JP4401400B2 - マイクロ波プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
本発明に係るマイクロ波プラズマ処理装置は、前記棒部材の前記封止部材に対向する端部の前記封止部材と平行をなす平面による断面面積は、棒部材の他の部分の前記平面による断面面積より大きくなしてあることを特徴とする。
本発明に係るマイクロ波プラズマ処理装置は、前記貫通穴は、前記誘電体線路を伝搬するマイクロ波によって形成される電界の強度が相対的に高い領域に開設してあることを特徴とする。
本発明に係るマイクロ波プラズマ処理装置は、前記貫通穴は、前記容器内において他の領域に対して処理速度が遅い領域に対応する位置に開設してあることを特徴とする。
(実施の形態1)
図1は本発明に係るマイクロ波プラズマ処理装置の構造を示す側断面図であり、図2は図1に示したマイクロ波プラズマ処理装置の平面図である。有底円筒形状の反応器1は、その全体がアルミニウムで形成されている。反応器1の上部にはマイクロ波導入窓が開設してあり、該マイクロ波導入窓は封止板4で気密状態に封止されている。この封止板4は、耐熱性及びマイクロ波透過性を有すると共に誘電損失が小さい、石英ガラス又はアルミナ等の誘電体で形成されている。
図3は、実施の形態2を示す側断面図であり、チューナ16,16,…の先端の直径を他の部分より大きくなした場合を示している。なお、図中、図1に対応する部分には同じ番号を付してその説明を省略する。図3に示した如く、チューナ16,16,…の先端には、本体17,17,…の直径より大きく、貫通穴12,12,…の誘電体線路11を貫通する部分の直径より小さい直径の円板に導電性金属を成形した板部材19,19,…が、本体17,17,…の中心軸と板部材19,19,…の中心とが一致するように固定してある。これによって、板部材19,19,…が設けてない場合に比べて、漏れ電界とプラズマとの結合が強くなり、従って処理室2内の電界強度の制御性が向上する。
2 処理室
3 載置台
4 封止板
10 カバー部材
11 誘電体線路
12 貫通穴
15 支持部材
16 チューナ
17 本体
18 頭部
W 試料
Claims (4)
- 容器の一部を封止する封止部材と、該封止部材を覆う導電性のカバー部材と、該カバー部材の前記封止部材に対向する部分に封止部材から距離を隔てて設けた誘電体線路と、該誘電体線路へマイクロ波を発振するマイクロ波発振器とを備え、前記誘電体線路を伝搬したマイクロ波を容器内へ導入してプラズマを生成し、そのプラズマによって被処理物を処理するマイクロ波プラズマ処理装置において、前記封止部材に臨ませて、前記カバー部材及び誘電体線路を貫通する貫通穴が開設してあり、該貫通穴に、前記カバー部材と短絡してある導電性の棒部材が、該棒部材の周面と誘電体線路との間に適宜の距離を隔てて、前記誘電体線路と前記封止部材との間に一定間隔を隔てて形成されるエアギャップ、前記誘電体線路、及び、前記カバー部材間を進退自在に挿入してあることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
- 前記棒部材の前記封止部材に対向する端部の前記封止部材と平行をなす平面による断面面積は、棒部材の他の部分の前記平面による断面面積より大きくなしてある請求項1記載のマイクロ波プラズマ処理装置。
- 前記貫通穴は、前記誘電体線路を伝搬するマイクロ波によって形成される電界の強度が相対的に高い領域に開設してある請求項1又は2記載のマイクロ波プラズマ処理装置。
- 前記貫通穴は、前記容器内において他の領域に対して処理速度が遅い領域に対応する位置に開設してある請求項1又は2記載のマイクロ波プラズマ処理装置。
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JP2007139389A JP4401400B2 (ja) | 2007-05-25 | 2007-05-25 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
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