JP2007200687A - 2分岐導波管を有するプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】円筒型容器7−2と、マイクロ波エネルギーを注入するアンテナ7−4と、ガス供給管7−5とを有し、前記円筒型容器7−2全体が一体の空洞共振器(同軸共振器)7−1となるものが2個以上存在し、前記円筒型容器7−2に各々マイクロ波エネルギーを注入する2個以上の導波管6と2個以上のチューナ5が設けられ、これらの2個以上の円筒型容器7−2各々にマイクロ波エネルギーの供給方向を一定にしてエネルギー分岐を実現させたサーキュレータ3とアイソレータ2で構成されたことを特徴とする2分岐導波管を有するプラズマ処理装置である。
【選択図】図1
Description
に設けられ、マイクロ波エネルギーを注入するアンテナと、前記下面から円筒軸に平行に設けられ、原料ガスを供給し、かつ前記アンテナとともに同軸導体を形成せるガス供給管とを有し、前記円筒型容器全体が一体の空洞共振器(同軸共振器)となるものが2個存在し、前記円筒型容器に各々マイクロ波エネルギーを注入する2個の導波管と2個のチューナが設けられ、これらの2個の円筒型容器各々にマイクロ波エネルギーの供給方向を一定にしてエネルギー分岐を実現させた共通のサーキュレータと電源保護用の共通のアイソレータで構成されていることにより、同時に多くの個数のプラスチック容器に均一なコーティングが可能になり、酸素透過量も同レベルとなり、容器変形もないので製品の歩留まりが向上し、さらに装置サイズの小型化にともない、装置コスト、設置場所などの設備投資金額が少なくてすみ、製品コストの低減が可能になる。
内層(中心導体7−9)の外径比)等から算出される特性インピーダンスの設計が必要であり方形導波管7−7から伝送されるマイクロ波エネルギーを円筒型容器7−2に効率良く伝送するようになっている。アンテナ7−4は円筒型容器7−2の上部蓋となる天面板7−3の面中心部から、面に垂直な方向すなわち、円筒型容器7−2の円筒軸に平行方向に配設されており、伝送されるマイクロ波エネルギーを上記ガス供給管7−5へ結合させることにより、空洞共振器(同軸共振器)7−1内にマイクロ波エネルギーを注入する。ガス供給管7−5は円筒型容器7−2の下部蓋となる下面板7−11の面中心部から、面に垂直な方向、すなわち、円筒容器7−2の円筒軸に平行方向にアンテナ7−4に対抗して配置されており、アンテナ7−4からマイクロ波エネルギーを結合する。また、ガス供給管7−5は中空容器7−8の表面、例えば内面にコーティングする薄膜を成膜するために用いる原料ガスを、中空容器7−8内に注入する。
8の内側において原料ガスのプラズマを発生させる。このマイクロ波は周波数2.45GHz、電力300Wであり、5秒間に渡って供給され、この間にプラズマが発生して、所定の薄膜の成膜を行う。
表1に示す#1、#2、#3の条件(いずれも上記図1の内容であり、各々同条件でN=3に対応する)によるプラズマ処理装置において、薄膜を成膜したPETボトルの酸素バリア性は#1の第1の円筒型容器7−2と第2の円筒型容器7−2´から得られた両方のPETボトルにおいて0.0035(ml/pkg/day)であった。これはN=3に対応する#2、#3でも同じような結果となった。未コート(セラミック薄膜コートする前のPETボトル)のPETボトルと比較するとブランク比20倍のセラミック薄膜コートPETボトルになった。未コートPETボトルは0.0700(ml/pkg/day)の酸素バリアを示す。またいずれの条件でもPETボトルの変形が無かった。
表1に示す#4、#5、#6の条件(いずれも上記図2の内容であり、各々同条件でN=3に対応する)によるプラズマ処理装置において、薄膜を成膜したPETボトルの酸素バリア性は#4の第1の円筒型容器7−2のPETボトルにおいて0.0040(ml/pkg/day)であった。他方である第2の円筒型容器7−2´のPETボトルにおいて0.0450(ml/pkg/day)であった。これはN=3に対応する#5、#6でも同じような結果となり、#5の第1の円筒型容器7−2のPETボトルにおいて0.0550(ml/pkg/day)であった。他方である第2の円筒型容器7−2´のPETボトルにおいて0.0050(ml/pkg/day)であった。#6の第1の円筒型容器7−2のPETボトルにおいて0.0045(ml/pkg/day)であった。他方である第2の円筒型容器7−2´のPETボトルにおいて0.0500(ml/pkg/day)であった。未コート(セラミック薄膜コートする前のPETボトル)のPETボトルと比較するとブランク比20倍のセラミック薄膜コートPETボトルが出来ないばかりでなく第1の円筒型容器7−2/第2の円筒型容器7−2´のどちらか片方のみにマイクロ波エネルギーが最初に伝播してしまい均等なエネルギー分割ができなくなり片側のみマイクロ波エネルギーの供給過多が発生したものと考えられる。いずれの条件の場合も円筒型容器の他方と比較して酸素バリア性が良好な方がPETボトルの変形を引き起こしている。図1の#1、#2、#3と比較しても酸素バリア性が劣化しているのは上記PETボトルの変形が原因であるものと推定される。
表1に示す#7、#8、#9の条件(いずれも上記図3の内容であり、各々同条件でN=3に対応する)によるプラズマ処理装置において、薄膜を成膜したPETボトルの酸素バリア性は#7の第1の円筒型容器7−2のPETボトルにおいて0.0045(ml/
pkg/day)であった。他方である第2の円筒型容器7−2´のPETボトルにおいて0.0500(ml/pkg/day)であった。これはN=3に対応する#8、#9でも同じような結果となり、#8の第1の円筒型容器7−2のPETボトルにおいて0.0045(ml/pkg/day)であった。他方である第2の円筒型容器7−2´のPETボトルにおいて0.0500(ml/pkg/day)であった。#9の第1の円筒型容器7−2のPETボトルにおいて0.0055(ml/pkg/day)であった。他方である第2の円筒型容器7−2´のPETボトルにおいて0.0450(ml/pkg/day)であった。未コート(セラミック薄膜コートする前のPETボトル)のPETボトルと比較するとブランク比20倍のセラミック薄膜コートPETボトルが出来ないばかりでなく第1の円筒型容器7−2/第2の円筒型容器7−2´のどちらか片方のみにマイクロ波エネルギーが最初に伝播してしまい均等なエネルギー分割ができなくなり片側のみマイクロ波エネルギーの供給過多が発生したものと考えられる。
2・・・アイソレータ 2´・・・第2のアイソレータ
3・・・サーキュレータ 3a・・・2分岐導波路
4・・・第1のパワーメータ 4´・・・第2のパワーメータ
5・・・第1のチューナ 5´・・・第2のチューナ
6・・・第1の導波管 6´・・・第2の導波管
7・・・第1の負荷側 7´・・・第2の負荷側
7−1・・・空洞共振器(同軸共振器)
7−2・・・円筒型容器
7−3・・・天面板
7−4・・・アンテナ
7−5・・・ガス供給管
7−6・・・真空チャンバ
7−7・・・方形導波管
7−8・・・中空容器
7−9・・・導体
7−10・・・導波管同軸変換部
7−11・・・下面板
Claims (4)
- マイクロ波エネルギーにより原料ガスをプラズマ化し、中空容器の表面に薄膜を成膜する2分岐導波管を有するプラズマ処理装置であり、天面及び下面が封止された円筒型容器と、前記天面から円筒軸に平行に設けられ、マイクロ波エネルギーを注入するアンテナと、前記下面から円筒軸に平行に設けられ、原料ガスを供給し、かつ前記アンテナとともに同軸導体を形成するガス供給管とを有し、前記円筒型容器全体が一体の空洞共振器(同軸共振器)となるものが2個以上存在し、前記円筒型容器に各々マイクロ波エネルギーを注入する2個以上の導波管と2個以上のチューナが設けられ、これらの2個以上の円筒型容器各々にマイクロ波エネルギーの供給方向を一定にしてエネルギー分岐を実現させた共通のサーキュレータと電源保護用の共通のアイソレータで構成されたことを特徴とする2分岐導波管を有するプラズマ処理装置。
- 前記電源、アイソレータ、サーキュレータを介して送り込まれたマイクロ波エネルギーが第1の導波管を通り、第1のチューナを介して第1の円筒型容器に注入され、このときのインピーダンス整合状態をおおよそ、電力の進行波:反射波比で2:1になることを特徴とする請求項1記載の2分岐導波管を有するプラズマ処理装置。
- 前記電源、アイソレータ、サーキュレータを介して送り込まれたマイクロ波エネルギーが第2の導波管を通り、第2のチューナを介して第2の円筒型容器に注入され、このときのインピーダンス整合状態をおおよそ、電力の進行波:反射波比で1:0になることを特徴とする請求項1又は2記載の2分岐導波管を有するプラズマ処理装置。
- 前記電源、アイソレータ、サーキュレータを介して送り込まれたマイクロ波エネルギーが第1の円筒型容器に注入されると同時にサーキュレータを介して第2の円筒型容器に注入されることで、第1の円筒型容器で消費されなかった供給余剰電力(進行波−反射波で投入電力のおおよそ半分が消費されずに戻るように前記第1のチューナで調整する)が第2の円筒型容器の供給電力(進行波−反射波で投入電力のおおよそ全てが消費されるように前記第2のチューナで調整する)となることで第1、2の円筒型容器に同時におおよそ同レベルのマイクロ波エネルギーが供給されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の2分岐導波管を有するプラズマ処理装置。
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