JP2007163983A

JP2007163983A - 洗浄剤

Info

Publication number: JP2007163983A
Application number: JP2005362255A
Authority: JP
Inventors: Akira Katano; 彰片野; Mitsuharu Harada; 光治原田
Original assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Current assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date: 2005-12-15
Filing date: 2005-12-15
Publication date: 2007-06-28
Also published as: KR20070064248A; CN1982425A; TW200736386A

Abstract

【課題】従来品に較べ少量で洗浄効果を発揮し、かつ顔料の凝集・沈降が起きにくい、顔料分散型感光性樹脂を除去するための洗浄剤を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのアルキル基を有する芳香族化合物を２種類以上含有し、該芳香族化合物における全アルキル基の炭素の総数が３〜５であり、更に、該芳香化合物の全洗浄剤に対する含有量が１０〜４０質量％で、該芳香化合物が１〜３個のアルキル基をもつ単環化合物であり、該芳香化合物以外の溶剤を含有することを特徴とする洗浄剤。
【選択図】なし

Description

本願発明は、感光性樹脂組成物の洗浄剤に関する。

従来、半導体用樹脂組成物の洗浄剤としては、たとえばOK-73（東京応化工業株式会社製商品名）などが用いられてきたが、これは顔料分散型感光性樹脂組成物、特にカーボンブラックの洗浄用としては、顔料の凝集・沈降による異物の発生という問題があり、不適であった。

また、高沸点の非プロトン性極性溶媒を単独使用すると、強すぎる極性のために顔料が凝集・沈降し、配管が詰まるなどの不具合が発生した。
さらに、芳香族炭化水素化合物を単独で使用した場合にも、顔料の凝集・沈降が起こり、効率の良い洗浄効果が得られなかった。

アルキル基を有する芳香族化合物といくつかの溶媒を配合した樹脂除去用組成物としては、東京応化工業株式会社製の商品名クリーンストリップ、クリーンストリップMF、クリーンストリップHP、クリーンストリップHP-2、剥離液502A、剥離液502A2、BMR剥離液EG、エラスロン現像液FDO-S、エラスロン現像液FDO-S2などが、半導体電子材料・画像表示用材料の現像液・剥離液・洗浄液として古くから製造販売されている。ところが、顔料分散型樹脂組成物が付着したものからこれを取り除くにはこれらの製品は乾燥性能に乏しく、顔料の凝集・沈降が起きやすいという難点があった。

特に近年は基材の大型化が進み、スピンレス(R)の塗布に必要なノズル洗浄には早い乾燥性とノズルへの洗浄剤組成物の染み込み（吸い上げ）が起きにくい特性が要求される。顔料分散型感光性樹脂組成物に対する洗浄剤としては、たとえば特許文献１、２に記載のものが知られているが、これらの既知公知の洗浄用組成物は、上記の全ての要求特性を満足する性能は持ち合わせていなかった。

また、カチオン系、アニオン系、ノニオン系界面活性剤を含んだ従来の洗浄剤はその発泡性が問題となり、充分な洗浄効果を得るには大量のフレッシュな洗浄剤を新たに使用しなければならず、廃液処理量が増えるために環境負荷が大きい問題があった。
特開２００１−１８８３６４号特開２０００−２７３３７０号

上記の課題に鑑みて、本願発明は、従来製品に較べ少量で洗浄効果を発揮し、かつ顔料の凝集・沈降が起きにくい、顔料分散型感光性樹脂を除去する洗浄剤を提供する。

本願発明に係る感光性樹脂組成物を除去するための洗浄剤は、少なくとも１つのアルキル基を有する芳香族化合物を２種類以上含有し、該芳香族化合物における全アルキル基の炭素の総数が3〜5であることを特徴とする洗浄剤である。

また、本願発明に係る洗浄剤は、前記芳香族化合物の前記洗浄剤に対する含有量が１〜５０質量％であることを特徴とする。
本願発明に係る洗浄剤は、前記芳香族化合物が、1〜3個のアルキル基をもつ単環化合物であることを特徴とする。この単環化合物は下記構造式で示される。

（ここで、Rは、独立して炭素数１〜３のアルキル基を示す）
このアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。

本願発明に係る洗浄剤は、前記芳香族化合物がトリメチルベンゼンとエチルメチルベンゼンを含有することを特徴とする。
本願発明に係る洗浄剤は、前記芳香族系化合物と、前記芳香族系化合物以外の溶剤との混合物で構成されている洗浄剤であって、該芳香族系化合物以外の溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ：１−メトキシ−２−アセトキシプロパン）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ：1-メトキシ-2-プロパノール）、酢酸ブチル、N,N-ジメチルホルムアミド、γ-ブチロラクトン、N,N-ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、1-(3-メトキシ)ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、3-エトキシプロピルアセテート、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸オクチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸ペンチル、乳酸ヘキシル、乳酸ヘプチル、乳酸オクチル、アセトン、4-メチル-2-ペンタノン、2-ブタノン、2-ヘプタノン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、ジオキサン、オキセタン、フェノール、クレゾール、キシレノール、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルスルホキシド、から選ばれる少なくとも一種からの混合物で構成されていることを特徴とする。

本願発明に係る洗浄剤は、該芳香族系化合物以外の溶剤は、N,N-ジメチルホルムアミド、2-(1-メトキシ)プロピルアセテート、1-メトキシ-2-プロパノールおよび酢酸ブチルから選択される少なくとも一種類を含むことを特徴とする。

本願発明に係る洗浄剤は、ケイ素系界面活性剤を含有する洗浄剤である。

本願発明の洗浄剤組成物は、従来品に較べ、少量の洗浄剤で同等以上の効果を発揮しかつ顔料の凝集・沈降が起きにくいため、環境負荷も少なく、作業効率の面からも優れている。

以下、本願発明をより詳細に説明する。
本願発明に係る洗浄剤が除去対象とする感光性樹脂組成物には特に制限は無く、従来より半導体、液晶、カラーフィルターなどに用いられてきたポジ型、ネガ型、化学増幅型、非化学増幅型のあらゆる感光性樹脂組成物を対象とすることができる。感光性樹脂組成物は、基本的には樹脂成分および光重合開始剤などの感光成分を必須成分として含有し、その他にモノマー成分、界面活性剤、酸成分、含窒素有機化合物、顔料、溶剤などを含有する場合がある。

本願発明に係る洗浄剤が特に洗浄効果を発揮する感光性樹脂組成物は、顔料が分散された感光性樹脂組成物であり、さらに好ましくは、赤（R）、緑（G）、青（B）のカラーフィルター形成用感光性樹脂組成物、ブラックマトリックスパターン形成用感光性樹脂組成物である。

上記樹脂成分としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸などのカルポキシ基を有するモノマーから選ばれる一種以上と、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、N-ブチルアクリレート、N-ブチルメタクリレート、イソブチルアクリート、イソブチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシアクリレート、フェノキシメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、スチレン、アクリルアミド、アクリロニトリルなどから選ばれる一種以上との共重合体、フェノールノボラック型エポキシアタリレート重合体、フェノールノボラック型エポキシメタクリレート重合体、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート重合体、クレゾールノポラック型エポキシメタクリレート重合体、ビスフェノールA型エポキシアクリレート重合体、ビスフェノールS型エポキシアタリレート重合体などの樹脂が挙げられる。

上記光重合開始剤としては、1-ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-[4-(2-ヒドロキンエトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-(4-ドデシルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、ビス(4-ジメチルアミノフェニル)ケトン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-ベンゾイル-4'-メチルジメチルスルフィド、4-ジメチルアミノ安息香酸、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4-ジメチルアミノ-2-エチルヘキシル安息香酸、4-ジメチルアミノ-2-イソアミル安息香酸、ベンジル-β-メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルポニル)オキシム、o-ベンゾイル安息香酸メチル、2,4-ジエチルチオキサントン、2-タロロチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、2-クロロチオキサンテン、2,4-ジエチルチオキサンテン、2-メチルチオキサンテン、2-イソプロピルチオキサンテン、2-エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2-ベンズアントラキノン、2,3-ジフェニルアントラキノン、アゾビス(イソプチロ)ニトリル、ベンゾイルペルオキシド、クメンペルオキシド、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジ(m-メトキシフェニル)-イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、2-クロロベンゾフェノン、p,p'-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’-ジクロロベンゾフェノン、3．3-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロビルエーテル、ペンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、p-ジメチルアセトフェノン、p-ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p-tert-ブチルアセトフェノン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、p-tert-ブチルトリクロロアセトフェノン、p-tert-ブチルジクロロアセトフェノン、α,α-ジクロロ-4-フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、2-メチルチオキサントン、2-イノプロビルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル-4-ジメチルアミノベンゾェート、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス-(9-アクリジニル)ヘプタン、1,5-ビス-(9-アクリジニル)ペンタン、1,3-ビス(9-アクリジニル)プロパン、p-メトキシトリアジン、2,4,6-トリス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(5-メチルフラン-2-イル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(フラン-2-イル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(3,4-ジメトキシフェニル)エテニル］-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-エトキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-n-ブトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(3-ブロモ-4-メトキシ)フェニル-s-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(2-ブロモ-4-メトキシ)フェニル-s-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(3-ブロモ-4-メトキシ)スチリルフェニル-s-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(2-ブロモ-4-メトキシ)スチリルフェニル-s-トリアジンなどを挙げることができる。

上記顔料としては、例えば
C.I.Pigment Yellow 11,24,31,53,83,99,108,109,139,150,151,154,167,180,185,193；
C.I.Pigment Orange 36,38,43；
C.I.Pigment Red 105,122,149,150,155,171,175,176,177,209,224,254,264；
C.I.Pigment Violet 19,23,32,39；
C.I.Pigment Blue 1,2,15:1,15:2,15:3,16,22,60,66；
C.I.Pigment Green 7,36,37；
C.I.Pigment Brown 25,28；
C.I.Pigment Black 1,7；
カーボンブラックなどが挙げられる。

このようなカラーフィルター形成用、またはブラックマトリックスパターン形成用の感光性樹脂組成物については多くの提案がなされており、例えば特開２００４−６９７５４号公報、特開平１１−２３１５２３号公報、特開平１１−８４１２５号公報、特開平１０−２２１８４３号公報、特開平９−２６９４１０号公報、特開平１０−９０５１６号公報等に記載の感光性材料等が好ましく用いられる。

本願発明に係る洗浄剤は、少なくとも１つのアルキル基を有する芳香族化合物を２種類以上含んでいる。さらに、各芳香族化合物における全アルキル基の炭素の総数は3〜5である。前記芳香族化合物としては、トリメチルベンゼン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、プロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン、エチルメチルベンゼン、エチルジメチルベンゼン、メチルプロピルベンゼン等が挙げられる。

前記芳香族化合物としては、トリメチルベンゼン、エチルメチルベンゼン、(1-メチル)-エチルベンゼンを含有してものが好ましい。さらに、トリメチルベンゼン、エチルメチルベンゼン、(1-メチル)-エチルベンゼンの全芳香族化合物に対する含有量がガスクロマトグラフィーのエリア面積比で50〜99％であることが好ましい。

また、芳香族炭化水素と他の溶剤（芳香族炭化水素以外の溶媒）との混合系が好ましい。芳香族炭化水素と他の溶剤とを混合して用いることにより、洗浄性や速乾性などの特性をコントロールすることが容易となる。また顔料分散型樹脂組成物の種類に応じた最適な組成制御も容易となる。

洗浄剤中の芳香族炭化水素の含有量は、1〜50質量％程度が好ましく、10〜40質量％の範囲内で用いることがさらに好ましい。この範囲で用いることにより、顔料成分、ポリマー成分、低分子量の有機化合物成分等をバランス良く洗浄除去することができ、また洗浄後の洗浄剤中におけるカーボンやその他顔料成分の沈降現象を抑制することができる。

芳香族炭化水素以外の溶剤としては、顔料分散型樹脂組成物を構成するポリマー成分や低分子量の有機化合物成分などに対する良溶媒の中から選択することが好ましい。さらに、洗浄対象となる顔料分散型樹脂組成物の溶剤として好ましいものの中から選択することが好ましい。

本洗浄剤に含まれる芳香族炭化水素以外の溶剤としては、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、2-プロポキシエタノール、2-ブトキシエタノール、1,2-ジメトキシエタン、1,2-ジエトキシエタン、1,2-ジプロポキシエタン、1-メトキシ-2-プロパノール、1-エトキシ-2-プロパノール、1-プロポキシ-2-プロパノール、1-ブトキシ-2-プロパノール、1,2-ジメトキシプロパン、1,2-ジエトキシプロパン、2-(2-メトキシエトキシ)エタノール、2-(2-エトキシエトキシ)エタノール、2-(2-フェノキシエトキシ)エタノール、ビス(2-メトキシエチル)エーテル、ビス(2-エトキシエチル)エーテル、2-メトキシエチルアセテート、2-エトキシエチルアセテート、2-プロポキシエチルアセテート、2-ブトキシエチルアセテート、2-フェノキシエチルアセテート、2-(2-メトキシエトキシ)エチルアセテート、2-(2-エトキシエトキシ)エチルアセテート、2-(2-プロポキシエトキシ)エチルアセテート、2-(2-ブトキシエトキシ)エチルアセテート、2-(2-フェノキシエトキシ)エチルアセテート、2-(1-メトキシ)プロピルアセテート、2-(1-エトキシ)プロピルアセテート、2-(1-プロポキシ)プロピルアセテート、2-(1-ブトキシ)プロピルアセテート、3-メトキシブチルアセテート、4-メトキシブチルアセテート、2-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-エチル-3-メトキシブチルアセテート、2-エトキシブチルアセテート、4-エトキシブチルアセテート、4-プロポキシブチルアセテート、2-メトキシペンチルアセテート、3-メトキシペンチルアセテート、4-メトキシペンチルアセテート、2-メチル-3-メトキシペンチルアセテート、3-メチル-3-メトキシペンチルアセテート、3-メチル-4-メトキシペンチルアセテート、4-メチル-4-メトキシペンチルアセテート、アセトン、エチルメチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エチルイソプチルケトン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、2-ヒドロキシプロビオン酸メチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、メチル-3-メトキシプロピオネート、エチル-3-メトキシプロピオネート、エチル-3-エトキシプロピオネート、エチル-3-プロポキシプロピオネート、プロピル-3-メトキシプロピオネート、イソプロピル-3-メトキシプロピオネート、エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、ピルビン酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸エチルヘキシル、ベンジルメチルエーテル、ベンジルエチルエーテル、ジへキシルエーテル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ-ブチロラクトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、ブタノール、3-メチル-3-メトキシブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、エタンジオール、グリセリン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等を挙げることができる。これらの溶剤は、1種または２種以上用いてもよい。

中でも好ましいものは、前述のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ブチル、γ-ブチロラクトン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドが挙げられ、これらのうちの少なくとも２種を含有することがより好ましい。本願発明の洗浄剤には、界面活性剤を配合することが好ましい。上記界面活性剤としては、カラーフィルター形成用感光性樹脂組成物およびブラックマトリックスパターン形成用感光性樹脂組成物の構成成分として知られている界面活惟剤を使用できるが、洗浄対象の感光性樹脂組成物に含まれる界面活性剤が予めわかっている場合は、それと同種の界面活性剤が好ましい。

界面活性剤の例としては、フッ素-ケイ素系界面活性剤が挙げられる。中でもペルフルオロアルキルエステル基とアルキルシロキサン基とエチレンオキシ基とプロピレンオキン基が結合した非イオン性フッ素-ケイ素系界面活性剤（E-1）が好ましい。具体例としては、例えば、製品名メガファックR-08、R-60（大日本インキ化学工業社製）等が挙げられる。

またフッ素含有量が10〜25質量％であり、かつケイ素含有量が3〜10質量％の界面活性剤成分（E-2）も好ましい。具体例としては、製品名 X-70-090、X-70-091、X-70-092、X-70-093（信越化学工業社製）等が挙げられる。

また特定のシロキサン骨格を有するポリエステル変性ポリジアルキルシロキサン系界面活性剤（E-3）も好ましい。具体例としては製品名 BYK-310、BYK-315（ビックケミー社製）等が挙げられる。

上記（E-1）〜（E-3）以外の界面活性剤の具体例として、製品名フロラードFC-430、FC431（住友スリーエム社製）、エフトップEF122A、EF122B、EF122C、EF126（トーケムプロダクツ社製）等のフッ素系界面活性剤が挙げられる。

界面活性剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
本願発明の洗浄剤における界面活性剤の含有量は、該組成物中における界面活性剤の濃度が0.0001〜1.0質量％であることが好ましく、0.001〜1.0質量％であることがより好ましい。

界面活性剤の配合量が上記範囲の下限値以上であれば、界面活性剤の添加効果が得られる。また上記範囲の上限値以下とすることにより、洗浄後に残留している洗浄剤と感光性樹脂組成物とが接触したときに、感光性樹脂組成物中の界面活性剤濃度が必要以上に増大するのが防止される。感光性樹脂組成物中の界面活性剤濃度が高すぎると、泡が発生しやすく、かえって塗布ムラが生じやすくなり、さらには塗膜にピンホールが発生する場合もある。

前記界面活性剤としては、ケイ素系界面活性剤が好ましい。さらに、ケイ素系界面活性剤は、洗浄剤におけるケイ素含有量が１〜３０ppmとなるように添加することが好ましく、１〜２０ppmとなるように添加することがより好ましい。これにより洗浄剤における表面張力をコントロールことができ、洗浄性を向上させることができる。

また洗浄対象の感光性樹脂組成物に含まれている界面活性剤の濃度が予めわかっている場合には、該濃度と洗浄剤における界面活性剤濃度を同程度にすることが表面自由エネルギーの均衡の観点から好ましい。

本願発明の洗浄剤は、感光性樹脂組成物を基板に塗布した後に、基板上の不要な感光性樹脂組成物を除去するのに用いられるほか、塗布工程に使用される塗布装置のノズル、ローラー、配管等に付着した感光性樹脂組成物の洗浄に好適に用いられる。

本願発明によれば、感光性樹脂組成物を洗浄する洗浄性に優れた洗浄剤が得られる。本発明の洗浄剤は、特にカラーフィルターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物に対して優れた洗浄性を有する。

本願発明の洗浄剤は、一種の溶剤だけから構成してもよいが、洗浄性、乾燥性、洗浄された顔料の沈降防止、等の種々の特性を満足させるために、複数種の溶剤を用いた混合溶剤である方が、バランスの取れた洗浄剤を容易に設計することができる意味で好ましい。

本願発明の、感光性樹脂組成物の樹脂成分に対する良溶媒を含有する洗浄剤によれば、該溶剤によって洗浄除去された感光性樹脂組成物中に分散していたカーボン等の顔料粒子の凝集が抑えられ、洗浄剤中に顔料が効率良く分散される。すなわち、洗浄剤中における顔料の分散性が悪いと、いったん洗浄除去された顔料粒子が凝集して被洗浄面に沈降しやすくなるが、これを防止して洗浄残りをなくすことできる。

特に、芳香族系溶剤を用いると、カーボンの凝集、沈降を抑制するうえで好ましい。特にアルキル基および／またはアルコキシ基を有する芳香族系溶剤を含有させると、カーボンを効率良く分散させることができるので好ましい。

これは、芳香環のπ電子がカーボンとの親和性に寄与し、アルキル基および／またはアルコキシ基が、感光性樹脂組成物の樹脂成分に対する良溶媒との親和性に寄与し、その結果、洗浄剤とカーボンとの良好な親和性が得られるためと考えられる。

したがって、特にブラックマトリックスパターン形成用の黒色顔料（特に、カーボン）分散型の感光作樹脂組成物に対して有効である。
また、吐出ノズル先端部分を洗浄する場合、洗浄剤がノズル等に付着した状態のままでいると、洗浄後に再び感光性樹脂組成物を吐出する際、ノズル等に付着していた洗浄剤が感光惟樹脂組成物に溶け込み、感光性樹脂組成物の組成を変化させることになる。このことは感光性樹脂組成物の塗布性等の特性劣化につながるおそれがあり、例えば塗布ムラ発生の原因となる場合がある。特に、感光性樹脂組成物に界面活性剤が配合されている場合は、洗浄剤との接触によって該界面活性剤濃度が低下し、その結果、塗布ムラが発生しやすい。

本発明によれば、乾燥性（速乾性）に優れた洗浄剤を提供することができ、これによって、感光件樹脂組成物への洗浄剤の溶け込みを抑制することができる。特に、1-アルコキシ-2-プロパノールを含有させると、乾燥性の向上に有効である。

さらに、界面活性剤を含有する洗浄剤によれば、感光性樹脂組成物に残留していた洗浄剤が溶け込んでも、感光性樹脂組成物中における界面活性剤濃度の低下を抑えることができ、塗布ムラの発生を防止することができる。

以下、本願発明の実施例および比較例を説明するが、本願発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
（洗浄性評価）
ポリエチレン製の1ミリリットルチューブ内にブラックマトリックスパターン形成用感光性樹脂組成物である「CFPR BK-5005SL」（東京応化工業株式会社製）1mlを吸い取ったのち排出した。次いで当該ピペット内を洗浄剤で洗浄処理を行い、洗浄具合を目視にて確認し、洗浄完了までに必要であった洗浄剤の使用量を計測し、比較した。

また、以下の実施例において、「芳香族炭化水素類」とは、トリメチルベンゼン、エチルメチルベンゼン、(1-メチル)-エチルベンゼンの三種の化合物を含むものを用いた。
（実施例１）
芳香族炭化水素類：ＰＧＭＥ：N,N-ジメチルアセトアミド＝2：6：2（重量比）の洗浄剤を調製した。
（実施例２）
芳香族炭化水素類：2-ヘプタノン：酢酸ブチル＝2：1：7（重量比）の洗浄剤を調製した。
（実施例３）
芳香族炭化水素類：ＰＧＭＥ：酢酸ブチル＝2：6：2（重量比）の洗浄剤を調製した。
（比較例１）
ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ：トルエン＝6：2：2（重量比）の混合洗浄剤を調製した。
（比較例２）
ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ：キシレン＝6：2：2（重量比）の洗浄剤を調製した。
（比較例３）
ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ：アニソール＝6：2：2（重量比）の洗浄剤を調製した。
（比較例４）
ＰＧＭＥＡを洗浄剤として用いた。
（比較例５）
ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ＝７：３洗浄剤を調製し、洗浄性評価を行った。
（比較例６）
製品名「ソルベッソ100」（エクソン化学社製）を洗浄剤として用いた。

上記各実施例および比較例の洗浄剤による洗浄性評価の結果を下記表１に示す。

なお、実施例１または２の洗浄剤に界面活性剤（製品名「Additol XL 121」（ソルーシア社製））50ppmを配合し、洗浄剤を調製して用いたことにより、緑（G）の顔料を洗浄する際に、顔料の凝集・沈降を防止することができた。

以上に述べたように、本願発明に係る洗浄剤は、従来品に較べ、より少量で洗浄効果を発揮し、かつ顔料の凝集・沈降が起きにくい、顔料分散型感光性組成物を除去するための洗浄剤として有用である。

Claims

感光性樹脂組成物を除去するための洗浄剤であって、少なくとも１つのアルキル基を有する芳香族化合物を２種類以上含有し、該芳香族化合物における全アルキル基の炭素の総数が3〜5であることを特徴とする洗浄剤。
前記芳香族化合物の前記洗浄剤に対する含有量が10〜40質量％であることを特徴とする、請求項１記載の洗浄剤。
前記芳香族化合物が、1〜3個のアルキル基をもつ単環化合物であることを特徴とする、請求項１または２記載の洗浄剤。
前記芳香族化合物がトリメチルベンゼンとエチルメチルベンゼンを含有することを特徴とする請求項３記載の洗浄剤。
前記芳香族系化合物と、前記芳香族系化合物以外の溶剤との混合物で構成されている洗浄剤であって、該芳香族系化合物以外の溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ブチル、N,N-ジメチルホルムアミド、γ-ブチロラクトン、N,N-ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、1-(3-メトキシ)ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、3-エトキシプロピルアセテート、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸オクチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸ペンチル、乳酸ヘキシル、乳酸ヘプチル、乳酸オクチル、アセトン、4-メチル-2-ペンタノン、2-ブタノン、2-ヘプタノン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、ジオキサン、オキセタン、フェノール、クレゾール、キシレノール、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルスルホキシド、から選ばれる少なくとも一種からの混合物で構成されていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の洗浄剤。
該芳香族系化合物以外の溶剤は、N,N-ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよび酢酸ブチルから選択される少なくとも一種類を含むことを特徴とする請求項５に記載の洗浄剤。
請求項１〜６のいずれか一項に記載の洗浄剤であって、ケイ素系界面活性剤を含有することを特徴とする洗浄剤。