WO2006018940A1 - 洗浄除去用溶剤 - Google Patents
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/22—Electronic devices, e.g. PCBs or semiconductors
Definitions
- the present invention relates to a solvent for cleaning and removing a photosensitive resin composition.
- Photolithographic techniques are used in the manufacture of semiconductor elements and liquid crystal display elements, and for these, positive or negative photosensitive resin compositions are used.
- the photosensitive resin composition is applied in the form of a coating solution on a substrate such as a semiconductor substrate or a glass substrate, and is appropriately dried to form a film, which is selectively exposed, and then developed. By performing the treatment, a patterned photosensitive resin film is formed.
- a rotary coating method is generally used.
- a coating and spin method, a non-spin method, or the like is applied. Means have been proposed.
- the nozzle for discharging the photosensitive resin composition, the inner wall of the coating apparatus, the peripheral edge of the substrate, the back surface of the substrate, and other piping systems are contaminated by the photosensitive resin composition. It is necessary to perform a cleaning process at any time.
- a pigment-dispersed photosensitive resin composition for forming a pigment-dispersed material such as a color filter or a black matrix pattern, is difficult to remove by washing, and it is required to realize a washing-removing solution having excellent washing properties. It was.
- Patent Documents 1 and 2 are known as cleaning removal liquids for the pigment-dispersed photosensitive resin composition.
- Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2001-188364
- Patent Document 2 Japanese Patent Publication No. 2000-273370
- the present invention is suitable for cleaning such a photosensitive resin composition, and particularly an excellent solvent for cleaning removal for cleaning a pigment-dispersed photosensitive resin composition for forming a color filter or a black matrix pattern.
- the purpose is to provide.
- the present invention employs the following configuration.
- the present invention relates to the hydrogen bonding parameter ( ⁇ ) in the Hansen solubility parameter.
- a solvent for cleaning and removing a photosensitive resin composition wherein the force is from S5 to 10
- the photosensitive resin composition to be cleaned in the present invention is not particularly limited.
- Any positive, negative, chemically amplified, or non-chemically amplified photosensitive resin composition that has been used for liquid crystals, color filters, and the like can be used.
- the photosensitive resin composition basically contains a resin component and a photosensitive component such as a photopolymerization initiator as essential components. In addition, it may contain a monomer component, a surfactant, an acid component, a nitrogen-containing organic compound, a pigment, a solvent, and the like.
- the photosensitive resin composition exhibiting a cleaning effect is a photosensitive resin composition in which a pigment is dispersed, and more preferably red (R), green (G), and blue (dark blue).
- Examples of the resin component include one or more selected from monomers having a carboxy group such as acrylic acid and methacrylic acid, and methyl acrylate, methyl methacrylate, acrylic Ethyl acid, Ethyl methacrylate, 2-Hydroxyethyl acrylate, 2-Hydroxyethyl methacrylate, 2-Hydroxypropyl methacrylate, N-Butyl acrylate, N-Butyl methacrylate, Isobutyl acrylate, Isobutyl methacrylate Tallylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, phenoxy acrylate, phenoxy methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, glycidyl methacrylate, styrene, acrylate, acrylonitrile, etc.
- monomers having a carboxy group such as acrylic acid and methacrylic acid, and methyl acrylate
- photopolymerization initiator examples include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-1-methyl 2-phenylpropane-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] 2 —Hydroxy-1-2-methyl 1-propane-1-one, 1— (4-Isopropylpyruphenyl) 2-hydroxy-1-2-methylpropane-1-one, 1— (4-dodecinole phenyl) 1-2-hydroxy 1-Methylpropane 1-one, 2,2-Dimethoxy-1-, 2-diphenylethane 1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone, 2-methyl-1- 1- [4- (methylthio) phenyl ] -2-Morpholinopropane 1-one, 2-Benzyl-2-dimethylamino-1- 1- (4-morpholinophenyl) 1-butane-1-one, 2, 4, 6-trimethylbenzoyldiphenylphosphin
- JP 2004-69754 A and JP 11-231523 A have been proposed.
- the photosensitive materials described in JP-A-11-84125, JP-A-10-221843, JP-A-9-269410, JP-A-10-90516 and the like are preferably used.
- the present invention relates to the hydrogen bonding parameter ( ⁇ ) in the Hansen solubility parameter.
- the Hansen solubility parameter is one of the methods for defining the solubility parameter of the solvent. (pp. 22 — 29, Blackie Academic
- the hydrogen bonding parameter ( ⁇ ) in the Hansen dissolution parameter is 5 to 10, preferably
- the photosensitive resin composition contains Removability of organic components such as resin components, monomer components, and photopolymerization initiators is poor. If the upper limit of the above range is exceeded, components that are dispersed without being dissolved in the photosensitive resin composition such as pigments. May remain after washing that easily causes aggregation or the like.
- the solvent for washing and removal has a hydrogen bond parameter ( ⁇ ) of 5 to 10, more preferably 6
- the hydrogen bonding parameter after mixing should be within the above range.
- the hydrogen bond parameter ( ⁇ ) is within the above range
- the hydrogen bonding force parameter ( ⁇ ) of the mixed solvent is a value theoretically determined by the following equation.
- Hydrogen bond strength parameter ( ⁇ ) A X a + B X b + C X c + (where A
- H, B, and C are the hydrogen bond strength parameters of each solvent used for mixing, and a, b, and c indicate the content ratio (mass basis) of each solvent when the total mass of the mixed solvent is “1”. . )
- the hydrogen bonding parameter of propylene glycol monomethyl ether acetate is 6.6
- propylene glycol monomethyl ether is 13.6, and xylene is 2.5, so these are mixed at a mass ratio of 6: 2: 2.
- the solvent for washing and removing containing propylene glycol monoalkyl ether acetate is preferable because it has an effect on the removability of organic components in the photosensitive resin composition.
- propylene glycol monoalkyl ether is preferred. Of these, alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms are preferred.
- an aromatic solvent is used in a pigment-dispersed photosensitive resin composition, particularly a black pigment (carbon) -dispersed photosensitive resin composition for forming a black matrix pattern. This is preferable because an effect of suppressing the carbon aggregation phenomenon can be obtained.
- an aromatic solvent having an alkyl group For example, monoalkylbenzene, dialkylbenzene, trialkylbenzene and the like are preferable.
- the alkyl group contained in the aromatic solvent preferably has 1 to 5 carbon atoms. Further, the ratio of the aromatic solvent contained in the washing and removing solvent is preferably at least 5% by mass.
- an aromatic solvent containing both dialkylbenzene and trialkylbenzene is preferable.
- These are preferably used in combination with the above propylene glycol monoalkyl ether acetate and Z or propylene glycol monoalkyl ether, and adjusted so that the hydrogen bonding parameter of the mixed solvent is 5 to 10:
- aromatic solvents containing both dialkylbenzene and trialkylbenzene include commercially available Solvesso 100, Sonorebesso 150, Solvesso 200 (trade names, manufactured by Eksony Chemical Co., Ltd.) Etc. are available. Since these commodities are petroleum fractions, it is difficult to quantitatively indicate the aromatic compounds contained in them.
- Solvesso 100 includes ethylmethylbenzene, methylpropylbenzene, jetylbenzene, trimethylbenzene, and ethyldimethylbenzene.
- anisole methoxybenzene
- hydrogen bonding parameter 6.7
- a mixed solvent of three types of propylene glycol monoalkyl ether acetate, propylene glycol monoalkyl ether, and aromatic solvent is most preferable for washing and removing the pigment dispersion type photosensitive resin composition.
- the mixing ratio of these solvents is not particularly limited, and can be adjusted as appropriate so that the hydrogen bonding parameter of the mixed solvent is 5 to 10:
- the solvent for cleaning and removing of the present invention preferably contains a good solvent for the resin component of the photosensitive resin composition.
- the good solvent includes a solvent used in the photosensitive resin composition.
- the resin resin component refers to the above-mentioned resin components known as constituent components of the photosensitive resin composition for forming a color filter and the photosensitive resin composition for forming a black matrix pattern.
- the resin component contained in the photosensitive resin composition to be cleaned is known in advance, it is preferable to include the solvent contained in the photosensitive resin composition.
- Examples of good solvents for the resin component of the photosensitive resin composition include ethylene glycol monomethylenoatenore, ethyleneglycolenomethinoleatenore, ethyleneglycolenopropenoreatenore, ethyleneglycolenole Mononochinoleatenore, Ethylene Glyconorezi Methinoleetenore, Ethylene Glyconore Jetinoreetenore, Ethylene Glyconoresi Propinorenotere, Propylene Glyconore Monomethinoreteinole, Propylene Glyconore Monoete Norenoatere, Propylene Glycol Noremono propenoate monothere, propylene glycol monobutene ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol jet noreate nore, diethylene glycol nore monomethinore Tenoré, Diethyleneglycolenotino chinoreateol, Diethyleneg
- the cleaning removal solvent of the present invention includes a cleaning removal composition containing a solvent and other components in addition to a so-called solvent (single solvent or mixed solvent).
- a surfactant known as a constituent of the photosensitive resin composition for forming a color filter and the photosensitive resin composition for forming a black matrix pattern can be used, but the photosensitive resin to be cleaned is used. If the surfactant contained in the composition is known in advance, the same type of surfactant is preferred.
- Examples of the surfactant include fluorine-based surfactant.
- fluorine-based surfactant include fluorine-based surfactant.
- nonionic fluorine-based surfactants (E-1) in which perfluoroalkyl ester groups, alkylsiloxane groups, ethyleneoxy groups, and propyleneoxy groups are combined are preferred.
- Specific examples include MegaFac R-08, R-60 (product name, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.).
- a surfactant component (E 2) having a fluorine content of 10 to 25% by mass and a silicon content of 3 to 10% by mass.
- Specific examples include X_70_090, X_70_091, X-70-092, X_70_093 (product name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the like.
- a polyester-modified polydialkylsiloxane surfactant (E3) having a specific siloxane skeleton is also preferred.
- Specific examples include BYK_310, BYK315, (product, manufactured by Bicchemi).
- surfactants other than the above (E— :!) to (E 3) include Florard FC_430, FC431 (product name, manufactured by Sumitomo 3M), Ftop EF122A, EF122B, EF122C, EF1 26 (product name, Fluorosurfactants such as Tochem Products).
- surfactant one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
- the content of the surfactant in the cleaning removal solvent of the present invention is preferably such that the concentration of the surfactant in the composition is 0.0001-1. 0% by mass. Mass% more preferable.
- the compounding amount of the surfactant is not less than the lower limit of the above range, the effect of adding the surfactant can be obtained.
- the surfactant concentration in the photosensitive resin composition increases more than necessary by setting the upper limit value within the above range. Is prevented. If the concentration of the surfactant in the photosensitive resin composition is too high, bubbles are likely to be generated and coating unevenness is likely to occur, and pinholes may be generated in the coating film.
- the concentration of the surfactant contained in the photosensitive resin composition to be cleaned is known in advance, it is possible to make the concentration and the surfactant concentration in the solvent for cleaning removal the same level. It is preferable from the viewpoint of energy balance.
- the solvent for cleaning and removing of the present invention is used for removing an unnecessary photosensitive resin composition on a substrate after the photosensitive resin composition is applied to the substrate, and also used for a coating process. It is suitably used for cleaning photosensitive resin compositions adhering to apparatus nozzles, rollers, pipes, and the like.
- the solvent for washing and removing of the present invention has excellent detergency particularly for a pigment-dispersed photosensitive resin composition for forming a color filter or a black matrix pattern.
- the solvent for washing and removing of the present invention may be composed of only one kind of solvent, but in order to satisfy various properties such as washing property, drying property, prevention of settling of washed pigment, etc.
- a mixed solvent using a plurality of types of solvents is preferable because a balanced cleaning solution can be easily designed.
- the resin component, monomer component, photopolymerization initiator, and other components in the photosensitive resin composition are excellent in removability, and the aggregation of pigments and the like are suppressed, resulting in good cleanability. can get.
- the car- rier dispersed in the photosensitive resin composition washed and removed by the solvent. Aggregation of pigment particles such as Bonn is suppressed, and the pigment is efficiently dispersed in the solvent for washing and removing. That is, if the dispersibility of the pigment in the solvent for washing and removal is poor, the pigment particles once washed and removed tend to aggregate and settle on the surface to be washed, but this can be prevented and the washing residue can be eliminated.
- an aromatic solvent having an alkyl group and / or an alkoxy group is preferable because carbon can be efficiently dispersed.
- the cleaning liquid attached to the nozzle or the like is discharged when the photosensitive resin composition is discharged again after cleaning. It dissolves in the photosensitive resin composition and changes the composition of the photosensitive resin composition. This may lead to deterioration of properties such as applicability of the photosensitive resin composition, and may cause uneven coating, for example.
- a surfactant is added to the photosensitive resin composition, the concentration of the surfactant decreases due to contact with the cleaning liquid, and as a result, coating unevenness tends to occur.
- the present invention it is possible to provide a solvent for cleaning and removal excellent in drying property (fast drying property), and thereby it is possible to suppress the dissolution of the cleaning solution into the photosensitive resin composition.
- a solvent for cleaning and removal excellent in drying property fast drying property
- propylene glycol monoalkyl ether it is effective for improving the drying property.
- C Carbon PR BK-5005SLJ
- a photosensitive resin composition for forming a black matrix pattern was adhered to a 1 ml pipette made of glass. Next, 1 ml of the pipette was washed. A cleaning process was performed 10 times with the solvent for removal, and the subsequent cleaning condition was visually checked.A was the case where there was no cleaning residue at all. Those that were not evaluated were evaluated as B, and those that had a lot of cleaning residue and had practical problems were evaluated as C.
- a 10 ml sample of each of the upper layer portion and the lower layer portion extracted by the same method as in the evaluation of the sedimentation property of the pigment was spin-coated on the substrate, and coating unevenness was visually confirmed. Uneven coating The evaluation was A, the coating unevenness was slightly confirmed, but the practical force was evaluated as B, and the confirmed practical problem was evaluated as C.
- a cleaning solution consisting of PGMEA (hydrogen bonding parameter 6.6) was prepared.
- a detergent (trade name: Additol XL 121; manufactured by Sol Issia Co.) 5 Oppm was added to the detergent of Example 3 to prepare a detergent.
- a detergent (trade name: Additol XL 121; manufactured by Sol Issia Co.) 5 Oppm was added to the detergent of Example 5 to prepare a detergent.
- Examples 3 to 6 containing an aromatic solvent were good without aggregation and sedimentation of the pigment.
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Abstract
カラーフィルターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用として特に優れた洗浄除去用溶剤が提供される。この洗浄除去用溶剤は、ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）溶解パラメータにおける水素結合力パラメータ（δＨ）が５～１０の溶剤である。
Description
明 細 書
洗浄除去用溶剤
技術分野
[0001] 本発明は、感光性樹脂組成物の洗浄除去用溶剤に関する。
本願は、 2004年 8月 20曰に曰本国に出願された特願 2004— 241617号及び 20 05年 4月 28曰に曰本国に出願された特願 2005— 132036号に基づく優先権を主 張し、それらの内容をここに援用する。
背景技術
[0002] 半導体素子や液晶表示素子の製造においては、フォトリソグラフィー技術が用いら れているが、それらには、ポジ型やネガ型の感光性樹脂組成物が利用される。
当該感光性樹脂組成物は塗布液の形で、半導体基板や、ガラス基板等の基板上 に塗布され、適宜乾燥処理を施して被膜を形成し、これに選択的露光を行い、次い で現像処理を行うことでパターン化された感光性樹脂被膜が形成される。
感光性樹脂組成物の基板への塗布方法としては、回転式塗布方法が一般的であ るが、特に大型化が進む液晶表示素子製造の分野においては、コートアンドスピン 方式、ノンスピン方式等の塗布手段が提案されてきている。
[0003] 塗布工程においては、感光性樹脂組成物を吐出するノズルや、塗布装置内壁、基 板周縁、基板裏面、その他の配管系等が感光性樹脂組成物により汚染されるため、 定期的あるいは随時、洗浄処理を行う必要がある。
特に顔料が分散された材料、例えばカラーフィルターやブラックマトリックスパターン を形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物は、洗浄除去が困難であり、洗浄 性に優れた洗浄除去液の実現が求められていた。
なお、顔料分散型感光性樹脂組成物に対する洗浄除去液としては、たとえば特許 文献 1、 2に記載のものが知られている。
特許文献 1：特開 2001-188364号公報
特許文献 2：特開 2000-273370号公幸艮
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0004] しかし、基板の大型化や、塗布手段の新たな提案等により、洗浄領域は拡大する 方向にあり、更なる洗浄性能の向上が求められてきている。
本発明は、このような感光性樹脂組成物の洗浄用として好適な、特にカラーフィル ターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物 の洗浄用として優れた洗浄除去用溶剤を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
[0005] 上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
本発明はハンセン (Hansen)溶解パラメータにおける水素結合力パラメータ（ δ )
Η
力 S5〜： 10であることを特徴とする、感光性樹脂組成物の洗浄除去用溶剤を提供する
発明の効果
[0006] 本発明により、洗浄性に優れた洗浄除去用溶剤が提供される。
発明を実施するための最良の形態
[0007] 以下、本発明をより詳細に説明する。
《感光性樹脂組成物》
本発明で洗浄対象とする感光性樹脂組成物は特に限定は無 これまで半導体用
、液晶用、カラーフィルター用等で用いられてきたポジ型、ネガ型、化学増幅型、非 化学増幅型のあらゆる感光性樹脂組成物が用いられる。
感光性樹脂組成物は、基本的に樹脂成分、および光重合開始剤等の感光成分を 必須成分として含有する。それ以外に、モノマー成分、界面活性剤、酸成分、含窒素 有機化合物、顔料、溶剤等を含有する場合もある。
[0008] 特に洗浄効果を発揮する感光性樹脂組成物としては、顔料が分散された感光性樹 脂組成物であり、更に好ましくは、赤 (R)、緑 (G)、青（Β)のカラーフィルター形成用 感光性樹脂組成物、ブラックマトリックスパターン形成用感光性樹脂組成物である。
[0009] 上記樹脂成分としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシ基を有 するモノマーから選ばれる 1種以上と、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル
酸ェチル、メタクリル酸ェチル、 2—ヒドロキシェチルアタリレート、 2—ヒドロキシェチ ルメタタリレート、 2—ヒドロキシプロピルメタタリレート、 N—ブチルアタリレート、 N—ブ チルメタタリレート、イソブチルァクリート、イソブチルメタタリレート、ベンジルアタリレー ト、ベンジルメタタリレート、フエノキシアタリレート、フエノキシメタタリレート、イソボル二 ルアタリレート、イソボルニルメタタリレート、グリシジルメタタリレート、スチレン、アタリ ノレアミド、アクリロニトリルなどから選ばれる 1種以上との共重合体や；フエノールノボラ ック型エポキシアタリレート重合体、フエノールノボラック型エポキシメタタリレート重合 体、クレゾ一ルノボラック型エポキシアタリレート重合体、クレゾ一ルノボラック型ェポキ シメタタリレート重合体、ビスフエノール A型エポキシアタリレート重合体、ビスフエノー ル S型エポキシアタリレート重合体などの樹脂が挙げられる。
上記光重合開始剤としては、 1ーヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、 2—ヒドロ キシ一 2—メチル 1—フエニルプロパン一 1—オン、 1—〔4— (2—ヒドロキシェトキ シ）フエニル〕 2—ヒドロキシ一 2—メチル 1—プロパン一 1—オン、 1— (4—イソプ 口ピルフエニル） 2—ヒドロキシ一 2—メチルプロパン一 1—オン、 1— (4—ドデシノレ フエ二ル）一 2—ヒドロキシ一 2—メチルプロパン一 1—オン、 2, 2—ジメトキシ一 1 , 2 —ジフエニルェタン一 1—オン、ビス（4—ジメチルァミノフエニル）ケトン、 2—メチル一 1 - [4- (メチルチオ）フエニル〕ー2—モルフォリノプロパン 1 オン、 2—べンジル —2—ジメチルァミノ一 1— (4—モルフォリノフエニル）一ブタン一 1—オン、 2， 4， 6 - トリメチルベンゾィルジフエニルホスフィンォキシド、 4_ベンゾィル一4'—メチルジメ チノレスノレフイド、 4—ジメチルァミノ安息香酸、 4—ジメチルァミノ安息香酸メチル、 4_ ジメチルァミノ安息香酸ェチル、 4 _ジメチルァミノ安息香酸ブチル、 4 _ジメチルアミ ノ— 2_ェチルへキシル安息香酸、 4—ジメチルァミノ _ 2 _イソアミル安息香酸、ベ ンジル一 β—メトキシェチルァセタール、ベンジルジメチルケタール、 1 _フエニル一 1， 2_プロパンジオン _ 2_ (ο_エトキシカルボ二ノレ）ォキシム、 ο_ベンゾィル安息 香酸メチル、 2， 4_ジェチルチオキサントン、 2_クロ口チォキサントン、 2， 4_ジメチ ルチオキサントン、 1 _クロ口 _4_プロポキシチォキサントン、チォキサンテン、 2—ク ロロチォキサンテン、 2, 4_ジェチルチオキサンテン、 2—メチルチオキサンテン、 2_ イソプロピルチォキサンテン、 2—ェチルアントラキノン、オタタメチルアントラキノン、 1
,2—ベンズアントラキノン、 2， 3—ジフエ二ルアントラキノン、ァゾビスイソブチロニトリル 、ベンゾィルパーォキシド、クメンパーォキシド、 2 _メルカプトべンゾイミダール、 2— メルカプトべンゾォキサゾール、 2 _メルカプトべンゾチアゾール、 2 _ (o _クロ口フエ ニル）一4, 5—ジ（m—メトキシフエニル）一イミダゾリル二量体、ベンゾフエノン、 2 _ クロ口べンゾフエノン、 ρ,ρ'—ビスジメチノレアミノべンゾフエノン、 4， 4'—ビスジェチノレ ァミノべンゾフエノン、 4, 4 '—ジクロ口べンゾフエノン、 3， 3—ジメチル _4—メトキシ ベンゾフヱノン、ベンジノレ、ベンゾイン、ベンゾインメチノレエーテノレ、ベンゾインェチノレ エーテノレ、ベンゾインイソプロピノレエーテノレ、ベンゾイン一 η ブチノレエーテノレ、ベン ゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ァセトフヱノン、 2,2—ジエト キシァセトフエノン、 ρ ジメチルァセトフエノン、 ρ ジメチルァミノプロピオフエノン、 ジクロロアセトフエノン、トリクロロアセトフエノン、 p— tert ブチルァセトフエノン、 p— ジメチルアミノアセトフエノン、 p— tert ブチルトリクロロアセトフエノン、 p— tert ブ チルジクロロアセトフエノン、 α , α—ジクロロー 4 フエノキシァセトフエノン、チォキ サントン、 2—メチルチオキサントン、 2—イソプロピルチォキサントン、ジベンゾスベロ ン、ペンチルー 4—ジメチルァミノべンゾエート、 9—フエ二ルァクリジン、 1 , 7—ビス — (9—アタリジニノレ）ヘプタン、 1 , 5—ビス一（9—アタリジニノレ）ペンタン、 1 , 3—ビス —(9—アタリジニル）プロパン、 ρ—メトキシトリアジン、 2, 4, 6 トリス（トリクロロメチル )— s—トリァジン、 2—メチル一4， 6—ビス（トリクロロメチル）一s—トリアジン、 2— [2 - (5—メチルフラン一 2—ィル）ェテュル]—4， 6—ビス（トリクロロメチノレ）一 s -トリア ジン、 2— [2— (フラン一 2—ィル）ェテュル]— 4, 6—ビス（トリクロロメチル）一s—トリ ァジン、 2 _ [2— (4—ジェチルァミノ一 2 _メチルフエニル）ェテュル]— 4, 6 _ビス（ トリクロロメチノレ）一 s—トリアジン、 2— [2— (3， 4—ジメトキシフエニル）ェテュル]— 4 ， 6—ビス（トリクロロメチル）一s—トリァジン、 2— (4—メトキシフエ二ル）一 4， 6—ビス (トリクロロメチノレ）一 s—トリァジン、 2 _ (4—ェトキシスチリノレ）一 4, 6 _ビス（トリクロ口 メチル）一 s—トリアジン、 2 _ (4 _η—ブトキシフエ二ル）一 4， 6 _ビス（トリクロロメチ ル）一 s—トリァジン、 2， 4—ビス一トリクロロメチル一 6— (3—ブロモ一4—メトキシ）フ ェニル _ s—トリアジン、 2， 4—ビス一トリクロロメチノレ一 6 _ (2—ブロモ _4—メトキシ )フエニル一 s トリァジン、 2, 4 ビス一トリクロロメチル一 6— (3 ブロモ 4 メトキ
シ）スチリルフエニル一 s—トリアジン、 2， 4—ビス一トリクロロメチル一 6— (2—ブロモ _4—メトキシ)スチリルフエニル一 s—トリァジンなどを挙げることができる。
[0011] 上記顔料としては、 列えは、 C. I. Pigment Yellow 11、 24、 31、 53、 83、 99、 108、 109、 139、 150、 151、 154、 167、 180、 185、 193 ; C. I. Pigment Orange 36、 3
8、 43 ; C. I. Pigment Red 105、 122、 149、 150、 155、 171、 175、 176、 177、 2
09、 224、 254、 264 ; C. I. Pigment Violet 19、 23、 32、 39 ; C. I. Pigment Blue 1、 2、 15 : 1、 15 : 2、 15 : 3、 16、 22、 60、 66 ; C. I. Pigment Green 7、 36、 37 ; C. I. Pigment Brown 25、 28 ; C. I. Pigment Black 1、 7カーボンブラック等が挙げられ る。
[0012] このようなカラーフィルター形成用、またはブラックマトリックスパターン形成用の感 光性樹脂組成物については多くの提案がなされており、例えば特開 2004— 69754 号公報、特開平 11— 231523号公報、特開平 11— 84125号公報、特開平 10— 22 1843号公報、特開平 9— 269410号公報、特開平 10— 90516号公報等に記載の 感光性材料等が好ましく用いられる。
[0013] <洗浄除去用溶剤 >
本発明は、ハンセン (Hansen)溶解パラメータにおける水素結合力パラメータ（ δ
Η
)が 5〜： 10であることを特徴とする洗浄除去用溶剤を提供する。
ハンセン溶解パラメータとは、溶剤の溶解パラメータを定義する方法の 1種であり、 ί列えば INDUSTRIAL SOLVENTSHANDBOOKJ (pp. 35— 68、 Marcel Dekker, Inc. 、 1996年発行）や、「DIRECTORY〇F SOLVENTS] (pp. 22 — 29、 Blackie Academic
& Professional, 1996年発行）などに記載され、定義されているパラメータである [0014] ハンセン溶解パラメータにおける水素結合力パラメータ（δ )が 5〜10、好ましくは
Η
6〜8となるような溶剤を選択する力、あるいは複数の溶剤を組み合わせて当該水素 結合力パラメータが 5〜10、好ましくは 6〜8となるように適宜混合割合を調整した混 合溶剤を用いることにより、洗浄性に優れた洗浄除去用溶剤となる。
水素結合力パラメータが上記範囲の下限値より小さいと、感光性樹脂組成物中に
おける樹脂成分、モノマー成分、及び光重合開始剤等の有機成分の除去性が悪ぐ また上記範囲の上限値を超えると、顔料等の感光性樹脂組成物中に溶解せず分散 している成分が凝集等を起こし易ぐ洗浄後に残る場合がある。
[0015] 洗浄除去用溶剤は、前記水素結合力パラメータ（δ )が 5〜10、より好ましくは 6
Η 〜
8の範囲内にある溶剤を一種選択して用いてもよ あるいは複数の溶剤を組み合わ せた混合溶剤でもよレ、。洗浄性の点では混合溶剤の方が好ましレ、。
混合溶剤の場合は、混合後の水素結合力パラメータが上記の範囲内となればょレ、 。例えば、該水素結合力パラメータ（ δ )が上記範囲内にあるものどうしを混合しても
Η
よぐ該範囲内のものと範囲外のものとを混合してもよい。
[0016] 混合溶剤の水素結合力パラメータ（δ )は、以下の式により理論的に求められる値
Η
とする。
水素結合力パラメータ（δ ) =A X a + B X b + C X c+ (式中、 A
H 、 B、 Cは、 混合に用いる各溶剤の水素結合力パラメータ、 a、 b、 cは混合溶媒の全体の質量を「 1」とするときの、各溶剤の含有割合 (質量基準)を示す。 )
例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの水素結合力パラメ一 タは 6. 6、プロピレングリコールモノメチルエーテルは 13· 6、キシレンは 2· 5である ので、これらを質量比 6 : 2 : 2で混合した混合溶剤の水素結合力パラメータは、水素 結合カノ ラメータ =6. 6 X 0. 6 + 13. 6 X 0. 2 + 2. 5 X 0. 2 = 7. 18となる。
なお、各溶剤の水素結合力パラメータは、 INDUSTRIAL SOLVENTS HA NDB〇OK」（pp. 35— 68、 MarcelDekker, Inc.、 1996年発行）に記載されて レ、る値を用いることができる。
[0017] 中でもプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートを含有する洗浄除去 用溶剤は、感光性樹脂組成物中の有機成分の除去性に効果があり、好ましい。 プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとしては、例えば炭素数:!〜 3 の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を有するものが挙げられ、プロピレングリコールモ ノメチルエーテルアセテート（PGMEA) (水素結合力パラメータ = 6. 6)が最も好まし レ、。
[0018] また速乾性を求めるためには、プロピレングリコールモノアルキルエーテルが好まし
く、中でもアルキル基の炭素数が 1〜5のものが好ましレ、。特にプロピレングリコール モノメチルエーテル (PGME) (水素結合力パラメータ = 13. 6)は好ましい溶剤であ るので、先のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、特に PGMEAに 混合し、混合溶剤の水素結合力パラメータが 5〜： 10に入るように調整して用いること が好ましい。
[0019] また、顔料分散型の感光性樹脂組成物、特にブラックマトリックスパターン形成用の 黒色顔料 (カーボン)分散型の感光性樹脂組成物に対しては、芳香族系溶剤を配合 して用いるとカーボンの凝集現象を抑制する効果が得られるので好ましい。
カーボン粒子を凝集させず、効率良く分散させるためには、アルキル基を有する芳 香族系溶剤を用いることが有利であり、例えばモノアルキルベンゼン、ジアルキルべ ンゼン、トリアルキルベンゼンなどが好ましい。上記芳香族系溶剤が有するアルキル 基は、炭素原子数が 1〜5であることが好ましい。また、上記芳香族系溶剤が上記洗 浄除去用溶剤中に含まれる割合は、少なくとも 5質量％であることが好ましい。
[0020] これらは例えば、トルエン (水素結合力パラメータ = 2. 0)、キシレン (水素結合カパ ラメータ = 2· 5)、ェチルベンゼン（水素結合力パラメータ = 1. 4)、プロピルベンゼン 、 1 メチルプロピルベンゼン、 2—メチルプロピルベンゼン、ジメチルベンゼン、ジェ チルベンゼン、ェチルメチルベンゼン、トリメチルベンゼン、ェチルジメチルベンゼン などを挙げることができ、これらは 1. 4〜3. 1の水素結合力パラメータを有する。 特にジアルキルベンゼンとトリアルキルベンゼンの両方を含有する芳香族系溶剤が 好ましい。これらを先のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、及び Z又はプロピレングリコールモノアルキルエーテルと適宜組合せ、混合溶剤の水素 結合力パラメータが 5〜： 10となるように調整して用いることが好ましい。
ジアルキルベンゼンとトリアルキルベンゼンの両方を含有する芳香族系溶剤として は、市販されているソルべッソ 100、ソノレべッソ 150、ソルべッソ 200 (以上商品名、ェ クソンィ匕学社製)などが利用できる。これら商品は石油溜分であるので、それらに含ま れる芳香族化合物を定量的に示すことは困難である。例えば、ソルべッソ 100には、 ェチルメチルベンゼン、メチルプロピルベンゼン、ジェチルベンゼン、トリメチルベン ゼン、ェチルジメチルベンゼンが含まれている。
なお、芳香族系溶剤としては、ァニソール (メトキシベンゼン）（水素結合力パラメ一 タ =6. 7)等を用いても良い。
[0021] 以上述べた通り、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレン グリコールモノアルキルエーテル、及び芳香族系溶剤との 3種混合溶剤が顔料分散 型感光性樹脂組成物の洗浄除去用として最も好ましレ、。それらの混合割合は特に制 限は無ぐ混合溶剤の水素結合力パラメータが 5〜： 10となるように適宜調整すればよ レ、。前記混合割合は、好ましくは、プロピレングリコールモノアルキルエーテルァセテ ート：プロピレングリコールモノアルキルエーテル：芳香族系溶剤 = 1〜9 : 0.：!〜 3 : 1 (質量比）であり、更に好ましくは 2〜4 : 0. 5〜： ! · 5 : 1 (質量比）である。
[0022] また本発明の洗浄除去用溶剤においては、感光性樹脂組成物の樹脂成分に対す る良溶媒を含有することが好ましい。この良溶媒とは、感光性樹脂組成物に用いられ ている溶剤が挙げられる。
ここでレ、う樹脂成分は、カラーフィルター形成用感光性樹脂組成物およびブラック マトリックスパターン形成用感光性樹脂組成物の構成成分として知られている上記で 挙げた樹脂成分を指す。特に洗浄対象の感光性樹脂組成物に含まれる樹脂成分が 予めわかっている場合は、該感光性樹脂組成物に含まれる溶剤を含むことが好まし い。
[0023] 感光性樹脂組成物の樹脂成分に対する良溶媒の例としては、エチレングリコール モノメチノレエーテノレ、エチレングリコーノレモノェチノレエーテノレ、エチレングリコーノレモ ノプロピノレエーテノレ、エチレングリコーノレモノブチノレエーテノレ、エチレングリコーノレジ メチノレエーテノレ、エチレングリコーノレジェチノレエーテノレ、エチレングリコーノレジプロピ ノレエーテノレ、プロピレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、プロピレングリコーノレモノェチ ノレエーテノレ、プロピレングリコーノレモノプロピノレエーテノレ、プロピレングリコーノレモノブ チルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジェチ ノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレモノェ チノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレモノフエニノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレジ メチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレジェチノレエーテノレ、エチレングリコーノレモノメ チルエーテルアセテート、エチレングリコールモノェチルエーテルアセテート、ェチレ
ングリコーノレモノプロピノレエーテノレアセテート、エチレングリコーノレモノブチノレエーテ ノレアセテート、エチレングリコーノレモノフエニノレエーテノレアセテート、ジエチレングリコ 一ノレモノメチノレエーテノレアセテート、ジエチレングリコーノレモノェチノレエーテノレァセテ ート、ジエチレングリコーノレモノプロピノレエーテノレアセテート、ジエチレングリコーノレモ ノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノフエニルエーテルアセテート 、プロピレングリコーノレモノメチノレエーテノレアセテート、プロピレングリコーノレモノェチ ノレエーテノレアセテート、プロピレングリコーノレモノプロピノレエーテノレアセテート、 2—メ トキシブチノレアセテート、 3—メトキシブチノレアセテート、 4ーメトキシブチノレアセテート 、 2—メチルー 3—メトキシブチルアセテート、 3—メチルー 3—メトキシブチルァセテ ート、 3 ェチノレー 3—メトキシブチノレアセテート、 2 ェトキシブチノレアセテート、 4 エトキシプチ/レアセテート、 4 プロポキシブチノレアセテート、 2—メトキシペンチノレア セテート、 3—メトキシペンチノレアセテート、 4ーメトキシペンチノレアセテート、 2—メチ ルー 3—メトキシペンチルアセテート、 3—メチルー 3—メトキシペンチルアセテート、 3 ーメチルー 4ーメトキシペンチルアセテート、 4ーメチルー 4ーメトキシペンチルァセテ ート、アセトン、メチルェチルケトン、ジェチルケトン、メチルイソブチルケトン、ェチル イソブチルケトン、テトラヒドロフラン、シクロへキサノン、プロピオン酸メチル、プロピオ ン酸ェチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、 2—ヒドロキシプロピ オン酸メチル、 2—ヒドロキシプロピオン酸ェチル、メチル _ 3—メトキシプロピオネート 、ェチノレ一 3—メトキシプロピオネート、ェチノレ _ 3 _エトキシプロピオネート、ェチノレ _ 3 _プロポキシプロピオネート、プロピル _ 3—メトキシプロピオネート、イソプロピノレ _ 3 メトキシプロピオネート、エトキシ酢酸ェチル、ォキシ酢酸ェチル、 2 ヒドロキ シ _ 3 _メチルブタン酸メチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソァミル、炭酸ェ チル、炭酸プロピル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸ェチル、ピルビン酸 プロピル、ピルビン酸ブチル、ァセト酢酸メチル、ァセト酢酸ェチル、乳酸メチル、乳 酸ェチル、乳酸ブチル、乳酸ェチルへキシル、ベンジルメチルエーテル、ベンジルェ チノレエーテノレ、ジへキシノレエーテノレ、酢酸べンジノレ、安息香酸ェチノレ、シユウ酸ジェ チル、マレイン酸ジェチル、 γ—ブチ口ラタトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロ へキサノン、ブタノール、 3—メチルー 3—メトキシブタノール、へキサノール、シクロへ
キサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等を挙げることが できる。中でも好ましいものは、前述のプロピレングリコールモノアルキルエーテルァ セテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルが挙げられる。
[0024] <界面活性剤 >
本発明の洗浄除去用溶剤には、界面活性剤を配合することが好ましい。なお、本 発明の洗浄除去用溶剤は、いわゆる溶剤（単種の溶剤または混合溶剤）のほかに、 溶剤と、それ以外の成分を含んだ洗浄除去用組成物をも包含するものとする。
上記界面活性剤としては、カラーフィルター形成用感光性樹脂組成物およびブラッ クマトリックスパターン形成用感光性樹脂組成物の構成成分として知られている界面 活性剤を使用できるが、洗浄対象の感光性樹脂組成物に含まれる界面活性剤が予 めわかっている場合は、それと同種の界面活性剤が好ましい。
[0025] 界面活性剤の例としては、フッ素 ケィ素系界面活性が挙げられる。中でもパーフ ルォロアルキルエステル基とアルキルシロキサン基とエチレンォキシ基とプロピレンォ キシ基が結合した非イオン性フッ素 ケィ素系界面活性剤 (E- 1)が好ましレ、。具体 例としては、例えばメガファック R— 08、 R— 60 (製品名、大日本インキ化学工業社製 )等が挙げられる。
またフッ素含有量が 10〜25質量％であり、かつケィ素含有量が 3〜： 10質量％の界 面活性剤成分（E 2)も好ましレ、。具体例としては X_ 70_090、 X_ 70_091、 X — 70— 092、 X_ 70_093 (製品名、信越化学工業社製)等が挙げられる。
また特定のシロキサン骨格を有するポリエステル変性ポリジアルキルシロキサン系 界面活性剤（E 3)も好ましい。具体例としては BYK_ 310、 BYK 315、（製品、 ビックケミ一社製)等が挙げられる。
上記（E—：！)〜（E 3)以外の界面活性剤の具体例として、フロラード FC_430、 FC431 (製品名、住友 3M社製）、エフトップ EF122A、 EF122B、 EF122C, EF1 26 (製品名、トーケムプロダクツ社製）等のフッ素系界面活性剤が挙げられる。
界面活性剤は 1種を単独で用いてもよ 2種以上を併用してもよい。
[0026] 本発明の洗浄除去用溶剤における界面活性剤の含有量は、該組成物中における 界面活性剤の濃度が 0. 0001-1. 0質量％が好ましぐ 0. 001-1. 0質量％がより
好ましい。
界面活性剤の配合量が上記範囲の下限値以上であれば、界面活性剤の添加効果 が得られる。また上記範囲の上限値以下とすることにより、洗浄後に残留している洗 浄液と感光性樹脂組成物とが接触したときに、感光性樹脂組成物中の界面活性剤 濃度が必要以上に増大するのが防止される。感光性樹脂組成物中の界面活性剤濃 度が高すぎると、泡が発生し易ぐかえって塗布ムラが生じ易くなり、更には塗膜にピ ンホールが発生する場合もある。
また洗浄対象の感光性樹脂組成物に含まれている界面活性剤の濃度が予めわか つている場合には、該濃度と洗浄除去用溶剤おける界面活性剤濃度を同程度にす ることが表面自由エネルギーの均衡の観点から好ましい。
[0027] 本発明の洗浄除去用溶剤は、感光性樹脂組成物を基板に塗布した後に、基板上 の不要な感光性樹脂組成物を除去するのに用いられるほか、塗布工程に使用される 塗布装置のノズル、ローラー、配管等に付着した感光性樹脂組成物の洗浄に好適に 用いられる。
[0028] 本発明によれば、感光性樹脂組成物を洗浄する洗浄性に優れた洗浄除去用溶剤 が得られる。
本発明の洗浄除去用溶剤は、特にカラーフィルターやブラックマトリックスパターン を形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物に対して優れた洗浄性を有する。
[0029] 本発明の洗浄除去用溶剤は、 1種の溶剤だけから構成してもよいが、洗浄性、乾燥 性、洗浄された顔料の沈降防止、等の種々の特性を満足させるために、複数種の溶 剤を用いた混合溶剤の方が、バランスの取れた洗浄液を容易に設計することができ て好ましい。
[0030] 本発明の、水素結合力パラメータ（ δ )が上記範囲の洗浄除去用溶剤によれば、
Η
前述したように、感光性樹脂組成物中の樹脂成分、モノマー成分、及び光重合開始 剤等の成分の除去性が良好であるとともに、顔料等の凝集等が抑えられて良好な洗 浄性が得られる。
一方、感光性樹脂組成物の樹脂成分に対する良溶媒を含有する洗浄除去用溶剤 によれば、該溶剤によって洗浄除去された感光性樹脂組成物中に分散していたカー
ボン等の顔料粒子の凝集が抑えられ、洗浄除去用溶剤中に顔料が効率良く分散さ れる。すなわち、洗浄除去用溶剤中における顔料の分散性が悪いと、一旦洗浄除去 された顔料粒子が凝集して被洗浄面に沈降し易くなるが、これを防止して洗浄残りを なくすことできる。
[0031] 特に、芳香族系溶剤を用いると、カーボンの凝集、沈降を抑制するうえで好ましい。
特にアルキル基および/またはアルコキシ基を有する芳香族系溶剤を含有させると 、カーボンを効率良く分散させることができるので好ましい。
これは、芳香環の π電子がカーボンとの親和性に寄与し、アルキル基および/また はアルコキシ基が、感光性樹脂組成物の樹脂成分に対する良溶媒との親和性に寄 与し、その結果、洗浄除去用溶剤とカーボンとの良好な親和性が得られるためと考え られる。
したがって、特にブラックマトリックスパターン形成用の黒色顔料 (特に、カーボン） 分散型の感光性樹脂組成物に対して有効である。
[0032] また、吐出ノズル先端部分を洗浄する場合、洗浄液がノズル等に付着した状態のま までいると、洗浄後に再び感光性樹脂組成物を吐出する際、ノズル等に付着してい た洗浄液が感光性樹脂組成物に溶け込み、感光性樹脂組成物の組成を変化させる ことになる。このことは感光性樹脂組成物の塗布性等の特性劣化につながるおそれ があり、例えば塗布ムラ発生の原因となる場合がある。特に、感光性樹脂組成物に界 面活性剤が配合されている場合は、洗浄液との接触によって該界面活性剤濃度が 低下し、その結果、塗布ムラが発生し易い。
本発明によれば、乾燥性 (速乾性）に優れた洗浄除去用溶剤を提供することができ 、これによつて、感光性樹脂組成物への洗浄液の溶け込みを抑制することができる。 特にプロピレングリコールモノアルキルエーテルを含有させると、乾燥性の向上に有 効である。
さらに、界面活性剤を含有する洗浄除去用溶剤を用いれば、感光性樹脂組成物に 、残留していた洗浄液が溶け込んでも、感光性樹脂組成物中における界面活性剤 濃度の低下を抑えることができ、塗布ムラの発生を防止することができる。
実施例
[0033] 以下、本発明の実施例を説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定され るものではない。
[0034] 下記の実施例および比較例における各特性の評価は以下の評価方法により行つ た。
(乾燥性評価）
PGMEAとの相対比較時間で表した。具体的には、気温 23 ± 1。C、湿度 45 ± 5% 、 760± 10mmHgの空調された室内で、 3inchシリコンウェハーの表面中央部にポ リエチレン製のスポイトで試料 (洗浄液） lgを滴下し、スピンコーターで毎分 2000回 転して試料 (洗浄液)が乾燥するまでを目視で観測する方法で得られた乾燥時間 (X 秒）を、試料として PGMEAを用いた場合の乾燥時間（Y秒）で割って得られた値で 示した。
[0035] (洗浄性評価）
ガラス製の 1ミリリットルピペット内にブラックマトリックスパターン形成用感光性樹脂 組成物である「CFPR BK- 5005SLJ (商品名；東京応化工業株式会社製）を付着 させた。次いで当該ピペット内を 1ミリリットルの洗浄除去用溶剤で 10回、洗浄処理を 行レ、、その後の洗浄具合を目視にて確認した。洗浄残りが全く無かったものは A、わ ずかに洗浄残りが見られたが実用上問題のなかったものは B、洗浄残りが多く実用上 問題のあったものは Cとして評価した。
[0036] (顔料の沈降性評価）
直径 12mm、長さ 1000mmのチューブ状ガラス容器に、 CFPR-BK5005SL/ 洗浄液 = 1Z9 (質量比）の混合液を注入し、縦に静置したときに上層部と下層部を それぞれ 10mlずつ抜き取り、これをガラス基板上に塗布し、顔料の凝集の有無を目 視と顕微鏡にて確認した。凝集や沈降が多く確認され実用上問題のあったものは C、 やや確認されたものの実用上問題のなかつたものは B、確認されなかったものは Aと して評価した。
[0037] (塗布ムラ評価）
上記顔料の沈降性評価と同様の方法で抜き取った上層部と下層部のそれぞれ 10 mlの試料を、基板上に回転塗布し、塗布ムラを目視にて確認した。塗布ムラがなか
つたものは A、塗布ムラがやや確認されたものの実用上問題のな力つたものは B、確 認され実用上問題のあったものは Cとして評価した。
[0038] [実施例 1]
PGMEA (水素結合力パラメータ =6. 6)からなる洗浄液を調製した。
[実施例 2]
PGMEA:PGME = 7: 3 (質量比）の混合洗浄液（水素結合力パラメータ =8. 7) を調製した。
[実施例 3]
PGMEA： PGME：ソルべッソ 100 = 6:2:2 (質量比）の混合洗浄液（水素結合力 ノ メータ =7· 1)を調製した。
[0039] [実施例 4]
実施例 3の洗浄液に界面活性剤（商品名： Additol XL 121;ソル一シァ社製） 5 Oppmを配合して、洗浄液を調製した。
[実施例 5]
ァニソール：トルエン： PGMEA： PGME = 2:1:5:2 (質量比）の混合洗浄液（水素 結合力パラメータ =7. 56)を調製した。
[実施例 6]
実施例 5の洗浄液に界面活性剤（商品名： Additol XL 121;ソル一シァ社製） 5 Oppmを配合して、洗浄液を調製した。
[0040] [比較例 1]
ソルべッソ 100 (水素結合力パラメータ = 2)を洗浄液として用いた。
[比較例 2]
N， N—ジメチルァセトアミド (水素結合力パラメータ = 10. 2)を洗浄液として用いた
[比較例 3]
PGME (水素結合力パラメータ = 13. 6)を洗浄液として用いた。
[0041] 上記各実施例および比較例の洗浄液を用いて、乾燥性、洗浄性、顔料の凝集沈 降性、および塗布ムラの各評価を行った。その結果を下記表 1に示す。
[0042] [表 1]
[0043] 上記結果から明らかなように、実施例:!〜 6の洗浄除去用溶剤（洗浄液）は、乾燥性 および洗浄性が実用上問題なく良好であった。
特に芳香族系溶剤を含有する実施例 3〜6は、顔料の凝集沈降性がなく良好であ つた。
また、界面活性剤が配合された実施例 4、 6は、塗布むらがなく良好であった。
Claims
請求の範囲
[I] ハンセン (Hansen)溶解パラメータにおける水素結合力パラメータ（δ )が 5〜： 10
Η
である、感光性樹脂組成物の洗浄除去用溶剤。
[2] 混合溶剤である請求項 1記載の洗浄除去用溶剤。
[3] 芳香族系溶剤を含有する請求項 1に記載の洗浄除去用溶剤。
[4] プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートを含有する請求項 1に記載の 洗浄除去用溶剤。
[5] プロピレングリコールモノアルキルエーテルを含有する請求項 1に記載の洗浄除去 用溶剤。
[6] プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノア ルキルエーテル、及び芳香族系溶剤を含有する請求項 1に記載の洗浄除去用溶剤
[7] 芳香族系溶剤がモノアルキルベンゼン、ジアルキルベンゼン、及びトリアルキルべ ンゼンの中から選ばれる少なくとも 1種を含有する請求項 3に記載の洗浄除去用溶剤
[8] 芳香族系溶剤がジアルキルベンゼン、及びトリアルキルベンゼンの両方を含有する ものである請求項 7に記載の洗浄除去用溶剤。
[9] 感光性樹脂組成物が顔料を含有する組成物である請求項 1に記載の洗浄除去用 溶剤。
[10] 感光性樹脂組成物が赤 (R)、緑 (G)、青（Β)のレ、ずれかのカラーフィルターを形成 するためのカラーフィルター形成用感光性樹脂組成物である請求項 1に記載の洗浄 除去用溶剤。
[I I] 感光性樹脂組成物がブラックマトリックスパターンを形成するためのブラックマトリツ タスパターン形成用感光性樹脂組成物である請求項 1に記載の洗浄除去用溶剤。
[12] 界面活性剤を含有する請求項 1に記載の洗浄除去用溶剤。
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Publications (1)
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