JP2006144099A - 3次元中空容器の薄膜成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、3次元中空容器のマイクロ波プラズを用いた内面成膜において、マイクロ波の導入手段を備えた3次元中空容器の薄膜成膜装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波エネルギーを封じ込める円筒型金属製容器と、該円筒型金属製容器内に成膜対象物である中空容器を収納する非金属製の真空チャンバーとを備え、前記中空容器内に原料ガスを注入する原料ガス導入管が配置され、該中空容器内に原料ガスを導入して、該中空容器内面にプラズマCVD法により薄膜を成膜する3次元中空容器の薄膜成膜装置において、前記非金属製真空チャンバーを覆い被せるように円筒型金属体が配置され、該円筒型金属体の側面には内側にある前記真空チャンバー部へマイクロ波エネルギーを侵入させるための少なくとも一つ以上の開口部を有する円筒型金属体を配置したことを特徴とする3次元中空容器の薄膜成膜装置である。
【選択図】図1
【解決手段】マイクロ波エネルギーを封じ込める円筒型金属製容器と、該円筒型金属製容器内に成膜対象物である中空容器を収納する非金属製の真空チャンバーとを備え、前記中空容器内に原料ガスを注入する原料ガス導入管が配置され、該中空容器内に原料ガスを導入して、該中空容器内面にプラズマCVD法により薄膜を成膜する3次元中空容器の薄膜成膜装置において、前記非金属製真空チャンバーを覆い被せるように円筒型金属体が配置され、該円筒型金属体の側面には内側にある前記真空チャンバー部へマイクロ波エネルギーを侵入させるための少なくとも一つ以上の開口部を有する円筒型金属体を配置したことを特徴とする3次元中空容器の薄膜成膜装置である。
【選択図】図1
Description
本発明は、3次元中空容器、例えば、プラスチックボトル、プラスチックカップ、プラスチックトレー、紙容器、紙カップ、紙トレー、その他中空のプラスチック成形品等の表面にプラズマ助成式化学蒸着法(PECVD)により薄膜を形成させる3次元中空容器の薄膜成膜装置に関するものである。
ここ最近、中空容器は食品分野や医薬品分野等の様々な分野において、様々な機能が求められている。その中でプラスチック容器は、軽量、低コストという理由から包装容器として広く使用されている。さて、近年ではバリア性を持たせるために特にプラスチック容器にコーティングする技術が様々開発されており、これらの技術によりバリア薄膜が形成されたプラスチック容器が広く出回っている。(例えば、特許文献1、2参照。)
バリア薄膜を形成する方法として、一般的には円筒構造の空洞共振器を用いて内部に成膜対象物を配置し、原料ガスを注入、さらにマイクロ波エネルギーを注入、そしてそのエネルギーによりプラズマ化したガスにより成膜が施される。この時、空洞共振器内へ如何に効率良くマイクロ波エネルギーを注入するか、またマイクロ波の電磁界分布を出来るだけ均一にするかがポイントとなる。円筒型空洞共振器における共振周波数や共振モードは通常、共振器の内径および高さ、内部の誘電率等により計算されて決定することが出来るが、成膜対象物挿入時においてプラズマ発生状態では内部物質の電気的物理定数の変化に伴い、設計通りの共振状態が得られない。
バリア薄膜を形成する方法として、一般的には円筒構造の空洞共振器を用いて内部に成膜対象物を配置し、原料ガスを注入、さらにマイクロ波エネルギーを注入、そしてそのエネルギーによりプラズマ化したガスにより成膜が施される。この時、空洞共振器内へ如何に効率良くマイクロ波エネルギーを注入するか、またマイクロ波の電磁界分布を出来るだけ均一にするかがポイントとなる。円筒型空洞共振器における共振周波数や共振モードは通常、共振器の内径および高さ、内部の誘電率等により計算されて決定することが出来るが、成膜対象物挿入時においてプラズマ発生状態では内部物質の電気的物理定数の変化に伴い、設計通りの共振状態が得られない。
特許文献1における装置構成は円筒構造の空洞共振器の天面側よりマイクロ波を注入する方法ではあるが、基本的にプラズマ発生部は空洞共振器タイプであるため、マイクロ波供給部分と空洞共振器との間にはある程度、距離がありマイクロ波エネルギー伝送のためのモード変換が必要である。しかし空洞共振器内における電磁界分布はこのモード変換部分での電磁界分布の影響も受け、本来の空洞共振器単体での電磁界分布とは違ったものになってしまい、発生するプラズマの強度分布にも影響を与え、成膜結果にも変化を及ぼしてしまう。また、このモード変換部分では成膜対象物の変更およびガス導入管変更に伴い、電磁界分布も変化し、強いてはプラズマ分布・成膜結果にも影響を与える。
この電磁界分布を市販のシミュレーションソフトを活用して解析しても、マイクロ波供給部分とガス導入管の間には強い電界分布の存在を示し、また実際の中空容器への成膜実験ではこの電界の存在によって、この部分には大変強いプラズマが発生し、強いては中空容器内の熱バランスを崩し、この部分だけが変形を起こしてしまうこともある。
この成膜対象物変化に伴う成膜結果を改善する目的で、従来技術では特許文献2のような装置形態も考えられている。特許文献2では、いろいろな形状や寸法の成膜対象物に対応して、良好な成膜結果が得られるように、円筒型導電体を成膜対象物の周囲に挿入し、最適な電磁界分布を得ようとするものである。しかし各種成膜対象物形状に対応するためには、その都度、円筒型導電体の形状を検討しなければならず、汎用性に欠けるものである。
以下に特許文献を示す。
特表2003−518555号公報
特表2003−534627号公報
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、如何なる成膜対象物において、マイクロ波エネルギーの分布が成膜処理を行なう真空チャンバー内で均一状態であり、このエネルギーから得られるプラズマを用いてCVD法により薄膜を成膜する3次元中空容器の薄膜成膜装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、すなわち、
請求項1記載の発明は、マイクロ波エネルギーを封じ込める円筒型金属製容器と、該円筒型金属製容器内に成膜対象物である中空容器を収納する非金属製の真空チャンバーとを備え、前記中空容器内に原料ガスを注入する原料ガス導入管が配置され、該中空容器内に原料ガスを導入して、該中空容器内面にプラズマCVD法により薄膜を成膜する3次元中空容器の薄膜成膜装置において、
前記非金属製真空チャンバーを覆い被せるように円筒型金属体が配置され、該円筒型金属体の側面には内側にある前記真空チャンバー部へマイクロ波エネルギーを侵入させるための少なくとも一つ以上の開口部を有する円筒型金属体を配置したことを特徴とする3次元中空容器の薄膜成膜装置である。
請求項1記載の発明は、マイクロ波エネルギーを封じ込める円筒型金属製容器と、該円筒型金属製容器内に成膜対象物である中空容器を収納する非金属製の真空チャンバーとを備え、前記中空容器内に原料ガスを注入する原料ガス導入管が配置され、該中空容器内に原料ガスを導入して、該中空容器内面にプラズマCVD法により薄膜を成膜する3次元中空容器の薄膜成膜装置において、
前記非金属製真空チャンバーを覆い被せるように円筒型金属体が配置され、該円筒型金属体の側面には内側にある前記真空チャンバー部へマイクロ波エネルギーを侵入させるための少なくとも一つ以上の開口部を有する円筒型金属体を配置したことを特徴とする3次元中空容器の薄膜成膜装置である。
請求項2記載の発明は、
請求項1に記載の3次元中空容器の薄膜成膜装置において、
前記円筒型金属製容器内にマイクロ波エネルギーを注入する手段として、該円筒型金属製容器の天面部に同軸線路構造のマイクロ波伝送手段を設け、該同軸線路構造の中心導体部よりマイクロ波エネルギーを注入する手段が前記円筒型金属製容器内に配置されたことを特徴とする3次元中空容器の薄膜成膜装置である。
請求項1に記載の3次元中空容器の薄膜成膜装置において、
前記円筒型金属製容器内にマイクロ波エネルギーを注入する手段として、該円筒型金属製容器の天面部に同軸線路構造のマイクロ波伝送手段を設け、該同軸線路構造の中心導体部よりマイクロ波エネルギーを注入する手段が前記円筒型金属製容器内に配置されたことを特徴とする3次元中空容器の薄膜成膜装置である。
請求項3記載の発明は、
請求項1に記載の3次元中空容器の薄膜成膜装置において、
前記円筒型金属製容器内にマイクロ波エネルギーを注入する手段として、該円筒型金属製容器の側面部に方形導波管を設け、該方形導波管内にマイクロ波を伝搬させ、前記円筒型金属製容器内にマイクロ波エネルギーを注入することを特徴とする3次元中空容器の薄膜成膜装置である。
請求項1に記載の3次元中空容器の薄膜成膜装置において、
前記円筒型金属製容器内にマイクロ波エネルギーを注入する手段として、該円筒型金属製容器の側面部に方形導波管を設け、該方形導波管内にマイクロ波を伝搬させ、前記円筒型金属製容器内にマイクロ波エネルギーを注入することを特徴とする3次元中空容器の薄膜成膜装置である。
本発明は、例えば、図1乃至4に示すような、マイクロ波エネルギーを封じ込める円筒型金属製容器内に成膜対象物である3次元中空容器を収納する非金属製の真空チャンバーを配置し、該中空容器内に原料ガスを注入する原料ガス導入管があり、さらに該円筒型金属製容器の底面部には図示しない真空ポンプによって真空状態を保つための排気口が具備され、そして該円筒型金属製容器内にマイクロ波エネルギーが注入され、このエネルギーによって得られるプラズマを用いてCVD法により薄膜を成膜する3次元中空容器の薄膜成膜装置において、該非金属製真空チャンバーを覆い被せるように円筒型金属体が配置され、該円筒型金属体の側面には内側にある該真空チャンバー部へマイクロ波エネルギーを侵入させるための少なくとも一つ以上の開口部を有する円筒型金属体を配置する装置構成にすることによって、該真空チャンバー内部では常に安定したマイクロ波の電磁界分布が得られ、結果的に3次元中空容器への薄膜成膜も安定して均一化された成膜が得られる。また、該真空チャンバー内に収納可能な中空容器であれば、該真空チャンバー内における電磁界分布の大きな変化がないため、いろいろな形状や寸法に変化に対してもある程度、安定した良好な成膜結果が得られる。
以下、本発明における3次元中空容器の薄膜成膜装置の基本構成について図1から図4を用いて説明するが、これに限定されるものではない。
先ず、図1は本発明における一実施例を示した側断面図であり図2は斜視図である。主にマイクロ波エネルギーを封じ込める円筒型金属製容器1の内部に成膜対象物である中空容器3を収納する非金属製の真空チャンバー2が配置され、その周囲には該真空チャンバーを覆い被せるように円筒型金属体8が配置されている。この円筒型金属体の側面にはマイクロ波エネルギーが通過できるスリット型開口部7が複数設けられている。そして真空チャンバー内部にある中空容器内に原料ガスを注入する原料ガス導入管4が該円筒型金属製容器1の底面部より挿入され、かつ、底面部では非金属製真空チャンバー2内を真空状態にするための排気口5が具備されている。そして図示しない真空ポンプによって該非金属製真空チャンバー2内を真空引きしてチャンバー内を真空状態に保つ。
ここで、プラズマ発生のためのマイクロ波エネルギー注入方法は、該円筒型金属製容器1の天面部にある同軸線路6構造のマイクロ波伝送手段を介してマイクロ波エネルギーが伝送され、該円筒型金属製容器1内に放射するためのマイクロ波放射部13を介して容器1内にマイクロ波エネルギーが注入される。このマイクロ波放射部13は円筒型金属製容器に中心軸上に位置するため、マイクロ波エネルギーは放射状に広がる。そして容器1内に満たされたマイクロ波エネルギーは、ほぼ中央部にある円筒型金属体8の側面に設けられたスリット型開口部7を介して、真空チャンバー2内部へと注入され、中空容器3内部で発生するプラズマのエネルギー源として消費される。ここで、円筒型金属体8の側面に設けられたスリット型開口部7は、真空チャンバー2内部でのマイクロ波電磁界分布が均一になるように、スリット型開口部の大きさ、形状、数量、配置位置等が決定される。
従って、真空チャンバー2内の中空容器3のサイズが多少変化しても、電磁界分布の変化が少なく、よって成膜結果も安定しており、成膜の均一性も得られる。
従って、真空チャンバー2内の中空容器3のサイズが多少変化しても、電磁界分布の変化が少なく、よって成膜結果も安定しており、成膜の均一性も得られる。
図3は、本発明における別の一実施例を示した側断面図であり、図4は斜視図である。基本的には図1および図2と同様に、マイクロ波エネルギーを封じ込める円筒型金属製容器1の内部に成膜対象物である中空容器3を収納する非金属製の真空チャンバー2が配置され、その周囲には該真空チャンバーを覆い被せるように円筒型金属体8が配置されている。この円筒型金属体の側面にはマイクロ波エネルギーが通過できるスリット型開口部7が複数設けられている。そして真空チャンバー内部にある中空容器内に原料ガスを注入する原料ガス導入管4が該円筒型金属製容器1の底面部より挿入され、かつ、底面部では非金属製真空チャンバー2内を真空状態にするための排気口5が具備されて、図示しない真空ポンプによりチャンバー2内を真空引きされる。
マイクロ波エネルギーを注入する手段としては、図1および図2とは異なり、該円筒型金属製容器1の側面部から方形導波管10によるマイクロ波伝送手段を介してマイクロ波エネルギーを注入する形態としている。これは図1のような導波管から同軸伝送路に変換する部分を用いていないので、変換損失を発生することなく該円筒型金属製容器1内にマイクロ波エネルギーを注入することが出来る。しかし、マイクロ波を円周方向上に均等に分布させるには円筒型金属製容器1の内寸法や真空チャンバー2周囲の円筒型金属体8のサイズなどが関係する。従って装置設計の際、電磁界分布シミュレーションツールなどを駆使して予め装置構成の最適化を計れば、円筒型金属製容器1内の電磁界分布を均一にすることが出来る。
そして、円筒型金属体8の側面に設けられたスリット型開口部7から真空チャンバー2内部に侵入するマイクロ波エネルギーが均一した分布になるように、スリット型開口部の大きさ、形状、数量、配置位置等を決定すれば、真空チャンバー2内の中空容器3のサイ
ズが多少変化しても電磁界分布の変化が少なく、従って成膜結果も安定しており、成膜の均一性が得られる。
ズが多少変化しても電磁界分布の変化が少なく、従って成膜結果も安定しており、成膜の均一性が得られる。
ここで、マイクロ波の発生から円筒型金属製容器1内部までのマイクロ波エネルギー供給について図1を用いて説明する。
マイクロ波はマイクロ波発振器9によって作り出されるが、その発振源は一般的には発振周波数2.45GHzのマグネトロンが用いられるが別の周波数でも問題ない。
そして、マイクロ波は方形導波管10を用いて、整合器11を介して負荷側(成膜装置側)へと導かれる。前記に説明したように、成膜装置へ直接的にマイクロ波エネルギーを伝送する部分は同軸線路6であるが、この同軸線路6の伝送モードと導波管内の伝送モードを変換することが必要であり、その機能を果たす部分が、導波管同軸変換部12である。これは同軸線路6の中心導体が方形導波管10の中央部に侵入した構造であり、ここにマイクロ波が励起し、同軸線路6方向へと進行する。
マイクロ波はマイクロ波発振器9によって作り出されるが、その発振源は一般的には発振周波数2.45GHzのマグネトロンが用いられるが別の周波数でも問題ない。
そして、マイクロ波は方形導波管10を用いて、整合器11を介して負荷側(成膜装置側)へと導かれる。前記に説明したように、成膜装置へ直接的にマイクロ波エネルギーを伝送する部分は同軸線路6であるが、この同軸線路6の伝送モードと導波管内の伝送モードを変換することが必要であり、その機能を果たす部分が、導波管同軸変換部12である。これは同軸線路6の中心導体が方形導波管10の中央部に侵入した構造であり、ここにマイクロ波が励起し、同軸線路6方向へと進行する。
整合器11は方形導波管10での整合器11の配置位置から、導波管同軸変換部12側をみたインピーダンスと、マイクロ波発振器9側をみたインピーダンスとがマッチングして、マイクロ波発振器9側への反射波が発生しないように、整合を取るように調整するものである。この反射波が大きいと成膜装置内へ十分なマイクロ波エネルギーが注入できずプラズマが発生しないと同時に、反射波によって発振源であるマグネトロンへダメージを与えてしまう恐れもある。また、一般的にこの整合器11はスリースタブチューナーやE−Hチューナーが用いられる。このようなマイクロ波系の装置類を用いて円筒型金属製容器1内にマイクロ波エネルギーが注入される。
次に、図3に示す装置形態におけるマイクロ波エネルギーの供給方法だが、基本的には図1で示したマイクロ波発振器9、方形導波管10、整合器11を用いることは同じである。図1の方式では円筒型金属製容器1の天面部よりマイクロ波を供給する方法であるため、導波管同軸変換部12が必要であったが、図3の方式では方形導波管の断面部より直接的に円筒型金属製容器1の側面から供給するため、導波管同軸変換部12は不要である。その他、整合器11におけるマイクロ波発振器9側と負荷側(円筒型金属製容器側)とのインピーダンス整合についての考え方は同じである。
尚、図2および図4では、装置へのマイクロ波供給部分の図示を省略したが、図1ならびに図3に示したのと同様な装置が用いられることは容易に想像できる。
然るに、図1または図3におけるマイクロ波エネルギーの供給方法において、該円筒型金属製容器1内部におけるマイクロ波の電磁界分布が均一状態になるように供給すれば、非金属製真空チャンバー2を覆い被せるように配置した円筒型金属体8の側面に設けられたスロット型開口部7が、侵入するマイクロ波エネルギーが真空チャンバー2内で均一分布となるように設定されているので、真空チャンバー2内に収納可能な中空容器であれば、いろいろな形状や寸法に変化に対してもある程度、安定した良好な成膜結果が得られる。
1…円筒型金属製容器
2…非金属製真空チャンバー
3…3次元中空容器(成膜対象物)
4…原料ガス導入管
5…排気口
6…同軸線路
7…スリット型開口部
8…円筒型金属体
9…マイクロ波発振器
10…方形導波管
11…整合器
12…導波管同軸変換部
13…マイクロ波放射部
2…非金属製真空チャンバー
3…3次元中空容器(成膜対象物)
4…原料ガス導入管
5…排気口
6…同軸線路
7…スリット型開口部
8…円筒型金属体
9…マイクロ波発振器
10…方形導波管
11…整合器
12…導波管同軸変換部
13…マイクロ波放射部
Claims (3)
- マイクロ波エネルギーを封じ込める円筒型金属製容器と、該円筒型金属製容器内に成膜対象物である中空容器を収納する非金属製の真空チャンバーとを備え、前記中空容器内に原料ガスを注入する原料ガス導入管が配置され、該中空容器内に原料ガスを導入して、該中空容器内面にプラズマCVD法により薄膜を成膜する3次元中空容器の薄膜成膜装置において、
前記非金属製真空チャンバーを覆い被せるように円筒型金属体が配置され、該円筒型金属体の側面には内側にある前記真空チャンバー部へマイクロ波エネルギーを侵入させるための少なくとも一つ以上の開口部を有する円筒型金属体を配置したことを特徴とする3次元中空容器の薄膜成膜装置。 - 請求項1に記載の3次元中空容器の薄膜成膜装置において、
前記円筒型金属製容器内にマイクロ波エネルギーを注入する手段として、該円筒型金属製容器の天面部に同軸線路構造のマイクロ波伝送手段を設け、該同軸線路構造の中心導体部よりマイクロ波エネルギーを注入する手段が前記円筒型金属製容器内に配置されたことを特徴とする3次元中空容器の薄膜成膜装置。 - 請求項1に記載の3次元中空容器の薄膜成膜装置において、
前記円筒型金属製容器内にマイクロ波エネルギーを注入する手段として、該円筒型金属製容器の側面部に方形導波管を設け、該方形導波管内にマイクロ波を伝搬させ、前記円筒型金属製容器内にマイクロ波エネルギーを注入することを特徴とする3次元中空容器の薄膜成膜装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004338568A JP2006144099A (ja) | 2004-11-24 | 2004-11-24 | 3次元中空容器の薄膜成膜装置 |
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JP2004338568A Pending JP2006144099A (ja) | 2004-11-24 | 2004-11-24 | 3次元中空容器の薄膜成膜装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012172208A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-09-10 | All-Tech Inc | プラスチックボトル内面の処理方法及びプラスチックボトル内面の処理装置 |
JP2014526113A (ja) * | 2011-06-21 | 2014-10-02 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | プラズマチャンバのための伝送線rfアプリケータ |
-
2004
- 2004-11-24 JP JP2004338568A patent/JP2006144099A/ja active Pending
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