JP2005210059A5 - - Google Patents

Claims (28)

1. 表面にレジストが塗布され、露光された後の基板を水平に保持する基板保持部と、
   基板を保持した基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、
   前記基板保持部に保持された基板の表面と対向して配置され、この基板の周縁から中央部側に伸びる帯状の吐出口を有する現像液ノズルと、
   この現像液ノズルを横方向に移動させる移動機構と、を備え、
   基板を鉛直軸回りに回転させると共に、前記吐出口から帯状の現像液を吐出しながら現像液ノズルを基板の外側から中央部に向かって移動させて基板の表面に現像液を螺旋状に供給することを特徴とする現像装置。
2. 前記吐出口は、幅が０．１ｍｍ〜１ｍｍであり、長さが８ｍｍ〜１５ｍｍであることを特徴とする請求項１記載の現像装置。
3. 現像処理を行う基板上のレジストの種類及びパターン形状の少なくとも一方に応じて現像液の温度を調整するための温度調整部を備えたことを特徴とする請求項１または２記載の現像装置。
4. 現像液ノズルは複数設けられると共に、各現像液ノズル毎に現像液の温度調整を行うための温度調整部が設けられ、前記複数の現像液ノズルの中から、現像処理を行う基板上のレジストの種類及びパターン形状の少なくとも一方に応じて温度調整がされた現像液ノズルを選択する手段を備えたことを特徴とする請求項１または２記載の現像装置。
5. 一方の現像液ノズルが選択されている間に、他方の現像液ノズルについて現像液の温度が調整されることを特徴とする請求項４記載の現像装置。
6. 現像処理を行う基板上のレジストの種類及びパターン形状の少なくとも一方と現像液の温度とを対応づけたデータを記憶し、このデータに基づいて当該基板に応じた現像液の温度となるように温度調整部を制御する制御部を備えたことを特徴とする請求項３ないし５のいずれか一に記載の現像装置。
7. 各現像液ノズル毎に前記温度調整部に加えて現像液の濃度調整部が設けられ、選択された現像液ノズルの現像液は、レジストの種類及びパターン形状の少なくとも一方に応じて温度及び濃度が調整されたことを特徴とする請求項４記載の現像装置。
8. 一方の現像液ノズルが選択されている間に、他方の現像液ノズルについて現像液の温度及び現像液の濃度が調整されることを特徴とする請求項７記載の現像装置。
9. 現像処理を行う基板上のレジストの種類及びパターン形状の少なくとも一方と、現像液の温度及び現像液の濃度とを対応づけたデータを記憶し、このデータに基づいて当該基板に応じた現像液の温度及び濃度となるように温度調整部及び濃度調整部を制御する制御部を備えたことを特徴とする請求項７または８記載の現像装置。
10. 現像液が供給される前の基板の表面に、濡れ性を高めるための表面処理液を供給する表面処理液ノズルを更に備えたことを特徴とする請求項１ないし９のいずれか一に記載の現像装置。
11. 現像液が供給された後の基板の表面にリンス液を供給するリンス液ノズルと、
    このリンス液ノズルによりリンス液が供給された基板の表面に、この基板の表面とリンス液との液摩擦を小さくするための界面活性剤を供給する活性剤供給ノズルと、を備えたことを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか一に記載の現像装置。
12. 現像液ノズルを基板の外側から中央部に向かって移動させたとき、その吐出口の基板の中央寄りの先端が基板の回転軸と一致する位置で移動が停止されることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか一に記載の現像装置。
13. 表面にレジストが塗布され、露光された後の基板を水平に保持する基板保持部と、
    基板を保持した基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、
    前記基板保持部に保持された基板の表面と対向して配置され、この基板の周縁から中央部側に伸びる帯状の吐出口を有する現像液ノズルと、
    前記基板保持部に保持された基板の表面と対向して配置され、前記基板にリンス液を供給するリンス液ノズルと、
    前記現像液ノズルを前記基板の中央部と外側との間で移動させる移動機構と、
    前記回転駆動機構及び前記移動機構を制御する制御部と、を備え、
    前記制御部は、基板を鉛直軸回り回転させると共に、現像液ノズルを基板の外側から中央部に向かって移動させながら前記吐出口から帯状の現像液を基板の表面に螺旋状に供給し、前記現像ノズルが基板の中央部に到達する直前または直後に、前記リンス液ノズルからリンス液を基板の中央部に供給するように制御することを特徴とする現像装置。
14. 前記制御部は、前記現像ノズルが基板の中央部に到達した直後に前記現像液の供給を停止することを特徴とする請求項１３記載の現像装置。
15. 表面にレジストが塗布され、露光された後の基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
    この基板を鉛直軸回りに回転させると共に、基板の表面に対して周縁から中央部側に向かって伸びる帯状の現像液を吐出しながら現像液ノズルを基板の周縁から中央部に向かって移動させて、現像液を表面に沿って外側に流しながら基板の表面に螺旋状に現像液を供給する工程と、
    現像液ノズルからの現像液の供給を停止する直前又は停止直後に、リンス液ノズルにより基板の表面にリンス液を供給する工程と、を含むことを特徴とする現像処理方法。
16. 現像液ノズルの吐出口は幅が０．１ｍｍ〜１ｍｍであり、長さが８ｍｍ〜１５ｍｍであることを特徴とする請求項１５記載の現像処理方法。
17. 現像処理を行う基板上のレジストの種類及びパターン形状の少なくとも一方に応じて現像液の温度が調整されることを特徴とする請求項１５または１６記載の現像処理方法。
18. 現像液の温度が互いに異なる温度に調整された複数の現像液ノズルの中から、現像処理を行う基板上のレジストの種類及びパターン形状の少なくとも一方に応じた現像液ノズルを選択する工程を含むことを特徴とする請求項１５または１６記載の現像処理方法。
19. 一方の現像液ノズルが選択されている間に、他方の現像液ノズルについて現像液の温度が調整される工程を含むことを特徴とする請求項１８記載の現像処理方法。
20. 現像処理を行う基板上のレジストの種類及びパターン形状の少なくとも一方に応じて現像液の温度及び濃度が調整されることを特徴とする請求項１５または１６記載の現像処理方法。
21. 一方の現像液ノズルが選択されている間に、他方の現像液ノズルについて現像液の温度及び現像液の濃度が調整される工程を含むことを特徴とする請求項２０記載の現像処理方法。
22. 前記現像液ノズルを基板の周縁から中央部に向かって移動させる工程と共に、少なくとも現像液ノズルが現像液の吐出を停止するまでにリンス液ノズルをその近傍に移動させておく工程と、を含むことを特徴とする請求項１５ないし２１のいずれか一つに記載の現像処理方法。
23. 現像液を供給する工程は、現像液を吐出しながら現像液ノズルを基板の周縁から中央部に向かって移動させる動作を複数回行うことを特徴とする請求項１５ないし２２のいずれか一つに記載の現像処理方法。
24. 現像液を供給する工程は、ノズルを基板の周縁から中央部に向かって移動した後に、所定の時間中央部に現像液を供給する工程を含むことを特徴とする請求項１５ないし２２のいずれか一つに記載の現像処理方法。
25. 現像液が供給される前の基板の表面に、濡れ性を高めるための表面処理液を供給する工程を更に含むことを特徴とする請求項１５ないし２４のいずれか一に記載の現像処理方法。
26. 現像液が供給された後の基板の表面にリンス液を供給する工程と、
    このリンス液が供給された基板の表面に、当該基板の表面とリンス液との液摩擦を小さくするための界面活性剤を供給する工程と、を更に含むことを特徴とする請求項１５ないし２５のいずれか一に記載の現像処理方法。
27. 現像液ノズルを基板の外側から中央部に向かって移動させたとき、その吐出口の基板の中央寄りの先端が基板の回転軸と一致する位置で移動が停止されることを特徴とする請求項１５ないし２６のいずれか一に記載の現像処理方法。
28. 表面にレジストが塗布され、露光された後の基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
    この基板を鉛直軸回りに回転させる工程と、
    前記基板の周縁から中央部側に伸びる帯状の吐出口を有する現像液ノズルを基板の周縁から中央部に向かって移動させる工程と、
    前記基板を回転させて前記現像液ノズルを移動させながら現像液を表面に沿って外側に流しつつ基板の表面に螺旋状に現像液を供給する工程と、
    前記現像液を基板の周縁から中央部に到達するまで供給する際の現像時間が経過する直前または経過の直後に、リンス液ノズルにより基板の中央部にリンス液を供給して洗浄する工程と、を含むことを特徴とする現像処理方法。