KR930005280A - 큰 면적의 기판을 처리하기 위한 박막 프로세스용 장치 - Google Patents

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KR930005280A
KR930005280A KR1019920010798A KR920010798A KR930005280A KR 930005280 A KR930005280 A KR 930005280A KR 1019920010798 A KR1019920010798 A KR 1019920010798A KR 920010798 A KR920010798 A KR 920010798A KR 930005280 A KR930005280 A KR 930005280A
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large area
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게겐바르트 라이너
게셰 롤란트
크레트슈머 칼하인츠
리터 요헨
놀 존자
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페터 좀머캄프, 에리히 투테
레이볼드 앗크티엔게젤샤프트
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Abstract

내용 없음.

Description

큰 면적의 기판을 처리하기위한 박막 프로세스용 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 마이크로파 도파관, 장방형 혼 및 프라즈마 챔버를 가진 본 발명에 따른 장치의 단면도,
제2도는 제1도의 종축 X-X을 따라 자른 단면도.

Claims (5)

  1. 소우스로부터 적어도 하나의 장방형 도파관부 및 혼 안테나로 이루어진 도파관을 통해 플라즈마 챔버(5)내로 모이는 고주파 전자파, 특히 마이크로파(M)에 의해 여기되는 플라즈마를 이용해서 통상적으로 500-1,000mm×500-1,000mm의 용적을 갖는 큰 면적의 기판을 처리하기 위한 박막과 프로세스용 장치에 있어서, 도파관은 장방형 개구를 갖으며, 장방형 도파구부(1)의 끝에 예컨데, 슬롯형 측소부(Q)를 가진 영역이 제공되며, 이 영역 바로 다음에 혼 안테나(2)가 연결되며, 혼 안테나(2)의 가장큰 개구와 플라즈마 챔버(5)사에는 보상영역(3)이 제공되고, 전자파, 특히 마이크로파(M)는 플라즈마 챔버내로 투입시 창(4)의 평면에 대해 평행한 대략 평면의 동위상면, 및 대략 동일한 형태의 진폭분포를 갖는 것을 특징으로 하는 큰 면적의 기판을 처리하기 위한 박막 프로세스용 장치.
  2. 제1항에 있어서, 도파관(W)의 구조가 그종축 X-X에 대해 반사대칭으로 구현되는 것을 특징으로 하는 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 도파관(W)이 보상영역(3)과 플라즈마 챔버(5)사이의 영역에 깔대기형의 개구 확대부(K)를 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 제1항, 2항 또는 제3항에 있어서, 혼 안테나(2)의 깔대기형 확대부, 및 보상영역(3)과 플라즈마 챔버(5)사이의 확대부(K)가 단지 한 좌표방향으로만 도파관의 종축(K)가 단지 한 좌표방향으롬반 도파관의 종축 X-X에 대해 수직으로 형성되는 것들 특징으로 하는 장치.
  5. 제4항에 있어서, 혼 안테나(2)의 삼각형 투영면은 확대부(K)의 투영면에 대해 수직으로 배열되는 것을 특징으로 하는 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920010798A 1991-08-08 1992-06-22 큰 면적의 기판을 처리하기 위한 박막 프로세스용 장치 KR930005280A (ko)

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