JP2014124879A - ノズルプレート、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 - Google Patents
ノズルプレート、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014124879A JP2014124879A JP2012284501A JP2012284501A JP2014124879A JP 2014124879 A JP2014124879 A JP 2014124879A JP 2012284501 A JP2012284501 A JP 2012284501A JP 2012284501 A JP2012284501 A JP 2012284501A JP 2014124879 A JP2014124879 A JP 2014124879A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- nozzle plate
- liquid
- nozzle
- ink
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 94
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 59
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 33
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 32
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims description 30
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 10
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 124
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 11
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000002120 nanofilm Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- ZQHKNIGXGUGHOE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,17,17,20,20,20-heptatriacontafluoroicosyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCC(F)(F)F ZQHKNIGXGUGHOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- YPQJHZKJHIBJAP-UHFFFAOYSA-N [K].[Bi] Chemical compound [K].[Bi] YPQJHZKJHIBJAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910002115 bismuth titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical group FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(iv) oxide Chemical compound O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- LBSANEJBGMCTBH-UHFFFAOYSA-N manganate Chemical compound [O-][Mn]([O-])(=O)=O LBSANEJBGMCTBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/1433—Structure of nozzle plates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/015—Ink jet characterised by the jet generation process
- B41J2/04—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand
- B41J2/045—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand by pressure, e.g. electromechanical transducers
- B41J2/055—Devices for absorbing or preventing back-pressure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1606—Coating the nozzle area or the ink chamber
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1646—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by sputtering
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
- B41J2002/14241—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm having a cover around the piezoelectric thin film element
Abstract
【解決手段】 シリコン基板に複数のノズル開口21を設けたノズルプレート20であって、前記シリコン基板の両面及び前記ノズル開口21内面には原子層堆積により形成された酸化タンタル膜201が設けられている。
【選択図】 図1
Description
かかる態様では、原子層堆積により成膜された酸化タンタル膜がノズル開口内周面などの小さな領域にも均一で且つ緻密に形成されるので、強アルカリ液や強酸液に対する保護膜として有効に機能する。
かかる態様では、耐液性に優れ、撥液膜の剥がれの問題もなく、ノズル開口の開口バラツキの少ないノズルプレートを有するので、耐久性に優れ且つ吐出バラツキのない液体噴射ヘッドが実現できる。
まず、本発明の実施形態1に係るノズルプレートの一例について説明する。図1は、ノズルプレートの斜視図及びその要部拡大断面図である。
図2は、ノズルプレート20の製造工程について説明する模式図である。
本実施形態におけるノズルプレート20の材料としては、上述したシリコン単結晶基板(シリコン基板)25が用いられ、1つのシリコン基板25から複数のノズルプレート20が作製される。このシリコン基板25に対して、図2(a)に示すように、まずドライエッチングによって第1円筒部22及び第2円筒部23からなるノズル開口21が形成される。
なお、かかる熱酸化膜200の形成工程は省略してもよい。
以下、上述した実施形態1のノズルプレート20を用いた液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドについて説明する。
以上、本発明の実施形態1、2について説明したが、本発明の基本的構成は上述したものに限定されるものではない。
Claims (6)
- シリコン基板に複数のノズル開口を設けたノズルプレートであって、
前記シリコン基板の両面及び前記ノズル開口内面には原子層堆積により形成された酸化タンタル膜が設けられていることを特徴とするノズルプレート。 - 前記酸化タンタル膜の厚さは、0.3Å以上、50nm以下の範囲にあることを特徴とする請求項1に記載するノズルプレート。
- 前記酸化タンタル膜の下層には、シリコンの熱酸化膜が形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載するノズルプレート。
- 吐出面の前記酸化タンタル膜上には、金属アルコキシド膜をアニールした撥液膜が積層されていることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載するノズルプレート。
- 請求項1〜4の何れか一項に記載のノズルプレートと、該ノズルプレートに接合され且つ前記ノズル開口に連通する圧力発生室が設けられた流路形成基板と、該流路形成基板の前記ノズルプレートとは反対側に設けられ前記圧力発生室内の圧力変化を生じさせるアクチュエーターとを具備することを特徴とする液体噴射ヘッド。
- 請求項5に記載の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012284501A JP2014124879A (ja) | 2012-12-27 | 2012-12-27 | ノズルプレート、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
US14/141,039 US9302481B2 (en) | 2012-12-27 | 2013-12-26 | Nozzle plate, liquid ejecting head, and liquid ejecting apparatus |
CN201310739191.9A CN103895348B (zh) | 2012-12-27 | 2013-12-26 | 喷嘴板、液体喷头和液体喷射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012284501A JP2014124879A (ja) | 2012-12-27 | 2012-12-27 | ノズルプレート、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014124879A true JP2014124879A (ja) | 2014-07-07 |
Family
ID=50987067
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012284501A Withdrawn JP2014124879A (ja) | 2012-12-27 | 2012-12-27 | ノズルプレート、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9302481B2 (ja) |
JP (1) | JP2014124879A (ja) |
CN (1) | CN103895348B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11787177B2 (en) | 2020-08-26 | 2023-10-17 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus |
JP7451918B2 (ja) | 2019-09-27 | 2024-03-19 | セイコーエプソン株式会社 | 液体吐出ヘッドおよび液体吐出装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018179639A1 (ja) * | 2017-03-29 | 2018-10-04 | コニカミノルタ株式会社 | 吐出用基板、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
JP6995540B2 (ja) | 2017-09-14 | 2022-02-04 | 東芝テック株式会社 | インクジェットヘッド及びインクジェットプリンタ |
JP6991806B2 (ja) * | 2017-09-14 | 2022-01-13 | 東芝テック株式会社 | インクジェットヘッド及びインクジェットプリンタ |
JP2019051636A (ja) * | 2017-09-14 | 2019-04-04 | 東芝テック株式会社 | インクジェットヘッド及びインクジェットプリンタ |
CN115315353A (zh) * | 2020-03-30 | 2022-11-08 | 富士胶片株式会社 | 液体喷出结构体、液体喷出头及液体喷出装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004001527A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-01-08 | Hewlett-Packard Development Co Lp | チャンバおよび流体噴出器ヘッド |
JP2007253485A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Seiko Epson Corp | 撥液膜被覆部材、液体噴出装置の構成部材、液体噴出ヘッドのノズルプレート、液体噴出ヘッドおよび液体噴出装置 |
JP2009018449A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-01-29 | Seiko Epson Corp | 噴射ヘッドの製造方法 |
JP2009184176A (ja) * | 2008-02-05 | 2009-08-20 | Seiko Epson Corp | ノズル基板、ノズル基板の製造方法、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
JP2009292135A (ja) * | 2008-06-09 | 2009-12-17 | Fujifilm Corp | ノズル孔の形成方法及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JP2010188715A (ja) * | 2009-01-21 | 2010-09-02 | Toshiba Tec Corp | インクジェットヘッドおよびインクジェットヘッドの製造方法 |
JP2010208122A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Seiko Epson Corp | ノズル基板の製造方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法 |
JP2011156845A (ja) * | 2010-02-04 | 2011-08-18 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド、及び、液体噴射ヘッドの製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6054859A (ja) * | 1983-09-02 | 1985-03-29 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | プリント用インクジエツトノズル |
JP3755647B2 (ja) | 2001-08-31 | 2006-03-15 | セイコーエプソン株式会社 | 撥インク処理方法、インクジェットヘッドのノズルプレート、インクジェットヘッドおよびインクジェットプリンタ |
JP3726909B2 (ja) * | 2002-07-10 | 2005-12-14 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP4293035B2 (ja) | 2003-05-07 | 2009-07-08 | セイコーエプソン株式会社 | 撥液膜被覆部材、液体噴出装置の構成部材、液体噴出ヘッドのノズルプレート、液体噴出ヘッドおよび液体噴出装置 |
JP2006289838A (ja) * | 2005-04-12 | 2006-10-26 | Seiko Epson Corp | 撥液性部材、ノズルプレート及びそれを用いた液体噴射ヘッドならびに液体噴射装置 |
JP4692534B2 (ja) | 2007-11-15 | 2011-06-01 | セイコーエプソン株式会社 | シリコン製ノズル基板、シリコン製ノズル基板を備えた液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドを搭載した液滴吐出装置、及びシリコン製ノズル基板の製造方法 |
JP4865688B2 (ja) * | 2007-12-11 | 2012-02-01 | セイコーエプソン株式会社 | 液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出装置 |
JP2011206920A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-20 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 |
-
2012
- 2012-12-27 JP JP2012284501A patent/JP2014124879A/ja not_active Withdrawn
-
2013
- 2013-12-26 US US14/141,039 patent/US9302481B2/en active Active
- 2013-12-26 CN CN201310739191.9A patent/CN103895348B/zh active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004001527A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-01-08 | Hewlett-Packard Development Co Lp | チャンバおよび流体噴出器ヘッド |
JP2007253485A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Seiko Epson Corp | 撥液膜被覆部材、液体噴出装置の構成部材、液体噴出ヘッドのノズルプレート、液体噴出ヘッドおよび液体噴出装置 |
JP2009018449A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-01-29 | Seiko Epson Corp | 噴射ヘッドの製造方法 |
JP2009184176A (ja) * | 2008-02-05 | 2009-08-20 | Seiko Epson Corp | ノズル基板、ノズル基板の製造方法、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
JP2009292135A (ja) * | 2008-06-09 | 2009-12-17 | Fujifilm Corp | ノズル孔の形成方法及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JP2010188715A (ja) * | 2009-01-21 | 2010-09-02 | Toshiba Tec Corp | インクジェットヘッドおよびインクジェットヘッドの製造方法 |
JP2010208122A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Seiko Epson Corp | ノズル基板の製造方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法 |
JP2011156845A (ja) * | 2010-02-04 | 2011-08-18 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド、及び、液体噴射ヘッドの製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7451918B2 (ja) | 2019-09-27 | 2024-03-19 | セイコーエプソン株式会社 | 液体吐出ヘッドおよび液体吐出装置 |
US11787177B2 (en) | 2020-08-26 | 2023-10-17 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9302481B2 (en) | 2016-04-05 |
CN103895348B (zh) | 2018-02-27 |
CN103895348A (zh) | 2014-07-02 |
US20140184698A1 (en) | 2014-07-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6163752B2 (ja) | ノズルプレートの製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射装置の製造方法 | |
JP6201313B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
US9302481B2 (en) | Nozzle plate, liquid ejecting head, and liquid ejecting apparatus | |
JP2014124887A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP6094143B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子 | |
JP2015199203A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP5737540B2 (ja) | 圧電素子、液体噴射ヘッド、センサー及びモーター | |
JP5320873B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子 | |
JP2014124880A (ja) | ノズルプレート、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2014124876A (ja) | ノズルプレート、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP6186721B2 (ja) | ノズルプレートの製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射装置の製造方法 | |
JP5741799B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子 | |
JP5858209B2 (ja) | 圧電素子の製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP2010199339A (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及びアクチュエーター装置 | |
JP2014124883A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP5754198B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電アクチュエーター | |
JP2014124878A (ja) | ノズルプレート、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2014124881A (ja) | ノズルプレート並びにそれを具備する液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2014124870A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2016179622A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP6020154B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射装置の製造方法 | |
JP2014124884A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP6083190B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びにアクチュエーター装置 | |
JP5196183B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電アクチュエーター | |
JP2019162798A (ja) | 液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150109 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151117 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20160610 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20160624 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160809 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20160928 |