JP2009184176A5 - - Google Patents
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- 230000001681 protective Effects 0.000 claims 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 7
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- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims 2
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N Hafnium(IV) oxide Chemical compound O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N Niobium pentoxide Chemical compound O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N TiO Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001929 titanium oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
Claims (4)
- 液滴を吐出するノズル部と、前記ノズル部より断面積が大きく前記ノズル部と同軸上に設けられた導入部とを少なくとも備えたノズル孔を複数備えたノズル基板であって、
少なくとも前記ノズル孔の内壁に複数層の耐吐出液保護膜を形成し、
前記ノズル孔の内壁及び吐出面と反対側の面に形成された第1の耐吐出液保護膜と、
前記ノズル孔の内壁及び吐出面と反対側の面で前記第1の耐吐出液保護膜の上に形成された第2の耐吐出液保護膜と、
前記吐出面、及び前記ノズル孔の内壁上の前記第1の耐吐出液保護膜の上に、形成された第3の耐吐出液保護膜とを有し、
前記ノズル孔の内壁及び前記吐出面と反対側の面を除く前記吐出面側で前記第3の耐吐出液保護膜の上に撥水膜を有することを特徴とするノズル基板。 - 前記第1の耐吐出液保護膜は、シリコン酸化膜であることを特徴とする請求項1記載のノズル基板。
- 前記第2の耐吐出液保護膜及び前記第3の耐吐出液保護膜は、金属酸化物を主成分とすることを特徴とする請求項1又は2に記載のノズル基板。
- 前記金属酸化物は、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化チタン、または酸化ジルコニウムのいずれかであることを特徴とする請求項3記載のノズル基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008024949A JP5145985B2 (ja) | 2008-02-05 | 2008-02-05 | ノズル基板及びノズル基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008024949A JP5145985B2 (ja) | 2008-02-05 | 2008-02-05 | ノズル基板及びノズル基板の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009184176A JP2009184176A (ja) | 2009-08-20 |
JP2009184176A5 true JP2009184176A5 (ja) | 2011-02-03 |
JP5145985B2 JP5145985B2 (ja) | 2013-02-20 |
Family
ID=41067946
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008024949A Active JP5145985B2 (ja) | 2008-02-05 | 2008-02-05 | ノズル基板及びノズル基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5145985B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7047587B2 (ja) | 2018-05-16 | 2022-04-05 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッドおよびインクジェット画像形成装置 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5248454B2 (ja) * | 2009-09-28 | 2013-07-31 | 富士フイルム株式会社 | ノズルプレートの製造方法 |
JP5476912B2 (ja) * | 2009-10-08 | 2014-04-23 | セイコーエプソン株式会社 | ノズル基板及びノズル基板の製造方法並びに液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
JP5573174B2 (ja) * | 2010-01-14 | 2014-08-20 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッド、インクジェットヘッドの製造方法およびインクジェット記録方法 |
JP2011156845A (ja) * | 2010-02-04 | 2011-08-18 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド、及び、液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP5159916B2 (ja) | 2011-04-28 | 2013-03-13 | 株式会社東芝 | ホスト |
US8840981B2 (en) * | 2011-09-09 | 2014-09-23 | Eastman Kodak Company | Microfluidic device with multilayer coating |
JP6064470B2 (ja) * | 2012-09-13 | 2017-01-25 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド及び画像形成装置 |
JP6186721B2 (ja) | 2012-12-27 | 2017-08-30 | セイコーエプソン株式会社 | ノズルプレートの製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射装置の製造方法 |
JP6163752B2 (ja) * | 2012-12-27 | 2017-07-19 | セイコーエプソン株式会社 | ノズルプレートの製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射装置の製造方法 |
JP2014124879A (ja) | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Seiko Epson Corp | ノズルプレート、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP6217170B2 (ja) * | 2013-06-23 | 2017-10-25 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド及び画像形成装置 |
JP6146200B2 (ja) * | 2013-08-20 | 2017-06-14 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド及び画像形成装置 |
JP5846231B2 (ja) * | 2014-02-24 | 2016-01-20 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッドおよびインクジェット記録方法 |
JP6388389B2 (ja) * | 2014-08-29 | 2018-09-12 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP6900998B2 (ja) * | 2017-03-29 | 2021-07-14 | コニカミノルタ株式会社 | 吐出用基板、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
JP2019177538A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 株式会社リコー | インク吐出装置、及び記録方法 |
JP7087702B2 (ja) * | 2018-06-13 | 2022-06-21 | コニカミノルタ株式会社 | ノズルプレートの製造方法、インクジェットヘッドの製造方法、ノズルプレート及びインクジェットヘッド |
JP2020019204A (ja) * | 2018-07-31 | 2020-02-06 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP7334335B2 (ja) | 2020-03-30 | 2023-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 液体吐出構造体、液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56161853A (en) * | 1980-05-14 | 1981-12-12 | Ricoh Co Ltd | Multinozzle plate |
JPH10323979A (ja) * | 1997-03-27 | 1998-12-08 | Seiko Epson Corp | インクジェットヘッドの製造方法及びインクジェットプリンタ |
JP4670533B2 (ja) * | 2005-08-04 | 2011-04-13 | セイコーエプソン株式会社 | ノズルプレートの製造方法および液滴吐出ヘッドの製造方法 |
-
2008
- 2008-02-05 JP JP2008024949A patent/JP5145985B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7047587B2 (ja) | 2018-05-16 | 2022-04-05 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッドおよびインクジェット画像形成装置 |
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