JP2008508683A - 均一でスケーラブルなマイクロ波プラズマ発生を行うためのプラズマノズルアレイ - Google Patents
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Abstract
Description
"WAVEGUIDE COMPONENTS AND CONFIGURATIONS FOR OPTIMAL PERFORMANCE IN MICROWAVE HEATING SYSTEMS"2000年、Gerling Applied Engineering社、www.2450mhz.comで発行
12 マイクロ波パワーヘッド
13 マイクロ波供給源
14 パワースプリッタ
17a、17b アイソレータ
20a、20b 導波管
22a、22b サーキュレータ
24a、24b 非回転位相シフタ
26a、26b 結合器
28a、28b パワーメータ
30a、30b チューナ
32 マイクロ波キャビティ
36 ノズル
37 ノズルアレイ
38 プラズマ
Claims (82)
- マイクロ波キャビティ内でマイクロ波同士を干渉させマイクロ波の定在波パターンが静止的に形成されるように、互いに反対方向からマイクロ波をマイクロ波キャビティへ向かわせるステップと、
少なくとも1つのマイクロ波の位相を調整して、マイクロ波の定在波パターンによって発生される高エネルギー領域を制御するステップと、
ノズル素子の1つ以上が高エネルギー領域の1つからマイクロ波エネルギーを受け取るように、ノズルアレイの少なくとも一部を前記マイクロ波キャビティ内に配置するステップと、
を具備することを特徴とするマイクロ波プラズマノズルアレイを構成するための方法。 - 前記マイクロ波を向かわせるステップは、
マイクロ波をマイクロ波キャビティへと伝搬させるステップと、
マイクロ波キャビティに動作可能に接続されているスライディングショートを使って前記マイクロ波を反射させるステップと、
を具備することを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記マイクロ波を向かわせるステップは、
2つのマイクロ波パワーヘッドによって発生されたマイクロ波をマイクロ波キャビティへ伝搬させるステップを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - マイクロ波の第1ペアを第1軸に沿って互いに反対方向からマイクロ波キャビティへと向かわせるステップと、
マイクロ波の第2ペアを、前記第1軸と直交する第2軸に沿って互いに反対方向からマイクロ波キャビティへと向かわせ、マイクロ波の前記第1及び第2ペアを干渉させてマイクロ波キャビティ内で定常的な高エネルギー領域を形成するステップと、
少なくとも1つのマイクロ波の位相を調整することで、高エネルギー領域を制御するステップと、
ノズル素子の1つ以上が高エネルギー領域の1つからマイクロ波エネルギーを受け取るように、ノズルアレイの少なくとも一部を前記マイクロ波キャビティ内に配置するステップと、
を具備することを特徴とするマイクロ波プラズマノズルアレイを構成するための方法。 - 前記マイクロ波の第1ペアを向かわせるステップは、
マイクロ波をマイクロ波キャビティへと伝搬させるステップと、
マイクロ波キャビティに動作可能に接続されているスライディングショートを使って前記マイクロ波を反射させるステップと、
を具備することを特徴とする請求項4に記載の方法。 - 前記マイクロ波の第1ペアを向かわせるステップは、
2つのマイクロ波パワーヘッドによって発生されたマイクロ波をマイクロ波キャビティへ伝搬させるステップを含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。 - マイクロ波パワーヘッドによって前記マイクロ波を発生するステップと、
前記マイクロ波パワーヘッドに接続されたパワースプリッタを設けるステップと、
をさらに具備することを特徴とする請求項4に記載の方法。 - 少なくとも1つのマイクロ波の位相を調整する前記工程は、マイクロ波の前記第1ペアの位相を調整する工程を含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 少なくとも1つのマイクロ波の位相を調整する前記工程は、マイクロ波の前記第2ペアの位相を調整する工程を含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 少なくとも1つのマイクロ波の位相を調整する前記工程は、マイクロ波の前記第1及び第2ペアの双方の位相を調整する工程を含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
- マイクロ波キャビティと、ノズルのアレイとを備えるマイクロ波プラズマノズルアレイユニットであって、前記ノズルはそれぞれ、
その中にガスを流すために適用され、入口部及び出口部を持つガスフロー管と、
前記ガスフロー管内に軸方向に配置され、その一部がマイクロ波を受信するために前記マイクロ波キャビティ内に配置されていると共に、その先端部が前記ガスフロー管の前記出口部に隣接して配置されているロッド状コンダクタと、
を備えることを特徴とするマイクロ波プラズマノズルアレイユニット。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ロッド状コンダクタと前記ガスフロー管との間に配置され、その流路に沿って通過するガスに前記ロッド状コンダクタの回りに螺旋状の流動方向を付与する少なくとも1つの流路を持つうず巻状ガイドをさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のマイクロ波プラズマノズルアレイユニット。 - 前記マイクロ波キャビティは壁を備えており、前記マイクロ波キャビティの壁は前記ガスフロー管の入口に接続されているガス流路の一部を形成していることを特徴とする請求項12に記載のマイクロ波プラズマノズルアレイユニット。
- 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の一部に隣接して設けられ前記ガスフロー管を通る際のマイクロ波パワー損失を緩和するための、導電材料からなる遮蔽をさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のマイクロ波プラズマノズルアレイユニット。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の外部表面に配置され、前記ガスフロー管を通る際のマイクロ波パワー損失を緩和するための接地遮蔽であって、ガス流を受け入れるための穴を持つ接地遮蔽をさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のマイクロ波プラズマノズルアレイユニット。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ロッド状コンダクタと前記接地遮蔽との間に配置され、前記接地遮蔽に対して前記ロッド状コンダクタを固定して保持するための位置ホルダをさらに備えることを特徴とする請求項15に記載のマイクロ波プラズマノズルアレイユニット。 - 前記ガスフロー管は、石英からなることを特徴とする請求項11に記載のマイクロ波プラズマノズルアレイユニット。
- 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管に隣接して配置される一対の磁石をさらに備え、該一対の磁石は円筒の一部に類似した形状を有することを特徴とする請求項11に記載のマイクロ波プラズマノズルアレイ。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の一部に隣接して配置されるアノードと、前記ガスフロー管の他の部分に隣接して配置されるカソードと、をさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のマイクロ波プラズマノズルアレイユニット。 - 前記マイクロ波キャビティが、
マイクロ波入口と、前記マイクロ波入口を通して搬送されたマイクロ波を反射するように構成されたスライディングショートとを備えることを特徴とする請求項11に記載のマイクロ波プラズマノズルアレイユニット。 - 前記マイクロ波キャビティが、
前記マイクロ波キャビティの両側に設けられた2つのマイクロ波入口を備えることを特徴とする、請求項11に記載のマイクロ波プラズマノズルアレイユニット。 - 前記マイクロ波キャビティが、
前記マイクロ波キャビティの、互いに垂直な関係にある側面に設けられた2つのマイクロ波入口と、
前記入口から導入されたマイクロ波を反射するように構成された2つのスライディングショートと、を備えることを特徴とする請求項11に記載のマイクロ波プラズマノズルアレイユニット。 - 前記マイクロ波キャビティが、
第1軸に沿って前記マイクロ波キャビティの両側に設けられたマイクロ波入口の第1ペアと、
前記第1軸と実質的に直交する第2軸に沿って前記マイクロ波キャビティの両側に設けられたマイクロ波入口の第2ペアと、を備えることを特徴とする請求項11に記載のマイクロ波プラズマノズルアレイユニット。 - 前記マイクロ波キャビティが、自身に向けられたマイクロ波を使って複数の定常的な高エネルギー領域を発生するように構成されており、
前記ロッド状コンダクタの前記マイクロ波キャビティ内に配置されている部分は、前記定常的な高エネルギー領域によって占められている空間内に設けられていることを特徴とする請求項11に記載のマイクロ波プラズマノズルアレイユニット。 - マイクロ波供給源と、
前記マイクロ波供給源に動作可能に接続された一対のアイソレータと、
一対の入口を持つマイクロ波キャビティと、
それぞれが前記アイソレータの対応する1つに動作可能に接続され、且つ、前記マイクロ波キャビティの前記入口の対応する1つに動作可能に接続されている一対の導波管と、
それぞれが前記導波管の対応する1つに動作可能に接続され、且つ、前記アイソレータの対応する1つに動作可能に接続されている一対の非回転位相シフタと、
ノズルのアレイと、を備えるマイクロ波プラズマシステムであって、
前記ノズルのそれぞれが、
その中にガスを流すために適用され、入口部及び出口部を持つガスフロー管と、
前記ガスフロー管内に軸方向に配置され、その一部がマイクロ波を受信するために前記マイクロ波キャビティ内に配置されていると共に、その先端部が前記ガスフロー管の前記出口部に隣接して配置されているロッド状コンダクタと、
を備えることを特徴とするマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ロッド状コンダクタと前記ガスフロー管との間に配置され、その流路に沿って通過するガスに前記ロッド状コンダクタの回りに螺旋状の流動方向を付与する少なくとも1つの流路を持つうず巻状ガイドをさらに備えることを特徴とする請求項25に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記マイクロ波キャビティが壁を備えており、前記マイクロ波キャビティの壁は前記ガスフロー管の入口に接続されているガス流路の一部を形成していることを特徴とする請求項26に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の一部に隣接して設けられ前記ガスフロー管を通る際のマイクロ波パワー損失を緩和するための、導電材料からなる遮蔽をさらに備えることを特徴とする請求項25に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の外部表面に配置され、前記ガスフロー管を通る際のマイクロ波パワー損失を緩和するための接地遮蔽であって、ガス流を受け入れるための穴を持つ接地遮蔽をさらに備えることを特徴とする請求項25に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ロッド状コンダクタと前記接地遮蔽との間に配置され、前記接地遮蔽に対して前記ロッド状コンダクタを固定して保持するための位置ホルダをさらに備えることを特徴とする請求項29に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ガスフロー管は、石英からなることを特徴とする請求項25に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管に隣接して配置される一対の磁石をさらに備え、該一対の磁石は円筒の一部に類似した形状を有することを特徴とする請求項25に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の一部に隣接して配置されるアノードと、前記ガスフロー管の他の部分に隣接して配置されるカソードと、をさらに備えることを特徴とする請求項25に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記マイクロ波キャビティが、自身に向けられたマイクロ波を使って複数の定常的な高エネルギー領域を発生するように構成されており、
前記ロッド状コンダクタの前記マイクロ波キャビティ内に配置されている部分は、前記定常的な高エネルギー領域によって占められている空間内に設けられていることを特徴とする請求項25に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記アイソレータのそれぞれが、
少なくとも1つの前記導波管に動作可能に接続されているサーキュレータと、
前記サーキュレータに動作可能に接続されているダミーロードと、
を備えることを特徴とする請求項25に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - それぞれが前記導波管のうちの対応する1つと前記マイクロ波キャビティとに動作可能に接続されている、一対のチューナをさらに備えることを特徴とする請求項25に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- それぞれが前記導波管のうちの対応する1つに動作可能に接続されており、マイクロ波を前記非回転位相シフタのうちの対応する1つに向かわせるよう構成されている、一対のサーキュレータをさらに備えることを特徴とする請求項25に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- それぞれが前記導波管のうちの対応する1つと、マイクロ波のフラックス線束を測定するためのパワーメータとに動作可能に接続されている、一対の結合器をさらに備えることを特徴とする請求項25に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- 前記マイクロ波供給源が一対のマイクロ波パワーヘッドを備えており、
前記マイクロ波パワーヘッドはそれぞれが前記アイソレータのうちの対応する1つに動作可能に接続されていることを特徴とする請求項25に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記マイクロ波供給源が、
マイクロ波を発生するためのマイクロ波パワーヘッドと、
マイクロ波を受け取り、2分割し、前記アイソレータへと向かわせるためのパワースプリッタと、
を備えることを特徴とする請求項25に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - マイクロ波供給源と、
前記マイクロ波供給源に動作可能に接続されたアイソレータと、
入口を持つマイクロ波キャビティと、
前記アイソレータおよび前記マイクロ波キャビティの前記入口に動作可能に接続された導波管と、
前記導波管及び前記アイソレータに動作可能に接続された非回転位相シフタと、
前記導波管に動作可能に接続されマイクロ波を前記非回転位相シフタに向かわせるよう構成されているサーキュレータと、
前記マイクロ波キャビティに動作可能に接続されているスライディングショートと、
ノズルのアレイと、を備えるマイクロ波プラズマシステムであって、
前記ノズルのそれぞれが、
その中にガスを流すために適用され、入口部及び出口部を持つガスフロー管と、
前記ガスフロー管内に軸方向に配置され、その一部がマイクロ波を受信するために前記マイクロ波キャビティ内に配置されていると共に、その先端部が前記ガスフロー管の前記出口部に隣接して配置されているロッド状コンダクタと、
を備えることを特徴とするマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ロッド状コンダクタと前記ガスフロー管との間に配置され、その流路に沿って通過するガスに前記ロッド状コンダクタの回りに螺旋状の流動方向を付与する少なくとも1つの流路を持つうず巻状ガイドをさらに備えることを特徴とする請求項41に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記マイクロ波キャビティが壁を備えており、前記マイクロ波キャビティの壁は前記ガスフロー管の入口に接続されているガス流路の一部を形成していることを特徴とする請求項42に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の一部に隣接して設けられ前記ガスフロー管を通る際のマイクロ波パワー損失を緩和するための、導電材料からなる遮蔽をさらに備えることを特徴とする請求項41に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の外部表面に配置され、前記ガスフロー管を通る際のマイクロ波パワー損失を緩和するための接地遮蔽であって、ガス流を受け入れるための穴を持つ接地遮蔽をさらに備えることを特徴とする請求項41に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ロッド状コンダクタと前記接地遮蔽との間に配置され、前記接地遮蔽に対して前記ロッド状コンダクタを固定して保持するための位置ホルダをさらに備えることを特徴とする請求項45に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ガスフロー管は、石英からなることを特徴とする請求項41に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管に隣接して配置される一対の磁石をさらに備え、該一対の磁石は円筒の一部に類似した形状を有することを特徴とする請求項41に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の一部に隣接して配置されるアノードと、前記ガスフロー管の他の部分に隣接して配置されるカソードと、をさらに備えることを特徴とする請求項41に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記マイクロ波キャビティが、自身に向けられたマイクロ波を使って複数の定常的な高エネルギー領域を発生するように構成されており、
前記ロッド状コンダクタの前記マイクロ波キャビティ内に配置されている部分は、前記定常的な高エネルギー領域によって占められている空間内に設けられていることを特徴とする請求項41に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記アイソレータが、
前記導波管に動作可能に接続されているサーキュレータと、
前記サーキュレータに動作可能に接続されているダミーロードと、
を備えることを特徴とする請求項41に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記導波管および前記マイクロ波キャビティに動作可能に接続されているチューナをさらに備えることを特徴とする請求項41に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- 前記導波管と、マイクロ波フラックスを測定するためのパワーメータとに動作可能に接続されている結合器をさらに備えることを特徴とする請求項41に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- マイクロ波供給源と、
前記マイクロ波供給源に動作可能に接続された一対のアイソレータと、
一対の入口を持つマイクロ波キャビティと、
それぞれが前記アイソレータの対応する1つに動作可能に接続され、且つ、前記マイクロ波キャビティの前記入口の対応する1つに動作可能に接続されている一対の導波管と、
それぞれが前記導波管の対応する1つに動作可能に接続され、且つ、前記アイソレータの対応する1つに動作可能に接続されている一対の非回転位相シフタと、
それぞれが前記マイクロ波キャビティに動作可能に接続されている一対のスライディングショートと、
ノズルのアレイと、を備えるマイクロ波プラズマシステムであって、
前記ノズルのそれぞれが、
その中にガスを流すために適用され、入口部及び出口部を持つガスフロー管と、
前記ガスフロー管内に軸方向に配置され、その一部がマイクロ波を受信するために前記マイクロ波キャビティ内に配置されていると共に、その先端部が前記ガスフロー管の前記出口部に隣接して配置されているロッド状コンダクタと、
を備えることを特徴とするマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ロッド状コンダクタと前記ガスフロー管との間に配置され、その流路に沿って通過するガスに前記ロッド状コンダクタの回りに螺旋状の流動方向を付与する少なくとも1つの流路を持つうず巻状ガイドをさらに備えることを特徴とする請求項54に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記マイクロ波キャビティが壁を備えており、前記マイクロ波キャビティの壁は前記ガスフロー管の入口に接続されているガス流路の一部を形成していることを特徴とする請求項55に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の一部に隣接して設けられ前記ガスフロー管を通る際のマイクロ波パワー損失を緩和するための、導電材料からなる遮蔽をさらに備えることを特徴とする請求項54に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の外部表面に配置され、前記ガスフロー管を通る際のマイクロ波パワー損失を緩和するための接地遮蔽であって、ガス流を受け入れるための穴を持つ接地遮蔽をさらに備えることを特徴とする請求項54に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ロッド状コンダクタと前記接地遮蔽との間に配置され、前記接地遮蔽に対して前記ロッド状コンダクタを固定して保持するための位置ホルダをさらに備えることを特徴とする請求項58に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ガスフロー管が、石英からなることを特徴とする請求項54に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管に隣接して配置される一対の磁石をさらに備え、該一対の磁石は円筒の一部に類似した形状を有することを特徴とする請求項54に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の一部に隣接して配置されるアノードと、前記ガスフロー管の他の部分に隣接して配置されるカソードと、をさらに備えることを特徴とする請求項54に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記マイクロ波キャビティが、自身に向けられたマイクロ波を使って複数の定常的な高エネルギー領域を発生するように構成されており、
前記ロッド状コンダクタの前記マイクロ波キャビティ内に配置されている部分は、前記定常的な高エネルギー領域によって占められている空間内に設けられていることを特徴とする請求項54に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記アイソレータのそれぞれが、
少なくとも1つの前記導波管に動作可能に接続されているサーキュレータと、
前記サーキュレータに動作可能に接続されているダミーロードと、
を備えることを特徴とする請求項54に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - それぞれが前記導波管のうちの対応する1つと前記マイクロ波キャビティとに動作可能に接続されている、一対のチューナをさらに備えることを特徴とする請求項54に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- それぞれが前記導波管のうちの対応する1つと、マイクロ波のフラックス線束を測定するためのパワーメータとに動作可能に接続されている、一対の結合器をさらに備えることを特徴とする請求項54に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- それぞれが前記導波管のうちの対応する1つに動作可能に接続されており、マイクロ波を前記非回転位相シフタのうちの対応する1つに向かわせるよう構成されている、一対のサーキュレータをさらに備えることを特徴とする請求項54に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- マイクロ波供給源と、
4つの入口を持つマイクロ波キャビティと、
それぞれが前記マイクロ波キャビティの前記入口のうちの対応する1つと前記マイクロ波供給源とに動作可能に接続されている4つの導波管と、
それぞれが前記導波管のうちの対応する1つと前記マイクロ波供給源とに動作可能に接続されている4つの非回転位相シフタと、
それぞれが前記導波管のうちの対応する1つに動作可能に接続されており、前記マイクロ波供給源によって発生されたマイクロ波を前記非回転位相シフタのうちの少なくとも1つに向かわせるように構成されているサーキュレータと、
ノズルのアレイと、を備えるマイクロ波プラズマシステムであって、
前記ノズルのそれぞれが、
その中にガスを流すために適用され、入口部及び出口部を持つガスフロー管と、
前記ガスフロー管内に軸方向に配置され、その一部がマイクロ波を受信するために前記マイクロ波キャビティ内に配置されていると共に、その先端部が前記ガスフロー管の前記出口部に隣接して配置されているロッド状コンダクタと、
を備えることを特徴とするマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ロッド状コンダクタと前記ガスフロー管との間に配置され、その流路に沿って通過するガスに前記ロッド状コンダクタの回りに螺旋状の流動方向を付与する少なくとも1つの流路を持つうず巻状ガイドをさらに備えることを特徴とする請求項68に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記マイクロ波キャビティが壁を備えており、前記マイクロ波キャビティの壁は前記ガスフロー管の入口に接続されているガス流路の一部を形成していることを特徴とする請求項69に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の一部に隣接して設けられ前記ガスフロー管を通る際のマイクロ波パワー損失を緩和するための、導電材料からなる遮蔽をさらに備えることを特徴とする請求項68に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の外部表面に配置され、前記ガスフロー管を通る際のマイクロ波パワー損失を緩和するための接地遮蔽であって、ガス流を受け入れるための穴を持つ接地遮蔽をさらに備えることを特徴とする請求項68に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ロッド状コンダクタと前記接地遮蔽との間に配置され、前記接地遮蔽に対して前記ロッド状コンダクタを固定して保持するための位置ホルダをさらに備えることを特徴とする請求項72に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ガスフロー管が、石英からなることを特徴とする請求項68に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管に隣接して配置される一対の磁石をさらに備え、該一対の磁石は円筒の一部に類似した形状を有することを特徴とする請求項68に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記ノズルのそれぞれが、
前記ガスフロー管の一部に隣接して配置されるアノードと、前記ガスフロー管の他の部分に隣接して配置されるカソードと、をさらに備えることを特徴とする請求項68に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記マイクロ波キャビティが、自身に向けられたマイクロ波を使って複数の定常的な高エネルギー領域を発生するように構成されており、
前記ロッド状コンダクタの前記マイクロ波キャビティ内に配置されている部分は、前記定常的な高エネルギー領域によって占められている空間内に設けられていることを特徴とする請求項68に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記マイクロ波供給源が、
4つのマイクロ波パワーヘッドと、
それぞれが前記マイクロ波パワーヘッドの対応する1つと前記導波管の少なくとも1つとに動作可能に接続されている4つのアイソレータと、を備えており、
前記アイソレータはそれぞれが、
前記導波管に動作可能に接続されているサーキュレータと、
前記サーキュレータに動作可能に接続されているダミーロードと、
を備えることを特徴とする、請求項68に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記マイクロ波供給源が、
2つのマイクロ波パワーヘッドと、
それぞれが前記マイクロ波パワーヘッドのうちの対応する1つに接続されている2つのアイソレータであって、それぞれが、前記導波管に動作可能に接続されたサーキュレータと、前記サーキュレータに動作可能に接続されたダミーロードとを備えているアイソレータと、
それぞれが前記アイソレータのうちの対応する1つに動作可能に接続されており、それぞれがマイクロ波を受け取り、2分割し、前記導波管のうちの対応する2つへとマイクロ波を向かわせるように構成されている2つのパワースプリッタと、
を備えることを特徴とする請求項68に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - 前記マイクロ波供給源が、
マイクロ波パワーヘッドと、
前記マイクロ波パワーヘッドに動作可能に接続されているアイソレータであって、前記導波管に動作可能に接続されているサーキュレータと、前記サーキュレータに動作可能に接続されているダミーロードとを備えるアイソレータと、
前記アイソレータに接続され、マイクロ波を受け取り、分割し、前記導波管のうちの対応する1つにマイクロ波を向かわせるように構成されているパワースプリッタと、
を備えることを特徴とする請求項68に記載のマイクロ波プラズマシステム。 - それぞれが前記導波管のうちの対応する1つと、前記マイクロ波キャビティとに動作可能に接続されている、4つのチューナをさらに備えることを特徴とする請求項68に記載のマイクロ波プラズマシステム。
- それぞれが前記導波管のうちの対応する1つと、マイクロ波フラックスを測定するためのパワーメータとに動作可能に接続された、4つの結合器をさらに備えることを特徴とする請求項68に記載のマイクロ波プラズマシステム。
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