JP2001338864A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】角型基板上面の処理不良を抑え、角型基板上面
を均一に処理することが可能な基板処理装置および基板
処理方法を提供する。 【解決手段】ローラコンベア１０によって角型基板Ｓが
搬送されつつ、現像液Ｇがスリットノズル５から角型基
板Ｓの上面へ供給され液盛りされる。そして、スリット
ノズル５が角型基板Ｓの上方を通過する際には、スリッ
トノズル５から最初に現像液Ｇが供給される角型基板Ｓ
の１辺Ｓ１と、スリット開口５１が沿う水平な直線Ｌと
が互いにねじれの位置関係となるように、スリットノズ
ル５が配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用ガ
ラス基板、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネル）
基板、あるいは、フォトマスク用ガラス基板などのよう
な角型形状（矩形状）の基板に処理を施すための基板処
理装置および基板処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、液晶ディスプレイの製造工程
には、所定のパターンが露光されたレジスト膜が表面に
形成された角型のガラス基板（以下、単に角型基板とい
う。）を現像液によって現像し、上記所定のパターンに
対応するレジスト膜部分を除去する現像工程が含まれて
いる。この現像工程においては、たとえば、搬送ローラ
によって角型基板が水平保持されながら所定の基板搬送
方向に低速搬送されつつ、その角型基板の上面に現像液
が低流量で順に供給される。すなわち、基板搬送方向に
直交する角型基板の１辺から、その１辺に対向する辺へ
と順に現像液が供給され、角型基板上面の全面に液盛り
される。

【０００３】そして、現像液が液盛りされると、所定の
期間だけ、角型基板の搬送がさらに遅くされるか、ある
いは搬送が停止され、その状態で角型基板上面の現像処
理が進行する。そして、この現像処理が完了すると、角
型基板には、次の処理、たとえば、水洗処理および乾燥
処理が順に施される。

【０００４】ここで、上記現像工程において、角型基板
の上面に現像液を供給するためのノズルは、水平な一直
線に沿う方向に開口するスリットを有する、いわゆるス
リットノズルである。そして、このスリットノズルは、
そのスリットが沿う直線が上記角型基板の１辺と平行に
なるように設けられていた。すなわち、スリットノズル
が上記角型基板の１辺の上方に差し掛かったときに、こ
の角型基板の１辺の長さ全域に対して、現像液がほぼ同
時に供給されていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
角型基板上に形成されるパターンの高精細化に伴って、
より精度の高いパターン線幅の均一性が要求されてきて
おり、上記従来の技術がこれに対応できなくなってき
た。すなわち、現像工程における基板搬送速度が低速
（毎分５〜６ｍ程度）なため、現像液の供給開始時期
が、上記角型基板の１辺付近と、その１辺に対向する辺
の付近とでは大きく異なってしまう。このため、角型基
板上面のそれぞれの部分での現像処理時間に差が生じ、
角型基板上面におけるパターン線幅が不均一になってし
まい、より精度の高いパターン線幅の均一性に対応でき
なくなってきた。

【０００６】そこで、これを解決するためには、現像工
程における基板搬送速度を高速にすればよいと考えられ
るが、このようにした場合、角型基板上面のうちの上記
角型基板の１辺付近において部分的に現像液が液盛りさ
れないという現象が生じ、その部分で現像不良が発生し
てしまうという問題があった。

【０００７】そして、以上のような問題は、上記現像工
程のみならず、角型基板の上面に処理液を供給して処理
する他の処理工程においても生じる。たとえば、上記現
像工程後に、角型基板上面にエッチング液を供給して、
上記所定のパターン部分に対応する金属膜などの表面被
膜をエッチングするエッチング工程や、このエッチング
工程後に、角型基板上面に残留する不要なレジスト膜を
剥離する剥離工程などにおいても、同様の問題（エッチ
ング不良や剥離不良などの処理不良）が生じていた。ま
た、上述のように、固定のスリットノズルに対して、基
板を移動（搬送）させる場合だけでなく、スピンチャッ
ク等によって水平に固定保持された角型基板に対して、
スリットノズルを移動させる場合においても、同様な処
理不良の問題は生じる。

【０００８】そこで、本発明の目的は、上述の技術的課
題を解決し、角型基板上面の処理不良を抑え、角型基板
上面を均一に処理することが可能な基板処理装置および
基板処理方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上述の技術的課題を解決
するための、請求項１に係る発明は、水平面に含まれる
所定の線に沿って設けられた吐出口を有し、この吐出口
から、水平に保持された角型基板の上面に処理液を供給
する液供給手段と、この液供給手段が角型基板の上方を
通過するように、液供給手段および角型基板のうちの少
なくともいずれか一方を移動させる移動手段と、を備
え、上記吐出口が沿う所定の線は少なくとも直線を含む
ものであり、かつ、上記移動手段によって液供給手段が
角型基板の上方を通過する際に、上記液供給手段から最
初に処理液が供給される角型基板の１辺と、上記吐出口
が沿う直線とが互いにねじれの位置関係にあることを特
徴とする基板処理装置である。

【００１０】この請求項１に係る発明の基板処理装置に
よると、液供給手段は、水平な直線に沿う吐出口を有し
ており、移動手段は、水平保持された角型基板の上方を
液供給手段が横切るように、液供給手段および角型基板
のうちのいずれかを移動させるものである。そして、液
供給手段から最初に処理液が供給される角型基板の１辺
と、上記吐出口が沿う直線とは、互いにねじれの位置関
係となっている。

【００１１】ここで、「ねじれの位置関係」とは、言い
換えれば、２つの直線（本発明では、液供給手段から最
初に処理液が供給される角型基板の１辺と、上記吐出口
が沿う直線に相当）が互いに平行でなく、角型基板の上
面を含む平面における上記吐出口が沿う直線の投影直線
と、上記角型基板の１辺に沿う直線とが、斜めに交差す
るような位置関係である。

【００１２】この構成により、液供給手段が上記角型基
板の１辺の上方に差し掛かってその１辺に処理液を供給
する際に、当該１辺の全域に対して同時に処理液が供給
されることがなく、上記角型基板の１辺の少なくとも一
部分に対して、当該１辺に沿う方向に順にタイミングを
ずらして処理液を供給することができる。よって、角型
基板上面の当該１辺付近では、角型基板の１辺に沿う方
向における処理液供給地点の移動（以下、辺方向の液移
動という）となるため、従来のように処理液が供給され
ない部分（以下、液未供給部分という）が発生しにくく
なる。このため、角型基板上面の当該１辺付近における
処理不良を抑え、均一に処理することができる。

【００１３】また、上記液未供給部分が発生しにくいの
で、処理液の供給流量を増加させることなく液供給手段
または角型基板の移動を速くすることができる。このた
め、角型基板上面における処理時間差が少なくなり、し
たがって、角型基板上面全体における処理均一性を向上
させることができる。

【００１４】ここで、上記少なくとも直線を含む所定の
線に沿う吐出口とは、水平な一直線に沿うものや、直線
が複数連結してできた水平な折れ線に沿うものを含む。
たとえば、吐出口が水平な直線に沿うものである場合に
は、上記辺方向の液移動は、上記角型基板の１辺の一方
端から他方端へと向かう処理液供給地点の移動となり、
また、吐出口が水平な折れ線に沿うものである場合に
は、上記辺方向の液移動は、上記角型基板の１辺におい
て交互に１８０°ずつ入れ替わるような処理液供給地点
の移動となる。

【００１５】また、請求項２に係る発明は、水平面に含
まれる所定の線に沿って設けられた吐出口を有し、この
吐出口から、水平に保持された角型基板の上面に処理液
を供給する液供給手段と、この液供給手段が角型基板の
上方を通過するように、液供給手段および角型基板のう
ちの少なくともいずれか一方を移動させる移動手段と、
を備え、上記吐出口が沿う所定の線は曲線であることを
特徴とする基板処理装置である。

【００１６】この請求項２に係る発明の基板処理装置に
よると、液供給手段は、所定の線に沿う吐出口を有して
おり、移動手段は、水平保持された角型基板の上方を液
供給手段が横切るように、液供給手段および角型基板の
うちのいずれかを移動させるものである。そして、上記
吐出口が沿う所定の線は水平面に含まれる曲線となって
いる。

【００１７】この構成により、上記請求項１に係る発明
と同様に、上記角型基板の１辺に処理液を供給する際
に、当該１辺の少なくとも一部分に対して、当該１辺に
沿う方向に順にタイミングをずらして処理液を供給する
ことができる。したがって、上記請求項１に係る発明と
同様の作用により、角型基板上面の処理不良を抑え、角
型基板上面を均一に処理することができる。

【００１８】また、請求項３に係る発明は、請求項１ま
たは２に記載の基板処理装置において、上記吐出口は、
上記所定の線に沿って連続して開口するスリット状の吐
出口であることを特徴とする基板処理装置である。

【００１９】この請求項３に係る発明の基板処理装置に
よると、吐出口が所定の線方向に広がって開口してい
る。このため、上記辺方向の液移動が途切れることなく
連続して形成されるので、さらに液未供給部分が形成さ
れにくくなる。したがって、さらに、角型基板上面の処
理不良を抑え、角型基板上面を均一に処理することがで
きる。

【００２０】また、請求項４に係る発明は、請求項１ま
たは２に記載の基板処理装置において、上記吐出口は、
上記所定の線に沿って間隔をあけて設けられた複数の吐
出口であることを特徴とする基板処理装置である。

【００２１】この請求項４に係る発明の基板処理装置に
よると、液供給手段には吐出口が複数個設けられてい
る。このため、各吐出口の開口の大きさを適当に変更す
れば、角型基板上への処理液の供給量を部分的に適宜調
整することができる。なお、個々の吐出口の開口形状は
いかなる形状であってもよく、たとえば、円状、四角
状、および三角状のうちのいずれの形状であってもよ
い。

【００２２】また、請求項５に係る発明は、請求項１な
いし４のいずれかに記載の基板処理装置において、上記
移動手段は、液供給手段が角型基板の上方を通過するよ
うに、角型基板を搬送する基板搬送手段であり、この基
板搬送手段は、液供給手段が角型基板の上方を通過した
後において、所定の期間、角型基板の搬送速度を低下さ
せるか、あるいは、角型基板の搬送を停止させるもので
あることを特徴とする基板処理装置である。

【００２３】この請求項５に係る発明の基板処理装置に
よると、角型基板は、基板搬送手段によって搬送され
て、液供給手段の下方を通過しつつ、その上面に液供給
手段から処理液が供給される。そしてその後、角型基板
は、基板搬送手段によって、所定の期間、より低速で搬
送されるか、または停止させられ、角型基板の処理が進
行していく。このため、角型基板が搬送されつつその上
面に処理液が供給されるので、角型基板が静止保持され
た状態で処理液を供給される場合に比べて、角型基板の
搬送を止めることなく処理液の供給を進行させることが
できる。

【００２４】また、請求項６に係る発明は、請求項１な
いし４のいずれかに記載の基板処理装置において、上記
移動手段は、液供給手段が角型基板の上方を通過するよ
うに、液供給手段を移動させる液供給移動手段であり、
液供給手段が角型基板の上方を通過した後において、所
定の期間、角型基板を水平に静止保持した後で、角型基
板を回転させる基板回転手段をさらに含むことを特徴と
する基板処理装置である。

【００２５】この請求項６に係る発明の基板処理装置に
よると、液供給手段は、液供給移動手段によって移動さ
せられて、角型基板の上方を通過しつつ、角型基板の上
面に処理液を供給する。そしてその後、角型基板は、所
定の期間、水平に静止保持され、さらにその後、基板回
転手段によって回転されて、角型基板上面の処理液が振
り切られる。このため、角型基板が静止した状態でその
上面に処理液が供給されるので、角型基板が搬送されつ
つ処理液を供給される場合に比べて、角型基板上面から
処理液が落下してしまうことを防止でき、処理液の消費
量を抑えることができる。

【００２６】さらに、請求項７に係る発明は、角型基板
の上面に対して、角型基板の１辺から当該１辺に対向す
る辺の方向に、順次、処理液を供給しつつ角型基板を処
理する基板処理方法において、上記角型基板の１辺に処
理液を供給する際に、当該１辺の少なくとも一部分に対
して、当該１辺に沿う方向に順にタイミングをずらして
処理液を供給することを特徴とする基板処理方法であ
る。

【００２７】この請求項７に係る発明の基板処理方法に
よると、上記角型基板の１辺の少なくとも一部分に対し
て、当該１辺に沿う方向に、順に処理液の供給のタイミ
ングをずらしている。すなわち、角型基板の１辺の少な
くとも一部分上における処理液の供給地点が、当該１辺
に沿って順にずれていくように、処理液を供給してい
る。このため、上記角型基板上面の当該１辺付近では辺
方向の液移動となるので、液未供給部分が形成されな
い。したがって、上記角型基板上面の当該１辺付近にお
ける角型基板上面の処理不良を抑え、角型基板上面を均
一に処理することができる。また、液未供給部分が形成
されにくいので、処理液の供給流量を増加させることな
く、角型基板上面への供給開始から終了までの時間を短
くすることができる。このため、角型基板上面における
処理時間差が少なくなり、したがって、角型基板上面全
体における処理均一性を向上させることができる。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下に、上述の技術的課題を解決
するための本発明の一実施形態に係る基板処理装置を、
添付図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発明の
一実施形態に係る基板処理装置の主要部の構成を簡略的
に示す概略図である。なお、この基板処理装置は、たと
えば主に、所定のパターンが露光されたレジスト膜が表
面に形成された液晶用の角型ガラス基板（以下、角型基
板Ｓという）をほぼ水平方向に搬送しつつ、その角型基
板Ｓを現像液Ｇによって現像し、上記所定のパターンに
対応するレジスト膜部分を除去するための装置である。

【００２９】図１において、この基板処理装置は、基板
導入部１、現像処理部２、水洗処理部３、乾燥処理部４
の順に、ローラコンベア１０によって角型基板Ｓをほぼ
水平姿勢で搬送しつつ角型基板Ｓにそれぞれの現像に関
連する処理を施すものである。基板導入部１は、前工程
から搬送されてきた角型基板Ｓを受け入れるためのもの
であり、現像処理部２は、基板導入部１から水平姿勢で
搬送されてきた角型基板Ｓの上面に現像液Ｇを供給し液
盛りして現像処理を行うものであり、水洗処理部３は、
現像処理部２で現像処理された基板上面にシャワーノズ
ル８から純水を供給して水洗処理を行うものであり、乾
燥処理部４は、水洗処理部３で水洗処理された角型基板
Ｓの上面に高圧エア（または窒素ガス）を吹き付けて乾
燥処理を行うものである。

【００３０】ここで、各処理部の構成について詳細に説
明する。まず、現像処理部２について説明すると、現像
処理部２の下方には現像液槽９が配置されており、現像
液槽９に貯留された現像液Ｇは、送液ポンプ１１により
現像液配管１１ａを介してスリットノズル５へと送ら
れ、スリットノズル５に設けられたスリット開口５１か
ら角型基板Ｓの上面へ供給される。また別に、現像液槽
９に貯留された現像液Ｇは、送液ポンプ１３により現像
液配管１３ａを介してローラ用ノズル７へも送られて、
上下１対の液切りローラ１５に向けて供給される。そし
て、現像処理部２で角型基板Ｓや液切りローラ１５に供
給された後の現像液Ｇは、現像処理部２の底部に設けら
れたドレン配管１２を介して、現像液槽９へ回収されて
再利用されるようになっている。

【００３１】また、水洗処理部３については、水洗処理
部３の下方には純水槽１６が設けられており、純水槽１
６に貯留された純水Ｗは、純水送液ポンプ１７により純
水配管１７ａを介してシャワーノズル８から角型基板Ｓ
の上面へと供給され、角型基板Ｓの上面が水洗処理され
て、その上面に残留する現像液Ｇが洗い流される。角型
基板Ｓの上面に供給された後の純水Ｗは、水洗処理部３
の底部に設けられたドレン配管１８から、純水槽１６へ
回収されて再利用されるようになっている。また、本実
施形態ではシャワーノズル８を角型基板Ｓの上面側のみ
に設けているが、角型基板Ｓの下面側にも設けて、角型
基板Ｓの両面を水洗処理するように構成してもよい。

【００３２】そして、乾燥処理部４には、角型基板Ｓの
上面に高圧エア（または窒素ガス）を吹き付けるための
エアナイフ１９が設けられており、角型基板Ｓの上面に
残留する純水などの水分を除去し乾燥できるようになっ
ている。

【００３３】また、ローラコンベア１０は、所定間隔で
平行配置され、角型基板Ｓの搬送方向Ｈと直交する回転
軸を中心に自転する円筒状の複数の搬送ローラＲを有し
ている。そして、回転駆動されている複数の搬送ローラ
Ｒ上に角型基板Ｓを保持することにより、角型基板Ｓは
各搬送ローラＲの同期回転に伴って搬送方向Ｈに搬送さ
れるようになっている。なお、このローラコンベア１０
による角型基板Ｓの搬送速度は、各処理部の所定区間毎
に可変できるようになっている。たとえば、基板導入部
１へ導入される時や乾燥処理部４から導出される時には
所定の搬送速度（たとえば、毎分６ｍ程度）に、現像処
理部２において角型基板Ｓに現像液Ｇを供給している最
中には現像処理に好ましい搬送速度（たとえば、毎分８
〜９ｍ）程度で角型基板Ｓを搬送できるようになってい
る。

【００３４】ここで、現像処理部２における角型基板Ｓ
の搬送と処理の関係について詳細に説明する。現像処理
部２に搬入された角型基板Ｓは、ローラコンベア１０に
よって、たとえば、毎分８〜９ｍ程度で搬送されつつ、
スリットノズル５から角型基板Ｓ上面に現像液Ｇが供給
され、その上面に現像液Ｇが液盛りされる。その後、角
型基板Ｓは、水洗処理部３に至るまでの所定の区間で、
さらにそれまでより低速（たとえば、毎分２〜３ｍ程
度）で搬送されるか、あるいは、所定の期間（たとえ
ば、６０秒）だけ現像処理部２内で停止させられて、角
型基板Ｓの現像が進行していく。その後、液切り用ロー
ラ１５ａで液切りされて水洗処理部３へと搬送される。

【００３５】次に、現像処理部２におけるスリットノズ
ル５周辺の構成について、詳細に説明する。図２は、ス
リットノズル５のスリット開口５１と角型基板Ｓとの関
係を簡単に示す斜視図である。この図２において、上述
したように、角型基板Ｓはローラコンベア１０（図１参
照）によって図の搬送方向Ｈに搬送されつつ、その上面
にスリットノズル５から現像液Ｇが供給されて液盛りさ
れる。なお、スリット開口５１から供給された現像液Ｇ
は、その流量が小さいため、鉛直下方向に落下するよう
に緩やかに角型基板Ｓの上面へ供給される。

【００３６】なお、図３に断面図で示すように、スリッ
トノズル５の内部には、現像液配管１１ａを介して送ら
れてきた現像液Ｇを一時的に貯留する直方体状の貯留室
５２と、この貯留室５２とスリット開口５１とを連通す
る平板状の連通路５３とが設けられている。また、スリ
ットノズル５は、全体として、水平姿勢の角型基板Ｓに
対して傾斜した状態で設けられている。そして、スリッ
ト開口５１と角型基板Ｓの上面とは、図３に示す所定の
隙間Ｄ（たとえば３ｍｍ）があけられている。一方、図
２からもわかるように、スリット開口５１の長さは、角
型基板ＳのＳ１方向の幅を覆うような長さとなってお
り、角型基板Ｓの上面全域に現像液Ｇを供給できるよう
になっている。

【００３７】ここで、図２からもわかるように、ローラ
コンベア１０によって角型基板Ｓが搬送されて、スリッ
トノズル５が角型基板Ｓの上方を通過する際には、スリ
ットノズル５から最初に現像液Ｇが供給される角型基板
Ｓの１辺Ｓ１と、スリット開口５１が沿う水平な直線Ｌ
とが互いにねじれの位置関係となっている。すなわち、
角型基板Ｓの１辺Ｓ１と水平直線Ｌとが互いに平行でな
く、角型基板Ｓの上面を含む平面における直線Ｌの投影
直線と、角型基板Ｓの１辺Ｓ１に沿う直線とが、斜めに
交差するような位置関係となっている。

【００３８】これによれば、現像液Ｇは、角型基板Ｓの
１辺Ｓ１に沿う方向に順にタイミングをずらして供給さ
れる。すなわち、角型基板Ｓの１辺Ｓ１における現像液
Ｇの供給地点が、その１辺Ｓ１に沿って順にずれていく
ように、現像液Ｇが供給される。この場合、角型基板Ｓ
上面の１辺Ｓ１付近では、１辺Ｓ１に沿う方向Ｆの現像
液Ｇの液移動が形成され、このため、現像液Ｇが供給さ
れない部分（以下、現像液未供給部分という）が形成さ
れにくくなる。なぜなら、現像液未供給部分が角型基板
Ｓ上に形成されようとしても、現像液ＧのＦ方向の液移
動によって、その部分に現像液Ｇが順次流れ込むからで
ある。したがって、角型基板Ｓ上面の１辺Ｓ１付近にお
ける現像不良を抑え、均一に現像することができる。

【００３９】また、現像液未供給部分が形成されにくく
なれば、現像液Ｇの供給流量を増加させることなく角型
基板Ｓの搬送速度を速くすることもできる。このため、
角型基板Ｓ上面における１辺Ｓ１付近とそれに対向する
辺Ｓ２付近とで現像処理の時間差が少なくなる。したが
って、角型基板Ｓ上面全体における現像処理の均一性を
向上させることができる。

【００４０】さらに、スリット開口５１は直線Ｌの方向
に広がって連続して開口している。このため、現像液Ｇ
の液移動が途切れることなく連続して形成されるので、
さらに現像液未供給部分が形成されにくくなる。したが
って、さらに、角型基板Ｓ上面の現像不良を抑え、均一
に現像することができる。

【００４１】また、角型基板Ｓは、ローラコンベア１０
によって搬送されて、スリットノズル５の下方を通過し
つつ、その上面にスリットノズル５から現像液Ｇが供給
される。このため、角型基板Ｓの搬送を止めることなく
現像液Ｇの供給を進行させることができる。

【００４２】以上、この発明の一実施形態について説明
したが、この発明は、さらに他の形態で実施することも
できる。たとえば、上述した一実施形態においては、上
記スリットノズル５のスリット開口５１は、水平な一直
線Ｌに沿うものであったが、さらに他の形態であっても
よい。図４は、スリットノズルのスリット開口と角型基
板Ｓとの関係を示す、角型基板Ｓの上方から見た平面図
である。

【００４３】たとえば、図４の（ａ）に示すように、直
線が複数連結してできた水平な折れ線に沿うものであっ
てもよい。この図４の（ａ）には水平なＶ字形状のスリ
ット開口５１１が示されており、この場合、角型基板Ｓ
の上面における１辺Ｓ１付近の現像液供給地点の移動方
向Ｆは、１辺Ｓ１上において交互に１８０°ずつ入れ替
わる。なお、このスリット開口５１１のＶ字の連結する
直線の数を増やしてＷ字等の形状にしてもよい。

【００４４】また、たとえば、図４の（ｂ）に示すよう
に、水平な曲線に沿うものであってもよい。この図４の
（ｂ）には水平な曲線状のスリット開口５１２が示され
ており、この場合も図４（ａ）と同様、角型基板Ｓの上
面における１辺Ｓ１付近の現像液供給地点の移動方向Ｆ
は、１辺Ｓ１上において交互に１８０°ずつ入れ替わ
る。なお、このスリット開口５１１の曲線の曲がり回数
を増やして波線状にしてもよい。

【００４５】次に、上述した一実施形態においては、上
記スリットノズル５のスリット開口５１は、所定の線Ｌ
に沿って連続して開口するスリット状の開口であった
が、所定の線に沿って間隔をあけて設けられた複数の開
口であってもよい。図５は、スリットノズルの開口と角
型基板Ｓとの関係を示す、角型基板Ｓの上方から見た平
面図である。この場合、複数の円状の開口５１３が水平
な一直線Ｌに沿って間隔をあけて設けられている。ま
た、各開口５１３の大きさを適当に変更すれば、角型基
板Ｓ上への現像液の供給量を部分的に適宜調整すること
ができる。なお、個々の開口５１３の形状はいかなる形
状であってもよく、たとえば、四角状、および三角状の
うちのいずれの形状であってもよい。また、複数の開口
５１３が沿う線Ｌを、図４に示したようなＶ字、Ｗ字、
または曲線としてもよい。

【００４６】次に、上述した一実施形態においては、ス
リットノズル５が角型基板Ｓの上方を通過するように、
ローラコンベア１０によって角型基板Ｓが搬送され移動
されているが、スリットノズル５を移動させてもよい。
たとえば、図６に示すように、角型基板Ｓが、スピンチ
ャック６０によって保持されつつ、その上面にスリット
ノズル５から現像液Ｇが供給されるものであってもよ
い。たとえば、スピンチャック６０が角型基板Ｓを水平
に静止保持した状態で、スリットノズル５がノズル移動
機構７０によって水平方向Ｈ’の方向に移動されつつ現
像液Ｇを供給する。この場合、角型基板Ｓが静止した状
態でその上面に現像液Ｇが供給されるので、角型基板Ｓ
上面から現像液Ｇが落下してしまうことを防止でき、現
像液Ｇの消費量を抑えることができる。なお、現像液Ｇ
の供給後、角型基板Ｓは、所定の期間、さらに水平に静
止保持され、さらにその後、スピンチャック６０によっ
て回転されて、角型基板Ｓ上面の現像液が振り切られ、
一連の現像処理が終了する。

【００４７】なお、図６のノズル移動機構７０は、スリ
ットノズル５を水平方向に案内移動可能にするボールネ
ジ機構７１と、このボールネジ機構７１のボールネジ軸
を駆動するモータ７２とからなっている。これにより、
モータ７２を作動させると、スリットノズル５がボール
ネジ機構７１によって水平方向に移動され、スリットノ
ズル５が角型基板Ｓの上方を通過することができるよう
になっている。なお、図示はしていないが、ボールネジ
機構７１の内部には、水平方向に延びる直線状のガイド
レールおよびボールネジ軸と、このガイドレールおよび
ボールネジ軸に案内される移動台とが設けられており、
この移動台にスリットノズル５が取り付けられるように
なっている。

【００４８】また、上述した一実施形態においては、角
型基板Ｓを現像液を用いて現像する現像処理について説
明したが、これに限られるものではなく、本発明は、広
く、角型基板Ｓを処理液を用いて処理するものに対して
適用することができる。たとえば、図１〜６で示した基
板処理装置において、現像液Ｇをエッチング液に置き換
え、現像処理後の角型基板上面にエッチング液を供給し
液盛りして、所定のパターン部分に対応する金属膜など
の表面被膜をエッチングするエッチング処理にも適用で
きる。あるいは、図１〜６で示した基板処理装置におい
て、現像液Ｇを剥離液に置き換え、エッチング処理後の
角型基板上面に剥離液を供給し液盛りして、角型基板上
面に残留する不要なレジスト膜を剥離除去する剥離処理
にも適用できる。あるいは、図１〜６で示した基板処理
装置において、現像液Ｇを洗浄液に置き換え、角型基板
の洗浄液による本洗浄前に、角型基板上面に洗浄液を供
給し液盛りして、角型基板上面の洗浄液との親和性（濡
れ性）を高めるためのプリウェット処理にも適用でき
る。

【００４９】その他、特許請求の範囲に記載された事項
の範囲内で種々の設計変更を施すことが可能である。

【００５０】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、請求項１に
係る発明の基板処理装置によると、角型基板上面の、液
供給手段から最初に処理液が供給される１辺付近では、
液未供給部分が発生しにくくなるため、角型基板上面の
特に１辺付近の処理不良を抑え、角型基板の上面を均一
に処理することができるという効果を奏する。

【００５１】また、請求項２に係る発明の基板処理装置
によると、上記請求項１に係る発明と同様の効果を奏す
る。

【００５２】また、請求項３に係る発明の基板処理装置
によると、さらに液未供給部分が形成されにくくなるの
で、さらに、角型基板上面の処理不良を抑え、角型基板
上面を均一に処理することができるという効果を奏す
る。

【００５３】また、請求項４に係る発明の基板処理装置
によると、各吐出口の開口の大きさを適当に変更すれ
ば、角型基板上への処理液の供給量を部分的に適宜調整
することができ、さらに角型基板上面を均一に処理する
ことができるという効果を奏する。

【００５４】また、請求項５に係る発明の基板処理装置
によると、角型基板が搬送されつつその上面に処理液が
供給されるので角型基板の搬送を止めることなく処理液
の供給を進行させることができるという効果を奏する。

【００５５】また、請求項６に係る発明の基板処理装置
によると、角型基板が静止した状態でその上面に処理液
が供給されるので、角型基板上面から処理液が落下して
しまうことを防止でき、処理液の消費量を抑えることが
できるという効果を奏する。

【００５６】さらに、請求項７に係る発明の基板処理方
法によると、角型基板上面の、最初に処理液が供給され
る１辺付近では、液未供給部分が発生しにくくなるた
め、角型基板上面の特に１辺付近の処理不良を抑え、角
型基板の上面を均一に処理することができるという効果
を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の主要
部の構成を簡略的に示す概略図である。

【図２】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の、ス
リットノズルのスリット開口と角型基板との関係を簡単
に示す斜視図である。

【図３】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の、ス
リットノズルの構造を簡単に示す断面図である。

【図４】本発明の一実施形態を変形した、スリットノズ
ルのスリット開口と角型基板Ｓとの関係を示す、角型基
板Ｓの上方から見た平面図である。

【図５】本発明の一実施形態を変形した、スリットノズ
ルのスリット開口と角型基板Ｓとの関係を示す、角型基
板Ｓの上方から見た平面図である。

【図６】本発明の一実施形態とは別の形態の基板処理装
置の主要部の構成を簡略的に示す概略図である。

【符号の説明】

１ 基板導入部 ２ 現像処理部 ３ 水洗処理部 ４ 乾燥処理部 １０ ローラコンベア１０（移動手段、基板搬送手段） ５ スリットノズル（液供給手段） ５１，５１１，５１２ スリット開口（スリット状の吐
出口） ５１３ 開口（複数の吐出口） ６０ スピンチャック（基板回転手段） ７０ ノズル移動機構（液供給移動手段） Ｇ 現像液（処理液） Ｌ 直線（吐出口が沿う直線） Ｒ 搬送ローラ Ｓ 角型基板 Ｓ１ １辺（角型基板の１辺）

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０５Ｃ 13/02 Ｂ０５Ｄ 1/26 Ｚ ４Ｆ０４２ Ｂ０５Ｄ 1/26 Ｂ６５Ｇ 49/06 Ｚ ５Ｆ０４６ Ｂ６５Ｇ 49/06 Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ Ｇ０３Ｆ 7/30 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/30 ５０１ ５０２ ５０２ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６９Ｄ Ｆターム(参考） 2H088 FA17 FA21 FA23 FA24 FA30 HA01 MA20 2H096 AA24 AA27 GA23 GA24 4D075 AC02 AC06 AC09 AC65 AC77 AC79 AC88 AC93 CA47 DA06 DB13 DC24 EA07 4F033 AA01 AA04 AA14 BA03 CA05 DA05 EA01 EA06 4F041 AA02 AA05 AB01 BA05 BA12 BA13 BA21 CA02 CA22 4F042 AA02 AA10 DF19 DF31 EB09 EB13 EB18 5F046 LA03 LA04 LA11

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 水平面に含まれる所定の線に沿って設け
   られた吐出口を有し、この吐出口から、水平に保持され
   た角型基板の上面に処理液を供給する液供給手段と、 この液供給手段が角型基板の上方を通過するように、液
   供給手段および角型基板のうちの少なくともいずれか一
   方を移動させる移動手段と、を備え、 上記吐出口が沿う所定の線は少なくとも直線を含むもの
   であり、かつ、上記移動手段によって液供給手段が角型
   基板の上方を通過する際に、上記液供給手段から最初に
   処理液が供給される角型基板の１辺と、上記吐出口が沿
   う直線とが互いにねじれの位置関係にあることを特徴と
   する基板処理装置。
2. 【請求項２】 水平面に含まれる所定の線に沿って設け
   られた吐出口を有し、この吐出口から、水平に保持され
   た角型基板の上面に処理液を供給する液供給手段と、 この液供給手段が角型基板の上方を通過するように、液
   供給手段および角型基板のうちの少なくともいずれか一
   方を移動させる移動手段と、を備え、 上記吐出口が沿う所定の線は曲線であることを特徴とす
   る基板処理装置。
3. 【請求項３】 上記吐出口は、上記所定の線に沿って連
   続して開口するスリット状の吐出口であることを特徴と
   する請求項１または２に記載の基板処理装置。
4. 【請求項４】 上記吐出口は、上記所定の線に沿って間
   隔をあけて設けられた複数の吐出口であることを特徴と
   する請求項１または２に記載の基板処理装置。
5. 【請求項５】 上記移動手段は、液供給手段が角型基板
   の上方を通過するように、角型基板を搬送する基板搬送
   手段であり、 この基板搬送手段は、液供給手段が角型基板の上方を通
   過した後において、所定の期間、角型基板の搬送速度を
   低下させるか、あるいは、角型基板の搬送を停止させる
   ものであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれ
   かに記載の基板処理装置。
6. 【請求項６】 上記移動手段は、液供給手段が角型基板
   の上方を通過するように、液供給手段を移動させる液供
   給移動手段であり、 液供給手段が角型基板の上方を通過した後において、所
   定の期間、角型基板を水平に静止保持した後で、角型基
   板を回転させる基板回転手段をさらに含むことを特徴と
   する請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装
   置。
7. 【請求項７】 角型基板の上面に対して、角型基板の１
   辺から当該１辺に対向する辺の方向に、順次、処理液を
   供給しつつ角型基板を処理する基板処理方法において、 上記角型基板の１辺に処理液を供給する際に、当該１辺
   の少なくとも一部分に対して、当該１辺に沿う方向に順
   にタイミングをずらして処理液を供給することを特徴と
   する基板処理方法。