JP4657808B2 - 感光性組成物および該感光性組成物から形成されたカラーフィルタ - Google Patents
感光性組成物および該感光性組成物から形成されたカラーフィルタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4657808B2 JP4657808B2 JP2005151663A JP2005151663A JP4657808B2 JP 4657808 B2 JP4657808 B2 JP 4657808B2 JP 2005151663 A JP2005151663 A JP 2005151663A JP 2005151663 A JP2005151663 A JP 2005151663A JP 4657808 B2 JP4657808 B2 JP 4657808B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- photosensitive composition
- compound
- acrylate
- color filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0755—Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0751—Silicon-containing compounds used as adhesion-promoting additives or as means to improve adhesion
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/085—Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
これらブラックマトリクスおよび着色層には、特に液晶パネルにおいての信頼性を確保するために基板との高い密着性が要求される。これに対して、特許文献1では、着色感光性樹脂組成物にアミン系シランカップリング剤を添加することが記載されている。しかしながら、特許文献1ではセロハンテープを貼り付けてこのセロハンテープを剥離した場合に剥がれがあるかないかを比較したものである。これは、着色感光性樹脂組成物の硬化性を考慮したものであり、硬化性が低い場合に剥がれを生じるものである。
これに対し、特許文献1に記載のようなセロハンテープによる剥離試験では、現状では密着性の試験としては不十分であるといえる。特に、ブラックマトリクスを形成する場合には、感光性組成物に遮光剤が含まれるため、硬化性が低くなって密着性が低下し、剥がれ等が生じやすくなるという問題が生じる。
C.I.ピグメントバイオレット1(以下、「C.I.ピグメントバイオレット」は同様で番号のみ記載する。)、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、50;
C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン37;
C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25、C.I.ピグメントブラウン26、C.I.ピグメントブラウン28;
C.I.ピグメントブラック1、ピグメントブラック7。
また、式(I)で示される化合物のZは、例えば無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等のテトラカルボン酸二無水物から2個のカルボン酸無水物基を除いた残基である。
これら光重合性化合物は、1種または2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記(b−1)高分子バインダーとしては、現像の容易さからアルカリ現像が可能なバインダーが好ましい。
具体的には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基を有するモノマーと、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、N−ブチルアクリレート、N−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリート、イソブチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシアクリレート、フェノキシメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、スチレン、アクリルアミド、アクリロニトリルなどとの共重合体、およびフェノールノボラック型エポキシアクリレート重合体、フェノールノボラック型エポキシメタクリレート重合体、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート重合体、クレゾールノボラック型エポキシメタクリレート重合体、ビスフェノールA型エポキシアクリレート重合体、ビスフェノールS型エポキシアクリレート重合体、などの樹脂が挙げられる。前記樹脂にはアクリロイル基またはメタクリロイル基が導入されているところから架橋効率が高められ塗膜の耐光性、耐薬品性が優れている。前記樹脂を構成するアクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基を有するモノマー成分の含有量は5〜40重量%の範囲がよい。この高分子バインダーの重量平均分子量の好ましい範囲は1,000〜100,000である。重量平均分子量が1,000以上にすることにより塗膜を均一にすることができる。また、100,000以下にすることにより現像性を良好にすることができる。
さらに、(b−2)成分は、(b−1)成分と(b−2)成分および(c)光重合開始剤の合計100重量部当り15〜50重量部の範囲で配合されることが好ましい。前記配合量が15重量部以上にすることにより、光硬化不良を防止し、十分な耐熱性、耐薬品性を得ることができる。また50重量部以下にすることにより、塗膜形成能を良好にすることができる。
この光重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4−ベンゾイル−4’−メチルジメチルスルフィド、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4−ジメチルアミノ−2−エチルヘキシル安息香酸、4−ジメチルアミノ−2−イソアミル安息香酸、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、2−クロロチオキサンテン、2,4−ジエチルチオキサンテン、2−メチルチオキサンテン、2−イソプロピルチオキサンテン、2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド、2−メルカプトベンゾイミダール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p'−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、α,α−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス−(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス−(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス−(9−アクリジニル)プロパン、p−メトキシトリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(フラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジンなどを挙げることができる。
この光開始助剤としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル、安息香酸2−ジメチルアミノエチル、N,N−ジメチルパラトルイジン、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(通称ミヒラーズケトン)、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、9,10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。これら光開始助剤は、1種または2種以上組み合わせて用いてもよい。
この化合物としては、例えば、2級または3級アミンであるアミン系シラン化合物、イソシアネート系シラン化合物、ケチミン系シラン化合物が挙げられる。これらの化合物を用いることにより、密着性を向上させることができる。
前記アミン系シラン化合物しては、例えば、下記式
で表される化合物が挙げられる。
で表される化合物が挙げられる。
有機溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、3−メトキシブチルアセテート(MBA)、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、炭酸メチル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭酸ブチルなどが挙げられる。中でも3−メトキシブチルアセテートは感光性組成物中の可溶成分に対して優れた溶解性を示すのみならず、顔料などの不溶性成分の分散性を良好にするところから好適である。
有機溶剤の使用量は特に限定しないが、基板等に塗布可能な濃度で、塗布膜厚に応じて適宜設定される。本発明における感光性組成物の粘度は、5〜100cp、好ましくは10〜50cp、より好ましくは20〜30cpである。また、固形分濃度は、5〜100質量%、好ましくは20〜50質量%の範囲である。
上記熱重合禁止剤としては、従来公知のものであってよく、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノエチルエーテル等が挙げられる。
上記消泡剤としては、従来公知のものであってよく、シリコーン系、フッ素系化合物が挙げられる。
上記界面活性剤としては、従来公知のものであってよく、アニオン系、カチオン系、ノニオン系等の化合物が挙げられる。
本発明の感光性組成物は、以下の方法により調製することができる。
(a)着色剤、(b)光重合性化合物、(c)光重合開始剤、および(d)密着増強剤、ならびに必要に応じて有機添加剤等を加えて3本ロールミル、ボールミル、サンドミル等の撹拌機で混合(分散・混練)し、例えば5μmメンブランフィルターで濾過して感光性組成物を調製する。
以下、本発明の感光性組成物を用いて遮光層を形成する方法の一実施形態として、ブラックマトリクスを形成する方法の例を説明する。
まず着色剤として遮光剤を用いた感光性組成物を、基板上にロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー(回転式塗布装置)、カーテンフローコータ等の非接触型塗布装置を用いて塗布する。基板は、光透過性を有する基板が用いられ、例えばガラス基板である。
上記感光性組成物の塗布後、乾燥させて溶剤を除去する。
次いで、ネガ型のマスクを介して、紫外線、エキシマレーザー光等の活性性エネルギー線を照射して部分的に露光する。露光には高圧水銀燈、超高圧水銀燈、キセノンランプ、カーボンアーク燈等の紫外線を発する光源を用いることができる。照射するエネルギー線量は、感光性組成物の組成によっても異なるが、例えば30〜2000mJ/cm2程度が好ましい。
露光後の膜を、現像液を用いて現像することによってブラックマトリクスを形成する。現像方法は特に限定されず、例えば浸漬法、スプレー法等を用いることができる。またプリウエットを採用してもよい。画像形成後現像液の乾燥、レジスト膜の硬化を高める目的でポストベーク、後光硬化等を採用してもよい。現像液の具体例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系のものや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、4級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。
上記のブラックマトリクスを形成した基板に対して、感光性樹脂組成物を上記と同様に塗布、乾燥、露光、現像して所定の色の着色層を、ブラックマトリクスの所定の位置(開口部)にパターン(ストライプまたはドット等)が形成されるようにする。例えば、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のRGBのカラーフィルタを製造する場合には、R,G,Bの各色の着色剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて、前記工程を繰り返し、3色の着色層を形成する。
以上より、カラーフィルタを形成することができる。
まず、特開2001−354735号公報に記載の方法に従って下記式(I)で示される化合物1を合成した。
すなわち、500ml四つ口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂235g(エポキシ当量235)とテトラメチルアンモニウムクロライド110mg、2,6−ジ−tertブチル−4−メチルフェノール100mg及びアクリル酸72.0gを仕込み、これに25ml/分の速度で空気を吹き込みながら90〜100℃で加熱溶解した。次ぎに、溶液が白濁した状態のまま徐々に昇温し、120℃に加熱して完全溶解させた。ここで溶液は次第に透明粘稠になったがそのまま撹拌を継続した。この間、酸価を測定し、1.0mgKOH/g未満になるまで加熱撹拌を続けた。酸価が目標に達するまで12時間を要した。そして室温まで冷却し、無色透明で固体状の式(III)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートを得た。
この化合物1を主な光重合性化合物として、本発明の感光性組成物を調製した。
下記表1に示す組成にて、感光性組成物を調製した。
*2 55%固形分に調整されている。
*3 エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾル−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)、チバスペシャリティーケミカルズ製
*4 2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1オン、チバガイギー社製
また、作成された各ブラックマトリックスについて、OD測定装置D−200II(グレタグマクベス社製)にて測定したところOD値は3.5であった。
このブラックマトリクスを形成したカラーフィルタを用いて液晶パネルを作成した場合、厳しい条件下でもブラックマトリクスの剥がれがほぼ無く、液晶のもれを防止することができる。したがって、信頼性の高い液晶パネルを提供することができる。
また、黒色の顔料に代えて赤、緑または青の着色剤を用いた感光性組成物を用いれば、カラーフィルタを形成することができる。このように、赤、緑または青の着色剤を用いれば、遮光率が高い黒色の着色剤に比べ感光性は高くなる。したがって、密着性は黒色の着色剤を用いたものよりも高くなる。よって、この感光性組成物を用いれば、密着性の高いカラーフィルタを形成することができ、信頼性の高い液晶パネルを提供することができる。
Claims (2)
- (a)着色剤、(b)光重合性化合物、(c)光重合開始剤、および(d)密着増強剤を含有する感光性組成物であって、
前記(a)着色剤が遮光剤であり、
前記(b)光重合性化合物が下記式(I)で表される化合物を含み、
前記(d)密着増強剤が、N,N−ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミン、および下記式(1)で表されるアミン系シラン化合物から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする感光性組成物。
- 請求項1に記載の感光性組成物から形成された着色層を有することを特徴とするカラーフィルタ。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005151663A JP4657808B2 (ja) | 2005-05-24 | 2005-05-24 | 感光性組成物および該感光性組成物から形成されたカラーフィルタ |
TW095115076A TWI340295B (en) | 2005-05-24 | 2006-04-27 | Photosensitive composition and color filter formed from the same |
KR1020060045676A KR20060121694A (ko) | 2005-05-24 | 2006-05-22 | 감광성 조성물 및 이 감광성 조성물로 형성되는 컬러필터 |
CN2006100809187A CN1869816B (zh) | 2005-05-24 | 2006-05-22 | 光敏组合物和用该光敏组合物形成的滤色器 |
KR1020070140708A KR100932186B1 (ko) | 2005-05-24 | 2007-12-28 | 감광성 조성물 및 이 감광성 조성물로 형성되는 컬러필터 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005151663A JP4657808B2 (ja) | 2005-05-24 | 2005-05-24 | 感光性組成物および該感光性組成物から形成されたカラーフィルタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006330209A JP2006330209A (ja) | 2006-12-07 |
JP4657808B2 true JP4657808B2 (ja) | 2011-03-23 |
Family
ID=37443510
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005151663A Active JP4657808B2 (ja) | 2005-05-24 | 2005-05-24 | 感光性組成物および該感光性組成物から形成されたカラーフィルタ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4657808B2 (ja) |
KR (2) | KR20060121694A (ja) |
CN (1) | CN1869816B (ja) |
TW (1) | TWI340295B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150008518A (ko) * | 2013-07-11 | 2015-01-23 | 동우 화인켐 주식회사 | 비표시부 패턴 형성용 조성물 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5030638B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2012-09-19 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
KR100904068B1 (ko) * | 2007-09-04 | 2009-06-23 | 제일모직주식회사 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
KR101282516B1 (ko) * | 2009-11-18 | 2013-07-04 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 감광성 수지 조성물 |
KR101258453B1 (ko) * | 2010-12-09 | 2013-04-26 | 에스에스씨피 주식회사 | 자외선 경화형 blu 도광판 조성물 및 도광판 |
CN103814419B (zh) * | 2011-09-15 | 2017-12-08 | 松下知识产权经营株式会社 | 共模噪声滤波器以及其制造方法 |
KR102025099B1 (ko) * | 2011-12-13 | 2019-09-25 | 주식회사 동진쎄미켐 | 포토레지스트 조성물 |
WO2013089403A1 (ko) * | 2011-12-13 | 2013-06-20 | 주식회사 동진쎄미켐 | 포토레지스트 조성물 |
CN102827526B (zh) * | 2012-08-23 | 2015-04-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 高阻抗材料以及包括该材料的显示基板黑矩阵和液晶显示装置 |
TWI489213B (zh) * | 2013-10-22 | 2015-06-21 | Chi Mei Corp | 感光性樹脂組成物、彩色濾光片及其液晶顯示元件 |
TWI484296B (zh) * | 2013-12-03 | 2015-05-11 | Chi Mei Corp | 感光性樹脂組成物、彩色濾光片及其製造方法、液晶顯示裝置 |
JP6401529B2 (ja) * | 2014-07-15 | 2018-10-10 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物 |
JP6423215B2 (ja) * | 2014-09-18 | 2018-11-14 | 株式会社Adeka | 光硬化性組成物 |
JP6424052B2 (ja) * | 2014-09-25 | 2018-11-14 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP7440224B2 (ja) * | 2019-08-21 | 2024-02-28 | 太陽ホールディングス株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
KR20220136155A (ko) | 2021-03-31 | 2022-10-07 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 블랙 레지스트용 감광성 수지 조성물 및 차광막, 그리고 컬러 필터 차광막의 제조 방법 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10142794A (ja) * | 1996-11-14 | 1998-05-29 | Hitachi Chem Co Ltd | 着色画像形成用感光液、これを用いたカラーフィルターの製造法及びカラーフィルター |
JPH11160526A (ja) * | 1997-11-26 | 1999-06-18 | Jsr Corp | カラーフィルタ用感放射線性組成物 |
JP2000035670A (ja) * | 1998-07-21 | 2000-02-02 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
JP2001033955A (ja) * | 1999-07-26 | 2001-02-09 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | パターン形成方法 |
JP2003064293A (ja) * | 2001-08-29 | 2003-03-05 | Dainippon Ink & Chem Inc | カラーフィルター用顔料分散組成物、顔料分散レジスト、およびカラーフィルター |
JP2004069754A (ja) * | 2002-08-01 | 2004-03-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光重合性黒色組成物及び黒色パターンの形成方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06287456A (ja) * | 1993-04-05 | 1994-10-11 | Dainippon Ink & Chem Inc | 活性エネルギー線硬化性組成物及びそれの使用方法 |
JP4276923B2 (ja) * | 2003-02-27 | 2009-06-10 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性着色樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター |
TWI342983B (en) * | 2003-07-16 | 2011-06-01 | Sumitomo Chemical Co | Coloring photosensitive resin composition |
-
2005
- 2005-05-24 JP JP2005151663A patent/JP4657808B2/ja active Active
-
2006
- 2006-04-27 TW TW095115076A patent/TWI340295B/zh active
- 2006-05-22 KR KR1020060045676A patent/KR20060121694A/ko active Application Filing
- 2006-05-22 CN CN2006100809187A patent/CN1869816B/zh active Active
-
2007
- 2007-12-28 KR KR1020070140708A patent/KR100932186B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10142794A (ja) * | 1996-11-14 | 1998-05-29 | Hitachi Chem Co Ltd | 着色画像形成用感光液、これを用いたカラーフィルターの製造法及びカラーフィルター |
JPH11160526A (ja) * | 1997-11-26 | 1999-06-18 | Jsr Corp | カラーフィルタ用感放射線性組成物 |
JP2000035670A (ja) * | 1998-07-21 | 2000-02-02 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
JP2001033955A (ja) * | 1999-07-26 | 2001-02-09 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | パターン形成方法 |
JP2003064293A (ja) * | 2001-08-29 | 2003-03-05 | Dainippon Ink & Chem Inc | カラーフィルター用顔料分散組成物、顔料分散レジスト、およびカラーフィルター |
JP2004069754A (ja) * | 2002-08-01 | 2004-03-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光重合性黒色組成物及び黒色パターンの形成方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150008518A (ko) * | 2013-07-11 | 2015-01-23 | 동우 화인켐 주식회사 | 비표시부 패턴 형성용 조성물 |
KR102084218B1 (ko) * | 2013-07-11 | 2020-03-04 | 동우 화인켐 주식회사 | 비표시부 패턴 형성용 조성물 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200710577A (en) | 2007-03-16 |
CN1869816B (zh) | 2011-10-19 |
KR20060121694A (ko) | 2006-11-29 |
JP2006330209A (ja) | 2006-12-07 |
TWI340295B (en) | 2011-04-11 |
KR100932186B1 (ko) | 2009-12-16 |
KR20080007209A (ko) | 2008-01-17 |
CN1869816A (zh) | 2006-11-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4657808B2 (ja) | 感光性組成物および該感光性組成物から形成されたカラーフィルタ | |
JP4745093B2 (ja) | 黒色感光性組成物 | |
JP4794870B2 (ja) | 遮光層形成用感光性樹脂組成物ならびに遮光層およびカラーフィルタ | |
JP5096814B2 (ja) | 着色感光性組成物 | |
JP4727344B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP4510672B2 (ja) | 感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ | |
JP5843907B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | |
JP2007033467A (ja) | 感光性組成物およびブラックマトリクス | |
JP4745146B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
JP2010032940A (ja) | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | |
JP5249588B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
JP5122168B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | |
JP2008003299A (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
JP4745092B2 (ja) | 黒色感光性組成物、この黒色感光性組成物より製造された遮光膜及びel素子 | |
TWI810266B (zh) | 鹼顯影型光硬化性熱硬化性樹脂組成物 | |
TWI596429B (zh) | 抗焊劑組成物、及被覆印刷線路板 | |
KR100996046B1 (ko) | 착색 감광성 수지 조성물, 블랙 매트릭스, 컬러 필터, 및액정 표시 디스플레이 | |
JP2008052069A (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
JP4611724B2 (ja) | 遮光膜形成用感光性組成物、該遮光膜形成用感光性組成物で形成されたブラックマトリクス | |
JP2006133338A (ja) | 遮光膜形成用感光性組成物、該遮光膜形成用感光性組成物で形成されたブラックマトリクス | |
JP4855006B2 (ja) | 不飽和基含有化合物の製造方法 | |
JP5270814B2 (ja) | 感光性組成物用着色剤分散液 | |
WO2020202690A1 (ja) | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物、および、電子部品 | |
JPH08339081A (ja) | 感光性樹脂組成物及びその製造方法 | |
JP2008003321A (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた液晶配向制御用バンプ、および液晶配向制御用バンプ形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100430 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100518 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100715 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100715 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100914 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101104 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101221 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101222 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140107 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4657808 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |