RU2717841C1 - Коллинеарный электрод - Google Patents

Коллинеарный электрод Download PDF

Info

Publication number
RU2717841C1
RU2717841C1 RU2019132779A RU2019132779A RU2717841C1 RU 2717841 C1 RU2717841 C1 RU 2717841C1 RU 2019132779 A RU2019132779 A RU 2019132779A RU 2019132779 A RU2019132779 A RU 2019132779A RU 2717841 C1 RU2717841 C1 RU 2717841C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
wave
plasma
quarter
electrode
microwave
Prior art date
Application number
RU2019132779A
Other languages
English (en)
Inventor
Дмитрий Николаевич Борисенко
Андрей Александрович Жохов
Борис Сергеевич Редькин
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН) filed Critical Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН)
Priority to RU2019132779A priority Critical patent/RU2717841C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2717841C1 publication Critical patent/RU2717841C1/ru

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

Изобретение относится к плазменной технике, применяемой в электрометаллургии, и может быть использовано для инициирования высокочастотной плазмы на промышленной частоте 2,45 ГГц для плавления металлических порошков и изготовления деталей сложной геометрической формы в атмосфере защитных газов. Технический результат - расширение динамического диапазона работы устройства по мощности СВЧ излучения. Коллинеарный электрический вибратор выполнен из двух полуволновых и одного четвертьволнового отрезков, последовательно соединенных между собой фазирующими катушками, четвертьволновой отрезок служит для согласования с нагрузкой по току. 3 ил.

Description

Изобретение относится к плазменной технике, применяемой в электрометаллургии, и может быть использовано для инициирования высокочастотной плазмы на промышленной частоте 2,45 ГГц для плавления металлических порошков и изготовления деталей сложной геометрической формы в атмосфере защитных газов. К настоящему времени накоплен значительный экспериментальный материал, по физике и технике возбуждения СВЧ-разряда [СВЧ-генераторы плазмы. Физика, техника, применение / Батенин В.М., Климовский И.И., Лысов Г.В., Троицкий В.Н. - М.: Энергоатомиздат, 1988. - 225 с.], имеющего определенные технологические преимущества перед ВЧ, НЧ и разрядами постоянного тока.
Известно устройство для генерации высокочастотного факельного разряда [Д.А. Ижойкини др. // Патент РФ №2499373 от 20.11.2013] - аналог. Технический результат - генерация высокочастотного факельного разряда при пониженных напряжениях возбуждения барьерного разряда достигается за счет внешнего электрода, который установлен на поверхности диэлектрической трубки; на силовом электроде радиально под острым углом к его оси установлен дополнительный электрод, конец которого заострен и направлен к месту соприкосновения диэлектрической трубки и внешнего электрода, который установлен с возможностью перемещения параллельно оси диэлектрической трубки в направлении формирования плазменного потока, перенося барьерный разряд с дополнительного на силовой электрод. Недостатком аналога является сложность конструкции и, как следствие, отсутствие возможности свободного перемещения в пространстве. Эрозия поджигающего электрода ограничивает срок надежной эксплуатации устройства и приводит к деградации изолирующих свойств диэлектрической трубки вследствие осаждения на ее поверхности металлических паров, что приводит к возникновению токов утечки. Устройство непригодно для плавления металлических порошков и изготовления деталей сложной геометрической формы в атмосфере защитных газов.
Известно устройство для инициации СВЧ-разряда и создания плазмы [Л.П. Грачев и др. // Патент РФ №2431242 от 10.10.2011] - прототип. Устройство инициации СВЧ-разряда и создания плазмы содержит линейный вибратор и проводящую поверхность-рефлектор. Вибратор расположен параллельно проводящей поверхности на расстоянии h, существенно меньшем одной четверти длины волны λ. Устройство может содержать произвольное количество параллельных друг другу инициаторов СВЧ-разряда, которые расположены на любом заданном расстоянии друг от друга, но без электрического контакта между собой. Технический результат - обеспечение требуемых характеристик генерируемой плазмы в широком динамическом диапазоне СВЧ излучения. Недостатками прототипа являются: а) наличие диэлектрика между инициатором СВЧ-разряда (вибратором) и проводящей поверхностью рефлектора не позволяет получать плазму в восстановительной атмосфере, необходимой для плавления и сварки некоторых металлов; плазма негативно влияет на изолирующие свойства диэлектрика, что приводит к электрическому пробою и появлению паразитных разрядов между вибратором и рефлектором; б) в случае произвольного количества параллельных друг другу инициаторов СВЧ-разряда устройство служит для одновременной инициации регулярной системы множественных СВЧ-разрядов с заданной пространственной структурой и не пригодно для ведения локальных процессов наплавки порошков; в) в случае произвольного количества параллельных друг другу инициаторов СВЧ-разряда существует критическое расстояние между вибраторами, при котором электромагнитное взаимодействие приводит к возбуждению многомодовой структуры электромагнитного поля и генерации плазмы с сильно неоднородными характеристиками в пространстве. Устройство не пригодно для плавления металлических порошков и изготовления деталей сложной геометрической формы в атмосфере защитных газов.
Задачей настоящего изобретения является разработка электрода для генерации СВЧ плазмы и сварки металлов в среде защитных газов в широком динамическом диапазоне работы устройства по мощности СВЧ излучения и пригодным для плавления металлических порошков и изготовления деталей сложной геометрической формы в атмосфере защитных газов.
Технический результат достигается за счет использования коллинеарного электрического вибратора, выполненного из двух полуволновых и одного четвертьволнового отрезков, последовательно соединенных между собой фазирующими катушками, четвертьволновой отрезок служит для согласования с нагрузкой по току. На фиг. 1 представлен чертеж электрода. На фиг. 2 представлен электрод, изготовленный из вольфрама. Цифрами обозначены: (1) - полуволновые отрезки; (2) - фазирующие катушки; (3) - четвертьволновой отрезок.
Устройство работает следующим образом: поле электромагнитной волны СВЧ-диапазона вызывает протекание индуцированного синфазного тока в каждом полуволновом отрезке (1), благодаря фазирующим катушкам (2) токи усиливают друг друга, что приводит к усилению поля на полюсе со стороны четвертьволнового отрезка (3). При этом динамический диапазон работы устройства по мощности СВЧ излучения существенно повышается. Электрическая дуга зажигается между четвертьволновым отрезком (3) и свариваемой деталью. Электрод может быть закреплен на подвижном штоке через изолирующий кронштейн. Отсутствие водяного охлаждения и силовых кабелей повышает мобильность устройства и позволяет вести процесс сварки или наплавки в любом пространственном положении электрода. Например, из порошка вольфрама была изготовлена фазирующая катушка, представленная на фиг. 3.

Claims (1)

  1. Коллинеарный электрод для генерации СВЧ плазмы и сварки металлов в среде защитных газов, содержащий линейный электрический вибратор, отличающийся тем, что для увеличения динамического диапазона работы устройства по мощности СВЧ излучения вибратор выполнен из двух полуволновых и одного четвертьволнового отрезков, последовательно соединенных между собой фазирующими катушками, четвертьволновой отрезок служит для согласования с нагрузкой по току.
RU2019132779A 2019-10-15 2019-10-15 Коллинеарный электрод RU2717841C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2019132779A RU2717841C1 (ru) 2019-10-15 2019-10-15 Коллинеарный электрод

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2019132779A RU2717841C1 (ru) 2019-10-15 2019-10-15 Коллинеарный электрод

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2717841C1 true RU2717841C1 (ru) 2020-03-26

Family

ID=69943333

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2019132779A RU2717841C1 (ru) 2019-10-15 2019-10-15 Коллинеарный электрод

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2717841C1 (ru)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5237152A (en) * 1991-08-08 1993-08-17 Leybold Aktiengesellschaft Apparatus for thin-coating processes for treating substrates of great surface area
WO2006038984A1 (en) * 2004-09-30 2006-04-13 Tokyo Electron Limited Surface wave plasma processing system and method of using
JP2008198894A (ja) * 2007-02-15 2008-08-28 Seiko Epson Corp プラズマ処理装置
RU2431242C2 (ru) * 2009-12-30 2011-10-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Московский радиотехнический институт РАН" Устройство для инициации свч-разряда и создания плазмы
RU2499373C1 (ru) * 2012-06-01 2013-11-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет" Устройство для возбуждения высокочастотного факельного разряда

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5237152A (en) * 1991-08-08 1993-08-17 Leybold Aktiengesellschaft Apparatus for thin-coating processes for treating substrates of great surface area
WO2006038984A1 (en) * 2004-09-30 2006-04-13 Tokyo Electron Limited Surface wave plasma processing system and method of using
JP2008198894A (ja) * 2007-02-15 2008-08-28 Seiko Epson Corp プラズマ処理装置
RU2431242C2 (ru) * 2009-12-30 2011-10-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Московский радиотехнический институт РАН" Устройство для инициации свч-разряда и создания плазмы
RU2499373C1 (ru) * 2012-06-01 2013-11-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет" Устройство для возбуждения высокочастотного факельного разряда

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU2014240387B2 (en) Microwave plasma spectrometer using dielectric resonator
Lu et al. Atmospheric pressure nonthermal plasma sources
RU2171554C2 (ru) Способ генерации плазмы и устройство для его осуществления
CN107801286A (zh) 一种基于介质阻挡放电预电离的微波等离子体激发系统
WO2012138311A1 (ru) Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы
CN104411083A (zh) 一种产生连续低温大截面大气压等离子体羽的装置及方法
RU134697U1 (ru) Генератор высокочастотного излучения на основе разряда с полым катодом
RU2717841C1 (ru) Коллинеарный электрод
CN109104808A (zh) 一种长使用寿命的新型微波等离子体激发装置
JP2018040719A5 (ru)
Bolotov et al. Diagnosis of plasma glow discharge energy parameters in the processes of treatment small diameter long tubes
EP3449699B1 (en) Method of use of a microwave electromagnetic field shaping adapter, which heats a toroidal plasma discharge
US2953718A (en) Apparatus and method for generating high temperatures
RU2387039C1 (ru) Высокочастотный генератор на основе разряда с полым катодом
KR20040010898A (ko) 대기압 마이크로 웨이브 플라즈마 방전시스템의 점화장치
JP6341690B2 (ja) 浮遊電極がシールドされた誘導結合型マイクロプラズマ源
RU2499373C1 (ru) Устройство для возбуждения высокочастотного факельного разряда
CN208836438U (zh) 一种长使用寿命的新型微波等离子体激发装置
US9307626B2 (en) System for generating electromagnetic waveforms, subatomic paticles, substantially charge-less particles, and/or magnetic waves with substantially no electric field
RU158690U1 (ru) Свч плазменный реактор
RU2826447C1 (ru) СВЧ-плазмотрон и способ генерации плазмы
RU2431242C2 (ru) Устройство для инициации свч-разряда и создания плазмы
RU2569493C1 (ru) Диод плазменного свч-генератора
JP6261100B2 (ja) 大気圧誘導結合プラズマ装置
RU196815U1 (ru) Отпаянная камера для газоразрядного генератора высокочастотных импульсов