JP2005507016A

JP2005507016A - 珪素を基材とする第四アンモニウム官能組成物及びこの組成物の製造方法

Info

Publication number: JP2005507016A
Application number: JP2003538233A
Authority: JP
Inventors: ヘルムリック，リーザ，ルース; ケナン，ジョン，ジョセフ
Original assignee: Dow Corning Corp
Current assignee: Dow Silicones Corp
Priority date: 2001-10-24
Filing date: 2002-10-21
Publication date: 2005-03-10
Anticipated expiration: 2022-10-21
Also published as: KR20040058236A; CN1304462C; EP1440113A1; KR100926894B1; BR0213623A; DE60222453D1; DE60222453T2; CN1575311A; US6482969B1; JP4665114B2; EP1440113B1; ATE373036T1; BR0213623B1; WO2003035721A1

Abstract

本発明は、新規な第四アンモニウム官能シリコーン及びシランの提供及び第四アンモニウム官能シリコーン及びシランの製造方法に関するものである。第四アンモニウム官能組成物は：（１）置換基を有する第四アンモニウム化合物であって、当該置換基がエポキシ基あるいはハロヒドリン官能基を有する化合物を、（２）有機官能基を有する珪素を基材とする物質であって、当該珪素を基材とする物質が独立したシリコーン又はシランであり、前記有機官能基がカルボキシ又はアミノ官能基を有する物質と、反応させる工程を具えることを特徴とする。

Description

【技術分野】
【０００１】
本発明は珪素を基材とする第四アンモニウム官能組成物及びこの組成物の製造方法に関する。特に、本発明は、新規な第四アンモニウム官能シリコーン及びシラン、およびカチオン化剤を用いて第四アンモニウム官能シリコーン及びシランを製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
第四アンモニウム官能有機物質は、公知である。この物質は、アルキルハロゲン化物によってアミンを徹底的にアルキル化するといった方法で製造することができる。第四アンモニウム官能有機物には陽イオンがあるため、様々なテキスタイルや、個人ケア用途などの、主として負に帯電している物質／表面の処理に有益である。これらの物質が抗微生物活性を示すとの発見もなされている。
【０００３】
第四アンモニウム官能基性の追加、あるいは生成中のポリマのカチオン変性（充填剤、ファイバー及び表面剤の製造、有機基材化あるいは珪素基材化を含む）が、様々な有益な特性の基礎となる（あるいは特性を強化する）イオン相互作用を可能とし、従ってこのような変性物質の用途に用いることを可能とすることがわかっている。これらは親水性を高め、増粘剤としての能力を高め、染料、コーティング材および調剤などの他の物質の含浸能力を改善する。
【０００４】
従来より、このような変性はＰＣＴ公開公報ＷＯ９９／６２９７５号にスターチ用に、またLoubaki et al. in 27 Eur. Polym. J. 3:311-317 (1991) の文献にキトサン用として記載されている。前者では、カチオン化材に、2,3-エポキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリドあるいは等価のクロロヒドリン官能物質が使用されている。グリシジルトリメチルアンモニウムクロリドは、後者の文献において、キトサンのアミノ基における反応に用いられている。
【０００５】
第四アンモニウム官能シリコーンおよびこれを製造する方法は、何年もの間従来技術として知られていた。例えば、ライド（Reid）は、米国特許第３、３８９，１６０号で、これらの物質群およびこの物質を製造する２段方法を開示している。第１ステップでは、エポキシ官能シリコーンが、第２アミンと反応して第３アミン官能シリコーンを作る。この生成物は、第２のステップにおいて、アルキルハロゲン化物と反応して、第四アンモニウム官能シリコーンを生成する。
【０００６】
マルギダ（Margida）は、米国特許第４，８９５，９６４号で、ペンダント第四アンモニウム官能シリコーンと、それを製造する１ステップの方法を開示している。ここでは、第３アミン塩がペンダントエポキシ官能シリコーンと反応する。末端第四アンモニウム官能シリコーン群とその製造方法が、シェーファ（Schaefer）の、米国特許第４，８９１，１６６号に開示されている。この方法は、末端エポキシ官能シリコーンを使用している点を除いてマルギダ（Margida）の方法と同様である。
【０００７】
マッカーシィ他（MaCarthy et al.）は、米国特許第５，１６４，５２２号において、第四アンモニウム官能シリコーンのクラスとその製造方法を開示している。この方法は、ジアミン官能シリコーンを酸化エチレンで処理し、次いでジメチルスルフェートと反応させるステップを具える。オーレニック（O'Lenic）の米国特許第５，０９８，９７９号には、第四アンモニウム官能シリコーンの他の群と、それを製造する２段階法が開示されている。この方法は、末端ヒドロキシル（-OH）基シリコーンポリエーテルをエピクロロヒドリン（エポキシ基）と反応させ、結果生成物を第３アミンと反応させる工程を具える。
【０００８】
ガラスに共有結合した第四アンモニウム官能シラン群が、タリー他（Tally et al.）の米国特許第４，１１８，３１６号に開示されている。これらの物質は、アミノシランとガラスビーズを反応させてシラン化ガラスを形成し、次いでハロヒドリンで処理することによって生成される。
【０００９】
個人ケアや、テキスタイルなど数多くの適用を考えると、新規の第四アンモニウム官能シリコーンおよびシランとその製法の開発が望まれている。本発明はこの必要性を満たすものである。
【００１０】
本発明の目的は、新規な珪素を基材とする第四アンモニウム官能組成物を提供することである。従って、本発明は：基-R^１-Z-Q³を含有する珪素を基材とする第四アンモニウム官能組成物に関するものであり、ここで-R^１-は、エーテル又はエステル官能基を任意に取り込むことのできる二価の炭化水素基か、あるいは-R^１７N(Q^１)R^１８-であり、独立したシリコーンあるいはシラン中の珪素と共有結合している；-Z-は、-C(O)O-あるいは-N(Q^２)-である：-Q^３は、-CH(R^３)CH(OH)YN^＋(R^４)(R^５)(R^６)X⁻、水素、又は、ヒドロキシ、ジオール、アミドエーテル又はエステル官能基を任意に取り込むことのできる一価の炭化水素基である；-R¹⁷-および-R¹⁸-は、エーテルあるいはエステル官能基を任意に取り込むことができる独立した二価の炭化水素基；-Q¹および-Q²は、独立した-CH(R³)CH(OH)YN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、又は、ヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテル、エステル官能基を任意に取り込むことのできる一価の炭化水素基である；Ｙは二価の炭化水素基である：R³は、一価の炭化水素基あるいは水素である；R⁴、R⁵、R⁶は、独立した一価の炭化水素基である；また、X^-は、カウンタイオンであり、ただし-Q¹, -Q², 及び-Q³の少なくとも一つが-CH(R³)CH(OH)YN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-である。
【００１１】
本発明の更なる目的は、珪素を基材とする第四アンモニウム官能組成物を製造する方法を提供することである。従って、本発明は、珪素を基材とする第四アンモニウム官能組成物を製造する方法に関し、当該方法は：（１）置換基を有する第四アンモニウム化合物であって、当該置換基がエポキシ基あるいはハロヒドリン官能基を有する化合物を、（２）有機官能基を有する珪素を基材とする物質であって、当該珪素を基材とする物質が独立したシリコーン又はシランであり、前記有機官能基がカルボキシ又はアミノ官能基を有する物質と、反応させる工程を具えることを特徴とする。
【００１２】
本発明の組成物は、珪素を基材とする第四アンモニウム官能組成物であり、基-R¹-Z-Q³を具えるものである。ここで、-R¹-は、選択的にエーテル又はエステル官能基を取り入れることができる二価の炭化水素基か、又は、-R¹⁷N(Q¹)R¹⁸-のいずれかであって、独立したシリコーン又はシラン中の珪素と共有結合している；-Z-は、-C(O)O-又はN(Q²)-；-Q³は、-CH(R³)CH(OH)YN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、又は、ヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテル又はエステル官能基を選択的に取り入れることができる一価の炭化水素基；-R¹⁷-及び-R¹⁸-は、選択的にエーテル又はエステル官能基を取り入れることができる独立した二価の炭化水素基；-Q¹および-Q²は、独立した-CH(R³)CH(OH)YN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、又は、選択的にヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテル又はエステル官能基を取り入れることができる一価の炭化水素基；Yは、二価の炭化水素基；R3は一価の炭化水素基又は水素；R⁴、R⁵およびR⁶は、独立した一価の炭化水素基；およびX^-はカウンタイオン、ただし、-Q¹、Q²、-Q³の少なくとも一つが-CH(R³)CH(OH)YN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-である。
【００１３】
選択的に「取り込まれた」官能基については、ペンダント基と同様に「内部に存在する」と解するべきである。このような基は、特に表示されていない限り、炭素数として与えられた計算単位には含まれていない。
【００１４】
本明細書および請求の範囲では、「独立の」シリコーンおよびシランとは、自由シリコーンおよびシランであると介すべきである。すなわち、ガラスビーズなどの支持体に共有結合していないシリコーンおよびシランのことである。また、本明細書および請求の範囲でのシリコーンおよびシランの引用は、明示がない限り独立シリコーンおよびシランのことである。支持材に結合している物質の例は、米国特許４，１１８，３１６号に記載されている。
【００１５】
本発明の組成物としては、一般的に、適格なカウンタイオンは、クロリン、ブロミンなどのハロゲンイオンであり、アセテートや、メチルスルフェートなどの他のものも同様である。カウンタイオンは、好ましくは、内部で非反応性のものがよい。すなわち、全分子の相応のシリコーン又はシラン部分、あるいはそのようなものに非反応性を示すものがよい。
【００１６】
本発明の組成物、特にシリコーンは、髪、肌、爪のコンディショニングおよびトリートメントを含む個人ケアにおける用途に用いられる。本発明の組成物、特にシランは、抗微生物としても有効である。本発明の組成物のいくつかの用途を、米国特許出願１０／００１，７５３号「珪素を基材とする第四アンモニウム官能組成物とその適応」と詳細に、比較してみる。
【００１７】
本発明の組成物の好ましい実施例は、基-Q¹、-Q²、及び／又は-Q³（上記に定義したものあるいはこれらに対応するもの）群を-CH(R³)CH(OH)YN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-として有している。R⁴、R⁵、R⁶、X^-は上記で定義したとおりであり、ここで特にR⁴、R⁵、R⁶は、炭素数が最大２０までの、独立した一価の炭化水素基であり、好ましくはメチル、ドデシル、オクタデシルである。
【００１８】
本発明の組成物の他の好ましい実施例は、-R¹-Z-Q³基を含むシリコーンである。ここで、この基は、-R¹⁷N(Q¹)R¹⁸-N(Q²)-Q³で表すことができる、ただし、-R¹⁷-は選択的にエーテルあるいはエステル官能基を取り入れることができ、独立のシリコーン中の珪素と共有結合した二価の炭化水素基である；-R¹⁸-は、選択的にエーテルあるいはエステル官能基を取り入れることができる二価の炭化水素基であり；Q¹、Q²、Q³、のうち少なくとも一つは、構造-CH(R³)CH(OH)YN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-であり、残りのQ¹、Q²、Q³はすべて、独立した水素、あるいは、ヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテルあるいはエステル官能基を取り入れることができる一価の炭化水素基である；Ｙは二価の炭化水素基である；R³は一価の炭化水素基あるいは水素である；R⁴、R⁵、およびR⁶は独立した一価の炭化水素基、特に炭素数が２０までの炭化水素基であり、好ましくはメチル、ドデシルあるいはオクタデシルである；X^-はカウンタイオンである。
【００１９】
上述の実施例に関して、また本発明の一般的な組成（相応する基が存在する）に関して、R¹⁷はCH₂CH(CH₃)CH₂あるいは(CH₂)₃であり、独立したR¹⁸はCH₂CH₂であることが好ましい。対応して、又は独立して、Q¹、Q²、Q³、のうち少なくとも一つが、構造-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(CH₃)₂(R⁶)X^-であり、ここで、R⁶は一価の炭化水素基、特に炭素数２０までの炭化水素基であり、好ましくはメチル、ドデシルあるいはオクタデシルであり、X^-はカウンタイオンである。Q¹、Q²、Q³のいずれかが一価の炭化水素基である場合は、メチルであることが好ましい。
【００２０】
本発明の組成物の他の実施例（以下、実施例I型という）は、平均構造が以下の通りのシリコーンである。
【化１】

ここで、R²¹、R²²、R²³、R³⁰およびR³¹は独立したヒドロキシあるいはフェノキシ、又はアルコキシあるいは一価の炭化水素基（特に、後者の二つの例では、炭素数２０以下、好ましくは炭素数１又は２のもの）；R²⁴、R²⁵およびR²⁷は独立した一価の炭化水素基、特に炭素数２０あるいはそれ以下の炭化水素基；R²⁸は一価の炭化水素基、特に炭素数２０あるいはそれ以下のものか、又は窒素を含み、少なくとも一部に-R^1-Z-Q³の形の基あるいは複数の基が存在するものであってもよい；R²⁶およびR²⁹は、窒素を含み、少なくとも一部に-R¹-Z-Q³の形の基あるいは複数の基が存在するもの；-R¹-は、選択的にエーテル又はエステル官能基を取り入れることのできる二価の炭化水素基か、又は、-R¹⁷N(Q¹)R¹⁸-、後者の場合は特に、-CH₂CH(CH₃)CH₂-N(Q¹)-CH₂CH₂-あるいは-(CH₂)₃-N(Q¹)-CH₂CH₂-；-R¹⁷-及び-R18-は、選択的にエーテルあるいはエステル官能基を取り入れることのできる独立した二価の炭化水素基；-Q¹は-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素又は選択的にヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテル又はエステル官能基を取り入れることのできる一価の炭化水素基；R⁴、R⁵およびR⁶は、独立した一価の炭化水素基；X^-はカウンタイオン；-Z-は-N(Q²)-；-Q³及び-Q²は独立した-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素あるいは選択的にヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテル、あるいはエステル官能基を取り入れることのできる一価の炭化水素基；a、b、d、eおよびgは０より大きいか、０；
a = 0 to 2 + g;
b = 0 to 2 + g;
d = 0 to 500, 特に 0 to 400;
e = 0 to 100, 特に 0 to 50;
g = 0 to 100, 特に 0 to 5;
a + b は２より大きいか２；及びe + b > 0、ただし、当該組成物に存在するQ¹、Q²、Q³の少なくとも一部、特に少なくとも10パーセント、好ましくは15〜75パーセント、より好ましくは20〜60パーセントに-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-が存在し、このパーセンテージは組成物中に存在するこれらの基の総数に基づく。
【００２１】
上記の実施例、明細書および請求項において、Ｒの位置および構造中に示される同様に指定された基の位置は、立体特異性を表示するものではない。更に、上述の構造は全構造的なものではない。例えば、dが３であれば、組成物は、平均して各分子の末端基間のどこかにサブスクリプトdに対応するサブユニットを３つ有しているが、これらは隣接している必要はない。
【００２２】
最後の実施例においては、Q¹、Q²、Q³の全体の少なくとも10パーセント（より好ましくは15〜75パーセント、最も好ましくは20〜60パーセント）（概パーセンテージは組成物内に存在する基の総数に基づく）が、構造-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-であることが好ましく、ここで、R⁶は一価の炭化水素、特に炭素数２０以下の炭化水素、好ましくは、メチル、ドデシル、又はオクタデシルであり、X^-はカウンタイオンである。Q¹、Q²、及びQ³の残りはすべて、独立した水素あるいはメチルであることが好ましい。更に、(e+b)/(a+b+d+e+g) が０．００５より大きいか、又は０．００５，より好ましくは０．０１〜０．０４，最も好ましくは０．０１５〜０．０３である。
【００２３】
本発明の組成物の実施例（以下、実施例II型という）は、実施例I型と同様に定義されるが、以下のとおりに基が特別に選択される。R²¹、R²²、R²³、R³⁰、R³¹は独立したヒドロキシ、あるいはアルコキシ又は炭素数１〜２０の一価の炭化水素基であり；R²⁴、R²⁵およびR²⁷は、炭素数１〜２０の独立した一価の炭化水素基であり；R²⁸は炭素数１〜２０の一価の炭化水素基、又は窒素を含み少なくとも一部に-R¹-Z-Q³の基が存在し；-R¹-は、選択的にエーテル又はエステル官能基を取り入れることができる炭素数１〜２０の二価の炭化水素基か、又は、R¹⁷N(Q¹)R¹⁸-であり；-R¹⁷-および-R¹⁸-は、選択的にエーテル又はエステル官能基を取り入れることのできる炭素数１〜２０の独立した二価の炭化水素基であり；-Q¹は、-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、又は選択的にヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテル又はエステル官能基を取り入れることができる炭素数１〜２０の一価の炭化水素基であり；R⁴、R⁵、およびR⁶は、炭素数１〜２０の独立した一価の炭化水素基であり；X^-は、カウンタイオンであり；-Q³及び-Q²は独立した-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、又は選択的にヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテルあるいはエステル官能基を取り入れることができる炭素数１〜２０の一価の炭化水素基であり；
d = 0 to 400;
e = 0 to 50;
g = 0 to 50; および
(e + b)/(a + b + d + e + g) = 0.005 to 0.05;
ただし、組成物中のQ¹、Q²およびQ³の10〜75パーセントは、-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-である。
【００２４】
本発明の組成物の更なる実施例（以下、実施例III型という）は、実施例I型と同様に定義されるが、以下のとおりに基が特別に選択される。R²¹、R²²、R²³、R³⁰、R³¹は独立したヒドロキシ、メトキシ、又はメチル基であり；R²⁴、R²⁵およびR²⁷は、メチル基であり；R²⁸はメチル基であるか、又は窒素を含み少なくとも一部に-R¹-Z-Q³の基が存在し；-R¹-は、プロピレン基か、あるいはR¹⁷N(Q¹)R¹⁸-であり；-R¹⁷-はプロピレンあるいはイソブチレン基、-R¹⁸-は、エチレン基であり；-Q¹は、-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、又はメチル基であり；R⁴およびR⁵はメチル基であり；R⁶は、メチル、ドデシル又はオクタデシル基であり；X^-は、カウンタイオンであり；-Q³及び-Q²は独立して-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、又はメチル基であり；
d = 50 to 150;
e = 0 to 10;
g = 0 to 5; および
(e + b)/(a + b + d + e + g) = 0.01 to 0.03;
ただし、組成物中のQ¹、Q²およびQ³の25〜40パーセントは、-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-である。
【００２５】
本発明の更なる実施例は、構造
【化２】

のシランである。ここで、-R¹¹は、一価の炭化水素基又はOR⁴¹であり、ここで、-R⁴¹は水素又は一価の炭酸水素基である；R¹²は一価の炭化水素基もしくは-OR⁴²であり、-R⁴²は水素あるいは一価の炭酸水素基である；-R¹³は一価の炭化水素基又は-OR⁴³であり、-R⁴³は水素あるいは一価の炭酸水素基である；-R¹-は、エーテル又はエステル官能基を選択的に取り込むことのできる二価の炭化水素基か、あるいは-R¹⁷N(Q¹)¹⁸-であり；-R¹⁷-と-R¹⁸-は、エーテル又はエステル官能基を選択的に取り込むことのできる独立した二価の炭化水素基であり；-Q¹は、-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素又はヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテルあるいはエステル官能基を選択的に取り込むことのできる一価の炭化水素基であり；R⁴、R⁵およびR⁶は、独立した一価の炭化水素基であり；X^-はカウンタイオンである。-Z-は、-N(Q²)；-Q³および-Q²は、独立して-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素又はヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテルあるいはエステル官能基を選択的に取り込むことのできる一価の炭化水素基である、ただし、-Q¹、-Q²、及び-Q³のうち少なくとも一つが-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-である。
【００２６】
本発明に係るシランは、R基が炭化水素であり、この炭化水素基は炭素数が２０以下であることが好ましい。また、R⁴、R⁵およびR⁶であれば、特に、独立したメチル、ドデシル、オクタデシルであることが好ましい。好ましいシランの基は、R¹¹、R¹²及びR¹³が-OCH₃であり、R¹が-(CH²)³-である。
【００２７】
本発明の方法は、珪素を基材とする第四アンモニウム官能組成の製造方法である。一般的に、これらの方法は、（１）置換基を有する第四アンモニウム組成物であり、当該置換基がエポキシ基又はハロヒドリン官能基を有する組成物と、（２）有機官能基を有する珪素を基材とする物質であり、当該珪素を基材とする物質が独立したシリコーン又はシランであり、前記有機官能基がカルボキシあるいはアミノ官能基を有する物質と、を反応させる工程を具える。反応は、前記置換基および有機官能基間で生じる。
【００２８】
反応は、単に、反応体を接触させて行っても良い。これは、このような状況下で反応させる（「反応」工程を実行する）ための暗黙の最低条件である。しかしながら、通常、反応体の混合及び／又は加熱を併用することが好ましい。とくに、イソプロパノールなどのアルコール等、付加した溶剤を環流させることが好ましい。好適な触媒を用いても良い。生成物中の残留エポキシあるいはハロヒドリン反応体の存在は通常好ましくないので（特にエポキシ）、過シリコーンあるいは過シラン反応体を使用することが好ましい。このような好ましくない残留物質は、更なる工程において、更に反応させるか除去するべきである。
【００２９】
一般的に、第３アミンはエポキシ基に直ちに加えないものと考えられている。この状態は、反応混合物が酸性であれば（特に化学量論的に）、あるいは第３アミンが酸（その酸性塩に転換した）で予め処理されていれば、改善される。
【００３０】
本明細書および請求項全体を通して、「アミノ」なる用語は、（少なくとも）第１、第２及び／又は第３アミンを意味する。また、明示されていない限り、有機酸あるいは有機塩は、そのイオン化したもの（その塩を含む）を意味し、逆も同様である。例えば、カルボキシル酸は、１ないし対応するカルボキシレートを含む。
【００３１】
本発明の方法に適用するエポキシ官能第四アンモニウム化合物の好ましい基は、構造CH₂(O)CHYN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-で表される。ここで、Yは、二価の炭化水素基、特にメチレンであり；R⁴、R⁵及びＲ^６は、独立した一価の炭化水素基、特に炭素数２０までの炭化水素基であり、好ましくは、メチル、ドデシル又はオクタデシルである；また、X-はカウンタイオンであり、特にクロリド又はブロミドである。
【００３２】
この基の特定の例は、グリシジルトリメチルアンモニウムクロリドと、対応するブロミドである。非末端エポキシ基を使用することもできるが、末端エポキシ基（本明細書に記載されている基）が一般的に好適である。
【００３３】
本発明の方法に用いるハロヒドリン官能第四アンモニウム組成物の好ましい基は；(X¹)CH₂CH(OH)YN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-で表され、ここでX¹は、ハロゲン、特にクロリン又はブロミンであり；Yは二価の炭化水素基、特にメチレンであり；R⁴、R⁵及びR⁶は、独立した一価の炭化水素基、特に炭素数２０までの炭化水素基であり、好ましくは、メチル、ドデシル又はオクタデシルである；また、X^-はカウンタイオンであり、特にクロリド又はブロミドである。
【００３４】
この基の特定の例は、3-クロロ2-ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルジメチルドデシルアンモニウムクロリド、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルジメチルオクタデシルアンモニウムクロリド、及び対応するブロミドである。（これらの特定のハロヒドリンと、ここに記載された基のその他の員及び／又は上述したエポキシ基の員の組み合わせを使用するようにしてもよい。）非末端ハロヒドリンを使用することもできるが、（ここに示す基のような）末端ハロヒドリンが一般的に好ましい。
【００３５】
本発明の方法において反応体として有用である特定のシリコーンは、平均分子量1000〜100,000（特に5000〜50,000）のものを含み、特に、トリメチルでエンドブロックされた、ポリジメチルシロキサンであり、ここでシリコーン１グラム中に０．１〜２．０ミリ当量のアミノ官能基を含むアミノ官能（平均して、与えられたサンプル中に存在する全シリコーン中の第１及び第２アミノ基のアミノナイトロゲンを基材とするもの）が好ましい。これらシリコーン中に存在することのできるアミノ基の例として、アミノプロピル、アミノエチルアミノプロピル、あるいは、アミノエチルアミノイソブチルがある。
【００３６】
本発明の方法に使用する反応体として有用なものに、以下の構造を有するシランがある。
【化３】

ここで、R¹¹、R¹³及びR¹³は、独立したメトキシあるいはエポキシ基であり、R¹⁴は、アミノプロピル、アミノエチルアミノプロピル、あるいは、アミノエチルアミノイソブチル基である。
【００３７】
本発明の非シラノールシランは、合成が無水状態で行われる比較的純粋なフォームで作ることができる。しかしながら、一般的に、水性アルコール中でこれらのシランを容易に作ることができる。後者の場合、生成物は通常、部分的に加水分解したシランとシランオリゴマの溶液となる。これは、有機ポリマのミネラル表面への接着性を高めるプライマとしてシランが使用されるので、水性アルコール溶液から生成するのが好ましい。
【００３８】
本発明の方法によって作成する生成物の分子量は、反応体を選択することによって制御することができる。通常、もっとも実用的なものは、シリコーン又はシラン反応体の制御であり、反応体の割合を選択することによっても同様に制御できる。第四アンモニウムの含有量は、反応／反応体の化学量論、すなわち反応体の割合によって制御可能である。分子量と第四アンモニウム含有量はこれらの物質の特性と密接に関連している。
【００３９】
本発明の組成物の特性は、大部分において、第四アンモニウム含有量と組み合わせる分子量から予測可能である。これらの物質の粘度（従って、ほとんどの場合の製造上の困難性）は、分子量に応じて相当高くなり、第四アンモニウム含有量が増えると、所定の分子量にて劇的に高くなる。水溶性に関しては、第四アンモニウム含有量が非常に高くない限り、分子量が大きい物質は通常不水溶性である。しかし、分子量が小さい物質は、第四アンモニウムの含有量が（リーゾナブルに）少ない場合は水に溶ける。
【００４０】
本発明の方法の一実施例において、シリコーン反応体は、１グラムにつき、平均で０．０１〜８．１、好ましくは０．１〜２．０、より好ましくは、０．２〜０．９、最も好ましくは０．４〜０．７５ミリ当量のアミンナイトロゲンを含有する。このアミンナイトロゲンは第１および第２アミンのみである。第四アンモニウム反応体は、グリシヂルトリメチルアンモニウムクロリド、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルジメチルドデシルアンモニウムクロリド、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルジメチルオクタデシルアンモニウムクロリド、これらの対応するブロミド、及びこれらのクロリドとブロミドの組み合わせである。シリコーン反応体中の全アミンハイドロゲンに対しての第四アンモニウム反応体の反応期間中の平均モル比は、少なくとも１：１０、好ましくは１：６〜９：１０である。なお、このアミンハイドロゲンは第１および第２アミンのみである。この最後の比率は、最も実用的な目的に照らすと、生成物中でその存在が通常問題になる（特にエポキシ基）場合に、過剰の第四アンモニウム反応体を除去するか、あるいは後のステップで更に反応を進めなくてはならないため、上限が１：１である。
【００４１】
本発明の方法は、本発明の所定の組成物を変性した、本発明のより複雑な組成物（誘導体）を製造する方法を含む。特別な場合、ジオールあるいはアミノ官能基が加えられ、その方法は；（１）上記で定義した基-R¹-Z-Q³を含む本発明の組成物、ここで、R¹の少なくとも一部が第２アミンか、あるいはZの少なくとも一部が第１又は第２アミンである組成物と、（２）物質Ｔ、ここでＴは、ラクトーン、カルボキシおよびエポキシからなる群から選ばれた有機官能基を有する、を反応させる工程を具える。Ｔの特定の例は、グリシドールとガンマブチロラクトーンを含む。
【００４２】
反応は、単に、反応体を接触させることによって行うことができる。これは、この条件下で反応（「反応」工程を実行する）させるための最低条件として行われる。しかしながら、通常、反応体の混合及び／又は加熱を併用することが好ましい。とくに、イソプロパノールなどのアルコール等の、付加した溶剤を環流させることが好ましい。好適な触媒を使用しても良い。生成物中に反応対を含む残留ハロヒドリン又はエポキシが存在することは通常好ましくないので（特にエポキシ）、過シリコーンあるいは過シラン反応体を使用することが好ましい。このような好ましくない残留物質は、後の工程において、更に反応させるか除去するべきである。
【００４３】
組成物は、それを作るのに使用する方法の用語で記述することが便利である。これは、組成物の「プロダクトバイプロセス」なる定義とされる。本発明の組成物は、ここに記した方法で製造したものを含むと解するべきである。
実験例
【００４４】
実験例に与えたタイトルは、記述的なものとしてとらえるべきであり、限定的なものではない。
実験例１マルチ化学量論／特性比較におけるエポキシ基の合成物
【００４５】
約２モルパーセントのアミノエチルアミノ−イソブチルメチルシロキサンを含む１５０ｃＳ（ｍｍ^２／ｓ）のジエチルシロキサンコポリマから第四アンモニウム官能シリコーンを得た。したがって、このアミノ官能シロキサンは、第１及び第２のアミン基を両方有する繰り返し単位を含むものであった。理論的には、各アミノエチルアミノイソブチルメチルシロキサン単位は、３当量までのグリシヂルトリメチルアンモニウムクロリドと反応することができる。
【００４６】
得られる物質の範囲を示すものとして、１６．７％、３３％、及び６７％のアミンハイドロゲンを反応させてサンプルを作った。好ましい反応部位は、決まっておらず、化学量３３％は第１アミン中の一水素化窒素と反応するのに十分であろうと思われる。３３％の反応物質を得る工程は以下の通りであった。他の化学量についても、反応体の割合以外は同じであった。
【００４７】
上述したアミノ官能シロキサン５４．３ｇ（０．４７９meq amine/g）、グリシヂルトリメチルアンモニウムクロリド溶液２．５１ｇ（水に対して約７５重量％）、及びイソプロパノール１３．３４ｇを、三首の１２５ｍｌのフラスコに量り分けた。この反応混合物を加熱して環流させ、安定窒素下でかき混ぜ、４時間環流させた。これを冷却して、^１３Ｃ核磁気共鳴分光器（^１３ＣＮＭＲ）にかけたところ、エポキシ基は検出されず、グリシヂルトリメチルアンモニウムクロリドの完全反応が表示された。
【００４８】
第四アンモニウムシリコーン生成物のサンプル少量を、５０℃の真空オーブンの中に１晩おいて、乾燥させた。この乾燥物質は、清潔で、無色の、高粘度ゴムである。このゴムは、水やアルコールに容易に溶けるものではないが、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、トルエンあるいはクロロフォルムには容易に溶ける。
【００４９】
ポリスチレン標準に対するトルエン中のゲル透過クロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定で、オリジナルアミノ官能シロキサンの数平均分子量が３８７０、第四アンモニウム官能シロキサン製品の数平均分子量が３７７０であり、従って粘度の劇的な増加は、分子量の有意な増加に起因するとは考えられなかった。
【００５０】
上記乾燥物質の流動学的特徴を、流動度測定器であるＳＲ５０００応力制御レオメータで、１．００ｍｍのギャップを設けた２５ｍｍの平行板ジオメトリを用いて測定した。測定器は、周期２rad/sec、初期応力１０Ｐａ（１００dyne/cm²）に設定した。測定器は、自動的に応力を傾けて、信号ノイズ比を適正に保つようにプログラムした。温度が１００℃から５０℃に下がる間に流動学的特徴を測定した。Ｇ’（貯蔵弾性率）、Ｇ”（粘稠損失弾性率）、およびη＊（動的粘度）を含む定量を行った。
【００５１】
これらの物質の粘度はたいへん高く、第四アンモニウム基の濃度が上がるに連れて粘度が高くなった。これらの物質と、高分子量シリコーンゴム（いくつかのペンダント及び末端ビニル官能基を含む平均分子量５００，０００以上で、粘度が表に示すとおりのポリジメチルシロキサンゴム）との温度７０℃における流動学的特性の比較を表１に示す。
【表１】

【００５２】
水素化窒素６７％が反応した第四官能物質は、７０℃において、高分子量シリコーンゴムより粘度とモジュールが実質的に高かった。動的粘度は、高分子量シリコーンゴムより、第四アンモニウム官能シリコーンがより高い温度依存性を有しており、従って、第四アンモニウム官能基の室温での粘度は実質的には、表１に記載されている７０℃における粘度より高い。
実験例２ハロヒドリンとの合成
【００５３】
実験１で用いたアミノ官能シロキサン５０．８３ｇ（０．４７４meq amine/g）、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド３．８４ｇの（水に対して約６０重量％、アルドリッチケミカルス社製）、イソプロパノール５７．２０ｇ、及び水に対して５０重量％の水酸化ナトリウム０．９６ｇを、サーモメータ、機械的な攪拌器、窒素取り入れ口のついた２５０ｍｌの三首フラスコに量り分けた。この反応混合物を加熱して環流させ、３時間環流させた。生成物を減圧フィルタにかけた。製品の一部を真空オーブンで脱蔵した。脱蔵した物質は、透明なゴムであった。
【００５４】
７０℃で流動学的測定を行った。Ｇ’＝１．８８×１０^４Ｐａ（１．８８×１０^５dynes/cm²）、Ｇ”＝１．７１×１０^４Ｐａ（１．７１×１０^５dynes/cm^２）、およびη＊＝１２，７００，０００ｃＰ（ｍＰａ・ｓ）であった。ポリスチレン標準耐トルエン中のＧＰＣは、数平均分子量３３７０、重量平均分子量６６６０、であり、高粘度は、分子量が高いせいだとは考えられないことを示していた。（実験１参照）
実験例３ハロヒドリンとの合成
【００５５】
実験例１で使用したアミノ官能シロキサン５０．２１ｇ（０．４７４meq amine/g）、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルジメチルアンモニウムクロリド１０．１４ｇ（水に対して約４０重量％、Quab（登録商標）432、DeGussa-Huls社製）、及びイソプロパノール３３．２２ｇを、サーモメータ、機械的な攪拌器、窒素取り入れ口のついた２５０ｍｌの三首フラスコに量り分けた。この反応混合物を加熱して、４時間環流させた。生成物の一部を真空オーブンで脱蔵した。脱蔵した物質は、透明なゴムであった。７０℃での流動学的測定は、Ｇ’＝１．２４３Ｐａ（１２．４３dynes/cm²）、Ｇ”＝１．０９×１０^２Ｐａ（１．０９×１０^３dynes/cm^２）、およびη＊＝５４，５００ｃＰ（ｍＰａ・ｓ）であった。
実験例４アミノ末端シリコーンとの合成
【００５６】
アミノプロピルを末端基とするシロキサン８０．０４ｇ（DMS-A21Gelest社製、０．３４８meq amine/g）、グリシヂルトリメチルアンモニウムクロリド溶液（水に対して約７５重量％）５．６５ｇ、及びイソプロパノール２１．４５ｇを、サーモメータ、機械的な攪拌器、窒素取り入れ口のついた２５０ｍｌの三首フラスコに量り分けた。この反応混合物を約４．５時間環流させた。製品の一部を真空オーブンで脱蔵した。脱蔵した物質は、透明なゴムであった。７０℃での流動学的測定は、Ｇ’＝４．４９×１０^３Ｐａ（４．４９×１０^４dynes/cm²）、Ｇ”＝９．８３×１０^３Ｐａ（９．８３×１０^４dynes/cm^２）、およびη＊＝５、４１０，０００ｃＰ（ｍＰａ・ｓ）であった。
実験例５カルボキシ官能シリコーンとの合成
【００５７】
カルボン酸を末端基とするポリジメチルシロキサン２５．９ｇ（ゲレスト（Gelest）社製DMS-B12、数平均分子量約１，０００）、とテトラヒドロフラン３０ｇを加熱して環流し、グリシヂルトリメチルアンモニウムクロリド溶液（水に対して約７５重量％）１０ｇを滴下した。この反応混合物を約２４時間環流させた。製品の一部を真空オーブンで脱蔵して、粘着固体とした。生成物の構造を、^１３ＣＮＭＲにて確認したところ、エポキシ基およびカルボン酸の有意な減少が見られた。エステルカルボニル基についても同様であった。
実験例６第四アンモニウム官能シランとの合成
【００５８】
N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン５．００ｇと、グリシヂルトリメチルアンモニウムクロリド溶液（水に対して約７５重量％）４．５４ｇと、メタノール９．４９ｇを安定窒素下で４時間環流させた。生成物を^１３ＣＮＭＲで分析したところ、グリシヂルトリメチルアンモニウムクロリドからエポキシ基が完全に消費されていることがわかった。１滴のメタノール溶液を固体基体の上に落として乾燥させクリアフィルムとした。
【００５９】
上記の合成は、実際に、部分的に加水分解されたシラン及びシランオリゴマのアルコール溶液を生成した。純粋シランは、グリシヂルトリメチルアンモニウムクロリド溶液を、アミン官能シランと反応させる前に、ジメチルスルホキシド内で乾燥させることによって作成することができる。
実験例７ジオール官能基
【００６０】
実験１で用いたアミノ官能シロキサン３００．２２ｇ（０．５３０meq amine/g）と、グリシヂルトリメチルアンモニウムクロリド溶液（水に対して約７５重量％）１５．９５ｇ、及びイソプロパノール６６．４４ｇを、凝縮器、均圧滴下漏斗、エア攪拌器、温度プローブのついた１０００ｍｌの三首フラスコに量り分けた。均圧滴下漏斗には、グリシドール５．８２ｇと、イソプロパノール１４．０７ｇをチャージした。安定窒素の下、フラスコを加熱して環流させた。約２時間環流した後、グリシドール／イソパノール混合物を滴下漏斗を用いてドロップワイズに約１０分以上加えた。更に２時間環流させた。
【００６１】
反応生成物の一部を真空オーブン中で脱蔵した。この脱蔵物質は透明な色のないゴムであった。７０℃での流動学的測定は、Ｇ’＝１．２５×１０^４Ｐａ（１．２５×１０^５dynes/cm²）、Ｇ”＝１．２３×１０^４Ｐａ（１．２３×１０^５dynes/cm^２）、およびη＊＝８，４２０，０００ｃＰ（ｍＰａ・ｓ）であった。
実験例８アミド官能基
【００６２】
実験１で用いたアミノ官能シロキサン２００ｇ（０．５３０meq amine/g）と、グリシヂルトリメチルアンモニウムクロリド溶液（水に対して約７５重量％）１０．６ｇ、及びイソプロパノール５４ｇを、凝縮器、エア攪拌器、温度プローブのついた三首フラスコに量り分けた。安定窒素の下、フラスコを加熱して環流させた。約２時間環流した後、ガンマブチロラクトーン４．６ｇを加えた。反応混合物を更に４時間環流させた。
【００６３】
反応生成物の一部を、真空オーブンで脱蔵した。脱蔵物質は透明な色のないゴムであった。７０℃の流動学的測定は、Ｇ’＝４．６５×１０^１Ｐａ（４．６５×１０^２dynes/cm^２）、Ｇ”＝４．８６×１０^２Ｐａ（４．８６×１０^３dynes/cm^２）、およびη＊＝２４４．０００ｃＰ（ｍＰａ・ｓ）であった。

Claims

珪素を基材とする第四アンモニウム官能組成物において：
基-R¹-Z-Q³を有し、ここで、-R¹-が、選択的にエーテル又はエステル官能基を取り入れることができる二価の炭化水素基か、あるいは、-R¹⁷N(Q¹)R¹⁸-のいずれかであり、独立したシリコーン又はシラン中の珪素と共有結合しており；-Z-が-C(O)O-又はN(Q²)-であり；-Q³が-CH(R³)CH(OH)YN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、あるいは選択的にヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテルあるいはエステル官能基を取り入れることができる一価の炭化水素基であり；-R¹⁷-および-R¹⁸-が、選択的にエーテルあるいはエステル官能基を取り入れることができる独立した二価の炭化水素基であり；-Q¹および-Q²が、独立したCH(R³)CH(OH)YN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、あるいは選択的にヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテルあるいはエステル官能基を取り入れることができる一価の炭化水素であり；Yが二価の炭化水素基であり；R³が一価の炭化水素基又は水素であり；R⁴、R⁵およびR⁶が独立した一価の炭化水素基であり；X^-がカウンタイオンであり、ただし、Q¹、Q²およびQ³の少なくとも一つが-CH(R³)CH(OH)YN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-である、ことを特徴とする珪素を基材とする第四アンモニウム組成物。
請求項１に記載の組成物において、当該組成物がシリコーンであり、-R¹-が、二価の炭化水素基であるか、あるいは、-R¹⁷N(Q¹)R¹⁸-のいずれかであり、独立したシリコーン中の珪素と共有結合しており；-R¹⁷-および-R¹⁸-が、独立した二価の炭化水素基であり；-Q¹が、独立したCH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、あるいは一価の炭化水素基であり；R⁴、R⁵およびR⁶が、炭素数２０までの独立した一価の炭化水素基であり；X^-がカウンタイオンであり；-Z-が-N(Q²)-であり；-Q²が-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、あるいは一価の炭化水素基であり；-Q3が-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-か、水素か、あるいは一価の炭化水素基であり、ただし、Q¹、Q²およびQ³の少なくとも一つが-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-である、ことを特徴とする組成物。
請求項１に記載の組成物において、当該組成物がシリコーンであり、基-R¹-Z-Q³が； -R¹⁷N(Q¹)R¹⁸-N(Q²)^-Q³であり、ここで、-R¹⁷-が選択的にエーテルあるいはエステル官能基を取り入れることができる二価の炭化水素基であり、独立したシリコーン中の珪素と共有結合しており；-R¹⁸-が、選択的にエーテルあるいはエステル官能基を取り入れることができる二価の炭化水素基であり； Q¹、Q²およびQ³の少なくとも一つが構造-CH(R³)CH(OH)YN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X-で、Q¹、Q²およびQ³の残りすべてが独立した水素、又は選択的にヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテル又はエステル官能基を取り入れることができる一価の炭化水素基であり；Yが、二価の炭化水素基であり、R³が一価の炭化水素基又は水素であり；R⁴、R⁵、R⁶が独立した一価の炭化水素基であり；X-がカウンタイオンである、ことを特徴とする組成物。
請求項３に記載の組成物において、-R¹⁷-が-CH₂CH(CH₃)CH₂-又は(CH₂)₃-であり、独立したシリコーン中の珪素と共有結合しており、；-R¹⁸-が、-CH₂CH₂-であり； Q¹、Q²およびQ³の少なくとも一つが構造-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(CH₃)₂(R⁶)X^-で、Q¹、Q²およびQ³の残りすべてが独立した水素又はメチルであり、；R⁶が炭素数２０までの一価の炭化水素基であり；X-がカウンタイオンである、ことを特徴とする組成物。
請求項１に記載の組成物において、当該組成物が、平均構造

のシリコーンであり、ここで、R²¹、R²²、R²³、R³⁰及びR³¹が独立したヒドロキシ、フェノキシ、アルコキシ、又は一価の炭化水素基であり；R²⁴、R²⁵、及びR²⁷が独立した一価の炭化水素基であり；R²⁸が一価の炭化水素基、又は窒素を含み少なくとも一部に-R¹-Z-Q³の形の基が存在し；R²⁶とR²⁹が窒素を含み少なくとも基の一部が-R¹-Z-Q³であり；R¹が選択的にエーテルあるいはエステル官能基を取り込むことができる二価の炭化水素基か、あるいは-R¹⁷N(Q¹)R¹⁸-のいずれかであり；-R¹⁷と-R¹⁸が、選択的にエーテルあるいはエステル官能基を取り込むことのできる独立した二価の炭化水素基であり；-Q¹が -CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R4)(R5)(R⁶)X^-、水素、又は選択的にヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテル又はエステル官能基を取り込むことのできる一価の炭化水素基であり；R⁴、R⁵、R⁶が独立した一価の炭化水素基であり、X-がカウンタイオンであり；-Z-が-N(Q²)-であり；-Q³および-Q²が独立したCH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、又は選択的にヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテル又はエステル官能基を取り込むことのできる一価の炭化水素基であり；a、b、d、eおよびgが、０より大きいか、０であり；
a = 0 to 2 + g;
b = 0 to 2 + g;
d = 0 to 500；
e = 0 to 100；
g = 0 to 100；
a + b は２より大きいか、２；及び
e + b > 0、
ただし、組成物に存在する少なくともQ¹、Q²、及びQ³の少なくとも一部が、-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-であることを特徴とする組成物。
請求項５に記載の組成物において、R²¹、R²²、R²³、R³⁰、R³¹は独立したヒドロキシ又はフェノキシ、又はアルコキシ又は炭素数２０までの一価の炭化水素基であり；R²⁴、R²⁵およびR²⁷は、炭素数２０までの独立した一価の炭化水素基であり；R²⁸は炭素数２０までの一価の炭化水素基；-R¹-は、-CH₂CH(CH₃)CH₂N(Q¹)-CH₂CH₂-又は(CH₂)₃-N(Q¹)-CH₂CH₂-であり；前記組成物中に存在するQ¹、Q²、及びQ³の総数の少なくとも１０パーセントが、構造-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(CH₃)₂(R⁶)X^-であり、Q¹、Q²、及びQ³の残りすべてが独立した水素あるいはメチルであり、R⁶が、炭素数２０までの一価の炭化水素基であり；(e + b)/(a + b + d + e + g) が 0.005より大きいか、0.005であり;
d = 0 to 400;
e = 0 to 50;および
g = 0 to 5;
であることを特徴とする組成物。
請求項５に記載の組成物において、R²¹、R²²、R²³、R³⁰、R³¹は独立したヒドロキシ、又はアルコキシ又は炭素数１〜２０の一価の炭化水素基であり；R²⁴、R²⁵およびR²⁷は、炭素数１〜２０の独立した一価の炭化水素基であり；R²⁸は炭素数１〜２０の一価の炭化水素基、あるいは窒素を含み少なくとも一部に-R¹-Z-Q³の形の基が存在し；-R¹-は、選択的にエーテル又はエステル官能基を取り入れることができる炭素数１〜２０の二価の炭化水素基か、あるいは、R¹⁷N(Q¹)R¹⁸-のいずれかであり；-R¹⁷-および-R¹⁸-は、選択的にエーテル又はエステル官能基を取り入れることのできる炭素数１〜２０の独立した二価の炭化水素基であり；-Q¹は、-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、又は選択的にヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテルあるいはエステル官能基を取り入れることができる炭素数１〜２０の一価の炭化水素基であり；R⁴、R⁵、およびR⁶は、炭素数１〜２０の独立した一価の炭化水素基であり；X^-は、カウンタイオンであり；-Q³及び-Q²は独立した-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、又は選択的にヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテルあるいはエステル官能基を取り入れることができる炭素数１〜２０の一価の炭化水素基であり；
d = 0 to 400;
e = 0 to 50;
g = 0 to 50; および
(e + b)/(a + b + d + e + g) = 0.005 to 0.05;
ただし、組成物中のQ¹、Q²およびQ³の１０〜７５パーセントが、-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-である、ことを特徴とする組成物。
請求項５に記載の組成物において、R²¹、R²²、R²³、R³⁰、R³¹は独立したヒドロキシ、メトキシ、又はメチル基であり；R²⁴、R²⁵およびR²⁷は、メチル基であり；R²⁸はメチル基か、又は窒素を含み少なくとも一部に-R¹-Z-Q³の形の基が存在し；-R¹-は、プロピレン基か、あるいはR¹⁷N(Q¹)R¹⁸-であり；-R¹⁷-はプロピレンあるいはイソブチレン基、-R¹⁸-は、エチレン基であり；-Q¹は、-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、又はメチル基であり；R⁴およびR⁵はメチル基であり；R⁶は、メチル、ドデシル又はオクタデシル基であり；X^-は、カウンタイオンであり；-Q³及び-Q²は独立した-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、又はメチル基であり；
d = 50 to 150;
e = 0 to 10;
g = 0 to 5; および
(e + b)/(a + b + d + e + g) = 0.01 to 0.03;
ただし、組成物中のQ¹、Q²およびQ³の２５〜４０パーセントは、-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-である、
ことを特徴とする組成物。
請求項１に記載の組成物において、前記組成物が構造：

のシランであり；
-R11は、一価の炭化水素基もしくは-OR⁴¹であり、ここで、-R⁴¹は水素あるいは一価の炭酸水素基である；-R¹²は一価の炭化水素基もしくは-OR⁴²であり、ここで、-R⁴²は水素あるいは一価の炭酸水素基である；-R¹³は一価の炭化水素基もしくは-OR⁴³であり、-R⁴³は水素あるいは一価の炭酸水素基である；-R¹-は、エーテル又はエステル官能基を選択的に取り込むことのできる二価の炭化水素基か、あるいは-R¹⁷N(Q¹)R¹⁸-であり；-R¹⁷-と-R¹⁸-は、エーテル又はエステル官能基を選択的に取り込むことのできる独立した二価の炭化水素基であり；-Q¹は、-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素又はヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテルあるいはエステル官能基を選択的に取り込むことのできる一価の炭化水素基であり；R⁴、R⁵およびR⁶は、独立した一価の炭化水素基であり；X^-はカウンタイオンであり、-Z-は、-N(Q²)；-Q³および-Q²は、独立したCH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-、水素、又はヒドロキシ、ジオール、アミド、エーテルあるいはエステル官能基を選択的に取り込むことのできる一価の炭化水素基であり、ただし、-Q¹、-Q²、及び-Q³のうち少なくとも一つが-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-である、
ことを特徴とする組成物。
珪素を基材とする第四アンモニウム官能組成物の製造方法において、（１）置換基を有する第四アンモニウム組成物であり、当該置換基がエポキシ基又はハドヒロリン官能基を有する組成物と、（２）有機官能基を有する珪素を基材とする物質であり、当該珪素を基材とする物質が独立したシリコーン又はシランであり、前記有機官能基がカルボキシあるいはアミノ官能基を有する物質とを反応させる工程を具えることを特徴とする方法。
請求項１０に記載の方法において、前記珪素を基材とする反応体がシリコーンであり、前記有機官能基がアミノ官能基であることを特徴とする方法。
請求項１０に記載の方法において、前記珪素を基材とする反応体がシリコーンであり、構造CH₂(O)CHYN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-のエポキシ官能第四アンモニウム化合物と反応し、ここで、Yは、二価の炭化水素基であり；R⁴、R⁵及びＲ^６は、独立した一価の炭化水素基であり； X^-はカウンタイオンである、ことを特徴とする方法。
請求項１２に記載の方法において、前記エポキシ官能基化合物が、グリシヂルトリメチルアンモニウムクロリドであることを特徴とする方法。
請求項１０に記載の方法において、前記珪素を基材とする反応体がシリコーンであり、構造(X¹)CH₂CH(OH)YN⁺(R⁴)(R⁵)(R⁶)X^-のハロヒドリン官能第四アンモニウム化合物と反応し；ここでX¹は、ハロゲンであり；Yは二価の炭化水素基あり；R⁴、R⁵及びR⁶は、独立した一価の炭化水素基であり、X-はカウンタイオンである、ことを特徴とする方法。
請求項１４に記載の方法において、前記ハロヒドリン官能基化合物が、3-クロロ2-ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルジメチルドデシルアンモニウムクロリド、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルジメチルオクタデシルアンモニウムヅロリド、又はこれらの組み合わせであることを特徴とする方法。
請求項１１に記載の方法において、前記シリコーン反応体が、シリコーン反応体１グラムにつき平均０．１〜２．０ミリ当量のアミンナイトロゲン、ただし第１および第二アミンのみ、を含有し；前記第四アンモニウム反応体が、グリシヂルトリメチルオクタデシルアンモニウムクロリド、3-クロロ2-ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルジメチルドデシルアンモニウムクロリド、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルジメチルオクタデシルアンモニウムクロリド、これらの対応するブロミド、およびこれらのクロリドおよびブロミドの組み合わせ、でなる群から選択され；第四アンモニウム反応体が反応する間のシリコーン反応体中の全アミンハイドロゲン、ただし第一アミンおよび第二アミンのみ、に対する平均モル比が１：６〜１：９である、ことを特徴とする方法。
請求項１０ないし１６のいずれかに記載の方法によって製造された組成物。
珪素を基材とする第四アンモニウム官能組成物を変形する方法において、当該方法が：（１）請求項１に記載の組成物、ここで、R¹の少なくとも一部が第２アミンか、あるいはZの少なくとも一部が第１又は第２アミンである；と、（２）物質Ｔ、ここでＴは、ラクトーン、カルボキシおよびエポキシからなる群から選ばれた有機官能基を有する、とを反応させる工程を具えることを特徴とする方法。
請求項１８に記載の方法において、前記Ｔがグリシドール又はガンマブチロラクトーンであることを特徴とする方法。