JPH05198391A - マイクロ波プラズマ装置 - Google Patents
マイクロ波プラズマ装置Info
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- JPH05198391A JPH05198391A JP4026067A JP2606792A JPH05198391A JP H05198391 A JPH05198391 A JP H05198391A JP 4026067 A JP4026067 A JP 4026067A JP 2606792 A JP2606792 A JP 2606792A JP H05198391 A JPH05198391 A JP H05198391A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】従来のマイクロ波プラズマ装置では、アプリケ
ータの反応管内に発生するプラズマは、マイクロ波の投
入側にその強い部分を生じ易い傾向があり、可変短絡器
等により調整をしようとしても、その均一化は困難であ
った。本発明は、上記問題点を解消し、より均一なプラ
ズマを発生させ、より均一性の高い薄膜、表面改質等が
得られるマイクロ波プラズマ装置を提供しようとするも
のである。 【構成】アプリケータの構造を、反応管に対し等分割さ
れた複数の方向からマイクロ波を投入できるよう、複数
個のマイクロ波投入口を有するものにした。
ータの反応管内に発生するプラズマは、マイクロ波の投
入側にその強い部分を生じ易い傾向があり、可変短絡器
等により調整をしようとしても、その均一化は困難であ
った。本発明は、上記問題点を解消し、より均一なプラ
ズマを発生させ、より均一性の高い薄膜、表面改質等が
得られるマイクロ波プラズマ装置を提供しようとするも
のである。 【構成】アプリケータの構造を、反応管に対し等分割さ
れた複数の方向からマイクロ波を投入できるよう、複数
個のマイクロ波投入口を有するものにした。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子工業、化学工業等
の分野において、マイクロ波を用いて反応ガスをプラズ
マ化し、これを固体表面等に接触させることにより、そ
の表面にダイヤモンド等の生成物を析出させるプラズマ
CVDや、固体表面の改質等に使用されるマイクロ波プ
ラズマ装置に関し、特に均一なプラズマ領域の形成を可
能にするマイクロ波プラズマ装置に関する。
の分野において、マイクロ波を用いて反応ガスをプラズ
マ化し、これを固体表面等に接触させることにより、そ
の表面にダイヤモンド等の生成物を析出させるプラズマ
CVDや、固体表面の改質等に使用されるマイクロ波プ
ラズマ装置に関し、特に均一なプラズマ領域の形成を可
能にするマイクロ波プラズマ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、上記のようなマイクロ波プラズマ
装置として、次のようなものが用いられている。図4
は、従来の装置の一例の構成図である。以下、図中にお
ける同一符号は、同一又は相当するものを示す。
装置として、次のようなものが用いられている。図4
は、従来の装置の一例の構成図である。以下、図中にお
ける同一符号は、同一又は相当するものを示す。
【0003】図4において、1はマグネトロン等よりな
るマイクロ波発振器、2は負荷変動に対する発振器の安
定動作のための、電波吸収体を備えたアイソレータ、3
はパワーモニタ、4は整合器、5はアプリケータであ
る。アプリケータ5の筐体は、導波管とそれに直交し、
導波管の上、下各方向に伸びる円筒状のチョーク構造部
とで構成されている。6はプラズマの反応管として用い
る石英管であり、アプリケータの内部を貫通するように
設けられている。導波管と交差する部分の石英管6の管
内には、基板台7が設けられており、被処理物の基板9
が載置される。8は上記の交差部分に定在波を発生させ
るための可変短絡器であり、8aはその短絡板である。
石英管6の一端は真空ポンプに、石英管6の他端は反応
ガスの供給源に接続される。動作は以下のようにして行
われる。
るマイクロ波発振器、2は負荷変動に対する発振器の安
定動作のための、電波吸収体を備えたアイソレータ、3
はパワーモニタ、4は整合器、5はアプリケータであ
る。アプリケータ5の筐体は、導波管とそれに直交し、
導波管の上、下各方向に伸びる円筒状のチョーク構造部
とで構成されている。6はプラズマの反応管として用い
る石英管であり、アプリケータの内部を貫通するように
設けられている。導波管と交差する部分の石英管6の管
内には、基板台7が設けられており、被処理物の基板9
が載置される。8は上記の交差部分に定在波を発生させ
るための可変短絡器であり、8aはその短絡板である。
石英管6の一端は真空ポンプに、石英管6の他端は反応
ガスの供給源に接続される。動作は以下のようにして行
われる。
【0004】例えば、基板9上に薄膜等を生成させよう
とする場合、まず石英管6の内部を真空ポンプにより減
圧した後、管内に所要の反応ガスを注入する。マイクロ
波は、マイクロ波発振器1により発生し、アイソレータ
2、パワーモニタ3、整合器4を通過後アプリケータ5
に投入される。整合器4による発振器側とアプリケータ
側との整合調整および可変短絡器による定在波の発生位
置の調整を行うことにより、石英管6内の導波管との交
差部分にプラズマを発生、反応ガスによるプラズマ生成
物が基板9の表面に析出し、目的の薄膜が得られる。
とする場合、まず石英管6の内部を真空ポンプにより減
圧した後、管内に所要の反応ガスを注入する。マイクロ
波は、マイクロ波発振器1により発生し、アイソレータ
2、パワーモニタ3、整合器4を通過後アプリケータ5
に投入される。整合器4による発振器側とアプリケータ
側との整合調整および可変短絡器による定在波の発生位
置の調整を行うことにより、石英管6内の導波管との交
差部分にプラズマを発生、反応ガスによるプラズマ生成
物が基板9の表面に析出し、目的の薄膜が得られる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述したような従来の
マイクロ波プラズマ装置では、発生するプラズマは、マ
イクロ波の投入側にその強い部分を生じ易い傾向があっ
た。図5は、このような装置によりプラズマ12を発生
した場合の、プラズマの断面分布の例を示したものであ
る。
マイクロ波プラズマ装置では、発生するプラズマは、マ
イクロ波の投入側にその強い部分を生じ易い傾向があっ
た。図5は、このような装置によりプラズマ12を発生
した場合の、プラズマの断面分布の例を示したものであ
る。
【0006】上述の装置においては、マイクロ波電力が
定格値に対し比較的小さいときは、プラズマは短絡板8
aで調整された定在波による強電界により所望の位置に
誘起されるが、プラズマ領域を拡大するためマイクロ波
電力の値を上げていくと、マイクロ波の定常波(伝送
波)のみでプラズマが誘起されるようになる。このよう
なプラズマはマイクロ波の投入口側の石英管壁近傍で生
じるので、その部分にエネルギー消費の増大を生じ、そ
の結果石英管中央付近から後端にかけてのプラズマが弱
化してしまうことになる。
定格値に対し比較的小さいときは、プラズマは短絡板8
aで調整された定在波による強電界により所望の位置に
誘起されるが、プラズマ領域を拡大するためマイクロ波
電力の値を上げていくと、マイクロ波の定常波(伝送
波)のみでプラズマが誘起されるようになる。このよう
なプラズマはマイクロ波の投入口側の石英管壁近傍で生
じるので、その部分にエネルギー消費の増大を生じ、そ
の結果石英管中央付近から後端にかけてのプラズマが弱
化してしまうことになる。
【0007】この場合、プラズマの均一性を上げるた
め、短絡板8aの位置により調整をしようとしても、マ
イクロ波投入口付近のプラズマの抑制は難く、均一化は
困難であった。
め、短絡板8aの位置により調整をしようとしても、マ
イクロ波投入口付近のプラズマの抑制は難く、均一化は
困難であった。
【0008】本発明は、上記問題点を解消し、反応管内
に容易に均一なプラズマを発生させることができ、より
均一性の高い薄膜、表面改質等が得られるマイクロ波プ
ラズマ装置を提供しようとするものである。
に容易に均一なプラズマを発生させることができ、より
均一性の高い薄膜、表面改質等が得られるマイクロ波プ
ラズマ装置を提供しようとするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明はプラズマを発生させる手段(定在波の発生
手段)として、空洞共振器や可変短絡器等による共振手
段を用いない新規な構造のアプリケータを設けたもので
ある。
に、本発明はプラズマを発生させる手段(定在波の発生
手段)として、空洞共振器や可変短絡器等による共振手
段を用いない新規な構造のアプリケータを設けたもので
ある。
【0010】すなわち、金属筐体内に石英管等の反応管
を挿入してなるアプリケータを備えたマイクロ波プラズ
マ装置において、前記アプリケータは、前記反応管に対
し等分割された複数の方向からマイクロ波を投入できる
よう、複数個のマイクロ波投入口を有するようにした。
を挿入してなるアプリケータを備えたマイクロ波プラズ
マ装置において、前記アプリケータは、前記反応管に対
し等分割された複数の方向からマイクロ波を投入できる
よう、複数個のマイクロ波投入口を有するようにした。
【0011】また、その実施態様として以下のような手
段を設けた。 (1):前記アプリケータの金属筐体の主要部は、前記
マイクロ波がTE0 1、TE1 0、TE1 1モードのいずれか
で伝播する導波管により構成した。 (2):前記アプリケータへのマイクロ波投入手段とし
て、単一のマイクロ波発振器と、該発振器の出力を分配
するための分配器と、該分配器の各出力端と前記アプリ
ケータの各マイクロ波投入口とを結ぶそれぞれの導波管
系を備えたものにした。 (3):プラズマの調整手段として、前記それぞれの導
波管系が、それぞれの移相器を備えたものにした。 (4):同上調整手段として、前記それぞれの導波管系
が、それぞれの整合器を備えたものにした。
段を設けた。 (1):前記アプリケータの金属筐体の主要部は、前記
マイクロ波がTE0 1、TE1 0、TE1 1モードのいずれか
で伝播する導波管により構成した。 (2):前記アプリケータへのマイクロ波投入手段とし
て、単一のマイクロ波発振器と、該発振器の出力を分配
するための分配器と、該分配器の各出力端と前記アプリ
ケータの各マイクロ波投入口とを結ぶそれぞれの導波管
系を備えたものにした。 (3):プラズマの調整手段として、前記それぞれの導
波管系が、それぞれの移相器を備えたものにした。 (4):同上調整手段として、前記それぞれの導波管系
が、それぞれの整合器を備えたものにした。
【0012】
【実施例】図1は、本発明のマイクロ波プラズマ装置の
一実施例の構成図である。同図において、10はマイク
ロ波発振器1の出力を2分配するためのT型分岐導波管
である。分岐された各導波管系には、それぞれ移相器1
1、パワーモニタ3、整合器4が設けられしており、両
導波管系はアプリケータ5Aで結合されている。
一実施例の構成図である。同図において、10はマイク
ロ波発振器1の出力を2分配するためのT型分岐導波管
である。分岐された各導波管系には、それぞれ移相器1
1、パワーモニタ3、整合器4が設けられしており、両
導波管系はアプリケータ5Aで結合されている。
【0013】図2に、上記アプリケータ5Aの断面図を
示す。アプリケータの金属筐体13は、水平に置かれた
導波管部と、その上面および下面からそれぞれ外方に伸
びる円筒状の一対のチョーク部とで構成されている。導
波管部には例えばマイクロ波がTE1 0モードで伝播する
導波管を用い、その各端には接続用のフランジが設けら
れている。石英管6、基板台7、基板9は上述の従来例
と同様に設けられている。
示す。アプリケータの金属筐体13は、水平に置かれた
導波管部と、その上面および下面からそれぞれ外方に伸
びる円筒状の一対のチョーク部とで構成されている。導
波管部には例えばマイクロ波がTE1 0モードで伝播する
導波管を用い、その各端には接続用のフランジが設けら
れている。石英管6、基板台7、基板9は上述の従来例
と同様に設けられている。
【0014】動作は、まず排気、反応ガスの注入につい
ては、上述の従来例と同様な方法で行われる。
ては、上述の従来例と同様な方法で行われる。
【0015】一方、マイクロ波の投入については、マイ
クロ波発振器1で発振しアイソレータ2を通ったマイク
ロ波は、T型分岐導波管10で二分割され、各導波管系
を通った後、アプリケータ5Aに投入される。
クロ波発振器1で発振しアイソレータ2を通ったマイク
ロ波は、T型分岐導波管10で二分割され、各導波管系
を通った後、アプリケータ5Aに投入される。
【0016】プラズマの発生および発生位置の調整は、
パワーモニタ3の指示部(進行波および反射波のレベル
計)を見ながら、移相器11および整合器4を用いて行
う。本実施例では、単一の発振器をマイクロ波発生源と
しているので、両導波管系の移相量が等しくなったとき
マイクロ波電界の最大点は、アプリケータ5Aの中心に
生じ、プラズマ発生の最適状態となり、最小のマイクロ
波電力でプラズマが発生する。まず、低電力でプラズマ
を発生させた後、整合調整をしながら定格電力まで上げ
ていく。
パワーモニタ3の指示部(進行波および反射波のレベル
計)を見ながら、移相器11および整合器4を用いて行
う。本実施例では、単一の発振器をマイクロ波発生源と
しているので、両導波管系の移相量が等しくなったとき
マイクロ波電界の最大点は、アプリケータ5Aの中心に
生じ、プラズマ発生の最適状態となり、最小のマイクロ
波電力でプラズマが発生する。まず、低電力でプラズマ
を発生させた後、整合調整をしながら定格電力まで上げ
ていく。
【0017】対応する各パワーモニタ3の指示値がほぼ
同じになるように調節することにより均一なプラズマが
得られる。
同じになるように調節することにより均一なプラズマが
得られる。
【0018】図3は上記プラズマの、石英管6の断面内
における分布の様子を示したものである。マイクロ波が
相対する両側から均等に加えられる結果、同図のように
均一性のよいプラズマが得られる。
における分布の様子を示したものである。マイクロ波が
相対する両側から均等に加えられる結果、同図のように
均一性のよいプラズマが得られる。
【0019】本実施例では、反応管として、石英管を用
いた場合を示したが、マイクロ波領域で低誘電体損失の
ものであれば、ベルジャー等も用いることができる。
いた場合を示したが、マイクロ波領域で低誘電体損失の
ものであれば、ベルジャー等も用いることができる。
【0020】また、本実施例では、アプリケータ5Aの
導波管部と、マイクロ波伝送系の導波管が同サイズのも
のを用いているが、被処理物との関連等でアプリケータ
5Aの導波管部のサイズを変えたい場合は、上記伝送系
と該導波管部との間に適合するテーパー導波管等を設け
ればよく、自由に選択することができる。なお、アプリ
ケータ5Aの導波管部におけ導波管モードは、均一なプ
ラズマのためにはTE0 1、TE1 0、又はTE1 1モードの
いずれかを選ぶのが望ましい。それら以外のモード(例
えばTE2 0、TE2 1など)で使用したい場合、テーパー
導波管等を用いればよいことはいうまでもない。
導波管部と、マイクロ波伝送系の導波管が同サイズのも
のを用いているが、被処理物との関連等でアプリケータ
5Aの導波管部のサイズを変えたい場合は、上記伝送系
と該導波管部との間に適合するテーパー導波管等を設け
ればよく、自由に選択することができる。なお、アプリ
ケータ5Aの導波管部におけ導波管モードは、均一なプ
ラズマのためにはTE0 1、TE1 0、又はTE1 1モードの
いずれかを選ぶのが望ましい。それら以外のモード(例
えばTE2 0、TE2 1など)で使用したい場合、テーパー
導波管等を用いればよいことはいうまでもない。
【0021】また、本実施例では、アプリケータのマイ
クロ波投入口は相対する位置に2個設けた場合を示した
が、これに限定されるものではなく、反応管に対し等分
割された方向からマイクロ波を投入できる構造(たとえ
ば3分割投入口、4分割投入口)のものであれば、マイ
クロ波の投入が対称的に行われることになるので上述と
同様な効果が得られる。
クロ波投入口は相対する位置に2個設けた場合を示した
が、これに限定されるものではなく、反応管に対し等分
割された方向からマイクロ波を投入できる構造(たとえ
ば3分割投入口、4分割投入口)のものであれば、マイ
クロ波の投入が対称的に行われることになるので上述と
同様な効果が得られる。
【0022】また、本実施例では、マイクロ波源として
は単一のマイクロ波発振器を設け、その出力を分配して
投入する場合を示したが、調整がやや複雑になるが各マ
イクロ波投入口毎にマイクロ波発振器を設けて利用する
こともできる。
は単一のマイクロ波発振器を設け、その出力を分配して
投入する場合を示したが、調整がやや複雑になるが各マ
イクロ波投入口毎にマイクロ波発振器を設けて利用する
こともできる。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のマイクロ
波プラズマ装置では、反応管に対し等分割された複数の
方向からマイクロ波を投入できるよう、複数個のマイク
ロ波投入口を有するアプリケータを設けているため、プ
ラズマが一方に偏ることなく、石英管内に均一に発生で
きるので、均質性のよい薄膜の形成、均質性のよい表面
改質等が可能となる。
波プラズマ装置では、反応管に対し等分割された複数の
方向からマイクロ波を投入できるよう、複数個のマイク
ロ波投入口を有するアプリケータを設けているため、プ
ラズマが一方に偏ることなく、石英管内に均一に発生で
きるので、均質性のよい薄膜の形成、均質性のよい表面
改質等が可能となる。
【0024】また、本装置のアプリケータは非共振型な
ので共振周波数による制限を受けることがなく、T
E0 1、TE1 0、又はTE1 1等のモードで伝播する導波管
を用いることにより、容易に目的の装置を設計すること
ができる。
ので共振周波数による制限を受けることがなく、T
E0 1、TE1 0、又はTE1 1等のモードで伝播する導波管
を用いることにより、容易に目的の装置を設計すること
ができる。
【0025】また、上記アプリケータへのマイクロ波電
力の供給は、マイクロ波発振器の出力を分配するための
分配器と、該分配器の各出力端と上記アプリケータの各
マイクロ波投入口とを結ぶそれぞれの導波管系を備える
ことにより、高価なマイクロ波発振器およびアイソレー
タはそれぞれ単一で済むので、コスト的に有利となり、
同時に調整が簡便になる利点も生じる。
力の供給は、マイクロ波発振器の出力を分配するための
分配器と、該分配器の各出力端と上記アプリケータの各
マイクロ波投入口とを結ぶそれぞれの導波管系を備える
ことにより、高価なマイクロ波発振器およびアイソレー
タはそれぞれ単一で済むので、コスト的に有利となり、
同時に調整が簡便になる利点も生じる。
【0026】また、各導波管系に、それぞれ移相器や整
合器を設けることにより、調整はほぼ各系を対称的にす
ることで容易に行うことができ、またきめの細かい調節
が可能となる。
合器を設けることにより、調整はほぼ各系を対称的にす
ることで容易に行うことができ、またきめの細かい調節
が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明マイクロ波プラズマ装置の一実施例の
構成図である。
構成図である。
【図2】 同実施例のアプリケータの断面図である。
【図3】 同上アプリケータ内に発生したプラズマの断
面図である。
面図である。
【図4】 従来のマイクロ波プラズマ装置の一例の構成
図である。
図である。
【図5】 同上従来の装置のアプリケータ内に発生した
プラズマの断面図である。
プラズマの断面図である。
1:マイクロ波発振器、2:アイソレータ、3:パワー
モニタ、4:整合器、5,5A:アプリケータ、6:石
英管、7:基板台、8:可変短絡板、9:基板、10:
T型分岐導波管、11:移相器、12:プラズマ、1
3:金属筐体。
モニタ、4:整合器、5,5A:アプリケータ、6:石
英管、7:基板台、8:可変短絡板、9:基板、10:
T型分岐導波管、11:移相器、12:プラズマ、1
3:金属筐体。
Claims (5)
- 【請求項1】 金属筐体内に反応管を挿入してなるアプ
リケータを備えたマイクロ波プラズマ装置において、前
記アプリケータは、前記反応管に対し等分割された複数
の方向からマイクロ波を投入できるよう、複数個のマイ
クロ波投入口を有することを特徴とするマイクロ波プラ
ズマ装置。 - 【請求項2】 前記アプリケータの金属筐体の主要部
は、前記マイクロ波がTE0 1、TE1 0、又はTE1 1モー
ドのいずれかで伝播する導波管により構成されてなるこ
とを特徴とする請求項1のマイクロ波プラズマ装置。 - 【請求項3】 単一のマイクロ波発振器と、該発振器の
出力を分配するための分配器と、該分配器の各出力端と
前記アプリケータの各マイクロ波投入口とを結ぶそれぞ
れの導波管系を備えたことを特徴とする請求項1のマイ
クロ波プラズマ装置。 - 【請求項4】 前記それぞれの導波管系が、それぞれの
移相器を備えたことを特徴とする請求項3のマイクロ波
プラズマ装置。 - 【請求項5】 前記それぞれの導波管系が、それぞれの
整合器を備えたことを特徴とする請求項3のマイクロ波
プラズマ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04026067A JP3129814B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | マイクロ波プラズマ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04026067A JP3129814B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | マイクロ波プラズマ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05198391A true JPH05198391A (ja) | 1993-08-06 |
JP3129814B2 JP3129814B2 (ja) | 2001-01-31 |
Family
ID=12183341
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP04026067A Expired - Fee Related JP3129814B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | マイクロ波プラズマ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3129814B2 (ja) |
Cited By (7)
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---|---|---|---|---|
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WO2006014809A1 (en) * | 2004-07-30 | 2006-02-09 | Amarante Technologies, Inc. | System and method for controllng a power distribution within a microwave cavity |
JP2007200687A (ja) * | 2006-01-26 | 2007-08-09 | Toppan Printing Co Ltd | 2分岐導波管を有するプラズマ処理装置 |
JP2008508683A (ja) * | 2004-07-30 | 2008-03-21 | アマランテ テクノロジーズ,インク. | 均一でスケーラブルなマイクロ波プラズマ発生を行うためのプラズマノズルアレイ |
JP2011249106A (ja) * | 2010-05-26 | 2011-12-08 | Hitachi Ltd | マイクロ波加熱装置 |
JP2014524106A (ja) * | 2011-06-24 | 2014-09-18 | リカーボン,インコーポレイテッド | マイクロ波共鳴空洞 |
DE102013215252A1 (de) * | 2013-08-02 | 2015-02-05 | Eeplasma Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Behandlung von Prozessgasen in einem Plasma angeregt durch elektromagnetische Wellen hoher Frequenz |
-
1992
- 1992-01-17 JP JP04026067A patent/JP3129814B2/ja not_active Expired - Fee Related
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