上から構成される溶剤に所定量の芳香族化合物を添加して得られた混合溶剤を用いて、前記樹脂組成物を前記表面から溶解除去することを特徴とする樹脂組成物の除去方法。
13. 前記芳香族化合物は、少なくともアルキルベンゼンを含有していることを特徴とする請求項１２に記載の樹脂組成物の除去方法。
    

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