JP2006027712A - バリア性容器 - Google Patents
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- 230000004888 barrier function Effects 0.000 title claims abstract description 36
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims abstract description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 17
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 13
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 10
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 10
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 2
- DLKQHBOKULLWDQ-UHFFFAOYSA-N 1-bromonaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Br)=CC=CC2=C1 DLKQHBOKULLWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 229940073561 hexamethyldisiloxane Drugs 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
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- Laminated Bodies (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)
Abstract
【解決手段】プラスチック製中空容器において本体内面が単層または多層のセラミック薄膜コートされ、その水素結合由来の表面自由エネルギーγs−hが3mN/m以下であることを特徴とするバリア性容器を提供する。
特に、セラミック薄膜がCVD法またはスパッタ、蒸着等のPVD法で形成されていることを特徴とする請求項1記載のバリア性容器や、セラミック薄膜の組成が酸化珪素、ダイヤモンドライクカーボンまたはアルミナを主成分とすることを特徴とするバリア性容器が好ましい。
【選択図】 図1
Description
構成1)ボトル基材/バリア層/←最内層側
構成2)ボトル基材/バリア層/濡れ性調整層←最内層側
なお、バリア層と濡れ性調整層がセラミック薄膜コートである。
上記の構成例に限らず、様々なボトル、カップやトレー等の容器と原料ガス、波源を組み合わせることで、水性の内容物の液切れ可能なバリア性容器を実現することが可能となった。
ポリエチレンテレフタレートで延伸成形した容器500ml、口内径25mm、平均肉厚0.5mmの円筒容器(PETボトル)をプラズマ助成式CVD法を用いて成膜した。図1に示すようにSUS304で作成したマイクロ波における円筒型空洞共振器を形成する金属容器(1)内に石英ガラス等による円筒管(2)があり、その円筒管内部に成膜対象物であるPETボトル(3)が配置され、円、筒管内部を0.01torrまで真空吸引して一定減圧状態を保つ。さらにバリア性のコートを行うためガス導入菅(4)より原料ガスHMDSOの流量を10ml/min、酸素の流量を50ml/min注入することで0.1torrの真空圧力に調整してからプラズマを発生させるためのマイクロ波電力はマイクロ波発振器(5)によって生成され、導波管(6)を介して円筒型空洞共振器内部へと導かれる。そしてこのマイクロ波エネルギーによって、容器内面(7)付近でプ
ラズマが発生する。2.45GHzのマイクロ波で5sec間プラズマ成膜した。印加電力は200Wだった。
容器内面の表面自由エネルギーγs−hは内面を20mm×50mm角に切り出し表面自由エネルギーγsを規定するのに必要な分子間力群を拡張Fowkes理論にもとづいて各々の表面自由エネルギーであるロンドン力(分散力)γs−d、双極子力γs−p、水素結合力γs−hに分けて算出した。このため上記3種の表面自由エネルギーを以下、蒸留水、ジヨードメタン、1−ブロモナフタレンの3種試薬を用いて協和界面科学社のFACE surface free energy analyzing system
Model EG−25で測定した。
原料ガスHMDSOの流量を10ml/min、酸素の流量を50ml/min注入することでコートし、その酸素バリアと表面自由エネルギー、接触角、蒸留水の切れ性を表1に記す。
原料ガスHMDSOの流量0ml/min、酸素の流量0ml/minとしたPETボトル自体の酸素バリアと表面自由エネルギー、接触角、蒸留水の切れ性を表1に記す。
(2):石英ガラス等による円筒管
(3):PETボトル
(4):ガス導入菅
(5):マイクロ波発振器
(6):導波管
(7):容器内面
Claims (3)
- プラスチック製中空容器において本体内面が単層または多層のセラミック薄膜コートされ、その水素結合由来の表面自由エネルギーγs−hが3mN/m以下であることを特徴とするバリア性容器。
- セラミック薄膜がCVD法またはスパッタ、蒸着等のPVD法で形成されていることを特徴とする請求項1記載のバリア性容器。
- セラミック薄膜の組成が酸化珪素、ダイヤモンドライクカーボンまたはアルミナを主成分とすることを特徴とする請求項1または2記載のバリア性容器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004212675A JP4506326B2 (ja) | 2004-07-21 | 2004-07-21 | バリア性容器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004212675A JP4506326B2 (ja) | 2004-07-21 | 2004-07-21 | バリア性容器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006027712A true JP2006027712A (ja) | 2006-02-02 |
JP4506326B2 JP4506326B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=35894527
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004212675A Expired - Fee Related JP4506326B2 (ja) | 2004-07-21 | 2004-07-21 | バリア性容器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4506326B2 (ja) |
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A621 | Written request for application examination |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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