JP2000273370A - 着色組成物用洗浄液 - Google Patents
着色組成物用洗浄液Info
- Publication number
- JP2000273370A JP2000273370A JP8240599A JP8240599A JP2000273370A JP 2000273370 A JP2000273370 A JP 2000273370A JP 8240599 A JP8240599 A JP 8240599A JP 8240599 A JP8240599 A JP 8240599A JP 2000273370 A JP2000273370 A JP 2000273370A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pigment
- coloring composition
- group
- cleaning liquid
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0042—Photosensitive materials with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists
- G03F7/0043—Chalcogenides; Silicon, germanium, arsenic or derivatives thereof; Metals, oxides or alloys thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
Abstract
ーフィルター用顔料分散液および感放射線性感光性組成
物によってもたらされた汚染を効率よく洗浄し得る洗浄
液を提供すること。 【解決手段】 着色組成物中の溶剤の少なくとも1種を
含有する溶液からなるか、あるいは着色組成物に対して
現像性を有する溶液からなる着色組成物用の洗浄液が提
供される。
Description
液に関し、特にはカラーフィルターの製造における塗布
工程で用いられ、顔料を含む着色組成物や顔料が付着・
沈着・乾燥することにより汚染した装置、器具を洗浄す
るための洗浄液に関する。
るカラーフィルターを作製する方法としては、染色法、
印刷法、電着法および顔料分散法が知られている。
に分散させた着色感放射線性組成物を用いてフォトリソ
法によってカラーフィルターを作製する方法である。こ
の方法は、顔料を使用しているために光や熱などに安定
であると共にフォトリソ法によってパターニングするた
め、位置精度も十分で大画面、高精細カラーディスプレ
イ用カラーフィルターの作製に好適な方法である。
は、顔料の分散性が不十分であると色純度や寸法精度に
問題を生じたり、消偏作用のため表示コントラスト比が
著しく劣化する。また、顔料を分散した感放射線性組成
物は経時によって凝集を起こし、塗布性に問題を生じる
といったカラーフィルターに問題を発生させる。従っ
て、顔料分散法では含まれる顔料をできうるかぎり微分
散させる傾向にある。
置吐出部のノズル、配管部の目詰まりや塗布機内への着
色組成物や顔料の付着・沈着・乾燥による汚染等が問題
として挙げられる。これらの汚染物が極くわずかな量で
もカラーフィルターに混入した場合には性能に重大な問
題を引き起こす。この問題は、特に上記のように顔料が
微分散された組成物では特に顕著である。沈着した顔料
は、カラーフィルターに異物として現われ、パネルの不
良化率を増大させる。不良化率の増大は生産コストの上
昇をもたらす。沈着した顔料による異物はカラーフィル
ターの透過率やコントラスト比の低下をもたらしカラー
フィルターの性能を劣化させる。
過率化、高コントラスト化が要求されている中、これが
引き起こす問題は極めて重要である。これらの問題を解
決するには塗布工程においては汚染を起こさない清浄度
が必要である。対策の一環として、異物除去にフィルタ
ーを使用することも行われているが、フィルターの目詰
まりを起こし工程トラブルを引き起こすこともある。フ
ィルターで汚染物を取るよりも汚染源を洗浄することが
より重要である。このため洗浄液が必要であるが有効な
洗浄液やその選択基準はなかった。
を含有する各種液状組成物によってもたらされた汚染を
効率よく洗浄し得る洗浄液を提供することにある。本発
明の特別な目的は、カラーフィルター用顔料分散液およ
び感放射線性感光性組成物によってもたらされた汚染を
洗浄し得る好適な洗浄液を提供することにある。
顔料を含む着色組成物用洗浄液が提供されて、本発明の
上記目的が達成される。 (1)平均粒子径が0.5μm以下の顔料、結着樹脂及
び溶剤を含有する着色組成物を洗浄するための洗浄液で
あって、該着色組成物中の溶剤の少なくとも1種を含有
することを特徴とする着色組成物用洗浄液。 (2)界面活性剤を含有することを特徴とする上記
(1)に記載の洗浄液。 (3)顔料分散剤を含有することを特徴とする上記
(1)又は(2)に記載の洗浄液。 (4)樹脂を含有することを特徴とする上記(1)〜
(3)のいずれかに記載の洗浄液。 (5)上記樹脂として、上記着色組成物中に含有される
結着樹脂を含有することを特徴とする上記(4)に記載
の洗浄液。 (6)平均粒子径が0.5μm以下の顔料、結着樹脂及
び溶剤を含有する着色組成物を洗浄するための洗浄液で
あって、該着色組成物中の顔料が除かれた成分を含有す
ることを特徴とする着色組成物用洗浄液。 (7)上記着色組成物中の顔料が除かれた成分が、該着
色組成物を遠心分離処理することにより顔料が除かれた
成分であることを特徴とする上記(6)に記載の洗浄
液。 (8)平均粒子径が0.5μm以下の顔料、結着樹脂及
び溶剤を含有する着色組成物を洗浄するための洗浄液で
あって、該着色組成物に対して現像性を有する溶液であ
ることを特徴とする着色組成物用洗浄液。 (9)上記着色組成物に対して現像性を有する溶液が、
アルカリ溶液であることを特徴とする上記(8)に記載
の洗浄液。 (10)上記着色組成物が、感光性であることを特徴と
する上記(1)〜(9)のいずれかに記載の洗浄液。 (11)上記着色組成物が、カラーフィルター作成用着
色組成物であることを特徴とする上記(1)〜(10)
のいずれかに記載の洗浄液。
下の平均粒子径に微分散されている場合、沈降しにくい
ものの、一度沈降/付着してしまうとそれを洗浄/除去
するのは極めて難しい。本発明においては、このような
洗浄が困難である、平均粒子径0.5μm以下の顔料を
含む着色組成物による汚れ、汚染を効率よく洗浄でき
る。
を含む着色組成物についてまず説明する。該組成物は、
顔料、結着樹脂、溶剤、及び必要に応じて顔料分散剤、
感放射線性化合物を含有する。
られる。 C.I.Pigment Yellow11、24、31、53、8
3、99、108、109、139、150、151、
154、167、180、185、193; C.I.Pigment Orange 36、38、43; C.I.Pigment Red 105、122、149、15
0、155、171、175、176、177、20
9、224、254、264; C.I.Pigment Violet 19、23、32、39; C.I.Pigment Blue 1、2、15:1、15:2、
15:3、16、22、60、66; C.I.Pigment Green 7、36、37; C.I.Pigment Brown 25、28; C.I.Pigment Black 1、 7
0.5μm以下であり、好ましくは0.01〜0.3μ
m、より好ましくは0.02〜0.2μm、特に好まし
くは0.03〜0.1μmである。
て供給される。通常は水媒体から乾燥させて粉末体とし
て供給されるが、水が乾燥するには大きな蒸発潜熱を必
要とするため、乾燥して粉末とさせるには大きな熱エネ
ルギーを与える。そのため、(A)顔料は一次粒子が集
合した凝集体(二次粒子)を形成しているのが普通であ
る。
子に分散するのは容易ではない。そのため顔料をあらか
じめ種々の樹脂で処理しておくことが好ましい。これら
樹脂として、後述する種々の樹脂を挙げることができ
る。処理の方法としては、フラッシング処理やニーダ
ー、エクストルーダー、ボールミル、2本又は3本ロー
ルミル等による混練方法がある。このうち、フラッシン
グ処理や2本又は3本ロールミルによる混練法が微粒子
化に好適である。
と水と混和しない溶媒に溶解した樹脂溶液を混合し、水
媒体中から有機媒体中に顔料を抽出し、顔料を樹脂で処
理する方法である。この方法によれば、顔料の乾燥を経
ることがないので、顔料の凝集を防ぐことができ、分散
が容易となる。2本又は3本ロールミルによる混練で
は、顔料と樹脂又は樹脂の溶液を混合した後、高いシェ
ア(せん断力)をかけながら、顔料と樹脂を混練するこ
とによって、顔料表面に樹脂をコーティングすることに
よって、顔料を処理する方法である。
ル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、マレイン酸樹
脂、エチルセルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂等で
処理した加工顔料も都合良く用いることができる。樹脂
で処理された加工顔料の形態としては、樹脂と顔料が均
一に分散している粉末、ペースト状、ペレット状が好ま
しい。また、樹脂がゲル化した不均一な塊状のものは好
ましくない。
脂、溶剤、及び必要に応じて顔料分散剤、感放射線性化
合物、その他の添加剤を混合し各種の混合機、分散機を
使用して混合分散することによって調製することができ
る。混合機、分散機としては、従来公知のものを使用す
ることができる。例を挙げると、ホモジナイザー、ニー
ダー、ボールミル、2本又は3本ロールミル、ペイント
シェーカー、サンドグラインダー、ダイノミル等のサン
ドミルを挙げることができる。
樹脂に溶剤を加え均一に混合した後、3本又は2本ロー
ルを用い必要によっては加熱しながら混練し、顔料と結
着樹脂を十分になじませ、均一の着色体を得る方法があ
る。次に得られた着色体又は顔料と結着樹脂をロールミ
ルにかけずに単に混合した着色混合物に溶媒を加え、必
要に応じて分散剤や各種の添加剤を加え、ボールミル又
はガラスビーズを分散メジアとして用いる各種のサンド
ミル例えばダイノミルを用いて分散を行なう。この時ガ
ラスビーズの径が小さければ小さい程微小の分散体が得
られる。この時、分散液の温度を一定にコントロールす
ることで再現性の良い分散結果が得られる。
心分離やデカンテーションによって粗大の粒子を取り除
くことができる。この様にして得られた分散液の顔料粒
子の平均粒子径を上記の範囲にすることができる。この
様にして得られた着色分散体は、結着樹脂、溶剤、及び
必要に応じて顔料分散剤、感放射線性化合物、その他の
添加剤と混合され、好ましくはカラーフィルター用感光
性着色組成物が調製される。
中の顔料濃度は、5〜80重量%が好ましい。5重量%
未満では、10μm以上の膜厚にしなければ、カラーフ
ィルターに用いる場合色純度が上がらず実用上問題にな
った。80重量%を超えると、非画像部の地汚れや膜残
りが生じやすい等の問題が生じた。より好ましくは10
〜60重量%である。
下記アルカリ可溶性の樹脂、グラフト共重合体を挙げる
ことができる。アルカリ可溶性の結着樹脂としては、線
状有機高分子重合体で、有機溶剤に可溶で、弱アルカリ
水溶液で現像できるものが好ましい。このような線状有
機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポ
リマー、例えば特開昭59−44615号、特公昭54
−34327号、特公昭58−12577号、特公昭5
4−25957号、特開昭59−53836号、特開昭
59−1048号各公報に記載されているようなメタク
リル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重
合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分
エステル化マレイン酸共重合体等があり、また同様に側
鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体がある。
この他に水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させ
たもの等も有用である。特にこれらのなかでベンジル
(メタ)アクリレート/ (メタ)アクリル酸共重合体
やベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸
/及び他のモノマーとの多元共重合体が好適である。こ
の他に水溶性ポリマーとして、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、ポリビニールピロリドンやポリエチレン
オキサイド、ポリビニールアルコール等も有用である。
また硬化皮膜の強度をあげるためにアルコール可溶性ナ
イロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−
プロパンとエピクロルヒドリンのポリエーテル等も有用
である。
載の2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート/ポ
リスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/
メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシ−3−フエノキ
シプロピルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマ
クロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸
共重合体、2−ヒドロキシエチルメタアクリレート/ポ
リスチレンマクロモノマー/メチルメタクリレート/メ
タクリル酸共重合体、2−ヒドロキシエチルメタアクリ
レート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタク
リレート/メタクリル酸共重合体等が挙げられる。
として、特開平10−254133号公報に記載の下記
に示すようなグラフト共重合体を用いることができる。
少なくとも、下記一般式(IIa)及び(IIb)で示され
る重合体成分のうちの少なくとも1種を含有する重合体
主鎖の、一方の末端のみに下記一般式(A)で示される
重合性二重結合基を結合して成る、重量平均分子量3×
104以下の一官能性マクロモノマー、下記一般式(II
I)で示されるモノマー、四級アンモニウム塩モノマ
ー、及び下記一般式(IV)で表される無置換又は置換酸
アミド基を少なくとも1つ分子中に有するモノマーとか
ら少なくとも成る共重合体。
CO−、−CH2OCO−、−CH2COO−、−O−、
−SO2 −、−CO−、−CONHCOO−、−CON
HCONH−、−CONHSO2 −、−CON(P3)
−、−SO2N(P3)−又は−C6H4−を表わす(P3
は、水素原子又は炭化水素基を表わす)。c1 、c
2は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロ
ゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−Z′又は
炭化水素を介した−COO−Z′(Z′は水素原子又は
置換されてもよい炭化水素基を示す)を表わす。〕
(A)中のV0と同義である。Q1は、炭素数1〜18個
の脂肪族基又は炭素数6〜12個の芳香族基を表わす。
d1 、d2は、互いに同じでも異なってもよく、式
(A)中のc1、c2と同義である。Q0は−CN又は−
C6H4−Tを表わす。ここでTは水素原子、ハロゲン原
子、炭化水素基、アルコキシ基又は−COOZ''(Z''
はアルキル基、アラルキル基又はアリール基を示す)を
表わす。〕
1と同義である。Q2は、式(IIa)中のQ1と同義であ
る。e1 、e2は互いに同じでも異なってもよく、式
(A)中のc1 、c2 と同義である。〕
異なってもよく、水素原子又は炭素数1〜18個の置換
されてもよい炭化水素基を表し、またR1とR2が、−O
−、−S−、−NR3−(ここでR3は水素原子又は炭素
数1〜12個の炭化水素基を表す)を介して互いに結合
して環を形成してもよい。〕
496号公報に記載の下記ポリマーも用いることができ
る。そのポリマーは、下記一般式(K)で示されるモノ
マーと少なくとも酸性基を有するモノマーとの共重合反
応によって得られるポリマーである。
表し、R1〜R5は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、アルキル基又はアリール基を表す。
量が1×104以上の重合体が好ましく、より好ましく
は重量平均分子量が2×104〜5×105である。上記
結着樹脂の組成物中の使用量は、組成物中の全固形分に
対して0.01〜60重量%が好ましく、より好ましく
は0.5〜30重量%である。
しては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−n−ブ
チル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、
酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピ
ル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳
酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸
エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メト
キシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メ
チル、エトキシ酢酸エチル、
シプロピオン酸エチル等の3−オキシプロピオン酸アル
キルエステル類;3−メトキシプロピオン酸メチル、3
−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオ
ン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−オ
キシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチ
ル、2−オキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプ
ロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、
2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロ
ピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2
−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−オキシ
−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−
メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチル
プロピオン酸エチル、
ルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチ
ル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エ
チル等;エーテル類、例えばジエチレングリコールジメ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソ
ルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル、
テート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート
等;ケトン類、例えばアセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン
等;芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレシ、テ
トラヒドロフラン、N−メチルピロリドン等が挙げられ
る。
メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロ
ソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコール
ジメテルエーテル、酢酸ブチル、3−メトキシプロピオ
ン酸メチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチ
ルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテ
ート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート
等が好ましく用いられる。
顔料の分散性を向上させる顔料分散剤を添加することが
できる。これらの分散剤としては、多くの種類の分散剤
が用いられるが、例えば、フタロシアニン誘導体(市販
品EFKA−745(森下産業製));オルガノシロキ
サンポリマーKP341(信越化学工業製)、(メタ)
アクリル酸系(共)重合体ポリフローNo.75、No.9
0、No.95(共栄社油脂化学工業製)、W001(裕
商製)等のカチオン系界面活性剤;ポリオキシエチレン
ラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエー
テル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキ
シエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチ
レンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコール
ジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレー
ト、ソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性
剤;エフトップEF301、EF303、EF352
(新秋田化成製)、メガファックF171、F172、
F173(大日本インキ製)、フロラードFC430、
FC431(住友スリーエム製)、アサヒガードAG7
10、サーフロンS382、SC−101、SC−10
2、SC−103、SC−104、SC−105、SC
−1068(旭硝子製)等のフッ素系界面活性剤;W0
04、W005、W017(裕商製)等のアニオン系界
面活性剤;EFKA−46、EFKA−47、EFKA
−47EA、EFKAポリマー100、EFKAポリマ
ー400、EFKAポリマー401、EFKAポリマー
450(以上森下産業製)、ディスパースエイド6、デ
ィスパースエイド8、ディスパースエイド15、ディス
パースエイド9100(サンノプコ製)等の高分子分散
剤;ソルスパース3000、5000、9000、12
000、13240、13940、17000、200
00、24000、26000、28000等の各種ソ
ルスパース分散剤(ゼネカ株式会社製);その他イソネ
ットS−20(三洋化成製)が挙げられる。
た2種以上組み合わせて用いてもよい。このような分散
剤は、顔料を含む着色組成物中に、通常顔料100重量
部に対して0.1〜50重量部の量で用いられる。
性化合物を配合して、組成物を感光性にすることができ
る。組成物を感光性としたとしても、本発明の洗浄液は
効果を発揮できる。感放射線性化合物としては、重合性
モノマーと光重合開始剤とから少なくとも構成される。 (1)少なくとも1個の付加重合可能なエチレン基を有
する、常圧下で100℃以上の沸点を持つエチレン性不
飽和基を持つ化合物と (2)ハロメチルオキサジアゾール化合物、ハロメチル
−s−トリアジン化合物から選択された少なくとも一つ
の活性ハロゲン化合物、及び3−アリール置換クマリン
化合物 (3)少なくとも一種のロフィン2量体
可能なエチレン性不飽和基をもち、沸点が常圧で100
℃以上の化合物としては、ポリエチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アク
リレート、等の単官能のアクリレートやメタアクリレー
ト;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオー
ル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アク
リロイロキシエチル)イソシアヌレート、グリセリンや
トリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレン
オキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メ
タ)アクリレート化したもの、特公昭48−41708
号、特公昭50−6034号、特開昭51−37193
号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート
類、特開昭48−64183号、特公昭49−4319
1号、特公昭52−30490号各公報に記載されてい
るポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メ
タ)アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレー
ト類等の多官能のアクリレートやメタアクリレートをあ
げることが出来る。更に、日本接着協会誌Vol.20、
No.7、300〜308頁に光硬化性モノマー及びオリ
ゴマーとして紹介されているものも使用できる。また、
下記一般式(B−1)あるいは(B−2)で示される化
合物も使用することができる。
々独立に、−(CH2CH2O)−及び−(CH2CH
(CH3)O)−のいずれかを表し;Xは、各々独立
に、アクリロイル基、メタクリロイル基及び水素原子の
いずれかを表し、しかも、式(B−1)中、アクリロイ
ル基及びメタクリロイル基の合計は5個又は6個であ
り、式(B−2)中のそれは3個又は4個であり;n
は,各々独立に0〜6の整数を表し、しかも各nの合計
は3〜24であり;mは、各々独立に0〜6の整数を表
し、しかも各mの合計は2〜16である。)
マーは、着色組成物が放射線の照射を得て接着性を有す
る塗膜を形成し得るならば任意の割合で使用できる。使
用量は感放射線性組成物の全固形分に対し5〜90重量
%、好ましくは10〜50重量%である。
ロメチル−s−トリアジン等の活性ハロゲン化合物とし
ては、特公昭57−6096号公報に記載の下記一般式
Iで示される2−ハロメチル−5−ビニル−1,3,4
−オキサジアゾール化合物が挙げられる。
ール基を、Xは水素原子、アルキル基又はアリール基
を、Yは弗素原子、塩素原子又は臭素原子を、nは1〜
3の整数を表わす。具体的な化合物としては、2−トリ
クロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジア
ゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−シアノスチ
リル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロ
ロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4
−オキサジアゾール等が挙げられる。ハロメチル−s−
トリアジン系化合物の光重合開始剤としては、特公昭5
9−1281号公報に記載の下記一般式IIに示されるビ
ニル−ハロメチル−s−トリアジン化合物、特開昭53
−133428号公報に記載の下記一般式IIIに示され
る2−(ナフト−1−イル)−4,6−ビス−ハロメチ
ル−s−トリアジン化合物及び下記一般式IVに示される
4−(p−アミノフェニル)−2,6−ジ−ハロメチル
−s−トリアジン化合物が挙げられる。
3 ,−NH2 、−NHR、−N(R)2 、−OR(ただ
しRはフェニル又はアルキル基)、Wは任意に置換され
た芳香族、複素環式核又は下記一般式IIAで示されるも
のである。ここで、Zは−O−又は−S−である。
m、nは0〜3の整数であり、Rは一般式III Aで示さ
れる。R1 はH又はOR(Rはアルキル、シクロアルキ
ル、アルケニル、アリール基)、R2 はCl、Br、ア
ルキル、アルケニル、アリール又はアルコキシ基を表
す。
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基又
は下記一般式IVA、IVBで示される。R3 、R4 は−
H、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基を表す。
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表
す。置換アルキル基及び置換アリール基の例としては、
フェニル基等のアリール基、ハロゲン原子、アルコキシ
基、カルボアルコキシ基、カルボアリールオキシ基、ア
シル基、ニトロ基、ジアルキルアミノ基、スルホニル誘
導体等が挙げられる。Xは−Cl,−Brを示し、m、
nは0、1又は2を表す。
に非金属原子からなる異節環を形成する場合、異節環と
しては下記に示されるものが挙げられる。
ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシスチリル
−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)
−6−(1−p−ジメチルアミノフェニル−1,3−ブ
タジエニル)−s−トリアジン、2−トリクロロメチル
−4−アミノ−6−p−メトキシスチリル−s−トリア
ジン等が挙げられる。
(ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチ
ル−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−ナフト−1
−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリ
アジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−
4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2
−(4−ブトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス
−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4−(2
−メトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビ
ス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4−
(2−エトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6
−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4
−(2−ブトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,
6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−
(2−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−
トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(6−メトキ
シ−5−メチル−ナフト−2−イル)−4,6−ビス−
トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(6−メトキ
シ−ナフト−2−イル)−4,6−ビス−トリクロロメ
チル−s−トリアジン、2−(5−メトキシ−ナフト−
1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−ト
リアジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジ
ン、2−(6−エトキシ−ナフト−2−イル)−4,6
−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−
(4,5−ジメトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−
ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン等が挙げられ
る。
N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニ
ル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、4−〔o−メチル−p−N,N−ジ(エトキシカル
ボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N,N−ジ
(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−メチル−
p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−
2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4
−(p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−
ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−
N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,
6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−
〔p−N,N−ジ(フェニル)アミノフェニル〕−2,
6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−
(p−N−クロロエチルカルボニルアミノフェニル)−
2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4
−〔p−N−(p−メトキシフェニル)カルボニルアミ
ノフェニル〕2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、4−〔m−N,N−ジ(エトキシカルボニル
メチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、4−〔m−ブロモ−p−N,
N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕
−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
4−〔m−クロロ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニ
ルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、4−〔m−フロロ−p−
N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニ
ル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、4−〔o−ブロモ−p−N,N−ジ(エトキシカル
ボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−クロロ−p
−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェ
ニル−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、4−〔o−フロロ−p−N,N−ジ(エトキシカル
ボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−ブロモ−p
−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,
6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−
〔o−クロロ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノ
フェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、
ロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、4−〔m−ブロモ−p−
N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6
−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m
−クロロ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェ
ニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、4−〔m−フロロ−p−N,N−ジ(クロロエチ
ル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、4−(m−ブロモ−p−N−エ
トキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−ク
ロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニ
ル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、4−(m−フロロ−p−N−エトキシカルボニルメ
チルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ−p−N−エ
トキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ク
ロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニ
ル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、4−(o−フロロ−p−N−エトキシカルボニルメ
チルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、4−(m−ブロモ−p−N−ク
ロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、4−(m−クロロ−p−N
−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−フロロ−p
−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ
−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ク
ロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6
−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o
−フロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−
2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、等
が挙げられる。
ことができる。その具体例として、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾイン、9−フルオレノン、
2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル−9−フル
オレノン、9−アントロン、2−ブロモ−9−アントロ
ン、2−エチル−9−アントロン、9,10−アントラ
キノン、2−エチル−9,10−アントラキノン、2−
t−ブチル−9,10−アントラキノン、2,6−ジク
ロロ−9,10−アントラキノン、キサントン、2−メ
チルキサントン、2−メトキシキサントン、2−メトキ
シキサントン、チオキサントン、ベンジル、ジベンザル
アセトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルスチリルケ
トン、p−(ジメチルアミノ)フェニル−p−メチルス
チリルケトン、ベンゾフェノン、p−(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノン(又はミヒラーケトン)、p−(ジ
エチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾアントロン等や
特公昭51−48516号公報記載のベンゾチアゾール
系化合物が挙げられる。
一般式Vで示される化合物を指す。R8は水素原子、炭
素数1〜8個のアルキル基、炭素数6〜10個のアリー
ル基(好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基)を、R9は水素原子、炭素数1〜8
個のアルキル基、炭素数6〜10個のアリール基、下記
一般式VAで示される基(好ましくはメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、一般式VAで示される基、
特に好ましくは一般式VAで示される基)を表す。
R10、R11はそれぞれ水素原子、炭素数1〜8個のアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、オクチル基)、炭素数1〜8個のハロアルキル基
(例えばクロロメチル基、フロロメチル基、トリフロロ
メチル基等)、炭素数1〜8個のアルコキシ基(例えば
メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基)、置換されても
よい炭素数6〜10個のアリール基(例えばフェニル
基)、アミノ基、−N(R16)(R17)、ハロゲン(例え
ば−Cl、−Br,−F)を表す。好ましくは水素原
子、メチル基、エチル基、メトキシ基、フェニル基、−
N(R 16)(R17)、−Clである。
のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、トリル
基、クミル基)を表す。置換基としてはアミノ基、−N
(R 16)(R17)、炭素数1〜8個のアルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル
基)、炭素数1〜8個のハロアルキル基(例えばクロロ
メチル基、フロロメチル基、トリフロロメチル基等)、
炭素数1〜8個のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エ
トキシ基、ブトキシ基)、ヒドロキシ基、シアノ基、ハ
ロゲン(例えば−Cl、−Br,−F)が挙げられる。
R13、R14、R16、R17はそれぞれ水素原子、炭素数1
〜8個のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、オクチル基)を表す。R13とR14及
びR16とR17はまた互いに結合し窒素原子とともに複素
環(例えばピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン
環、ピラゾール環、ジアゾール環、トリアゾール環、ベ
ンゾトリアゾール環等)を形成してもよい。R15は水素
原子、炭素数1〜8個のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基)、炭素
数1〜8個のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基、ブトキシ基)、置換されてもよい炭素数6〜10
個のアリール基(例えばフェニル基)、アミノ基、−N
(R16)(R17)、ハロゲン(例えば−Cl、−Br,−
F)を表す。Zbは=O、=Sあるいは=C(R18)(R
19)を表す。好ましくは=O、=S、=C(CN)2であ
り、特に好ましくは=Oである。R18、R19はそれぞ
れ、シアノ基、−COOR20、−COR21を表す。
R20、R21はそれぞれ炭素数1〜8個のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オク
チル基)、炭素数1〜8個のハロアルキル基(例えばク
ロロメチル基、フロロメチル基、トリフロロメチル基
等)、置換されてもよい炭素数6〜10個のアリール基
(例えばフェニル基)を表す。
合物は一般式VIで示される{(s−トリアジン−2−イ
ル)アミノ}−3−アリールクマリン化合物類である。
残基からなる2,4,5−トリフェニルイミダゾリル二
量体を意味し、その基本構造を下記に示す。
ェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2
−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミ
ダゾリル二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,
5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(p−メトキ
シフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量
体、2−(p−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェ
ニルイミダゾリル二量体、2−(2,4−ジメトキシフ
ェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2
−(p−メチルメルカプトフェニル)−4,5−ジフェ
ニルイミダゾリル二量体等が挙げられる。
記一般式(C)〜(H)、(J)も使用することができ
る。
水素原子、水酸基、炭素数1〜3個のアルキル基又はア
ルコキシ基を示し、R2 及びR3 は、各々独立に水素原
子又は炭素数1〜3個のアルコキシ基を示し、R2 ある
いはR3 のいずれか一方はアルコキシ基であり、R4 は
水素原子、炭素数1〜3個のアルキル基又はアルコキシ
基を示し、R5 及びR6 は各々独立に炭素数1〜3個の
アルキル基を示し、R 7 は水素原子、水酸基、炭素数1
〜3個のアルキル基又はアルコキシ基を示す。Tは、下
記式、
nは1〜4の整数を示す。
はnが1のときフェニル基又は塩素原子、臭素原子、ヒ
ドロキシ基、−SR9 、−R10、−OR10、−SR10、
−SO2R10、−S−フェニル、−O−フェニルもしく
はモルホリノ基で置換されたフェニル基を表わし(R10
は炭素原子数1ないし9のアルキル基を表す)、Ar1
はnが2のとき、フェニレン−T−フェニレン基(Tは
−O−、−S−又は−CH2 −を表わす)を表わす。
R 9 は水素原子、置換基を有していてもよい炭素原子数
1ないし12のアルキル基、炭素原子数3ないし6のア
ルケニル基、シクロヘキシル基、フェニルアルキル基、
フェニルヒドロキシアルキル基、置換基を有していても
よいフェニル基、トリル基、−CH2 −CH2 OH、−
CH2 CH2 −OOC−CH=CH2 、−CH2 −CO
OR11(R11は炭素原子数1ないし9のアルキル基を表
す)、−CH 2 CH2 −COOR12(R12は炭素原子数
1ないし4のアルキル基を表す)、
よく、−COOR12(R12は前記と同義である)で置換
されうる炭素原子数1ないし8のアルキル基、又は炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表わし、また
R1 とR2 は一緒になって炭素原子数4ないし6のアル
キレン基を表わしてもよい、Xはモルホリノ基、−N
(R4 )(R5 )、−OR6 もしくは−O−Si(R 7)
(R8 )2 を表わし、R4、R5は同じでも異なってもよ
く、炭素原子数1ないし12のアルキル基、−OR10で
置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基、又はア
リル基を表わし、R4 とR5 は一緒になって、−O−、
−NH−もしくは−N(R10)−を介していてもよい炭
素原子数4ないし5のアルキレン基を表わし、R6 は水
素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、アリル
基、又は炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を
表わし、R7 とR8 は同じでも異なってもよく、炭素原
子数1ないし4のアルキル基又はフェニル基を表わす。
公知のものも使用することができる。米国特許第2,3
67,660号明細書に開示されているビシナールポリ
ケトルアルドニル化合物、米国特許第2,367,66
1号及び第2,367,670号明細書に開示されてい
るα−カルボニル化合物、米国特許第2,448,82
8号明細書に開示されているアシロインエーテル、米国
特許第2,722,512号明細書に開示されているα
−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国
特許第3,046,127号及び第2,951,758
号明細書に開示されている多核キノン化合物、米国特許
第3,549,367号明細書に開示されているトリア
リルイミダゾールダイマー/p−アミノフェニルケトン
の組合せ、特公昭51−48516号公報に開示されて
いるベンゾチアゾール系化合物/トリハロメチール−s
−トリアジン系化合物。
0.01重量%〜50重量%、好ましくは1重量%〜2
0重量%である。開始剤の使用量が0.01重量%より
少ないと重合が進み難く、また、50重量%を超えると
重合率は大きくなるが分子量が低くなり膜強度が弱くな
る。
応じて各種添加物、例えば充填剤、上記の結着樹脂以外
の高分子化合物、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、凝集防止剤、湿潤剤等を配合することかできる。
ス、アルミナ等の充填剤;ポリビニルアルコール、ポリ
アクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエー
テル、ポリフロロアルキルアクリレート等の高分子化合
物;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、
N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチル
ジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピル
トリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)
エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチル
ジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシ
ラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密
着促進剤;2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブ
チルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノール
等の酸化防止剤:2−(3−t−ブチル−5−メチル−
2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾ
ール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤;お
よびポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤を挙げる
ことができる。
促進し、着色組成物の現像性の更なる向上を図る場合に
は、着色組成物に有機カルボン酸、好ましくは分子量1
000以下の低分子量有機カルボン酸の添加を行うこと
ができる。具体的には、例えばギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢
酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカルボン
酸;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバ
シン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン
酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチル
コハク酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン酸;トリ
カルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等の脂肪族
トリカルボン酸;安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘ
メリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸;フ
タル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、
トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸等の芳香族
ポリカルボン酸;フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒ
ドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロ
パ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、
シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸等のその他
のカルボン酸が挙げられる。
防止剤を加えておくことが好ましく、例えば、ハイドロ
キノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p
−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、
ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−
t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4
−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプ
トベンゾイミダゾール等が有用である
布、流延塗布、ロール塗布等の塗布方法により塗布して
感放射線性組成物層を形成し、所定のマスクパターンを
介して露光し、現像液で現像することによって、着色さ
れたパターンを形成する。この際に使用される放射線と
しては、特にg線、i線等の紫外線が好ましく用いられ
る。
いられるソーダガラス、パイレックスガラス、石英ガラ
ス及びこれらに透明導電膜を付着させたものや、固体撮
像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコ
ン基板等が挙げられる。これらの基板は、一般的には各
画素を隔離するブラックストライプが形成されている。
成物を溶解し、一方放射線照射部を溶解しない組成物で
あればいかなるものも用いることができる。具体的には
種々の有機溶剤の組み合わせやアルカリ性の水溶液を用
いることができる。有機溶剤としては、着色組成物を調
整する際に使用される前述の溶剤が挙げられる。
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム,硅酸ナトリウ
ム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアン
モニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジ
ン、1,8−ジアザビシクロ−〔5.4.0〕−7−ウ
ンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が0.001〜
10重量%、好ましくは0.01〜1重量%となるよう
に溶解したアルカリ性水溶液が使用される。なお、この
ようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合
には、一般に、現像後、水で洗浄する。
置、器具等を洗浄するための本発明の洗浄液を構成する
成分は、着色組成物を構成する少なくとも1種の溶剤で
あり、好ましくは着色組成物に用いられる結着樹脂、界
面活性剤、顔料分散剤および組成物のその他の成分等を
含有してもよい。また、着色組成物から、例えば遠心分
離により、顔料を除いた上澄み液も、本発明の洗浄液と
して用いることが出来る。この場合洗浄処理後の使用済
み洗浄液を再び遠心分離処理して沈降物、その他固形物
を分離することにより、洗浄液のリサイクルが可能とな
る。本発明の洗浄液においては、この場合にかぎらず、
遠心分離処理して沈降物やその他固形物を分離すること
により洗浄液のリサイクルが可能である。また、着色組
成物に対して現像性を有する溶液も、本発明の洗浄液と
して用いることができる。
に述べたが、なかでもプロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、シクロヘキサノン、3−メトキシ
プロピオン酸メチルが好ましい。
レングルコール系アルキルエーテルアセテートおよび下
記一般式(B)で示されるアルキレングルコール系モノ
アルキルエーテルも好ましい溶剤である。 R1O[R2O]nCOCH3 ……(A) R3O[R4O]mH ……(B) ここで、R1 、R3は炭素数1〜5のアルキル基であ
り、R2、R4は炭素数2〜5のアルキレン基であり、
n,mは1〜3の整数である。上記アルキレングルコー
ル系アルキルエーテルアセテートおよび上記アルキレン
グルコール系モノアルキルエーテルは混合して用いるこ
とができる。この場合、アルキレングリコール系アルキ
ルエーテルアセテートとアルキレングリコール系モノア
ルキルエーテルの混合重量比は1/10〜10/1の範
囲にあることが好ましく、さらに好ましくは1/5〜5
/1の範囲であり、特に好ましくは1/3〜3/1の範
囲である。
テルアセテートの具体例としては、エチルセロソルブア
セテート、ブチルセロソルブアセテート、3−メチル−
3−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコール
メチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチ
ルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエ
ーテルアセテート、プロピレングリコールターシャリー
ブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチ
ルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールブチルエーテ
ルアセテート、ジエチレングリコールターシャリーブチ
ルエーテルアセテート等が挙げられ、プロピレングリコ
ールアルキルエーテルアセテートが好ましく、特にプロ
ピレングリコールメチルエーテルアセテートが好まし
い。
エーテルの具体例としては、エチルセロソルブ、ブチル
セロソルブ、3−メチル−3−メトキシブタノール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノブチルエーテル、プロピレングリコールモノターシャ
リーブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノターシャリーブチルエーテル等が挙げら
れ、プロピレングリコールモノアルキルエーテルが好ま
しく、特にプロピレングリコールモノエチルエーテルが
好ましい。
ンジオールを含有することができる。炭素数2〜8のア
ルカンジオールの具体例としては、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、
1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、
1,5−ペンタンジオール、ヘキシレングリコール、
1,6−ヘキサンジオール、1,3−オクチレングリコ
ールなどを挙げることができる。これら炭素数2〜8の
アルカンジオールは1種単独でまたは2種以上を併用し
て使用することができる。
を向上させるために樹脂を含有することが好ましく、そ
の樹脂は上記着色組成物に含有する結着樹脂を含有する
ことがより好ましい。上記結着樹脂も、着色組成物の説
明で既に述べたが、なかでもアルカリ可溶性の樹脂とし
てベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸
共重合体が好ましい。本発明の洗浄液において、結着樹
脂は溶剤の100重量部に対して1〜50重量部用いる
ことが好ましく、より好ましくは5〜20重量部であ
る。
の浸透性を向上させるために界面活性剤を含有すること
が好ましい。界面活性剤としては,種々のアニオン界面
活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、両
性界面活性剤、およびフッ素系界面活性剤を挙げること
が出来る。
級脂肪酸塩、第二級高級脂肪酸塩、高級アルキル硫酸
塩、高級アルキルエーテル硫酸塩、高級アルキルエステ
ル硫酸塩、高級アリールエーテル硫酸塩、高級アルコー
ル硫酸エステル塩、第二級高級アルコール硫酸エステル
塩、第一級高級アルキルスルフォン酸塩,第二級高級ア
ルキルスルフォン酸,高級アルキルアリールスルフォン
酸塩、高級アルキルジスルフォン酸塩、スルフォン化高
級脂肪酸塩、硫酸化脂肪および脂肪酸塩、高級アルキル
燐酸エステル塩,高級脂肪酸エステルの硫酸エステル
塩、高級脂肪酸エステルのスルフォン酸塩、高級アルコ
ール・エーテルのスルフォン酸塩、高級脂肪酸塩アミド
のアルキル化スルフォン酸塩およびスルフォコハク酸エ
ステル塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキル
フェノールスルフォン酸塩、アルキルナフタリンスルフ
ォン酸塩、ナフテン酸塩、樹脂酸塩、樹脂酸アルコール
硫酸エステル塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテルリン酸塩、アルキルアリールエーテ
ルリン酸塩、スルフォコハク酸塩等を挙げることが出来
る。また、市販されているアニオン界面活性剤、例えば
W004、W005、W017(裕商製)等を使用する
ことができる。
ル第四アンモニウム塩、アルキルベンジル第四級アンモ
ニウム塩、窒素環を有する第四級アンモニウム塩等を挙
げることが出来る。また、市販されているカチオン界面
活性剤、例えばオルガノシロキサンポリマーKP341
(信越化学工業製)、(メタ)アクリル酸系(共)重合
体ポリフローNo.75、No.90、No.95(共栄社油
脂化学工業製)、W001(裕商製)等を使用すること
ができる。
酸のグリセリンエステル、高級脂肪酸のグリコールエス
テル、高級脂肪酸のペンタエリスリトールエステル、高
級脂肪酸のソルビタンおよびマンニタンエステル、高級
アルコール縮合物、高級脂肪酸縮合物、高級脂肪酸アミ
ド縮合物、高級アルキルアミン縮合物、ポリプロピレン
オキサイド縮合物等を挙げることが出来る。具体的には
ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチ
レンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイル
エーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリ
エチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコ
ールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル等を挙
げることができる。
型、グリシン型、アラニン型およびスルフォベタイン型
両性界面活性剤を挙げることが出来る。
であるエフトップEF301、EF303、EF352
(新秋田化成製)、メガファックF171、F172、
F173(大日本インキ製)、フロラードFC430、
FC431(住友スリーエム製)、アサヒガードAG7
10、サーフロンS382、SC−101、SC−10
2、SC−103、SC−104、SC−105、SC
−1068(旭硝子製)等を挙げることができる。
ックL31,F38,L42,L44,L61,L6
4,F68,L72,P95,F77,P84,F8
7、P94,L101,P103,F108、L12
1、P−123(旭電化製)およびイソネットS−20
(三洋化成製)等の市販の界面活性剤を使用することが
できる。
界面活性剤が好ましい。
剤100重量部に対して0.01〜20重量部用いるこ
とが好ましく、より好ましくは0.1〜10重量部であ
る。
のために顔料分散剤を含有することが好ましい。顔料分
散剤は、着色組成物の説明で既に述べたものを用いるこ
とができるが、下記の顔料分散剤を好ましく使用するこ
とができる。 サンノプコ(株)製;(商品名)テキサホール、テキサ
ホール277、同873、同914、同963、同30
61、同3098、同3112、テキサホールスペシャ
ル、テキサホールSN−1963、プロダクト100。 ゼネカ社製;(商品名)ソルスパース3000、同50
00、同6000、同9000、同12000、同13
240、同13940、同17000、同17240、
同17940、同20000、同21000、同220
00、同24000、同27000。
210、同1830、同1850、同1860、同21
50、同7004、同KS−860、同KS−873
N、同DA−400N、同DA−703−50、同PW
−36。 三洋化成社製;(商品名)キャリボンB、同L−40
0、エレミノールMBN−1、サンスパールPS−2、
同PS−8、同PDN−173、同PC−3、SNディ
スパーサント5020、エマルミンシリーズ、ニューポ
ールPEシリーズ、イオネットM&Dシリーズ、同Sシ
リーズ、同Tシリーズ。 エフカ社製;(商品名)エフカ−44、同46、同−4
7、同−48、同−49、同−54、同−63、同−6
4、同−65、同−66、同−71、同−S001、同
−S003、エフカポリマー−100、同−120、同
−150、同−400、同−401、同−402、同−
403、同−420、同−450、同−451、同−4
52、同−453、エフカ−LP−4540、同−LP
−9009。 共栄化学社製;(商品名)フローレンD−90、同AF
−205、同AF−405、同AF−505、同AF−
1000、同AF−1005、同G−450、同G−6
00、同G−700、同G−820、同G−850、同
TG−710、同DAPA−15B、同DOPA−1
7、同DOPA−22、ポリフローKL−245、同K
L−250、同KL−260。 ビックケミー社製;(商品名)アンチ−テラ(Anti
−Terra)−P、同−U、同−203、同−20
4、ディスパーバイク(Disperbyk)、ディス
パーバイク(Disperbyk)−101、同−10
3、同−108、同−110、同−111、同−11
6、同−130、同−140、同−161、同−16
2、同−163、同−164、同−166、同−17
0、同−171、同−174、同−180、同−18
1、同−182、同−183、同−184、同−18
5、同−190、バイクメン(Bykumen)、BY
K−P104、同−P104S、同−154、同−22
0S、同−405、同−410、ラオチモン(Laot
imon)、ラオチモン(Laotimon)−WS
求項2、3に記載される第3級アミン化合物も顔料分散
剤として使用することができる。本発明の洗浄液におい
て、顔料分散剤は、溶剤100重量部に対して0.1〜
30重量部用いることが好ましく、より好ましくは0.
5〜20重量部である。
色組成物に対して現像性を有する溶液が挙げられる。そ
の現像性を有する溶液としては、上記組成物の現像液が
挙げられる。アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、同リチウム、炭酸
ナトリウム,同カリウム、同アンモニウム、硅酸ナトリ
ウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、
エチルアミン、ジエチルアミン、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミ
ン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパ
ノールアミン、ジイソプロパノールアミン、ジメチルエ
タノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、エチレン
イミン、エチレンジアミン、ピリジン、コリン、ピロー
ル、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ−〔5.4.
0〕−7−ウンデセン等のアルカリ性化合物を挙げるこ
とができる。その濃度としては0.001〜10重量
%、好ましくは0.01〜1重量%となるように溶解し
たアルカリ性水溶液が使用される。これらアルカリ溶液
のpHとしては、9以上のものが好ましい。
作製におけるスピンナーでの塗布工程でのスピンナーカ
ップ内自己洗浄、また塗液供給ラインの洗浄に好ましく
使用されるものであるが、スピンナー塗布のみならず、
印刷方式での塗布、スリットダイでの塗布にも適用でき
る。
るが、実施例によって本発明の範囲が制限されることは
ない。
径:0.09μm)を、大日本印刷(株)製塗布機(S
F−700G)を使用して、サイズ550×650mm
のガラス基板200枚の塗布を行った。塗布後、下記洗
浄液Aで循環洗浄したところ、塗布液吐出ノズルおよび
配管共汚染物が除去され、良好な洗浄を行うことが出来
た。 <感放射線性着色組成物A> (顔料) ・C.I.Pigment Red 177 5部 (顔料分散剤) ・Disperbyk 161(ビックケミー社製) 0.5部 (結着樹脂) ・ベンジルメタクリレート/メタクリル酸メチル/スチレン/2−ヒドロキシエ チルメタクリレート/メタクリル酸/アクリル酸(40/15/10/5/20 /10モル比)共重合体、重量平均分子量4万 5部 (溶剤) ・シクロヘキサノン 10部 ・3−エトキシプロピオン酸メチル 20部 ・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)52部 (感放射線性化合物) ・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 3部 ・4−{o−ブロモ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニル)アミノフェニル} −2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン 0.2部 (重合禁止剤) ・ハイドロキノンモノメチルエーテル 0.0003部
いたところ、ノズルおよび配管共汚染物が残存し、十分
な洗浄を行うことが出来なかった。 <比較洗浄剤A> ・イソプロピルアルコール 50部 ・メチルエチルケトン 50部
用いて、実施例1と同様な操作を行なった。洗浄結果を
下記の3段階評価を行い、表1に示した。 ◎:洗浄効果大、完璧に近く汚れが取れる。 ○:洗浄効果あり、殆ど汚れが取れる。 ×:洗浄効果なし、殆ど汚れが取れない。 なお、感放射線性着色組成物B(顔料の平均粒子径:
0.09μm)の組成は、下記のとおりであり、洗浄液
A〜L、及び比較洗浄液A、Bの組成は表2及び3に示
した。
CD、CD−2000は、下記の通りである。 ペレックスNBL:花王(株)製、界面活性剤 CD:富士フィルムオーリン社製、現像液 CD−2000:富士フィルムオーリン社製、現像液
果より、本発明の洗浄液は洗浄能力に優れていることが
明らかである。一方、着色組成物に用いられた溶剤とは
異なる溶剤からなる洗浄液を用いた比較例1,2の場
合、洗浄能力に劣る。
組成物によってもたらされた汚染に対する洗浄効果に優
れ、カラーフィルター用顔料分散液や感放射線性感光性
着色組成物よってもたらされた汚染を効率良く洗浄、除
去することができる。従って、本発明の洗浄液は、特に
カラーフィルター作製におけるスピンナーでの塗布工程
でのスピンナーカップ内自己洗浄、また塗液供給ライン
の洗浄に好ましく使用されるのみならず、印刷方式での
塗布、スリットダイでの塗布にも適用できる。
Claims (11)
- 【請求項1】 平均粒子径が0.5μm以下の顔料、結
着樹脂及び溶剤を含有する着色組成物を洗浄するための
洗浄液であって、該着色組成物中の溶剤の少なくとも1
種を含有することを特徴とする着色組成物用洗浄液。 - 【請求項2】 界面活性剤を含むことを特徴とする請求
項1に記載の洗浄液。 - 【請求項3】 顔料分散剤を含有することを特徴とする
請求項1又は2に記載の洗浄液。 - 【請求項4】 樹脂を含有することを特徴とする請求項
1〜3のいずれかに記載の洗浄液。 - 【請求項5】 上記樹脂として、上記着色組成物中に含
有される結着樹脂を含有することを特徴とする請求項4
に記載の洗浄液。 - 【請求項6】 平均粒子径が0.5μm以下の顔料、結
着樹脂及び溶剤を含有する着色組成物を洗浄するための
洗浄液であって、該着色組成物中の顔料が除かれた成分
を含有することを特徴とする着色組成物用洗浄液。 - 【請求項7】 上記着色組成物中の顔料が除かれた成分
が、該着色組成物を遠心分離処理することにより顔料が
除かれた成分であることを特徴とする請求項6に記載の
洗浄液。 - 【請求項8】 平均粒子径が0.5μm以下の顔料、結
着樹脂及び溶剤を含有する着色組成物を洗浄するための
洗浄液であって、該着色組成物に対して現像性を有する
溶液であることを特徴とする着色組成物用洗浄液。 - 【請求項9】 上記着色組成物に対して現像性を有する
溶液が、アルカリ溶液であることを特徴とする請求項8
に記載の洗浄液。 - 【請求項10】 前記着色組成物が、感光性であること
を特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の洗浄液。 - 【請求項11】 前記着色組成物が、カラーフィルター
作成用着色組成物であることを特徴とする請求項1〜1
0のいずれかに記載の洗浄液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8240599A JP2000273370A (ja) | 1999-03-25 | 1999-03-25 | 着色組成物用洗浄液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8240599A JP2000273370A (ja) | 1999-03-25 | 1999-03-25 | 着色組成物用洗浄液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000273370A true JP2000273370A (ja) | 2000-10-03 |
Family
ID=13773693
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8240599A Pending JP2000273370A (ja) | 1999-03-25 | 1999-03-25 | 着色組成物用洗浄液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000273370A (ja) |
Cited By (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005131637A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置 |
WO2005059646A2 (en) * | 2003-12-16 | 2005-06-30 | Showa Denko K.K. | Photosensitive composition remover |
WO2005075107A1 (ja) * | 2004-02-09 | 2005-08-18 | Toppan Printing Co., Ltd. | 塗工装置及び塗工装置の洗浄方法 |
WO2006018940A1 (ja) * | 2004-08-20 | 2006-02-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 洗浄除去用溶剤 |
JP2006075691A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置及び洗浄方法 |
WO2006040846A1 (ja) * | 2004-10-12 | 2006-04-20 | Toppan Printing Co., Ltd. | 洗浄機構を有する塗工装置、塗工装置の洗浄方法および塗工装置に用いる洗浄機構 |
JP2006257413A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-09-28 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 顔料分散型着色樹脂組成物用洗浄液 |
JP2006291191A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-10-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 感光性着色組成物用洗浄液及びその評価方法 |
JP2007002101A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 洗浄剤 |
WO2007010881A1 (en) * | 2005-07-19 | 2007-01-25 | Showa Denko K.K. | Removing solution for photosensitive composition |
JP2007052405A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-03-01 | Showa Denko Kk | 感光性組成物除去液 |
JP2007254550A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Fujifilm Corp | インク洗浄液及びクリーニング方法 |
JP2008075023A (ja) * | 2006-09-22 | 2008-04-03 | Kao Corp | 水系顔料分散体製造装置の洗浄方法 |
KR100944400B1 (ko) * | 2005-07-19 | 2010-02-25 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 감광성 조성물용 제거액 |
WO2010098327A1 (ja) | 2009-02-26 | 2010-09-02 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、遮光性カラーフィルタを備えた液晶表示素子、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ及び、ウエハレベルレンズを備えた撮像ユニット |
EP2230269A2 (en) | 2009-03-17 | 2010-09-22 | FUJIFILM Corporation | Colored curable composition, color filter, and method for producing color filter |
JP2011508816A (ja) * | 2008-01-04 | 2011-03-17 | アルケマ フランス | 着色力を増進する高度の能力を備える中和剤および補助分散剤、ならびにこれらを含有する塗料および顔料濃縮物 |
EP2362266A2 (en) | 2010-02-26 | 2011-08-31 | Fujifilm Corporation | Colored curable composition, color filter and method of producing color filter, solid-state image sensor and liquid crystal display device |
WO2011122707A1 (en) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Fujifilm Corporation | Colored composition, inkjet ink, color filter and method of producing the same, solid-state image sensor and display device |
EP2390272A1 (en) | 2010-05-31 | 2011-11-30 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, cured film, color filter, method of producing color filter and solid-state image sensor |
EP2392621A2 (en) | 2010-06-01 | 2011-12-07 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion composition, red colored composition, colored curable composition, color filter for a solid state imaging device and method for producing the same, and solid state imaging device |
EP2402818A1 (en) | 2010-06-30 | 2012-01-04 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition, pattern forming material, and photosensitive film, pattern forming method, pattern film, low refractive index film, optical device and solid-state imaging device each using the same |
WO2012015076A1 (en) | 2010-07-29 | 2012-02-02 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition |
JP2012050986A (ja) * | 2011-12-02 | 2012-03-15 | Kao Corp | 水系顔料分散体製造装置の洗浄方法 |
EP2498130A2 (en) | 2011-03-08 | 2012-09-12 | Fujifilm Corporation | Curable composition for solid-state imaging device, and photosensitive layer, permanent pattern, wafer-level lens, solid-state imaging device and pattern forming method each using the composition |
WO2013038974A1 (en) | 2011-09-14 | 2013-03-21 | Fujifilm Corporation | Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor |
TWI396736B (zh) * | 2005-02-18 | 2013-05-21 | Toyo Ink Mfg Co | 顏料分散型著色樹脂組成物用洗淨液 |
WO2013140979A1 (ja) | 2012-03-21 | 2013-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
WO2013141156A1 (ja) | 2012-03-19 | 2013-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
WO2014103628A1 (ja) | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー |
WO2015033814A1 (ja) | 2013-09-06 | 2015-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素 |
JP2018079431A (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | Jsr株式会社 | 混合槽の洗浄方法及び着色組成物の製造方法 |
-
1999
- 1999-03-25 JP JP8240599A patent/JP2000273370A/ja active Pending
Cited By (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005131637A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置 |
US8153357B2 (en) | 2003-12-16 | 2012-04-10 | Showa Denko K.K. | Photosensitive composition remover |
WO2005059646A2 (en) * | 2003-12-16 | 2005-06-30 | Showa Denko K.K. | Photosensitive composition remover |
WO2005059646A3 (en) * | 2003-12-16 | 2006-03-30 | Showa Denko Kk | Photosensitive composition remover |
US8431333B2 (en) | 2003-12-16 | 2013-04-30 | Showa Denko K.K. | Method for removing an uncured photosensitive composition |
WO2005075107A1 (ja) * | 2004-02-09 | 2005-08-18 | Toppan Printing Co., Ltd. | 塗工装置及び塗工装置の洗浄方法 |
WO2006018940A1 (ja) * | 2004-08-20 | 2006-02-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 洗浄除去用溶剤 |
CN100521100C (zh) * | 2004-08-20 | 2009-07-29 | 东京应化工业株式会社 | 清洗除去用溶剂 |
US7932221B2 (en) | 2004-08-20 | 2011-04-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Solvent for cleaning |
JP2006075691A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置及び洗浄方法 |
WO2006040846A1 (ja) * | 2004-10-12 | 2006-04-20 | Toppan Printing Co., Ltd. | 洗浄機構を有する塗工装置、塗工装置の洗浄方法および塗工装置に用いる洗浄機構 |
JP2006257413A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-09-28 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 顔料分散型着色樹脂組成物用洗浄液 |
TWI396736B (zh) * | 2005-02-18 | 2013-05-21 | Toyo Ink Mfg Co | 顏料分散型著色樹脂組成物用洗淨液 |
JP2006291191A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-10-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 感光性着色組成物用洗浄液及びその評価方法 |
JP2007002101A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 洗浄剤 |
WO2007010881A1 (en) * | 2005-07-19 | 2007-01-25 | Showa Denko K.K. | Removing solution for photosensitive composition |
KR100944400B1 (ko) * | 2005-07-19 | 2010-02-25 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 감광성 조성물용 제거액 |
JP2007052405A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-03-01 | Showa Denko Kk | 感光性組成物除去液 |
JP4698515B2 (ja) * | 2005-07-19 | 2011-06-08 | 昭和電工株式会社 | 感光性組成物除去液 |
JP2007254550A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Fujifilm Corp | インク洗浄液及びクリーニング方法 |
JP2008075023A (ja) * | 2006-09-22 | 2008-04-03 | Kao Corp | 水系顔料分散体製造装置の洗浄方法 |
JP2011508816A (ja) * | 2008-01-04 | 2011-03-17 | アルケマ フランス | 着色力を増進する高度の能力を備える中和剤および補助分散剤、ならびにこれらを含有する塗料および顔料濃縮物 |
WO2010098327A1 (ja) | 2009-02-26 | 2010-09-02 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、遮光性カラーフィルタを備えた液晶表示素子、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ及び、ウエハレベルレンズを備えた撮像ユニット |
EP2230269A2 (en) | 2009-03-17 | 2010-09-22 | FUJIFILM Corporation | Colored curable composition, color filter, and method for producing color filter |
EP2568338A1 (en) | 2010-02-26 | 2013-03-13 | Fujifilm Corporation | Colored curable composition, color filter and method of producing color filter, solid-state image sensor and liquid crystal display device |
EP2362266A2 (en) | 2010-02-26 | 2011-08-31 | Fujifilm Corporation | Colored curable composition, color filter and method of producing color filter, solid-state image sensor and liquid crystal display device |
WO2011122707A1 (en) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Fujifilm Corporation | Colored composition, inkjet ink, color filter and method of producing the same, solid-state image sensor and display device |
EP2390272A1 (en) | 2010-05-31 | 2011-11-30 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, cured film, color filter, method of producing color filter and solid-state image sensor |
EP2392621A2 (en) | 2010-06-01 | 2011-12-07 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion composition, red colored composition, colored curable composition, color filter for a solid state imaging device and method for producing the same, and solid state imaging device |
EP2402818A1 (en) | 2010-06-30 | 2012-01-04 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition, pattern forming material, and photosensitive film, pattern forming method, pattern film, low refractive index film, optical device and solid-state imaging device each using the same |
WO2012015076A1 (en) | 2010-07-29 | 2012-02-02 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition |
EP2498130A2 (en) | 2011-03-08 | 2012-09-12 | Fujifilm Corporation | Curable composition for solid-state imaging device, and photosensitive layer, permanent pattern, wafer-level lens, solid-state imaging device and pattern forming method each using the composition |
WO2013038974A1 (en) | 2011-09-14 | 2013-03-21 | Fujifilm Corporation | Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor |
JP2012050986A (ja) * | 2011-12-02 | 2012-03-15 | Kao Corp | 水系顔料分散体製造装置の洗浄方法 |
WO2013141156A1 (ja) | 2012-03-19 | 2013-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
WO2013140979A1 (ja) | 2012-03-21 | 2013-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
WO2014103628A1 (ja) | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー |
WO2015033814A1 (ja) | 2013-09-06 | 2015-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素 |
JP2018079431A (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | Jsr株式会社 | 混合槽の洗浄方法及び着色組成物の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2000273370A (ja) | 着色組成物用洗浄液 | |
JP3824285B2 (ja) | 感放射線性着色組成物 | |
JPH1062986A (ja) | 感放射線性着色組成物 | |
JP3627886B2 (ja) | 感放射線性着色組成物 | |
US6140016A (en) | Photosensitive colored composition for color filter | |
JP4393104B2 (ja) | Lcd用硬化性緑色組成物およびカラーフィルタ | |
JP4428880B2 (ja) | 着色組成物および感光性着色組成物 | |
JP4472287B2 (ja) | Lcd用カラーフィルタ | |
JP2000089025A (ja) | カラーフィルター用感光性着色組成物 | |
JPH10160928A (ja) | 緑色カラーフィルター用塗料組成物 | |
KR100857810B1 (ko) | 감광성 착색수지 조성물 및 그 제조방법 및 컬러필터의제조방법 | |
JP3893443B2 (ja) | カラーフィルター用組成物 | |
JP3590279B2 (ja) | カラーフィルター用光重合性組成物 | |
JP4130102B2 (ja) | 感放射線性着色組成物 | |
JP4210455B2 (ja) | 光硬化性着色組成物及びカラーフィルター | |
JP2004109989A (ja) | 光硬化性組成物、それを用いたlcd用構成部品並びに固体撮像素子用構成部品及びそれらの製造方法 | |
JP3929556B2 (ja) | 感放射線性着色組成物 | |
JP2002372618A (ja) | カラーフィルター用赤色硬化性組成物及びそれを用いたカラーフィルター | |
JP2002303717A (ja) | カラーフィルター用感光性着色組成物 | |
JP4460796B2 (ja) | 感光性着色組成物 | |
JP2001033616A (ja) | カラーフィルター用青色着色組成物 | |
JP2001033615A (ja) | カラーフィルター用赤色着色組成物 | |
JPH09171253A (ja) | 感放射線性組成物 | |
JP2002022934A (ja) | 感放射線性カラーフィルター用組成物 | |
JP3753261B2 (ja) | 感放射線性着色組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040810 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060324 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20061124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070221 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070423 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071108 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071115 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071122 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080903 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090107 |