JPH0470136U - - Google Patents

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JPH0470136U
JPH0470136U JP11049890U JP11049890U JPH0470136U JP H0470136 U JPH0470136 U JP H0470136U JP 11049890 U JP11049890 U JP 11049890U JP 11049890 U JP11049890 U JP 11049890U JP H0470136 U JPH0470136 U JP H0470136U
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【図面の簡単な説明】
第１図ａ，ｂは本考案の一実施例の構成を示す
説明図、第２図は従来のこの種のマイクロ波プラ
ズマ装置の一例の構成を示す説明図、第３図は第
２図に示す装置によつて棒状、または線状の基材
を処理する方法を示す説明図である。 １……マイクロ波発振器、２……アイソレータ
、３……主導波管、４……パワーモニタ、５……
スリースタブチユーナ、６……矩形導波管からな
るアプリケータ、７…可変短絡器、８……石英管
からなる反応室、９……基板台、１０……基板、
１１……真空室、１２……ガス供給装置、１３…
…ガス導入管。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) マイクロ波損失の少ない誘電体容器からな
    る反応室内に可変短絡器を備えた矩形導波管から
    なるアプリケータを介してマイクロ波を導入し、
    該反応室内を流れるガスと結合させてプラズマ放
    電を発生させ、反応室内に配置した物体表面に薄
    膜、結晶等を生成したり、物体表面を改質したり
    するマイクロ波プラズマ装置において、 反応室内に該反応室内のガスの流れの方向に重
    ね合わせて配置したそれぞれが可変短絡器を備え
    た複数の矩形導波管を介してマイクロ波を導入し
    、該反応室内を流れるガスと結合させてプラズマ
    放電を発生させる構成としたことを特徴とするマ
    イクロ波プラズマ装置。 (2) 重ね合わせて配置した複数の矩形導波管に
    一方の端の導波管から交互に発振周波数の異なる
    ２台のマイクロ波発振器からのマイクロ波を導入
    する構成としたことを特徴とする請求項第１項記
    載のマイクロ波プラズマ装置。
JP1990110498U 1990-10-24 1990-10-24 マイクロ波プラズマ装置 Expired - Lifetime JPH084103Y2 (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005524962A (ja) * 2002-05-08 2005-08-18 ダナ・コーポレーション 複数の放射供給源を有したプラズマ発生装置およびその方法
JP2008508683A (ja) * 2004-07-30 2008-03-21 アマランテ テクノロジーズ，インク． 均一でスケーラブルなマイクロ波プラズマ発生を行うためのプラズマノズルアレイ
JP2010540216A (ja) * 2007-09-21 2010-12-24 アールエフ サミン テクノロジーズ，インコーポレイテッド 複数共振構造のプロセス・反応室のための方法および装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0270063A (ja) * 1988-09-02 1990-03-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> プラズマ／イオン生成源およびプラズマ／イオン処理装置

Patent Citations (1)

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JPH084103Y2 (ja) 1996-02-07

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