JP2008277556A - 基板の処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】この発明は基板を幅方向に傾斜させて搬送するとともに、その上面全体を処理液によって均一に処理することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】所定の角度で傾斜しその傾斜方向と交差する方向に搬送される基板の上面を処理液供給装置31から供給される処理液によって処理する基板の処理装置であって、
処理液供給装置は、基板の傾斜方向に沿って配置され内部に処理液が供給貯留される容器本体32と、容器本体の下面に開口形成され内部に供給貯留された処理液を基板の搬送方向と交差する方向に沿って直線状に流出させるノズル孔40と、容器本体の下面側に設けられ基板の搬送方向下流側に向かって低く傾斜した傾斜面45を有するとともに、傾斜面の下端縁45aが搬送される基板の傾斜した上面と平行に離間対向するよう傾斜して形成されていて、ノズル孔から流出する処理液を傾斜面で受けて傾斜面の下端縁から基板の上面に供給するガイド部材42を具備する。
【選択図】 図2
【解決手段】所定の角度で傾斜しその傾斜方向と交差する方向に搬送される基板の上面を処理液供給装置31から供給される処理液によって処理する基板の処理装置であって、
処理液供給装置は、基板の傾斜方向に沿って配置され内部に処理液が供給貯留される容器本体32と、容器本体の下面に開口形成され内部に供給貯留された処理液を基板の搬送方向と交差する方向に沿って直線状に流出させるノズル孔40と、容器本体の下面側に設けられ基板の搬送方向下流側に向かって低く傾斜した傾斜面45を有するとともに、傾斜面の下端縁45aが搬送される基板の傾斜した上面と平行に離間対向するよう傾斜して形成されていて、ノズル孔から流出する処理液を傾斜面で受けて傾斜面の下端縁から基板の上面に供給するガイド部材42を具備する。
【選択図】 図2
Description
この発明は、たとえば大型サイズの液晶表示パネルなどの基板を搬送しながら処理液で処理する基板の処理装置に関する。
液晶表示パネルに用いられるガラス製の基板には回路パターンが形成される。基板に回路パターンを形成するにはリソグラフィープロセスが採用される。リソグラフィープロセスは周知のように上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成されたマスクを介して光を照射する。
つぎに、レジストの光が照射されない部分或いは光が照射された部分を除去し、レジストが除去された部分をエッチングする。そして、エッチング後に基板からレジストを除去するという一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回路パターンを形成する。
このようなリソグラフィープロセスにおいては、上記基板に現像液、エッチング液或いはエッチング後にレジストを除去する剥離液などの処理液によって基板を処理する工程、さらに処理液による処理後に洗浄液によって洗浄する工程が必要となる。
上記現像液、エッチング液或いは剥離液などの処理液によって基板を処理する場合、その処理を基板の板面全体に対して均一に行なうためには、基板に処理液が供給されたときの濡れ(プリウエット)が均一になることが要求される。
たとえば、処理液を加圧してノズルなどから噴射させると、処理液は粒状になって飛散するため、基板に対して均一に付着しないということがある。つまり、処理液によるプリウエットが均一に行なわれなくなる。その結果、処理液による基板の処理も均一に行なうことができないということがある。
そこで、特許文献1に示されるように、下端面にスリット状の流出部が形成された処理液供給装置を、搬送される基板の上方に搬送方向と交差する方向である、幅方向に沿って配置し、上記処理液供給装置に供給された処理液を上記流出部から水頭による圧力で流出させることで、基板の幅方向に対して処理液を均一に供給するということが行なわれている。
ところで、最近では液晶表示装置に用いられるガラス製の基板が大型化及び薄型化する傾向にある。そのため、基板を水平搬送すると、基板に供給された処理液の重量によって基板の撓みが大きくなって、基板の搬送が円滑に行なえなくなるということがある。しかも、基板の上面に多量の処理液が残留した状態で、基板が処理部から搬出されることになるから、処理液を回収して再利用する場合、処理液の消費量が多くなり、ランニングコストの上昇を招く一因になっていた。
このような問題を解決するため、最近では基板を所定の角度で傾斜させて搬送することで、基板の板面に供給された処理液を円滑に流出させ、基板のたわみを少なくしたり、基板とともに処理部から持ち出される処理液の量を少なくするということが実用化されている。
特許文献2には基板を傾斜させて搬送する場合、その傾斜方向の上端側に基板の搬送方向に沿ってスプレイ用パイプを配置し、このスプレイ用パイプから流出させた処理液を液受け板で受けてから、基板の傾斜方向上端側から下端側に沿って流して上記基板の上面を処理することが示されている。
特開2006−297274号公報
特開2004−153033号公報
特許文献2に示されるように、傾斜した基板の傾斜方向の上端側に、基板の搬送方向に沿ってスプレイ用パイプを配置し、このパイプから流出させた処理液を液受け板を介して傾斜して搬送される基板の傾斜方向上端側に供給するようにすると、処理液は基板の傾斜方向下方へ流れるだけでなく、基板の搬送速度によって相対的にその基板の上面を搬送方向上流側(搬送方向の後端側)に向かって流れることになる。
そのため、基板の搬送方向の先端部においては、基板の傾斜方向上端側に供給された処理液が傾斜方向の下端に流れ難いということが生じるから、基板の上面全体を処理液によって均一に処理することができないということがある。とくに、処理能率を向上させるために、基板の搬送速度を速くすると、その傾向が顕著になるということがある。
この発明は、傾斜して搬送される基板の上面の搬送方向と交差する方向に対して処理液を均一に、しかも同じ圧力で供給できるようにすることで、基板の上面全体を均一に処理することができる基板の処理装置を提供することにある。
この発明は、所定の角度で傾斜しその傾斜方向と交差する方向に搬送される基板の上面を処理液供給手段から供給される処理液によって処理する基板の処理装置であって、
上記処理液供給手段は、
上記基板の傾斜方向に沿って配置され内部に上記処理液が供給貯留される容器本体と、
この容器本体の下面に開口形成され容器本体内に供給貯留された処理液を上記基板の搬送方向と交差する方向に沿って直線状に流出させる流出部と、
上記容器本体の下面側に設けられ上記基板の搬送方向下流側に向かって低く傾斜した傾斜面を有するとともに、この傾斜面の下端縁が搬送される上記基板の傾斜した上面と平行に離間対向するよう傾斜して形成されていて、上記流出部から流出する処理液を上記傾斜面で受けてこの傾斜面の下端縁から上記基板の上面に供給するガイド部材と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
上記処理液供給手段は、
上記基板の傾斜方向に沿って配置され内部に上記処理液が供給貯留される容器本体と、
この容器本体の下面に開口形成され容器本体内に供給貯留された処理液を上記基板の搬送方向と交差する方向に沿って直線状に流出させる流出部と、
上記容器本体の下面側に設けられ上記基板の搬送方向下流側に向かって低く傾斜した傾斜面を有するとともに、この傾斜面の下端縁が搬送される上記基板の傾斜した上面と平行に離間対向するよう傾斜して形成されていて、上記流出部から流出する処理液を上記傾斜面で受けてこの傾斜面の下端縁から上記基板の上面に供給するガイド部材と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
上記ガイド部材の傾斜面の下端縁は、上記基板の搬送方向に対して直交していることが好ましい。
上記容器本体は、内部に供給貯留される処理液の液面が上記基板の傾斜方向に沿って同じ高さになるよう水平に配置されていることが好ましい。
この発明によれば、容器本体の流出部から傾斜して搬送される基板の傾斜方向と交差する方向に沿って直線状に流出する処理液をガイド部材で受ける。このガイド部材は基板の搬送方向下流側に向かって低く傾斜し、しかも下端縁は基板の上面と平行に離間対向するよう傾斜している。
そのため、ガイド部材を介して基板に供給される処理液は、基板の搬送方向と交差する方向の全長にわたって均一に、しかも基板の上面と平行に離間対向したガイド部材の下端縁全長から基板の上面に対して同じ圧力で供給されるから、傾斜して搬送される基板の上面の処理を全体にわたって均一に行なうことが可能となる。
以下、この発明の一実施の形態を図面を参照しながら説明する。
図1は基板の処理装置の概略的構成図であって、この処理装置はチャンバ1を有する。このチャンバ1の長手方向一端には同図に鎖線で示す搬入口2が水平に形成され、他端には図示しない搬出口が上記搬入口2と同じ高さで形成されている。
上記チャンバ1内には搬送機構4が設けられている。この搬送機構4は矩形枠状のフレーム5を有する。このフレーム5は上記チャンバ1内の幅方向一端と他端とに設けられた受け部材6によって支持されている。一方の受け部材6には高さ調整部材7が設けられている。それによって、上記フレーム5はチャンバ1の幅方向に対して所定の角度で傾斜している。
上記フレーム5には軸線をチャンバ1の幅方向に沿わせた複数の搬送軸11(1つだけ図示)がチャンバ1の長手方向に対して所定間隔で設けられている。各搬送軸11は両端が上記フレーム5の幅方向両端に設けられた軸受12によって回転可能に支持され、上記フレーム5と同じ角度でチャンバ1の幅方向に対して傾斜している。なお、搬送軸11は現像液、剥離液或いはエッチング液などの処理液によって腐食されることのない金属材料によって形成されている。
さらに、各搬送軸11には軸方向に所定間隔で複数の搬送ローラ13が設けられている。通常、上記搬送軸11は処理液に対して耐蝕性を備えたステンレス鋼などの金属材料によって形成され、上記搬送ローラ13は同じく耐蝕性を備えた塩化ビニールなどの合成樹脂によって形成されている。
上記フレーム5の高さ方向上端の一側外方には伝達軸14がチャンバ1の長手方向に沿って設けられている。この伝達軸14の中途部には従動歯車15が設けられている。この従動歯車15には駆動歯車16が噛合している。この駆動歯車16はチャンバ1の外部に設けられた駆動源17の出力軸18に嵌着されている。
詳細は図示しないが、上記搬送軸11の上記伝達軸14側に位置する一端部には第1のかさ歯車が設けられている。第1のかさ歯車には上記搬送軸11に設けられた第2のかさ歯車が噛合している。したがって、上記駆動源17が作動して上記駆動歯車16及び従動歯車15を介して上記伝達軸14が回転すると、上記第1、第2のかさ歯車を介して上記搬送軸11が回転駆動される。それによって、上記搬入口2からチャンバ1内に供給されて搬送軸11の搬送ローラ13に支持された液晶表示パネルなどの基板Wは搬出口に向かって搬送されるようになっている。
なお、搬送ローラ13によって支持されて搬送される基板Wの幅方向両端は、上記フレーム5に設けられたラジアル軸受19によって支持される。それによって、基板Wはチャンバ1の幅方向に対して蛇行することなく搬送されるようになっている。
上記チャンバ1内には、上記搬送軸11に設けられた搬送ローラ13よって搬送される基板Wの上面に上述した現像液、剥離液或いはエッチング液などの処理液Lを基板Wの搬送方向と交差する幅方向に沿って直線状に供給する処理液供給手段としての処理液供給装置31が設けられている。
上記処理液供給装置31は図2乃至図4に示すように容器本体32を有する。この容器本体32は上記基板Wの幅方向、つまりチャンバ1の幅方向に沿って細長く、上面が開口した箱型状に形成されている。この容器本体32の幅寸法は上記基板Wの幅寸法よりも長く設定されていて、内部は図2に示すように容器本体32の長手方向に沿って設けられた仕切体33によってこの長手方向と直交する方向に流入部34と貯液部35とに区画されている。この実施の形態では、上記流入部34は図2と図4に矢印で示す基板Wの搬送方向の上流側に位置し、貯液部35は下流側に位置している。
上記流入部34の側壁34aの下部には、この側壁34aの幅方向に沿って複数の供給口体36(図2に1つだけ図示)が長手方向に等間隔で設けられている。各供給口体36には処理液の給液管37の一端が接続されている。給液管37の他端は図示しない処理液の供給部に連通している。それによって、上記容器本体32の流入部34には上記側壁34aの下部から処理液が所定の圧力で供給されるようになっている。
上記流入部34には、この流入部34内を上記供給口体36側に位置する第1の部屋38aと、上記貯液部35側に位置する第2の部屋38bとに区画した衝突壁39が容器本体32の長手方向である、幅方向全長にわたって設けられている。
上記衝突壁39の高さは上記仕切体33の高さよりも低く設定されている。それによって、上記供給口体36から第1の部屋38aに供給された処理液Lは衝突壁39に衝突して勢いが弱められながら第1の部屋38aに溜まって液面が上昇する。そして、液面が衝突壁39とほぼ同じ高さに上昇すると、その衝突壁39を図2に矢印で示すようにオーバフローして第2の部屋38bに流入する。
処理液Lは供給口体36から第1の部屋38aに勢いよく流入することで、空気を巻き込み、それが気泡の発生の原因となる。しかしながら、供給口体36から第1の部屋38aに流入した処理液Lは衝突壁39で衝突して勢いが弱められて衝突壁39をオーバフローして第2の部屋38bに流入する。
つまり、処理液Lは第1の部屋38aに流入するときの勢いで乱流が生じて気泡の発生を招くが、第2の部屋38bには乱流を生じることなく静かに流入するため、そのときに気泡の発生を招くということがほとんどない。
処理液Lが第2の部屋38bにオーバフローし、流入部34の液面が仕切体33の上端とほぼ同じ高さになると、処理液Lは図2に矢印で示すように仕切体33をオーバフローして貯液部35に流入する。そのときも、処理液Lはオーバフローによって貯液部35に乱流とならずに静かに流入するため、乱流の発生を招くことがない。
上記貯液部35の底壁35aには、図4に示すように流出部を形成する複数のノズル孔40が容器本体32の幅方向に沿って所定の間隔で一列に形成されている。この実施の形態では、上記ノズル孔40は孔径が0.5mmで、ピッチが0.7mmに設定されている。
それによって、処理液Lは容器本体32内に貯えられた高さに応じた圧力で上記ノズル孔40から流出する。0.7mmのピッチで形成された隣り合うノズル孔40から流出する処理液Lは連なり、一直線となって基板Wの上面に供給される。つまり、流出部を複数のノズル孔40によって形成しても、処理液Lは各ノズル孔40ごとに分かれることなく、基板Wの幅方向に沿って直線状に連なって供給される。
なお、処理液供給装置31の容器本体32は上記チャンバ1内に水平に配置される。それによって、容器本体32内に貯留される処理液Lの液面の高さは容器本体32の幅方向全長にわたって同じになるから、貯液部35の底壁35aに形成された各ノズル孔40から流出する処理液Lの水頭による流出圧力が同じになる。つまり、各ノズル孔40から流出して直線状に連なる処理液Lは全長にわたってほぼ均一な圧力となる。
なお、容器本体32に供給された処理液Lの液面の高さが側壁34aよりも高くなると、その側壁34aをオーバフローして排出部41に流入し、図示しない排液管を通じて排出される。それによって、容器本体32内の処理液Lの液面は常に一定の高さに維持されるようになっている。
上記貯液部35の底壁35aには上記ノズル孔40から流出する処理L液を、傾斜して搬送される上記基板Wの上面にガイドするガイド部材42が設けられている。このガイド部材42は、図2に示すように上端部に形成された折曲部43が上記底壁35aにねじ44によって取り付けられている。このガイド部材42は、上記基板Wの搬送方向下流側に向かって低く傾斜した傾斜面45を有し、この傾斜面45の下端縁45aは図3に示すように傾斜して搬送される基板Wの上面と平行に離間対向している。
容器本体32を水平に配置した場合、上記ガイド部材42の下端縁45aを基板Wの上面と平行に離間対向させるためには、その下端縁45aは図3に示すように正面から見て基板Wの幅方向に対し、水平面に対して角度θ1で傾斜するだけでなく、図4に示すように上方から見て容器本体32の幅方向と平行な直線Hに対してθ2の角度で傾斜(水平方向に回転)することになる。
そして、上記ガイド部材42は上方から見て水平方向に角度θ2で傾斜した下端縁45aがなす直線が図4に矢印Xで示す基板Wの搬送方向に対して直交するよう、上記容器本体32が水平方向に角度θ2で回転させて配置されている。
このような構成の処理装置によれば、基板Wを搬送方向と交差する方向である、幅方向に所定角度で傾斜させて搬送し、処理液Lは処理液供給装置31によって基板Wの搬送方向と交差する幅方向の全長にわたって供給するようにした。
処理液供給装置31の容器本体32には、処理液Lが供給貯留される貯液部35の底壁35aにガイド部材42が設けられている。このガイド部材42は上記底壁35aに穿設された多数のノズル孔40aから直線状に流出する処理液Lを受ける傾斜面45を有する。
上記傾斜面45は基板Wの搬送方向下流側に向かって低く傾斜し、しかも下端縁45aは傾斜した基板Wの上面の幅方向全長に対して平行に離間対向するようθ1の角度で傾斜している。つまり、傾斜面45の下端縁45aは基板Wの上面の幅方向全長にわたって同じ間隔で離間対向している。
したがって、上記ノズル孔40aから上記ガイド部材42の傾斜面45に流出する処理液Lは、その傾斜面45の下端縁45aから基板Wの上面に、基板Wの幅方向全長にわたって同じ圧力で供給される。
しかも、上記容器本体32は、傾斜した基板Wに対して水平に配置されている。そのため、容器本体32の貯液部35に供給貯留された処理液Lの液面の高さは容器本体32の幅方向全長にわたって同じになる。つまり、貯液部35から直線状に供給される処理液Lは、その直線の全長にわたって同じ圧力となる。したがって、これらのことにより、基板Wは幅方向全長が同じ圧力の処理液Lによって均一に処理されることになる。
上記ガイド部材42の傾斜面45の下端縁45aがなす直線は、平面視で容器本体32の幅方向と平行な直線Hに対してθ2の角度で傾斜している。そして、上記ガイド部材42が取り付けられた容器本体32は、上記ガイド部材42の傾斜面45の下端縁45aが基板Wの搬送方向と直交するよう配置されている。つまり、容器本体32を、基板Wの搬送方向と直交する方向に対して水平方向にθ2の角度で回転させて配置した。
そのため、ガイド部材42の傾斜面45の下端縁45aからは、図4に矢印Sで示すように基板Wの搬送方向と直交する幅方向全長に対して同時に処理液Lが供給されることになる。したがって、基板Wがチャンバ1内をその幅方向と直交する方向に搬送されることで、処理液Lは基板Wの全面にもれなく均一に供給されるから、それによって基板Wの全面を均一に処理することが可能となる。
つまり、傾斜して搬送される基板Wに対し、搬送方向と直交する傾斜方向である、幅方向の全長に対して同時に処理液Lを供給することができるから、基板Wの上面全体を均一に処理することができる。
上記実施の形態では処理液の流出部を複数のノズル孔によって形成したが、貯液部の底壁にスリット(図示せず)を形成し、このスリットから処理液を直線状に流出させるようにしてもよい。
また、ガイド部材が設けられた容器本体を、ガイド部材の傾斜面の下端縁が基板の搬送方向と直交する幅方向に沿うよう、水平方向にθ2の角度で回転させて配置したが、上記ガイド部材の下端縁は基板の幅方向に対して搬送方向と直交する角度でなく、所定の角度で傾斜していてもよい。つまり、基板の搬送方向と交差する幅方向全長に対して処理液を同時に供給することが可能であればよい。
4…搬送機構、11…搬送軸、13…搬送ローラ、31…処理液供給装置(処理液供給手段)、32…容器本体、35…貯液部、40…ノズル孔(流出部)、42…ガイド部材、45…傾斜面、45a…傾斜面の下端縁。
Claims (3)
- 所定の角度で傾斜しその傾斜方向と交差する方向に搬送される基板の上面を処理液供給手段から供給される処理液によって処理する基板の処理装置であって、
上記処理液供給手段は、
上記基板の傾斜方向に沿って配置され内部に上記処理液が供給貯留される容器本体と、
この容器本体の下面に開口形成され容器本体内に供給貯留された処理液を上記基板の搬送方向と交差する方向に沿って直線状に流出させる流出部と、
上記容器本体の下面側に設けられ上記基板の搬送方向下流側に向かって低く傾斜した傾斜面を有するとともに、この傾斜面の下端縁が搬送される上記基板の傾斜した上面と平行に離間対向するよう傾斜して形成されていて、上記流出部から流出する処理液を上記傾斜面で受けてこの傾斜面の下端縁から上記基板の上面に供給するガイド部材と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置。 - 上記ガイド部材の傾斜面の下端縁は、上記基板の搬送方向に対して直交していることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
- 上記容器本体は、内部に供給貯留される処理液の液面が上記基板の傾斜方向に沿って同じ高さになるよう水平に配置されていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
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