CN106773562A - 一种去除az光刻胶的去胶液 - Google Patents

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杜冰
顾群艳
梁豹
鲍杰
赵建龙
张兵
朱坤
向文胜
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Abstract

本发明属于半导体加工技术领域，涉及一种去除AZ光刻胶的去胶液，其配方包括：10‑50wt％有机酯，10‑50wt％有机醇，补足余量的极性有机溶剂；其中有机酯为一元酸酯、二元酸酯或内酯中的一种，有机醇为C2～3醇类，极性有机溶剂为二甲亚砜、环丁砜、二甲基砜、N,N‑二甲基甲酰胺、N,N‑二甲基乙酰胺、N‑甲基吡咯烷酮、碳酸丙二酯、1,3‑二甲基‑2‑咪唑啉酮中的一种。本发明去胶液去胶速度快，使用温度相对较低，不伤硅、氧化硅、金属、钝化等各种底材，水溶性，容易清洗。

Description

一种去除AZ光刻胶的去胶液
技术领域
本发明涉及半导体加工技术领域，特别涉及一种使用效果更好的去除AZ光刻胶的去胶液。
背景技术
光刻胶(又名光致抗蚀剂)是指通过紫外光、电子束、准分子激光束、X射线、离子束等曝光源的照射或辐射，使溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，主要用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工，近年来也逐步应用于光电子领域平板显示器(FPD)的制作。AZ光刻胶是一种正性光刻胶，所以生成的图形具有良好的分辨率，但目前市场上大部分AZ光刻胶去胶液存在腐蚀金属、去胶速度慢、有胶残留或伤钝化层的问题，不能满足市场需求。
本发明就是为了提供一种新的去除AZ光刻胶的去胶液来解决以上问题。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种使用效果更好的去除AZ光刻胶的去胶液及其使用方法。
本发明通过如下技术方案实现上述目的：一种去除AZ光刻胶的去胶液，其配方包括：10-50wt％有机酯，10-50wt％有机醇，补足余量的极性有机溶剂；其中有机酯为一元酸酯、二元酸酯或内酯中的一种，有机醇为C2～3醇类，极性有机溶剂为二甲亚砜、环丁砜、二甲基砜、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、碳酸丙二酯、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮中的一种。
具体的，所述一元酸酯为乙酸乙酯、乳酸乙酯或甲酸乙酯中的一种。
具体的，所述二元酸酯为二乙酸乙二酯、乙二酸二甲酯、乙二酸二乙酯中的一种。
具体的，所述内酯为乙二酸乙二酯或丁内酯。
具体的，去胶液还包括0-10wt％阻蚀剂。
进一步的，所述阻蚀剂为苯并三唑、5-甲基苯并三唑、苯并咪唑中的一种。
具体的，去胶液还包括0-10wt％有机醇胺。
进一步的，所述有机醇胺为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺中的一种。
采用上述技术方案，本发明技术方案的有益效果是：
本发明去胶液去胶速度快，使用温度相对较低，不伤硅、氧化硅、金属、钝化等各种底材，水溶性，容易清洗。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步详细说明。
一种去除AZ光刻胶的去胶液，其配方包括：10-50wt％有机酯，10-50wt％有机醇，补足余量的极性有机溶剂；其中有机酯为一元酸酯、二元酸酯或内酯中的一种，有机醇为C2～3醇类，极性有机溶剂为二甲亚砜、环丁砜、二甲基砜、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、碳酸丙二酯、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮中的一种。
实施例1～10：
按照表1的配方配制去胶液。
表1：
因为配方中不包含酸碱成分，所以不伤硅、氧化硅、金属、钝化等各种底材，极性溶剂对水的相溶性好，容易清洗。
用实施例1～10以及现有市面上买到的AZ光刻胶去胶液在表2温度条件下对同样涂在10mm×10mm表面上的AZ光刻胶进行去胶速度实验，得到如下结果。
表2：
从表2所示的测试结果可以看出，新的去胶液在去胶温度相对较低的情况下去胶速度明显高于对照例。因此相比于原技术，本方案去胶效果更佳。
以上所述的仅是本发明的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

Claims (8)

1.一种去除AZ光刻胶的去胶液，其特征在于配方包括：10-50wt％有机酯，10-50wt％有机醇，补足余量的极性有机溶剂；其中有机酯为一元酸酯、二元酸酯或内酯中的一种，有机醇为C2～3醇类，极性有机溶剂为二甲亚砜、环丁砜、二甲基砜、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、碳酸丙二酯、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮中的一种。
2.根据权利要求1所述的去除AZ光刻胶的去胶液，其特征在于：所述一元酸酯为乙酸乙酯、乳酸乙酯或甲酸乙酯中的一种。
3.根据权利要求1所述的去除AZ光刻胶的去胶液，其特征在于：所述二元酸酯为二乙酸乙二酯、乙二酸二甲酯、乙二酸二乙酯中的一种。
4.根据权利要求1所述的去除AZ光刻胶的去胶液，其特征在于：所述内酯为乙二酸乙二酯或丁内酯。
5.根据权利要求1所述的去除AZ光刻胶的去胶液，其特征在于：还包括0-10wt％阻蚀剂。
6.根据权利要求5所述的去除AZ光刻胶的去胶液，其特征在于：所述阻蚀剂为苯并三唑、5-甲基苯并三唑、苯并咪唑中的一种。
7.根据权利要求1所述的去除AZ光刻胶的去胶液，其特征在于：还包括0-10wt％有机醇胺。
8.根据权利要求7所述的去除AZ光刻胶的去胶液，其特征在于：所述有机醇胺为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺中的一种。
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