JP4985188B2 - 現像方法、現像装置及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
表面に撥水性を有するレジストが塗布され、露光された後の基板の中心部に現像液の濡れ性を高めるために現像能力の無い表面処理液を供給する工程と、
前記基板を鉛直軸周りに回転させて、遠心力によりこの表面処理液を基板の周縁部へ展伸させて基板表面に表面処理液の液膜を形成する第1のプリウエット工程と、
前記液膜の形成後、基板を鉛直軸回りに回転させながら、前記現像液ノズルから基板の中心部に現像液を供給して遠心力によりこの現像液を基板の周縁部へ展伸させて基板表面に現像液膜を形成し、次いで前記基板を700rpm〜1200rpmで回転させた状態で前記現像液を供給しながら当該現像液の供給位置を基板の中心部から基板の周縁部側へ移動させた後に基板への前記現像液の供給を停止する第2のプリウエット工程と、
前記基板への前記現像液の供給停止後、再び前記現像液ノズルから現像液を供給し、基板を鉛直軸回りに回転させた状態で当該現像液を基板に供給しながら前記現像液の供給位置を基板の周縁部側から中心部側に向かって移動させる第2の現像液供給工程と、
を含み、
回転する前記基板の半径をR1とし、前記第2のプリウエット工程において現像液の供給を停止するときの前記基板の中心と前記供給位置との距離をR2とすると、R2/R1は0より大きく1以下であり、前記第2のプリウエット工程において前記基板の周縁部側への現像液の供給位置の移動を開始してから当該現像液の供給を停止するまでの時間は0.2〜0.3秒であることを特徴とする。
基板を保持した基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、
基板の中心部に現像液の濡れ性を高めるために現像能力の無い表面処理液を供給するための表面処理ノズルと、
基板に対して当該基板の周縁部側から中心部側に向かって伸びる帯状に現像液を供給すると共に、前記帯の長さ方向に現像液の供給位置を移動できるように移動自在に構成される現像液ノズルと、
表面処理液ノズルからの表面処理液の基板への供給、現像液ノズルからの現像液の基板への供給、現像液ノズルの移動及び前記回転駆動機構を介した基板の回転を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、
露光された後の基板の中心部に現像液の濡れ性を高めるために現像能力の無い表面処理液を供給する処理と、
前記基板を回転させ、遠心力によりこの表面処理液を基板の周縁部へ展伸させて基板表面に表面処理液の液膜を形成する第1のプリウエット処理と、
前記液膜の形成後、基板を回転させながら、前記現像液ノズルから基板の中心部に現像液を供給し、次いで前記基板の回転を700rpm〜1200rpmで続けながら、前記現像液の供給を続けたまま当該現像液の供給位置の基板の中心部から基板の周縁部側への移動を開始して、遠心力によりこの現像液を基板の周縁部へ展伸させて基板表面に現像液膜を形成した後に基板への前記現像液の供給を停止する第2のプリウエット処理と、
前記基板への前記現像液の供給停止後、基板を鉛直軸回りに回転させている間に、再び前記現像液ノズルから現像液を供給し、当該現像液を基板に供給しながら前記現像液の供給位置を基板の周縁部側から中心部側に向かって移動させる第2の現像液供給処理と、
を行う機能を備え、
回転する前記基板の半径をR1とし、前記第2のプリウエット工程において現像液の供給を停止するときの前記基板の中心と前記供給位置との距離をR2とすると、R2/R1は0より大きく1以下であり、前記第2のプリウエット工程において前記基板の周縁部側への現像液の供給位置の移動を開始してから当該現像液の供給を停止するまでの時間は0.2〜0.3秒であることを特徴とする。
前記コンピュータプログラムは、上述の現像方法を実施するためのものであることを特徴とする。
(ステップ1:ウエハWの搬入)
先ず不図示の基板搬送手段により既述のウエハWが搬送口14を介して筐体10内に搬入されると、この基板搬送手段と図示しない昇降ピンとの協働作用によりウエハWはスピンチャック11に受け渡され、次いで、外カップ22及び内カップ23が上昇位置に設定される。続いてスピンチャックが1100〜1500rpm例えば1500rpmで回転すると共に複合ノズル体3が待機部18からウエハW上に移動し、純水ノズル31BがウエハWの中心上に位置する(図4(a))。
純水ノズル31BがウエハWの中心部上に移動すると、純水ノズル31BからウエハWの中心部に純水4Bが吐出され、吐出された純水4Bは遠心力により展伸するいわゆるスピンコーティングによってウエハW上の中心部から周縁部に広げられて、第1のプリウエット処理が行われ、純水膜42Bが形成される(図4(b)及び図6(a))。
純水4Bの吐出から所定の時間例えば0.5秒が経過すると、純水ノズル31Bからの純水4Bの吐出が停止し、その後複合ノズル体3が移動して、現像液ノズル31AがウエハWの中心上に位置する(図4(c))。
ウエハWの中心上の現像液ノズル31AからウエハWの中心に現像液4Aが吐出され、スピンコーティングによってウエハWの中央部から周縁部に広げられる(図4(d))。純水4Bの吐出が停止してからこの現像液4Aが吐出されるまでの時間は例えば0.1秒である。吐出された現像液4Aは純水4Bよりもレジスト41に対する濡れ性が高いため、ウエハW表面において図6(b)に示すようにレジスト41の撥水性により純水4Bがはじかれて乗っていない箇所も被覆するようにウエハWの周縁に向かって広がり、現像液膜42Aが形成され、第2のプリウエット処理が行われる。なお本発明では現像処理を行う前にウエハの濡れ性を向上させるための処理をプリウエットと呼び、この現像液の供給も現像処理を行うことを目的とせず、濡れ性を改善することを目的とするためプリウエットと呼ぶ。
現像液4Aの吐出から所定の時間例えば0.5秒経過すると、現像液4Aを吐出したまま複合ノズル体3がウエハWの中心部側から周縁部側へと移動し(図4(d))、周縁部に供給される現像液4Aの量が多くなることによって、現像液膜42Aは、ウエハW周縁部におけるそれまで現像液膜42Aが形成されていなかった箇所も被覆して、図6(c)に示すようにウエハW全体に現像液が行きわたる。複合ノズル体3の移動開始から所定の時間例えば0.2〜0.3秒経過し、図7(a)に示すように、ウエハWの半径をR1、ウエハWの中心とウエハWへの現像液ノズル31の投影領域との距離をR2とした場合にR2/R1=0〜1、例えば1/3となるような位置に複合ノズル体3が移動すると、現像液4Aの吐出が停止する。
現像液4Aの吐出が停止された後も複合ノズル体3はウエハWの外側への移動を続け(図4(f))、現像液ノズル31がウエハWの外縁から僅かに外側に位置したら移動を停止する(図7(b))。
複合ノズル体3の移動停止後、所定の時間例えば1秒が経過すると現像液ノズル31Aから現像液4Aが吐出されると共に複合ノズル体3はウエハWの中心側へと移動し、帯状に吐出された現像液4Aは、ウエハWの外側から内側に向かって螺旋状にウエハW表面に供給され、図7(c)に示すように、先にウエハWに形成された現像液膜42A表面を、回転しているウエハWの遠心力の作用により隙間なくぬれ広がる(図4(g)))。そしてウエハWに供給された現像液4Aは純水4Bと自然に混ざり合い、レジスト41が現像液4Aに接触し、現像液4Aにレジストの溶解性の部位が溶解して、その後にパターンを形成する不溶解性の部位が残る。
複合ノズル体3が移動を続け、現像液ノズル3AがウエハWの中心部上に位置し、その中心部上に現像液4Aが供給されると、現像液ノズル3Aからの現像液4Aの供給が停止する(図7(d))。然る後純水ノズル31BがウエハWの中心部上に位置するように複合ノズル体3が移動し、現像液4Aの供給停止から所定の時間が経過すると、純水ノズル31BからウエハWに純水4Bが吐出される。吐出された純水4Bは回転するウエハWの遠心力の作用によりそのウエハWの表面に沿って外側に広がり、ウエハW表面のレジスト溶解成分を含む現像液4Aを洗い流し、これによりウエハWの表面が洗浄される(図5(h))。
続いてノズル複合体3が待機領域18へ移動すると共にウエハWを例えば2000rpmの回転速度で回転させて、ウエハW表面の液を振り切るスピン乾燥がなされる(図5(i))。しかる後、ウエハWの回転が停止し、外カップ22及び内カップ23が下降して、図示しない基板搬送手段によりウエハWが搬出され、現像処理が終了する。
(評価試験1)
上記実施形態においてステップ5の現像液を吐出させた状態で現像液ノズル31AがウエハWの中心から周縁へ移動させることがレジストパターンに与える影響を確認するために、先ず夫々同様にレジストが塗布され、所定のパターンに沿って露光処理を受けた複数のウエハWをサンプル1−1〜1−4として用意した。そしてこれらサンプル1−1〜1−4について現像装置1を用い、上記の各ステップに従って複数のウエハWに夫々現像処理を行ったが、ステップ5においてノズル31AがウエハWの周縁側への移動を開始してから現像液の供給を停止するまでの時間をサンプルごとに夫々異なるように設定した。その設定時間は、サンプル1−2で0.2秒、サンプル1−3で0.3秒、サンプル1−4で1.0秒であり、またサンプル1−1についてはノズル31Aが周縁側への移動を開始すると同時に現像液の吐出を停止し、ノズルの移動中に現像液の供給を行わないように設定した。そして各サンプルの現像処理後、形成されたレジストパターンのCDの平均及びCDのばらつきの度合いについて測定した。なお各サンプル1−1〜1−4について現像液ノズル31Aの移動速度は同じに設定してある。
評価試験2として本発明の現像処理方法の効果を確認するために、評価試験1と同様に夫々同様にレジストが塗布され、露光処理を受けた複数のウエハWをサンプル2−1〜2−7として用意した。なおこれ以降の評価試験ではKrF光源用のレジストを使用している。サンプル2−1及び2−2については上記実施形態のステップ1及びステップ2を実施して純水の供給処理を行った後、ステップ3〜ステップ6の第2のプリウエット処理を行わず、現像液ノズル31AをウエハWの周縁上に移動させてステップ7の現像液の供給処理を行い、その後既述のステップ8,9に従い現像処理を行った。またサンプル2−3〜サンプル2−7についてはステップ1〜ステップ4を行い、第1のプリウエット処理及び第2のプリウエット処理を行った後、ステップ5を行わずに現像液ノズル31Aからの現像液の吐出を停止させてからステップ6以降の各ステップを実行して現像処理を行った。そして各サンプル2−1〜2−7の面内において発生している現像欠陥の数を計測した。
続いて各ステップごとに、そのステップの処理時間とスピンチャックによるウエハの回転速度が現像処理に与える影響を調べるため次の評価試験3〜8を行った。これらの評価試験では、各ステップのウエハWの回転速度の標準値を1200rpm、また各ステップの処理時間の標準値を下の表のように夫々設定し、所定の一つのステップの回転速度及び処理時間をこれらの標準値からずらして現像処理を行い、現像欠陥の数を測定している。なお各ノズルから供給される純水及び現像液の流量は一定であり、複合ノズル体の移動速度も150mm/秒で一定に設定されている。また各ノズル31A、31BからウエハWに夫々現像液、純水を供給するときに、各吐出口33A,33BとウエハWとの距離が12mmになるように設定した。
ステップ2においてウエハWの回転速度を1200rpmに設定し、純水の吐出時間を夫々0.5秒、1秒、1.5秒に設定して処理を行った。既述のようにステップ2以外の各ステップの処理条件は上記の標準値に設定している。図13(a)はこの評価試験の結果を示しており、この結果から純水のウエハWへの供給量が少ないと現像欠陥が起こりやすいことがわかる。
ステップ2において純水の吐出時間を1秒に設定し、ウエハWの回転速度を夫々700rpm、1100rpm、1500rpmとして処理を行った。図13(b)はこの評価試験の結果を示しており、700rpmのときに比べて1100rpm及び1500rpmのときには現像欠陥が少ないことが分かる。回転数が1500rpmを越えると純水がウエハW上で成膜されず飛散してしまうおそれがあるため、この試験結果から純水の供給処理におけるウエハWの回転速度は1100rpm〜1500rpmが好ましいことが分かる。
ステップ3において純水の供給を停止してから現像液の供給を開始するまでの時間を夫々0秒、0.1秒、0.3秒、2秒に設定して処理を行った。なお前記時間が0秒の場合は、純水の吐出停止後、現像液ノズル31AがウエハWの中心上に移動する前に現像液の供給を開始しており、当該ノズル31AがウエハW周縁側から中心への移動する間においても現像液を吐出している。時間が0.1秒以上である場合には現像液ノズル31AがウエハWの中心に移動してから現像液の供給を開始している。図14はこの評価試験の結果を示したものであり、純水の供給を停止してから現像液の供給を開始するまでの時間が0.3秒以上であると現像欠陥が多くなっている。従って純水の供給停止から現像液の供給開始までの時間は0.1秒以下が好ましいことが分かる。
なお上記実施形態において純水ノズル31Bは鉛直下方に純水を吐出するように構成されているが、純水ノズル31Bを斜めに設けてその吐出口33BのウエハWへの投影領域と現像ノズル31Aの吐出口33AのウエハWへの投影領域とがウエハWの中心で重なるように構成することにより、ウエハWへの純水の供給終了と同時に複合ノズル体3を移動させることなく現像液3AをウエハWの中心に供給し、ウエハWの中心へ純水の吐出停止すると同時に、その中心に現像液を供給するようにしてもよい。
ステップ4においてウエハWの回転速度を1200rpmに設定し、現像液の吐出流量は一定で吐出時間を夫々0.5秒、0.7秒、1.5秒として夫々処理を行った。また他のウエハについてはウエハW中心への現像液の吐出を行わなかった。図15(a)はこの評価試験の結果を示したグラフであり、このグラフにおいて上記のようにウエハWの中心への現像液の吐出を行わなかったものは吐出時間0秒としている。吐出時間0秒のウエハWに比べて中心へと現像液を吐出したウエハWはいずれも現像欠陥数が少なく、本発明の効果が示された。
ステップ4において現像液の吐出時間を0.7秒に設定し、ウエハWの回転速度を夫々700rpm、1100rpm、1500rpmとして処理を行った。図15(b)はこの評価試験の結果を示しており、700rpmのときに比べて1100rpm及び1500rpmでは現像欠陥が少ないことが分かる。1500rpm以上の回転速度でウエハが回転すると、現像液もウエハWから飛散し、成膜が行われなくなるおそれがあるので、この試験結果から1回目の現像液供給時のウエハWの回転速度は1100rpm〜1500rpmが好ましいといえる。
ステップ5において現像液ノズルを動かしながらの現像液の吐出時間を0.3秒に設定し、ウエハWの回転速度を夫々700rpm、1100rpm、1500rpmとして処理を行った。図16はこの評価試験の結果を示しており、1500rpmに比べて700rpm及び1200rpmでは現像欠陥が少ないことが分かる。この結果からこのステップ5におけるウエハWの回転速度は700rpm〜1200rpmが好ましいといえる。
ステップ6においてウエハWの回転速度を1200rpmに固定し、現像液ノズルがウエハWの外側の所定の待機位置に移動してから、その周縁部に現像液を吐出するまでの待機時間を夫々0秒、1秒、2秒、3秒として夫々処理を行った。図17(a)はこの評価試験の結果を示しており、このグラフから待機時間と現像欠陥の数との間に特に規則性は見られなかった。
ステップ6において前記待機時間を1秒に固定し、ウエハWの回転速度を夫々700rpm、1100rpm、1500rpmとして処理を行った。図17(b)はこの評価試験の結果を示しており、このグラフから待機時間と現像欠陥の数との間に特に規則性は見られなかった。
先ず夫々同様にレジストが塗布され、所定のパターンに沿って露光処理を受けた複数のウエハWをサンプル7−1〜7−10として用意した。そしてこれらサンプル7−1〜7−4についてはステップ2,4,5のウエハの回転速度をいずれも1200rpmに設定して一連の現像処理を行った。サンプル7−5〜7−10についてはステップ2の回転速度を1500rpm、ステップ4の回転速度を1500rpm、ステップ5の回転速度を700rpmに夫々設定し、それ以外のステップの回転速度は1200rpmに設定した。各サンプルの現像処理後、ウエハWの面内における欠陥数を測定した。
1 現像装置
3 複合ノズル体
31A 現像液ノズル
31B 純水ノズル
4A 現像液
4B 純水
41 レジスト
100 制御部
Claims (10)
- 基板に対して当該基板の周縁部側から中心部側に向かって伸びる帯状に現像液を供給すると共に、前記帯の長さ方向に現像液の供給位置を移動できるように移動自在に構成される現像液ノズルを用いて行う現像方法において、
表面に撥水性を有するレジストが塗布され、露光された後の基板の中心部に現像液の濡れ性を高めるために現像能力の無い表面処理液を供給する工程と、
前記基板を鉛直軸周りに回転させて、遠心力によりこの表面処理液を基板の周縁部へ展伸させて基板表面に表面処理液の液膜を形成する第1のプリウエット工程と、
前記液膜の形成後、基板を鉛直軸回りに回転させながら、前記現像液ノズルから基板の中心部に現像液を供給して遠心力によりこの現像液を基板の周縁部へ展伸させて基板表面に現像液膜を形成し、次いで前記基板を700rpm〜1200rpmで回転させた状態で前記現像液を供給しながら当該現像液の供給位置を基板の中心部から基板の周縁部側へ移動させた後に基板への前記現像液の供給を停止する第2のプリウエット工程と、
前記基板への前記現像液の供給停止後、再び前記現像液ノズルから現像液を供給し、基板を鉛直軸回りに回転させた状態で当該現像液を基板に供給しながら前記現像液の供給位置を基板の周縁部側から中心部側に向かって移動させる第2の現像液供給工程と、
を含み、
回転する前記基板の半径をR1とし、前記第2のプリウエット工程において現像液の供給を停止するときの前記基板の中心と前記供給位置との距離をR2とすると、R2/R1は0より大きく1以下であり、前記第2のプリウエット工程において前記基板の周縁部側への現像液の供給位置の移動を開始してから当該現像液の供給を停止するまでの時間は0.2〜0.3秒であることを特徴とする現像方法。 - 前記表面処理液の供給を停止した後、0.1秒以内に前記第2のプリウエット工程における基板の中心部への現像液の供給が開始されることを特徴とする請求項1記載の現像方法。
- 前記現像液の前記レジストに対する濡れ性は、前記表面処理液の当該レジストに対する濡れ性よりも大きいことを特徴とする請求項1または2記載の現像方法。
- 表面処理液は純水であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一に記載の現像処理方法。
- 第1のプリウエット工程における基板の回転速度は1100rpm〜1500rpmであることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一に記載の現像方法。
- 第2のプリウエット工程における現像液を基板の中心部に供給するときの基板の回転速度は1100rpm〜1500rpmであることを特徴とする1ないし5のいずれか一に記載の現像方法。
- 第2のプリウエット工程において基板に形成される現像液膜の現像液は、第2の現像液供給工程において基板に供給される現像液よりも低濃度であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一に記載の現像方法。
- 表面に撥水性を有するレジストが塗布され、露光された後の基板を水平に保持する基板保持部と、
基板を保持した基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、
基板の中心部に現像液の濡れ性を高めるために現像能力の無い表面処理液を供給するための表面処理ノズルと、
基板に対して当該基板の周縁部側から中心部側に向かって伸びる帯状に現像液を供給すると共に、前記帯の長さ方向に現像液の供給位置を移動できるように移動自在に構成される現像液ノズルと、
表面処理液ノズルからの表面処理液の基板への供給、現像液ノズルからの現像液の基板への供給、現像液ノズルの移動及び前記回転駆動機構を介した基板の回転を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、
基板を回転させながら当該基板の中心部に表面処理液を供給して、遠心力によりこの表面処理液を基板の周縁部へ展伸させて基板表面に表面処理液の液膜を形成する第1のプリウエット処理と、
基板を回転させながら、前記現像液ノズルから前記液膜が形成された基板の中心部に現像液を供給して、遠心力によりこの現像液を基板の周縁部へ展伸させて基板表面に現像液膜を形成し、次いで前記基板を700rpm〜1200rpmで回転させた状態で前記現像液を供給しながら当該現像液の供給位置を基板の中心部から基板の周縁部側へ移動させた後に基板への前記現像液の供給を停止する第2のプリウエット処理と、
前記基板への前記現像液の供給停止後、再び前記現像液ノズルから現像液を供給し、基板を回転させた状態で当該現像液を基板に供給しながら前記現像液の供給位置を基板の周縁部側から中心部側に向かって移動させる第2の現像液の供給処理と、
を行う機能を備え、
回転する前記基板の半径をR1とし、前記第2のプリウエット工程において現像液の供給を停止するときの前記基板の中心と前記供給位置との距離をR2とすると、R2/R1は0より大きく1以下であり、前記第2のプリウエット工程において前記基板の周縁部側への現像液の供給位置の移動を開始してから当該現像液の供給を停止するまでの時間は0.2〜0.3秒であることを特徴とする現像装置。 - 第2のプリウエット処理において基板に形成される現像液膜の現像液は、第2の現像液の供給処理において基板に供給される現像液よりも低濃度であることを特徴とする請求項8記載の現像装置。
- レジストが塗布され、露光された後の基板に対する現像を行う現像装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項1ないし7のいずれか一に記載の現像方法を実施するためのものであることを特徴とする記憶媒体。
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