JP4727344B2 - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4727344B2 JP4727344B2 JP2005230977A JP2005230977A JP4727344B2 JP 4727344 B2 JP4727344 B2 JP 4727344B2 JP 2005230977 A JP2005230977 A JP 2005230977A JP 2005230977 A JP2005230977 A JP 2005230977A JP 4727344 B2 JP4727344 B2 JP 4727344B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive composition
- ether
- solvent
- acetate
- methyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
上記感光性組成物を基板に塗布する際には、近年スリットノズルを用いる方法が用いられるようになってきており、基板上に異物と呼ばれる凝集体が発生するという問題が生じている。この異物は、ブラックマトリクスおよび/またはカラーフィルタの欠陥となり、製品として使用できなくなってしまう。また、この異物は、カーボンブラック等の黒色顔料を用いた感光性組成物で顕著な問題となっている。
このような問題を解決するために、特許文献1では、特定の物性値が特定の関係にある混合溶剤を用いた樹脂組成物が記載されているが、異物対策としては十分とはいえない。
上記ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルとしては、下記式(1)
R1−O−CnH2n−O−CnH2n−OH (1)
(ここで、R1は、炭素数1〜8の直鎖、分岐鎖あるいは環状のアルキル基、またはアリール基を示し、nは2〜5の整数を示す)
で表される溶剤が好ましい。
C.I.ピグメントバイオレット1(以下、「C.I.ピグメントバイオレット」は同様で番号のみ記載する。)、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、50;
C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン37;
C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25、C.I.ピグメントブラウン26、C.I.ピグメントブラウン28;
C.I.ピグメントブラック1、ピグメントブラック7。
また、式(I)で示される化合物のZは、例えば無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等のテトラカルボン酸二無水物から2個のカルボン酸無水物基を除いた残基である。
これら光重合性化合物は、1種または2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記(b−1)高分子バインダーとしては、現像の容易さからアルカリ現像が可能なバインダーが好ましい。
具体的には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基を有するモノマーと、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、N−ブチルアクリレート、N−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリート、イソブチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシアクリレート、フェノキシメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、スチレン、アクリルアミド、アクリロニトリルなどとの共重合体、およびフェノールノボラック型エポキシアクリレート重合体、フェノールノボラック型エポキシメタクリレート重合体、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート重合体、クレゾールノボラック型エポキシメタクリレート重合体、ビスフェノールA型エポキシアクリレート重合体、ビスフェノールS型エポキシアクリレート重合体、などの樹脂が挙げられる。前記樹脂にはアクリロイル基またはメタクリロイル基が導入されているところから架橋効率が高められ塗膜の耐光性、耐薬品性が優れている。前記樹脂を構成するアクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基を有するモノマー成分の含有量は5〜40重量%の範囲がよい。この高分子バインダーの重量平均分子量の好ましい範囲は1,000〜100,000である。重量平均分子量が1,000以上にすることにより塗膜を均一にすることができる。また、100,000以下にすることにより現像性を良好にすることができる。
さらに、(b−2)成分は、(b−1)成分と(b−2)成分および(c)光重合開始剤の合計100重量部当り15〜50重量部の範囲で配合されることが好ましい。前記配合量が15重量部以上にすることにより、光硬化不良を防止し、十分な耐熱性、耐薬品性を得ることができる。また50重量部以下にすることにより、塗膜形成能を良好にすることができる。
この光重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾル−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4−ベンゾイル−4’−メチルジメチルスルフィド、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4−ジメチルアミノ−2−エチルヘキシル安息香酸、4−ジメチルアミノ−2−イソアミル安息香酸、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、2−クロロチオキサンテン、2,4−ジエチルチオキサンテン、2−メチルチオキサンテン、2−イソプロピルチオキサンテン、2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド、2−メルカプトベンゾイミダール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p'−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、α,α−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス−(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス−(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス−(9−アクリジニル)プロパン、p−メトキシトリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(フラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジンなどを挙げることができる。
この光開始助剤としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル、安息香酸2−ジメチルアミノエチル、N,N−ジメチルパラトルイジン、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(通称ミヒラーズケトン)、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、9,10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。これら光開始助剤は、1種または2種以上組み合わせて用いてもよい。
上記ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルとしては、例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノ2−エチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル等が挙げられる。
このジアルキレングリコールモノアルキルエーテルとしては、下記式(1)
R1−O−CnH2n−O−CnH2n−OH (1)
(ここで、R1は、炭素数1〜8の直鎖、分岐鎖あるいは環状アルキル基、またはアリール基を示し、nは2〜5の整数を示す)
で表される溶剤が好ましい。
R1としては、特に、炭素数1〜8の直鎖状アルキル基が好ましく、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基がより好ましい。さらに、nは2または3であることが好ましい。
上記の溶剤の中でも、特に、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルが好ましい。
該溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、2−メトキシブチルアセテート、3−メトキシブチルアセテート(MBA)、4−メトキシブチルアセテート、2−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−エチル−3−メトキシブチルアセテート、2−エトキシブチルアセテート、4−エトキシブチルアセテート、4−プロポキシブチルアセテート、2−メトキシペンチルアセテート、3−メトキシペンチルアセテート、4−メトキシペンチルアセテート、2−メチル−3−メトキシペンチルアセテート、3−メチル−3−メトキシペンチルアセテート、3−メチル−4−メトキシペンチルアセテート、4−メチル−4−メトキシペンチルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エチルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、メチル−3−メトキシプロピオネート、エチル−3−メトキシプロピオネート、エチル−3−エトキシプロピオネート、エチル−3−プロポキシプロピオネート、プロピル−3−メトキシプロピオネート、イソプロピル−3−メトキシプロピオネート、エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、ピルビン酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸エチルヘキシル、ベンジルメチルエーテル、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等を挙げることができる。この中で、特に経時安定性の点で、3−メトキシブチルアセテートを含むことが好ましい。
溶剤の使用量は特に限定しないが、感光性組成物を基板等に塗布可能な濃度で、塗布膜厚に応じて適宜設定される。本発明における感光性組成物の粘度は、1〜100cp、好ましくは2〜50cp、より好ましくは2〜10cpである。また、固形分濃度は、5〜100質量%であることが好ましく、10〜40質量%であることがより好ましい。
上記のように、溶剤としてジアルキレングリコールモノアルキルエーテルを用いることにより、異物の発生を抑制することができる。特に、着色剤として、カーボンブラックを用いる場合には特に異物の発生を抑制することができる。さらに、感光性組成物から形成される膜の表面荒れの発生を向上させることができる。そしてさらに、感光性組成物をスピンコータを用いて塗布する場合には、膜厚均一性を向上させることができる。
また、上記ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルは、感光性組成物における全溶剤中1〜50質量%含まれることが好ましく、3〜30質量%含まれることがより好ましく、5〜15質量%であることがさらにより好ましい。さらに、3−メトキシブチルアセテートを組み合わせる場合、3−メトキシブチルアセテートは、感光性組成物における全溶剤中40〜85質量%含まれることが好ましい。
さらに、上記ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルの中でも、沸点が150℃〜210℃であるものが好ましく、170℃〜190℃であるものがより好ましい。この範囲にすることにより、感光性組成物の塗布性が向上することともに、乾燥性を向上させることができる。特に、スリットノズルで塗布するノンスピンコータを用いた場合には、スリットノズルの先端で感光性組成物が乾燥して固化して不良となるのを抑え、さらに塗布後の塗布膜の乾燥性を良好なものにすることができる。
上記熱重合禁止剤としては、従来公知のものであってよく、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノエチルエーテル等が挙げられる。
上記消泡剤としては、従来公知のものであってよく、シリコーン系、フッ素系化合物が挙げられる。
上記界面活性剤としては、従来公知のものであってよく、アニオン系、カチオン系、ノニオン系等の化合物が挙げられる。
本発明の感光性組成物は、以下の方法により調製することができる。
(a)着色剤、(b)光重合性化合物、(c)光重合開始剤、および(d)溶剤、ならびに必要に応じて有機添加剤等を加えて3本ロールミル、ボールミル、サンドミル等の撹拌機で混合(分散・混練)し、例えば5μmメンブランフィルターで濾過して感光性組成物を調製する。
以下、本発明の感光性組成物を用いて遮光層を形成する方法の一実施形態として、ブラックマトリクスを形成する方法の例を説明する。
まず着色剤として遮光剤を用いた感光性組成物を、基板上にロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー(回転式塗布装置)、カーテンフローコータ、スリットノズルで塗布するノンスピンコータ等の非接触型塗布装置を用いて塗布する。基板は、光透過性を有する基板が用いられ、例えばガラス基板である。
上記感光性組成物の塗布後、乾燥させて溶剤を除去する。
次いで、ネガ型のマスクを介して、紫外線、エキシマレーザー光等の活性性エネルギー線を照射して部分的に露光する。露光には高圧水銀燈、超高圧水銀燈、キセノンランプ、カーボンアーク燈等の紫外線を発する光源を用いることができる。照射するエネルギー線量は、感光性組成物の組成によっても異なるが、例えば30〜2000mJ/cm2程度が好ましい。
露光後の膜を、現像液を用いて現像することによってブラックマトリクスを形成する。現像方法は特に限定されず、例えば浸漬法、スプレー法等を用いることができる。またプリウエットを採用してもよい。画像形成後現像液の乾燥、レジスト膜の硬化を高める目的でポストベーク、後光硬化等を採用してもよい。現像液の具体例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系のものや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、4級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。
上記のブラックマトリクスを形成した基板に対して、感光性組成物を上記と同様に塗布、乾燥、露光、現像して所定の色の着色層を、ブラックマトリクスの所定の位置(開口部)にパターン(ストライプまたはドット等)が形成されるようにする。例えば、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のRGBのカラーフィルタを製造する場合には、R,G,Bの各色の着色剤を含有する感光性組成物を用いて、前記工程を繰り返し、3色の着色層を形成する。
以上より、カラーフィルタを形成することができる。
まず、特開2001−354735号公報に記載の方法に従って下記式(I)で示される化合物1を合成した。
すなわち、500ml四つ口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂235g(エポキシ当量235)とテトラメチルアンモニウムクロライド110mg、2,6−ジ−tertブチル−4−メチルフェノール100mg及びアクリル酸72.0gを仕込み、これに25ml/分の速度で空気を吹き込みながら90〜100℃で加熱溶解した。次ぎに、溶液が白濁した状態のまま徐々に昇温し、120℃に加熱して完全溶解させた。ここで溶液は次第に透明粘稠になったがそのまま撹拌を継続した。この間、酸価を測定し、1.0mgKOH/g未満になるまで加熱撹拌を続けた。酸価が目標に達するまで12時間を要した。そして室温まで冷却し、無色透明で固体状の式(III)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートを得た。
この化合物1を主な光重合性化合物として、本発明の感光性組成物を調製した。
(a)成分として、
(a−1)カーボン分散液CFブラックEX−1455(高抵抗カーボン:24%、分散剤5%、不揮発性成分:29%、溶剤:3−メトキシブチルアセテート、御国色素製)100質量部
(b−1)上記化合物1(55%固形分、溶剤:3−メトキシブチルアセテート(MBA)、分子量3400) 40質量部
(b−2)ジペンタエリスリトールテトラアクリレート 10質量部
(c−1)エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾル−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)、(CGI242:チバスペシャリティーケミカルズ製) 2質量部
(c−2)2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1オン、(イルガキュア369:チバガイギー社製) 1質量部
を用いた。
(d−1)ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(DPM)
(d−2)3−メトキシブチルアセテート(MA)
(d−3)シクロヘキサノン
(d−4)プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
を用い、固形分濃度が16質量%となるとともに、感光性組成物における全溶剤に対する割合が表1に示す割合となるように溶剤を調整した。
さらに、参考例1および比較例1の感光性組成物を550mm×650mmのガラス基板上にスピンコートにて塗布し、基板のエッジからの距離における膜厚を測定した。
その結果を図1に示す。図1から見てわかるとおり、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルを使用することにより、膜厚均一性が向上することが明らかである。
Claims (6)
- (a)着色剤、(b)光重合性化合物、(c)光重合開始剤および(d)溶剤を含有する感光性組成物であって、
(d)溶剤として、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルおよび3−メトキシブチルアセテートを含み、
上記ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルは、感光性組成物における全溶剤中3〜30質量%であり、
上記3−メトキシブチルアセテートは、感光性組成物における全溶剤中50〜85質量%であることを特徴とする感光性組成物。 - 上記ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルは、下記式(1)
R1−O−CnH2n−O−CnH2n−OH (1)
(ここで、R1は、炭素数1〜8の直鎖、分岐鎖あるいは環状のアルキル基、またはアリール基を示し、nは2〜5の整数を示す)
で表される溶剤であることを特徴とする請求項1に記載の感光性組成物。 - 上記R1は、炭素数1〜4の直鎖状アルキルであることを特徴とする請求項2に記載の感光性組成物。
- nは2または3であることを特徴とする請求項2または3に記載の感光性組成物。
- 上記式(1)で表される溶剤は、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルであることを特徴とする請求項2に記載の感光性組成物。
- 上記(a)着色剤は、カーボンブラックを含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の感光性組成物。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005230977A JP4727344B2 (ja) | 2005-06-09 | 2005-08-09 | 感光性組成物 |
TW095116290A TWI309339B (en) | 2005-06-09 | 2006-05-08 | Photosensitive composition |
KR1020060048258A KR20060128653A (ko) | 2005-06-09 | 2006-05-29 | 감광성 조성물 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005168963 | 2005-06-09 | ||
JP2005168963 | 2005-06-09 | ||
JP2005230977A JP4727344B2 (ja) | 2005-06-09 | 2005-08-09 | 感光性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007017924A JP2007017924A (ja) | 2007-01-25 |
JP4727344B2 true JP4727344B2 (ja) | 2011-07-20 |
Family
ID=37731252
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005230977A Active JP4727344B2 (ja) | 2005-06-09 | 2005-08-09 | 感光性組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4727344B2 (ja) |
KR (1) | KR20060128653A (ja) |
TW (1) | TWI309339B (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5270814B2 (ja) * | 2005-08-11 | 2013-08-21 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物用着色剤分散液 |
KR100818219B1 (ko) * | 2005-08-11 | 2008-04-01 | 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 | 착색제 분산액 및 그것을 이용한 감광성 조성물 |
CN101965375B (zh) * | 2008-03-25 | 2014-05-28 | 综研化学株式会社 | 感光性树脂以及利用其的感光性树脂组合物 |
JP5415128B2 (ja) * | 2008-04-18 | 2014-02-12 | 住友化学株式会社 | 着色感光性樹脂組成物ならびにそれを用いて形成されたパターン及びカラーフィルタ |
JP5291405B2 (ja) * | 2008-07-31 | 2013-09-18 | 東京応化工業株式会社 | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ |
JP6031807B2 (ja) * | 2012-04-13 | 2016-11-24 | Jsr株式会社 | 着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 |
JP5602895B2 (ja) * | 2013-02-08 | 2014-10-08 | 東京応化工業株式会社 | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ |
JP5485433B2 (ja) * | 2013-02-08 | 2014-05-07 | 東京応化工業株式会社 | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ |
JP5602894B2 (ja) * | 2013-02-08 | 2014-10-08 | 東京応化工業株式会社 | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ |
JP6717644B2 (ja) * | 2016-04-08 | 2020-07-01 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002285007A (ja) * | 2001-03-27 | 2002-10-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 黒色樹脂組成物、黒色被膜、ブラックマトリックス基板および黒色樹脂組成物の製造方法 |
JP2004212944A (ja) * | 2002-12-19 | 2004-07-29 | Jsr Corp | カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタ、カラー液晶表示装置およびカラーフィルタ用着色層の形成方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3360866B2 (ja) * | 1993-03-31 | 2003-01-07 | 東京応化工業株式会社 | カラーフィルタ用感光性樹脂組成物 |
JP3421415B2 (ja) * | 1994-03-09 | 2003-06-30 | 日立化成工業株式会社 | 着色画像形成材料、これを用いた感光液、感光性エレメント、カラーフィルターの製造法及びカラーフィルター |
JPH0815520A (ja) * | 1994-06-29 | 1996-01-19 | Hitachi Chem Co Ltd | カラーフイルタ用感光性樹脂組成物、これを用いた感光性フィルム、カラーフイルタの製造法及びカラーフイルタ |
JPH0915844A (ja) * | 1995-06-29 | 1997-01-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 着色画像形成用感光液、これを用いたカラーフィルタの製造法及びカラーフィルタ |
JP3787917B2 (ja) * | 1996-10-02 | 2006-06-21 | 日立化成工業株式会社 | 着色画像形成用感光液、これを用いたカラーフィルターの製造法及びカラーフィルター |
-
2005
- 2005-08-09 JP JP2005230977A patent/JP4727344B2/ja active Active
-
2006
- 2006-05-08 TW TW095116290A patent/TWI309339B/zh active
- 2006-05-29 KR KR1020060048258A patent/KR20060128653A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002285007A (ja) * | 2001-03-27 | 2002-10-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 黒色樹脂組成物、黒色被膜、ブラックマトリックス基板および黒色樹脂組成物の製造方法 |
JP2004212944A (ja) * | 2002-12-19 | 2004-07-29 | Jsr Corp | カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタ、カラー液晶表示装置およびカラーフィルタ用着色層の形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI309339B (en) | 2009-05-01 |
TW200700917A (en) | 2007-01-01 |
KR20060128653A (ko) | 2006-12-14 |
JP2007017924A (ja) | 2007-01-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4727344B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP4657808B2 (ja) | 感光性組成物および該感光性組成物から形成されたカラーフィルタ | |
JP5096814B2 (ja) | 着色感光性組成物 | |
CN106019837B (zh) | 着色感光性树脂组合物、滤色器和具备其的图像显示装置 | |
JP5291405B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | |
JP5843907B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | |
JP4510672B2 (ja) | 感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ | |
JP2008122806A (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
JP5122168B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | |
JP4675693B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP5249588B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
JP2008122805A (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
JP5329192B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
KR100996046B1 (ko) | 착색 감광성 수지 조성물, 블랙 매트릭스, 컬러 필터, 및액정 표시 디스플레이 | |
JP4855006B2 (ja) | 不飽和基含有化合物の製造方法 | |
JP5270814B2 (ja) | 感光性組成物用着色剤分散液 | |
JP2009300642A (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
JP5085342B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
JP2006133338A (ja) | 遮光膜形成用感光性組成物、該遮光膜形成用感光性組成物で形成されたブラックマトリクス | |
JP5602895B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | |
JP4611724B2 (ja) | 遮光膜形成用感光性組成物、該遮光膜形成用感光性組成物で形成されたブラックマトリクス | |
JP5485433B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | |
JP5602894B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | |
KR100818219B1 (ko) | 착색제 분산액 및 그것을 이용한 감광성 조성물 | |
JP2009276615A (ja) | 着色感光性樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080514 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100630 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100706 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100827 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101124 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110114 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110412 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110413 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4727344 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140422 Year of fee payment: 3 |