JP6005604B2 - 現像処理装置 - Google Patents

Description

この発明は、例えば半導体ウエハ等の基板に現像液を供給して処理を施す現像処理装置に関する。

一般に、例えば、半導体ウエハ等の基板の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では、基板上にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理、基板上のレジスト膜に対し所定のパターンの露光を行う露光処理、露光処理後の基板上に現像液を供給して基板上のレジスト膜を現像する現像処理等が行われている。

レジスト塗布処理では、現像処理の際に露光された箇所を除去することでパターンを生成するポジ型レジスト液、若しくは又は現像処理の際に露光されていない箇所を除去することでパターンを生成するネガ型レジスト液が用いられる。このレジスト液は、パターンを生成する際に必要な解像度、基板とレジスト液との密着性、レジスト液の耐熱性等を考慮して選択される。また、現像処理では、ポジ型レジスト液を塗布した基板に対して現像処理を行うポジ型現像液、若しくはネガ型レジスト液を塗布した基板に対して現像処理を行うネガ型現像液が用いられる。

一般に、ポジ型現像液としてはアルカリ溶液が用いられており、ネガ型現像液としてはケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤等の極性溶剤及び炭化水素系溶剤が用いられている。そのため、ポジ型現像液の廃液とネガ型現像液の廃液を混合させると、廃液同士で化学反応を生じることがあり、廃液処理を適切に行うことができなくなる。

ポジ型現像液の廃液とネガ型現像液の廃液の混合を防止する現像処理装置の一例として、特許文献１に記載される現像処理装置が知られている。特許文献１に記載の現像処理装置によれば、ポジ型現像液による現像処理とネガ型現像液による現像処理を別々のモジュールで行うことで、ポジ型現像液の廃液とネガ型現像液の廃液の混合を防止している。

特開２０１２−５４４６９号公報

しかしながら、特許文献１に記載の現像処理装置では、ポジ型現像液による現像処理とネガ型現像液による現像処理を別々のモジュールで行っているため、現像処理装置を搭載するモジュールの数が増加する。

この発明は、上記事情に鑑みなされたもので、ポジ型現像液による現像処理とネガ型現像液による現像処理の両方を行うことができる現像処理装置において、搭載するモジュール数を減少させることで、装置の小型化を可能とする現像処理装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、請求項１記載の発明は、 表面にポジ型レジスト又はネガ型レジストが塗布され、露光された基板に現像液を供給して現像を行う現像処理装置であって、 上記基板を水平に保持する基板保持部と、 該基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、 上記基板保持部に保持された基板の表面に対して上記ポジ型レジスト用の現像液を供給するポジ型現像液供給ノズルと、 上記基板保持部に保持された基板の表面に対して上記ネガ型レジスト用の現像液を供給するネガ型現像液供給ノズルと、 上記基板保持部に保持された基板の表面に対して上記ポジ型レジスト用の洗浄液を供給するポジ型洗浄液供給ノズルと、 上記基板保持部に保持された基板の表面に対して上記ネガ型レジスト用の洗浄液を供給するネガ型洗浄液供給ノズルと、 上側を開口した有底の円環状に形成され、上記基板の回転に伴って飛散する現像液を回収するカップ体と、 上記カップ体の外周側に接続され上記カップ体で回収された上記ポジ型レジスト用又は上記ネガ型レジスト用の一方の現像液を排出させる第１の現像液排出管路と、 上記カップ体の内周側に接続され上記カップ体で回収された上記ポジ型レジスト用又は上記ネガ型レジスト用の他方の現像液を排出させる第２の現像液排出管路と、 上記基板の回転に伴って飛散する上記洗浄液を回収する上記カップ体によって回収された上記洗浄液を排出させる洗浄液排出管路と、 上記カップ体の内周壁と上記カップ体の外周壁との間に周壁を有し、上記基板保持部に保持されている基板の下側に形成されている固定カップと、 上記固定カップの周壁と上記カップ体の外周壁との間に仕切を有し、上記仕切を上昇させることで、該仕切と上記固定カップの周壁とで囲まれた内周流路に上記ポジ型レジスト用又は上記ネガ型レジスト用の一方の飛散した現像液を導入させ、上記仕切を下降させることで、該仕切と上記カップ体の外周壁とで囲まれた外周流路に上記ポジ型レジスト用又は上記ネガ型レジスト用の他方の飛散した現像液を導入させる可動カップと、 上記ポジ型レジスト用の現像液の使用時には上記可動カップを上昇させ、上記ネガ型レジスト用の現像液の使用時には上記可動カップを下降させる制御部と、を備え、 上記カップ体と接続されている上記第１の現像液排出管路の接続部において上記カップ体の底壁に起立する上記カップ体と同心円状の外側壁と、上記カップ体と接続されている上記第２の現像液排出管路の接続部において上記カップ体の底壁に起立する上記カップ体と同心円状の内側壁とによって上記両接続部が上方向に迂回するように形成され、 上記外側壁と上記内側壁と上記カップ体の底壁の間に形成された下部流路に上記洗浄液排出管路が設けられている、ことを特徴とする。

請求項１に記載の発明において、上記制御部により、上記回転駆動機構が制御可能に形成され、上記ポジ型レジスト用の現像液の使用時における上記基板保持部の回転数を、上記ネガ型レジスト用の現像液の使用時における上記基板保持部の回転数より大きくするのが好ましい（請求項２）。

また、請求項１又は２に記載の発明において、上記固定カップは、上記基板保持部により保持された基板の周縁と上記可動カップの開口縁との間に位置する気液分離用の環状突起を備えるのが好ましい（請求項３）。この場合、上記固定カップは、上記環状突起の内周側に上記基板の下面に近接する環状ナイフエッジを備え、上記環状突起と環状ナイフエッジとの間に形成される環状凹溝の底部に上記カップ体の底部に連通する排液通路を形成してもよい（請求項４）。

また、請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の発明において、上記制御部により、上記基板保持部の基板保持面に対して昇降可能な基板支持部材を昇降可能に形成し、 上記ポジ型レジスト用の現像液のポジ現像処理後、又は、上記ネガ型レジスト用の現像液のネガ現像処理後に、上記制御部により、上記基板支持部材を上昇させて装置外部の基板搬送手段への基板の受け渡し、及び基板の受け取りを可能に形成し、 上記ポジ現像処理後にポジ現像処理を行う場合は、上記基板支持部材を上昇させて処理後の基板を基板受渡し位置へ移動した後、又は、処理後の基板を基板受渡し位置へ移動すると同時に、上記可動カップを下降させ、 上記基板支持部材が未処理の基板を受け取った状態で、上記基板支持部材が下降した後、又は、上記基板支持部材が下降すると同時に、上記可動カップを上昇させ、 上記ポジ現像処理後に上記ネガ現像処理を行う場合は、上記基板支持部材を上昇させて処理後の基板を基板受渡し位置へ移動した後、又は、処理後の基板を基板受渡し位置へ移動すると同時に、上記可動カップを下降させ、 上記ネガ現像処理後に上記ポジ現像処理を行う場合は、上記基板支持部材が未処理の基板を受け取った状態で、上記基板支持部材が下降した後、又は、上記基板支持部材が下降すると同時に、上記可動カップを上昇させる、ことを特徴とする。

また、請求項１に記載の発明において、上記第１の現像液排出管路及び第２の現像液排出管路には現像液用ポンプ及び現像液用開閉弁が介設され、上記第１の現像液排出管路又は上記第２の現像液排出管路の一方に介設されている上記現像液用ポンプが駆動し上記現像液用開閉弁が開いている場合には、上記第１の現像液排出管路又は上記第２の現像液排出管路の他方に介設されている上記現像液用ポンプの駆動が停止し上記現像液用開閉弁が閉じることが好ましい（請求項６）。

請求項１に記載の発明において、上記カップ体に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルが設けられ、該洗浄液供給ノズルから供給される洗浄液が上記カップ体に設けられた上記下部流路に貯留するように形成するのがさらに好ましい（請求項７）。

また、上記基板の回転に伴って飛散する現像液に起因して生じるミストを排気する排気管路内に設けられ、上記ポジ型レジスト用の現像液の飛散に起因して発生する気体を排気するポジ型排気管路と、上記排気管路内に設けられ、上記ネガ型レジスト用の現像液の飛散に起因して発生する気体を排気するネガ型排気管路と、上記排気管路内に設けられ、上記ポジ型排気管路若しくは上記ネガ型排気管路のいずれか一の管路と上記カップ体との接続を切り換える切換ダンパと、上記ポジ型レジスト用の現像液の使用時には、上記ポジ型排気管路と上記カップ体とを連通し上記ネガ型排気管路と上記カップ体との連通を阻止するように上記切換ダンパを移動させ、上記ネガ型レジスト用の現像液の使用時には、上記ネガ型排気管路と上記カップ体とを連通し上記ポジ型排気管路と上記カップ体との連通を阻止するように上記切換ダンパを移動させる切換ダンパ制御部と、を備えることが好ましい（請求項８）。

この発明は、上記のように構成されているので、１つのモジュールに搭載されている現像処理装置でポジ型現像液とネガ型現像液を混合させることなく現像液の排出処理を行うことができる。そのため、現像処理装置に搭載するモジュール数を減少させることができ、現像処理装置の小型化を図ることができる。

この発明に係る現像処理装置を適用した塗布・現像処理装置に露光処理装置を接続した処理システムの全体を示す概略斜視図である。 上記処理システムの概略平面図である。 この発明の第１実施形態に係る現像処理装置を示す概略断面図である。 この発明における固定カップの別の形態を示す断面図（ａ）及び（ａ）の要部拡大断面図（ｂ）である。 上記固定カップの更に別の形態を示す拡大断面図である。 第１実施形態に係る現像処理装置の概略平面図である。 第１実施形態に係る現像処理装置の現像液供給ノズルとこの現像液供給ノズルの待機部の概略断面図である。 第１実施形態に係る現像処理装置の洗浄液供給ノズルとこの洗浄液供給ノズルの待機部の概略断面図である。 第１実施形態に係る現像処理装置においてポジ型現像液による現像処理を行った場合の現像液とミストの流路を示す概略断面図（ａ）、ネガ型現像液による現像処理を行った場合の現像液とミストの流路を示す概略断面図（ｂ）である。 第２実施形態に係る現像処理装置を示す概略断面図である。 第２実施形態に係る現像処理装置においてポジ型現像液による現像処理を行った場合の現像液とミストの流路を示す概略断面図（ａ）、ネガ型現像液による現像処理を行った場合の現像液とミストの流路を示す概略断面図（ｂ）である。 第３実施形態に係る現像処理装置を示す概略断面図である。 第３実施形態に係る現像処理装置においてポジ型現像液による現像処理を行った場合の現像液とミストの流路を示す概略断面図（ａ）、ネガ型現像液による現像処理を行った場合の現像液とミストの流路を示す概略断面図（ｂ）である。 第４実施形態に係る現像処理装置を示す概略断面図である。 第５実施形態に係る現像処理装置を示す概略断面図である。 第５実施形態に係る現像処理装置においてポジ型現像液による現像処理を行った場合の現像液とミストの流路を示す概略断面図（ａ）、ネガ型現像液による現像処理を行った場合の現像液とミストの流路を示す概略断面図（ｂ）である。 ２つの現像処理装置を設けたモジュールの一例を示す概略側面図である。 ２つの現像処理装置を設けたモジュールの一例を示す概略平面図である。 ２つの現像処理装置を設けたモジュールの他の例を示す概略側面図である。 ２つの現像処理装置を設けたモジュールの他の例を示す概略平面図である。 排液の逆流防止機構を示す概略平面図である。 この発明におけるポジ現像処理を続けて行う場合の可動カップとウエハを支持する支持ピンの動作態様を示すフロー図及び概略図である。 この発明におけるネガ現像処理を続けて行う場合の可動カップとウエハを支持する支持ピンの動作態様を示すフロー図及び概略図である。 この発明におけるポジ現像処理後にネガ現像処理を行う場合の可動カップとウエハを支持する支持ピンの動作態様を示すフロー図及び概略図である。 この発明におけるネガ現像処理後にポジ現像処理を行う場合の可動カップとウエハを支持する支持ピンの動作態様を示すフロー図及び概略図である。

以下、この発明の実施形態について、添付図面に基づいて説明する。ここでは、この発明に係る現像処理装置を塗布・現像・露光処理を行う処理システムに適用した場合について説明する。

上記処理システムは、図１及び図２に示すように、基板である半導体ウエハＷ（以下にウエハＷという）を複数枚例えば２５枚密閉収納するキャリア１０を搬出入するためのキャリアステーション１と、このキャリアステーション１から取り出されたウエハＷにレジスト塗布，現像処理等を施す処理部２と、ウエハＷの表面に光を透過する液層を形成した状態でウエハＷの表面を液浸露光する露光部４と、処理部２と露光部４との間に接続されて、ウエハＷの受け渡しを行うインターフェース部３とを具備している。

キャリアステーション１には、キャリア１０を複数個並べて載置可能な載置部１１と、この載置部１１から見て前方の壁面に設けられる開閉部１２と、開閉部１２を介してキャリア１０からウエハＷを取り出すための受け渡し手段Ａ１とが設けられている。

インターフェース部３は、処理部２と露光部４との間に前後に設けられる第１の搬送室３Ａ及び第２の搬送室３Ｂにて構成されており、それぞれに第１のウエハ搬送部２６Ａ及び第２のウエハ搬送部２６Ｂが設けられている。

また、キャリアステーション１の奥側には筐体２０にて周囲を囲まれる処理部２が接続されており、この処理部２には手前側から順に加熱・冷却系のユニットを多段化した棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３及び液処理ユニットＵ４，Ｕ５の各ユニット間のウエハＷの受け渡しとウエハＷの搬送を行う主搬送手段Ａ２，Ａ３が交互に配列して設けられている。また、主搬送手段Ａ２，Ａ３は、キャリアステーション１から見て前後方向に配置される棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３側の一面部と、後述する例えば右側の液処理ユニットＵ４，Ｕ５側の一面部と、左側の一面をなす背面部とで構成される区画壁２１により囲まれる空間内に配置されている。また、キャリアステーション１と処理部２との間、処理部２とインターフェース部３との間には、各ユニットで用いられる処理液の温度調節装置や温湿度調節用のダクト等を備えた温湿度調節ユニット２２が配置されている。

棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３は、液処理ユニットＵ４，Ｕ５にて行われる処理の前処理及び後処理を行うための各種ユニットを複数段例えば１０段に積層した構成とされており、その組み合わせはウエハＷを加熱（ベーク）する加熱ユニット（図示せず）、ウエハＷを冷却する冷却ユニット（図示せず）等が含まれる。また、液処理ユニットＵ４，Ｕ５は、例えば図２に示すように、レジストや現像液などの薬液収納部の上に反射防止膜を塗布する反射防止膜塗布ユニット（ＢＣＴ）２３，塗布ユニット（ＣＯＴ）２４、ウエハＷに現像液を供給して現像処理する現像ユニット（ＤＥＶ）２５等を複数段例えば５段に積層して構成されている。この発明に係る現像処理装置５０は現像ユニット（ＤＥＶ）２５に設けられている。また、反射防止膜塗布ユニット（ＢＣＴ）２３，塗布ユニット（ＣＯＴ）２４、現像ユニット（ＤＥＶ）２５がこの発明のモジュールに相当する。

上記のように構成される塗布・現像処理装置におけるウエハの流れについて一例について、図１及び図２を参照しながら簡単に説明する。まず、例えば２５枚のウエハＷを収納したキャリア１０が載置部１１に載置されると、開閉部１２と共にキャリア１０の蓋体が外されて受け渡し手段Ａ１によりウエハＷが取り出される。そして、ウエハＷは棚ユニットＵ１の一段をなす受け渡しユニット（図示せず）を介して主搬送手段Ａ２へと受け渡され、塗布処理の前処理として例えば反射防止膜形成処理、冷却処理が行われた後、塗布ユニット（ＣＯＴ）２４にてレジスト液が塗布される。次いで、主搬送手段Ａ２によりウエハＷは棚ユニットＵ１〜Ｕ３の一の棚をなす加熱ユニットで加熱（ベーク処理）され、更に冷却された後棚ユニットＵ３の受け渡しユニットを経由してインターフェース部３へと搬入される。このインターフェース部３において、第１の搬送室３Ａ及び第２の搬送室３Ｂの第１のウエハ搬送部２６Ａ及び第２のウエハ搬送部２６Ｂによって露光部４に搬送され、ウエハＷの表面に対向するように露光手段（図示せず）が配置されて露光が行われる。露光後、ウエハＷは逆の経路で主搬送手段Ａ２まで搬送され、現像ユニット（ＤＥＶ）２５にて現像されることでパターンが形成される。しかる後ウエハＷは載置部１１上に載置された元のキャリア１０へと戻される。

〈第１実施形態〉
次に、この発明に係る第１実施形態の現像処理装置５０について説明する。図３及び図４に示すように、現像処理装置５０は、ウエハＷの搬入出口５１ａを有するケーシング５１内に、ウエハＷの裏面側中心部を吸引吸着して水平に保持する基板保持部をなすスピンチャック４０を具備している。なお、搬入出口５１ａにはシャッタ５１ｂが開閉可能に配設されている。

上記スピンチャック４０は軸部４１を介して例えばサーボモータ等の回転駆動機構４２に連結されており、この回転駆動機構４２によりウエハＷを保持した状態で鉛直軸Ｏを中心として回転可能に構成されている。なお、回転駆動機構４２は、この発明の制御部に相当するコントローラ６０に電気的に接続されており、コントローラ６０からの制御信号に基づいてスピンチャック４０の回転数が制御されるようになっている。この場合、コントローラ６０により、後述するポジ型レジスト用の現像液の使用時におけるスピンチャック４０の回転数は例えば３，０００ｒｐｍに制御され、後述するネガ型レジスト用の現像液の使用時におけるスピンチャック４０の回転数は例えば２，０００ｒｐｍに制御され、ポジ型レジスト用の現像液の使用時におけるスピンチャック４０の回転数が、ネガ型レジスト用の現像液の使用時におけるスピンチャック４０の回転数より大きく（高速に）設定されている。

また、コントローラ６０は、上記主搬送手段Ａ２，Ａ３と、後述する昇降機構１５と電気的に接続されており、コントローラ６０からの制御信号に基づいて主搬送手段Ａ２，Ａ３と昇降機構１５が制御されるようになっている。

この場合、図３に示すように、スピンチャック４０のウエハ保持部の下方には、スピンチャック４０に対してウエハＷを昇降可能に支持する基板支持部材である３本（図面では２本を示す）の支持ピン１３が軸部４１を包囲する環状の保持板１４上に立設されている。保持板１４は例えばシリンダ等の昇降機構１５によって鉛直方向に昇降可能に形成されている。なお、昇降機構１５は、コントローラ６０からの制御信号に基づいて保持板１４を昇降し、保持板１４の昇降に伴って支持ピン１３がスピンチャック４０のウエハ保持部に対して昇降するように制御される。

すなわち、コントローラ６０により、昇降機構１５が駆動して、支持ピン１３が上昇してスピンチャック４０に保持された現像処理後のウエハＷをスピンチャック４０の上方の受渡し位置へ移動する。この状態で、主搬送手段Ａ２にウエハＷを受け渡し、その後、主搬送手段Ａ２がウエハＷを装置外へ搬送した後、主搬送手段Ａ２によって搬送された現像が未処理のウエハＷを支持ピン１３が受け取った後、支持ピン１３が下降してウエハＷをスピンチャック４０の保持面上に載置するように制御される。

また、上側を開口した有底の円環状に形成されたカップ体４３が、スピンチャック４０に保持されたウエハＷの側方を囲むようにして設けられている。カップ体４３は、底壁４３ａと、底壁４３ａの内周端を起点として上方向に起立した内周壁４３ｂと、底壁４３ａの外周端を起点として上方向に起立した外周壁４３ｃと、外周壁４３ｃの上端から内周方向に延びる上壁４３ｄを有しており、内周壁４３ｂの上側が開口されている。また、カップ体４３は、内周壁４３ｂと外周壁４３ｃとの間に設けられ底壁４３ａから上方向に起立する第１の側壁４３ｅ，第２の側壁４３ｆを内周側から順に有している。また、内周壁４３ｂの上端には内周側に向けて突起４３ｇが設けられており、この突起４３ｇを固定カップ４４及び保持板４６で挟むことでカップ体４３の位置を固定する。

スピンチャック４０に保持されているウエハＷの下側には、円筒状の固定カップ４４が設けられている。固定カップ４４の上部には、スピンチャック４０の鉛直軸Ｏに沿う断面が山状に形成されている頂部が設けられ、固定カップ４４の底壁４４ａの外周端には、下方向に伸びた周壁４４ｂが設けられている。周壁４４ｂは、カップ体４３の内周壁４３ｂと外周壁４３ｃとの間に配置されている。

この場合、図３Ａに示すように、固定カップ４４は、スピンチャック４０に保持されたウエハＷの周縁と、後述する可動カップ４５の開口縁４５ｄとの間に位置する気液分離用の環状突起４４ｃを設ける構造とするのが望ましい。なお、環状突起４４ｃの上端は、ウエハＷの上面と同一か下方に位置し、可動カップ４５の開口縁４５ｄの上端と同一か上方に位置するのがよい。

このように、固定カップ４４に、スピンチャック４０に保持されたウエハＷの周縁と、可動カップ４５の開口縁４５ｄとの間に位置する気液分離用の環状突起４４ｃを設けることにより、可動カップ４５を下降させて現像処理を行う際に、ウエハＷの下方に流れた現像液が現像液排出路４９ｂに侵入することを防止することができる。

また、上記構造に代えて、図３Ｂに示すように、固定カップ４４は、上記環状突起４４ｃの内周側にウエハＷの下面に近接する環状ナイフエッジ４４ｄを設け、環状突起４４ｃと環状ナイフエッジ４４ｄの間に形成される環状凹溝４４ｅの底部にカップ体４３の底部に連通する排液通路４４ｆを形成する構造としてもよい。

このように構成することにより、現像処理時にウエハＷの裏面側に回り込んだ現像液を環状凹溝４４ｅ内にトラップして、ウエハＷの下方に流れ込むのを阻止することができる。また、環状凹溝４４ｅ内にトラップされた現像液は排液通路４４ｆを介してカップ体４３の底部へ排出される。

可動カップ４５は、底壁４３ａと、外周壁４３ｃと、上壁４３ｄと、固定カップ４４とで囲まれている空間部４８に配置されている。可動カップ４５は、上側で径の小さくなるテーパー状の板を２段に重ねたテーパー部４５ａと、テーパー部４５ａの下側に設けられた円筒状の仕切４５ｂと、仕切４５ｂの内周面に取り付けられた突起４５ｃを備える。この仕切４５ｂは、固定カップ４４の周壁４４ｂとカップ体４３の外周壁４３ｃとの間に設けられている。また、突起４５ｃは、可動カップ４５が下降したときに第２の側壁４３ｆと突起４５ｃが近接し、可動カップ４５が上昇したときに突起４５ｃが第２の側壁４３ｆよりも上方に位置するように仕切４５ｂの内周面に取り付けられる。

可動カップ４５の上方には、可動カップ４５を上昇又は下降させるための昇降部４７が設けられている。昇降部４７により可動カップ４５が上昇する場合には、テーパー部４５ａの先端部がスピンチャック４０に保持されているウエハＷよりも上方となるように、可動カップ４５が移動する。また、昇降部４７により可動カップ４５が下降する場合には、テーパー部４５ａの先端部がスピンチャック４０に保持されているウエハＷよりも下方になるように移動する。この昇降部４７には制御部に相当するコントローラ６０が接続されており、コントローラ６０からの制御信号に基づいて可動カップ４５が昇降する。

図６に示すように、空間部４８は、上壁４３ｄと外周壁４３ｃと可動カップ４５とで囲まれた外周流路４８ａと、可動カップ４５と第２の側壁４３ｆと底壁４３ａと固定カップ４４とで囲まれた内周流路４８ｂとからなる。また、固定カップ４４の下側には、固定カップ４４と底壁４３ａと内周壁４３ｂとで囲まれ、内周流路４８ｂと連通する排気流路４８ｃが形成されている。

カップ体４３の底壁４３ａには、飛散した現像液を排出させる第１の現像液排出管路４９ａと、第２の現像液排出管路４９ｂが設けられている。第１の現像液排出管路４９ａはカップ体４３の外周側に接続されており、外周流路４８ａと連通している。また、第１の現像液排出管路４９ａの二次側には現像液用開閉弁３２ａ及び現像液用ポンプ３３ａが設けられている。一方、第２の現像液排出管路４９ｂはカップ体４３の内周側に接続されており、内周流路４８ｂと連通している。また、第２の現像液排出管路４９ｂの二次側には現像液用開閉弁３２ｂ及び現像液用ポンプ３３ｂが設けられている。現像液用開閉弁３２ａ，３２ｂは、コントローラ６０からの信号に基づいて、開閉動作を行う。

ここで、現像液用開閉弁３２ｂ及び現像液用ポンプ３３ｂがこの発明における第１の排出手段に相当し、現像液用開閉弁３２ａ及び現像液用ポンプ３３ａがこの発明における第２の排出手段に相当する。

カップ体４３の底壁４３ａであって、第１の側壁４３ｅの内周側には、現像液の飛散に起因して発生した気体（ミスト）を排気するための排気管路４９ｃが設けられている。排気管路４９ｃは排気流路４８ｃと連通しており、二次側にミスト用開閉弁３２ｃ及びミスト用ポンプ３３ｃが設けられている（図６参照）。ミスト用開閉弁３２ｃは、コントローラ６０からの信号に基づいて、開閉動作を行う。

一方、スピンチャック４０に保持されたウエハＷの上方側には、ウエハＷの表面の中心部と隙間を介して対向するようにして、昇降及び水平移動可能な現像液供給ノズル５４（以下に現像ノズル５４という）が設けられている。この場合、図５Ａに示すように、現像ノズル５４は、ポジ型レジスト用の現像液（以下、ポジ型現像液と記す）を供給（吐出）するポジ型現像液供給ノズル５４ａと、ネガ型レジスト用の現像液（以下、ネガ型現像液と記す）を供給（吐出）するネガ型現像液供給ノズル５４ｂを下側に有している。

ここで、ポジ型現像液としては例えば水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）が用いられる。また、ネガ型現像液としては有機溶剤を含有する現像液が用いられ、例えばケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤等の極性溶剤及び炭化水素系溶剤等を用いることができ、本実施形態においては、エステル系溶剤である酢酸ブチルを含有する現像液が用いられる。

また、現像ノズル５４は、ノズルアーム５５Ａの一端側に支持されており、このノズルアーム５５Ａの他端側は図示しない昇降機構を備えた移動基台５６Ａと連結されており、更に移動基台５６Ａは例えばボールねじやタイミングベルト等の現像液供給ノズル移動機構５７Ａ（以下に現像ノズル移動機構５７Ａという）にてＸ方向に伸びるガイド部材５８Ａに沿って横方向に移動可能なように構成されている。現像ノズル移動機構５７Ａを駆動することにより、現像ノズル５４は、ウエハＷの中心部から周縁部に向かう直線（半径）に沿って移動する。

また、カップ体４３の一方の外方側には、現像ノズル５４の待機部５９Ａが設けられており、この待機部５９Ａで現像ノズル５４のノズル先端部の洗浄などが行われる。

また、スピンチャック４０に保持されたウエハＷの上方側には、ウエハＷの表面の中心部と隙間を介して対向するようにして、洗浄液（リンス液）を供給（吐出）するリンス液供給ノズル６１（以下にリンスノズル６１という）が昇降及び水平移動可能に設けられている。このリンスノズル６１は、図５Ｂに示すように、ポジ型レジスト用のリンス液（以下、ポジ用リンス液という）をウエハＷに供給するポジ型洗浄液供給ノズル（ポジ型リンス液供給ノズル）６１ａと、ネガ型レジスト用のリンス液（以下、ネガ用リンス液という）をウエハＷに供給するネガ型洗浄液供給ノズル（ネガ型リンス液供給ノズル）６１ｂを有している。

ここで、ポジ用リンス液としてはＤＩＷ（純水）が用いられる。また、ネガ用リンス液としては有機溶剤、例えば分岐及び環状構造の少なくともいずれかを含むアルキル鎖を有し、該アルキル鎖における２級又は３級炭素原子が水酸基と結合している炭素数が少なくとも５であるアルコール、若しくは炭素数が少なくとも５であるアルキル基、及び炭素数が少なくとも５であるシクロアルキル基の少なくともいずれかを有するジアルキルエーテルを含有するリンス液を用いることができる。本実施形態においては、４−メチルー２−ペンタノール（ＭＩＢＣ）を含有するリンス液が用いられる。

このリンスノズル６１は、ノズルアーム５５Ｂの一端側に互いに平行状態に保持されており、このノズルアーム５５Ｂの他端側は図示しない昇降機構を備えた移動基台５６Ｂと連結されており、更に移動基台５６Ｂは例えばボールねじやタイミングベルト等のリンス液供給ノズル移動機構５７Ｂ（以下にリンスノズル移動機構５７Ｂという）にてＸ方向に伸びるガイド部材５８Ｂに沿って横方向に移動可能、すなわちウエハＷの中心部から基板の周縁部に向かって径方向に移動可能なように構成されている。なお、カップ体４３の一方の外方側には、リンスノズル６１の待機部５９Ｂが設けられている。

また、ポジ型現像液供給ノズル５４ａは、開閉弁Ｖ１を介設した現像液供給管７０ａを介して現像液供給源７１ａに接続されている。また、ネガ型現像液供給ノズル５４ｂは、開閉弁Ｖ２を介設した現像液供給管７０ｂを介して現像液供給源７１ｂに接続されている。

一方、ポジ型リンス液供給ノズル６１ａは、開閉弁Ｖ３を介設したリンス液供給管７６ａを介してリンス液供給源７７ａに接続されている。また、ネガ型リンス液供給ノズル６１ｂは、開閉弁Ｖ４を介設したリンス液供給管７６ｂを介してリンス液供給源７７ｂに接続されている。

なお、移動基台５６Ａ，５６Ｂ、現像ノズル移動機構５７Ａ，リンスノズル移動機構５７Ｂ、開閉弁Ｖ１〜Ｖ４は、それぞれ上記コントローラ６０に電気的に接続されており、コントローラ６０に予め記憶された制御信号に基づいて現像ノズル５４及びリンスノズル６１の水平移動及び昇降移動と、開閉弁Ｖ１〜Ｖ４の開閉駆動が行われるように構成されている。また、コントローラ６０は、開閉弁Ｖ１，Ｖ２の開閉駆動を制御することにより、現像ノズル５４からウエハＷへの現像液の供給の制御が可能となり、開閉弁Ｖ３，Ｖ４の開閉駆動を制御することにより、リンスノズル６１からウエハＷへのリンス液の供給の制御が可能となる。

次に、図４，図５Ａに基づいて、待機部５９Ａ，５９Ｂについて説明する。

待機部５９Ａはカップ体４３の外周側に設けられており、現像ノズル５４を上側から挿入することができるように形成されている。また、待機部５９Ａは、ポジ型現像液供給ノズル５４ａから吐出されるポジ型現像液の残余を貯留する貯留部５９ｃと、ネガ型現像液供給ノズル５４ｂから吐出されるネガ型現像液の残余を貯留する貯留部５９ｄとを有し、貯留部５９ｃ，５９ｄは分離壁５９ｅによって分離されている。また、貯留部５９ｃにはポジ型現像液を排出する排出管路６２ａが連通し、貯留部５９ｄにはネガ型現像液を排出する排出管路６２ｂが連通している。現像ノズル５４は、鉛直方向に移動する移動基台５６Ａ及びＸ方向に伸びるガイド部材５８Ａによって、待機部５９Ａに挿入され、この待機部５９Ａで現像ノズル５４のノズル先端部の洗浄などを行う。

待機部５９Ｂはカップ体４３の外周側に設けられており、リンスノズル６１を上側から挿入することができるように形成されている。また、待機部５９Ｂは、ポジ型リンス液供給ノズル６１ａから吐出されるポジ用リンス液の残余を貯留する貯留部５９ｆと、ネガ型リンス液供給ノズル６１ｂから吐出されるネガ用リンス液の残余を貯留する貯留部５９ｇとを有し、貯留部５９ｆ，５９ｇは分離壁５９ｈによって分離されている。また、貯留部５９ｆにはポジ用リンス液を排出する排出管路６２ｃが連通し、貯留部５９ｇにはネガ用リンス液を排出する排出管路６２ｄが連通している。リンスノズル６１は、鉛直方向に移動する移動基台５６Ｂ及びＸ方向に伸びるガイド部材５８Ｂによって、待機部５９Ｂに挿入され、この待機部５９Ｂで現像ノズル５４のノズル先端部の洗浄などを行う。

次に、図６（ａ），図６（ｂ）に基づいて、第１実施形態の現像液の排出について説明する。図６（ａ）は、ポジ型現像液をウエハＷの上方から供給するポジ現像処理の場合の現像液と現像液の飛散に起因して生じる気体（ミスト）の排出経路を示している。また、図６（ｂ）は、ネガ型現像液をウエハＷの上方から供給するネガ現像処理の場合の現像液とミストの排出経路を示している。図６（ａ），図６（ｂ）中の実線は現像液の流路、点線はミストの流路を示している。

図６（ａ）に示すように、可動カップ４５が上方に移動している場合（ポジ現像処理の場合）には、ポジ型現像液とミストは内周流路４８ｂに導入される。このとき、コントローラ６０からの信号により、現像液用開閉弁３２ａが閉じられると共に現像液用開閉弁３２ｂが開き、現像液用ポンプ３３ｂが駆動する。これにより、内周流路４８ｂに導入された現像液が第２の現像液排出管路４９ｂから排出される。また、コントローラ６０からの信号により、ミスト用開閉弁３２ｃが開き、ミスト用ポンプ３３ｃが駆動する。これにより、排気流路４８ｃに導入されたミストが排気管路４９ｃから排出される。

このポジ現像処理においては、コントローラ６０からの信号により回転駆動機構４２が駆動してスピンチャック４０を高速回転例えば３，０００ｒｐｍの回転数で回転する。このようにスピンチャック４０を高速回転することにより、カップ体４３の内圧が上がるが、カップ体４３の外側には陰圧となる外周流路４８ａの領域（ネガ処理用領域）があるため、カップ体４３の外側へ出る気流はない。

図６（ｂ）に示すように、可動カップ４５が下方に移動している場合（ネガ現像処理の場合）には、ネガ型現像液とミストは外周流路４８ａに導入される。このとき、コントローラ６０からの信号により、現像液用開閉弁３２ａが開くと共に現像液用開閉弁３２ｂが閉じられ、現像液用ポンプ３３ａが駆動する。これにより、外周流路４８ａに導入された現像液が第１の現像液排出管路４９ａから排出される。また、コントローラ６０からの信号により、ミスト用開閉弁３２ｃが開き、ミスト用ポンプ３３ｃが駆動する。これにより、内周空間部４８ｃに導入されたミストが排気管路４９ｃから排出される。

このネガ現像処理においては、コントローラ６０からの信号により回転駆動機構４２が駆動してスピンチャック４０をポジ現像処理時より低速回転例えば２，０００ｒｐｍの回転数で回転する。このようにスピンチャック４０をポジ現像処理時より低速に回転することにより、カップ体４３の内圧が上がりにくくなり、カップ体４３内には陽圧になる領域がないため、カップ体４３の外側へ出る気流はない。

上記第１実施形態によれば、ポジ型現像液の使用時には可動カップ４５を上昇させることで、現像液及びミストを内周流路４８ｂに導入し、ネガ型レジスト用の現像液の使用時には可動カップ４５を下降させることで、現像液及びミストを外周流路４８ａに導入するため、１つのモジュールに搭載されている現像処理装置５０でポジ型現像液とネガ型現像液を混合させることなく現像液の排出処理を行うことができる。そのため、現像処理装置に搭載するモジュール数を減少させることができ、現像処理装置の小型化を図るという効果を得ることができる。

また、上記第１実施形態によれば、第１，第２の現像液排出管路４９ａ，４９ｂにそれぞれ現像液用ポンプ３３ａ，３３ｂ及び現像液用開閉弁３２ａ，３２ｂが介設されている。そして、現像液用ポンプ３３ａが駆動し現像液用開閉弁３２ａが開いている場合には、現像液用ポンプ３３ｂの駆動が停止し現像液用開閉弁３２ｂが閉じ、現像液用ポンプ３３ｂが駆動し現像液用開閉弁３２ｂが開いている場合には、現像液用ポンプ３３ａの駆動が停止し現像液用開閉弁３２ａが閉じるため、ポジ型現像液とネガ型現像液を混合させることなく現像液の排出処理効率を上昇させるという効果を得ることができる。

〈第２実施形態〉
次に、図７，図８（ａ），図８（ｂ）に基づいて、この発明に係る第２実施形態の現像処理装置５０について説明する。なお、図３，図６（ａ），図６（ｂ）に記載されている現像処理装置５０と同一の内容については、図３，図６（ａ），図６（ｂ）と同一の符号を付して、説明を省略する。

図７に示すように、第２実施形態の可動カップ８５は、テーパー部８５ａが１段である点、仕切８５ｂの内周面に突起４５ｃが設けられていない点で第１実施形態の可動カップ４５と異なっている。また、第２実施形態のカップ体４３は、第２の側壁４３ｆが設けられていない点で第１実施形態のカップ体４３と異なっている。

図８（ａ），図８（ｂ）に基づいて、第２実施形態の現像液の排出について説明する。図８（ａ）に示すように、可動カップ８５が上方に移動している場合（ポジ現像処理の場合）には、ポジ型現像液とミストは内周流路４８ｂに導入される。このとき、コントローラ６０からの信号により、現像液用開閉弁３２ｂが閉じられると共に現像液用開閉弁３２ａが開き、現像液用ポンプ３３ａが駆動する。これにより、内周流路４８ｂに導入された現像液が第１の現像液排出管路４９ａから排出される。

図８（ｂ）に示すように、可動カップ８５が下方に移動している場合（ネガ現像処理の場合）には、ネガ型現像液とミストは外周流路４８ａ及び内周流路４８ｂに導入される。このとき、コントローラ６０からの信号により、現像液用開閉弁３２ａが閉じると共に現像液用開閉弁３２ｂが開き、現像液用ポンプ３３ｂが駆動する。これにより、外周流路４８ａに導入された現像液が第２の現像液排出管路４９ｂから排出される。また、コントローラ６０からの信号により、ミスト用開閉弁３２ｃが開き、ミスト用ポンプ３３ｃが駆動する。これにより、内周空間部４８ｃに導入されたミストが排気管路４９ｃから排出される。

上記第２実施形態によれば、ポジ用排出管路とネガ用排出管路を逆にした場合であっても、第１実施形態と同様に、１つのモジュールに搭載されている一の現像処理装置５０でポジ型現像液とネガ型現像液を混合させることなく現像液の排出処理を行うことができる。そのため、第１実施形態と同様に、現像処理装置に搭載するモジュール数を減少させることができ、現像処理装置の小型化を図る、という効果を得ることができる。

また、現像液用ポンプ３３ａが駆動し現像液用開閉弁３２ａが開いている場合には、現像液用ポンプ３３ｂの駆動が停止し現像液用開閉弁３２ｂが閉じ、現像液用ポンプ３３ｂが駆動し現像液用開閉弁３２ｂが開いている場合には、現像液用ポンプ３３ａの駆動が停止し現像液用開閉弁３２ａが閉じるため、ポジ型現像液とネガ型現像液を混合させることなく現像液の排出処理効率を上昇させるという効果を得ることができる。なお、第２実施形態において、その他の構造は第１実施形態と同じであるので、第１実施形態と同様の効果が得られる。

〈第３実施形態〉
次に、図９，図１０（ａ），図１０（ｂ）に基づいて、この発明に係る第３実施形態の現像処理装置５０について説明する。図１０（ａ），図１０（ｂ）中の一点鎖線はリンス液の流路を示している。なお、図３，図６（ａ），図６（ｂ）に記載されている現像処理装置５０と同一の内容については、図３，図６（ａ），図６（ｂ）と同一の符号を付して、説明を省略する。

図９に示すように、第３実施形態の第１の現像液排出管路８９ａは、カップ体４３の底壁４３ａに起立する同心円状の外側壁９０ａの外側に接続されており、第２の現像液排出管路８９ｂは、カップ体４３の底壁４３ａに起立する同心円状の内側壁９０ｂの内側に接続されている。また、外側壁９０ａと外周壁４３ｃとで囲まれた部分が第１の現像液排出管路８９ａの接続部９９ａに相当し、内側壁９０ｂと外周壁４３ｂとで囲まれた部分が第２の現像液排出管路８９ｂの接続部９９ｂに相当する。従って、第１の現像液排出管路８９ａの接続部９９ａと第２の現像液排出管路８９ｂの接続部９９ｂは上方向に迂回するように形成されている。

カップ体４３の外周壁４３ｃには、図示しないリンス液貯留タンクに貯留されているリンス液をカップ体４３に供給する洗浄液供給ノズル８１が設けられている。また、第３実施形態の外側壁９０ａと内側壁９０ｂの間にはリンス液を排出する洗浄液排出管路（リンス液排出管路）４９ｄが設けられており、リンス液排出管路４９ｄには洗浄液用開閉弁３２ｄが介設されている。

図１０（ａ）に示すように、可動カップ４５が上方に移動している場合（ポジ現像処理の場合）において、ポジ型現像液を塗布したウエハＷにポジ用リンス液を供給する場合には、ウエハＷから飛散したポジ用リンス液が内周流路４８ｂに導入される。導入されたポジ用リンス液は、外側壁９０ａ、内側壁９０ｂ、底壁４３ａで囲まれた下部流路９１に貯留される。

また、図１０（ｂ）に示すように、可動カップ４５が下方に移動している場合（ネガ現像処理の場合）において、ネガ型現像液を塗布したウエハＷにネガ用リンス液を供給する場合には、ウエハＷから飛散したネガ用リンス液が外周流路４８ａに導入される。導入されたネガ用リンス液は下部流路９１に貯留される。

また、ウエハＷにポジ型現像液又はネガ型現像液を供給する際にカップ体４３に付着するポジ型現像液又はネガ型現像液を洗浄するためのリンス液が洗浄液供給ノズル８１から供給されて、下部流路９１に貯留される。

そして、下部流路９１に貯留されているポジ用リンス液若しくはネガ用リンス液は、現像液用開閉弁３２ａ，３２ｂを閉じると共に洗浄液用開閉弁３２ｄを開くことで、リンス液排出管路４９ｄから排出される。

また、上述した洗浄液供給ノズル８１からのリンス液の供給、下部流路９１へのリンス液の貯留及びリンス液の排出は、ポジ型現像液、ネガ型現像液又はポジ型リンス液をウエハＷに供給した後に行われる。その際、現像ユニット（ＤＥＶ）２５にて現像されるウエハＷの現像処理時間を短縮するために、洗浄液供給ノズル８１からのリンス液の供給、下部流路９１へのリンス液の貯留及びリンス液の排出をウエハＷの搬送時に同時に行ってもよい。

上記第３実施形態によれば、リンス液を下部流路９１で貯留し、リンス液排出管路４９ｄから排出させることで、下部流路９１を囲む底壁４３ａ、外側壁９０ａ、内側壁９０ｂ及び外周壁４３ｃを洗浄することができるため、上記第１実施形態で得られる効果の他に、ポジ型現像液、ネガ型現像液、ネガ用リンス液の混合を防止するという効果を得ることができる。なお、第３実施形態において、その他の構造は第１実施形態と同じであるので、第１実施形態と同様の効果が得られる。

〈第４実施形態〉
次に、図１１に基づいて、この発明に係る第４実施形態の現像処理装置５０について説明する。なお、図１１に記載されている現像処理装置５０と同一の内容については、図３と同一の符号を付して、説明を省略する。

図１１に示すように、第４実施形態のカップ体４３は底壁４３ａが傾斜状に形成されている。そのため、図１１中の左側の下部流路９１に貯留されているリンス液は、傾斜状に形成されているカップ体４３を流通して図１１中の右側の下部流路９２に流通する。下部流路９２に貯留されたリンス液は、底壁４３ａに形成された洗浄液排出管路４９ｅに介設されている洗浄液用開閉弁３２ｅを開くことで、洗浄液排出管路４９ｅから排出される。

上記第４実施形態によれば、下部流路９１で貯留されているリンス液を下部流路９２に向けて螺旋状に循環させることで、カップ体４３全体にリンス液を循環させることができるため、上記第１実施形態で得られる効果の他に、リンス液を用いて下部流路９１，９２を囲む底壁４３ａ、外側壁９０ａ、内側壁９０ｂを効率よく洗浄するという効果を得ることができる。なお、第４実施形態において、その他の構造は第１実施形態と同じであるので、第１実施形態と同様の効果が得られる。

〈第５実施形態〉
次に、図１２，図１３に基づいて、この発明に係る第５実施形態の現像処理装置５０について説明する。なお、図３，図６（ａ），図６（ｂ）に記載されている現像処理装置５０と同一の内容については、図３，図６（ａ），図６（ｂ）と同一の符号を付して、説明を省略する。

図１２に示すように、第５実施形態の排気管路４９ｃの二次側には、ポジ型現像液を用いる際に生じるミストを排気するためのポジ型排気管路９３ａと、ネガ型現像液を用いる際に生じるミストを排気するためのネガ型排気管路９３ｂが設けられている。また、排気管路４９ｃには、ポジ型排気管路９３ａとネガ型排気管路９３ｂの一方のみをカップ体４３の排気流路４８ｃと連通させる切換ダンパ９３ｃが設けられている。切換ダンパ９３ｃはコントローラ６０に接続されており、コントローラ６０からの信号によりポジ型排気管路９３ａとネガ型排気管路９３ｂの一方の管路を塞ぐように作動する。また、ポジ型排気管路９３ａには、排気用開閉弁３２ｆ及び排気用ポンプ３３ｅが介設されており、ネガ型排気管路９３ｂには、排気用開閉弁３２ｇ及び排気用ポンプ３３ｆが介設されている。

図１３（ａ）に示すように、可動カップ４５が上方に移動している場合（ポジ現像処理の場合）においては、ウエハＷから飛散したポジ型現像液が内周流路４８ｂに導入されると共にミストが排気流路４８ｃに導入される。この場合においては、この発明の切換ダンパ制御部に相当するコントローラ６０からの信号に基づいて、切換ダンパ９３ｃによってネガ型排気管路９３ｂが塞がれ、ポジ型排気管路９３ａがカップ体４３と連通する。また、排気用開閉弁３２ｆが開くと共に、排気用ポンプ３３ｄが駆動し、排気用開閉弁３２ｇが閉じている。そのため、排気流路４８ｃに滞留するミストがポジ型排気管路９３ａを介して排気される。

次に、図１３（ｂ）に示すように、可動カップ４５が下方に移動している場合（ネガ現像処理の場合）においては、ウエハＷから飛散したネガ型現像液が外周流路４８ａに導入されると共にミストが排気流路４８ｃに導入される。この場合においては、切換ダンパ９３ｃによってポジ型排気管路９３ａが塞がれ、ネガ型排気管路９３ｂがカップ体４３と連通する。また、排気用開閉弁３２ｇが開くと共に、排気用ポンプ３３ｅが駆動し、排気用開閉弁３２ｆが閉じている。そのため、排気流路４８ｃに滞留するミストがネガ型排気管路９３ｂを介して排気される。

上記第５実施形態によれば、排気流路４８ｃに滞留するミストが飛散したポジ型現像液に起因するものである場合には、上記ミストはポジ型排気管路９３ａを介して排気される。また、排気流路４８ｃに滞留するミストが飛散したネガ型現像液に起因するものである場合には、上記ミストはネガ型排気管路９３ｂを介して排気される。そのため、ポジ型現像液に起因したミストとネガ型現像液に起因したミストを混合させることなく、別々に排気することができるという効果を得ることができる。なお、第５実施形態において、その他の構造は第１実施形態と同じであるので、第１実施形態と同様の効果が得られる。

〈第６実施形態〉
次に、図１４Ａ，図１４Ｂに基づいて、この発明に係る第６実施形態の現像処理装置５０について説明する。

図１４Ａ，図１４Ｂに示すように、第６実施形態では、一のモジュールに２つの現像処理装置５０Ａ，５０Ｂが設けられ、各々の現像処理装置５０Ａ，５０Ｂには、ポジ型現像液及びネガ型現像液を供給可能な現像液供給ノズル５４ａ，５４ｂと、ポジ型リンス液及びネガ型リンス液を供給可能なリンス液供給ノズル６１ａ，６１ｂが設けられている。

現像ノズル５４には、現像液供給管７０ａ，７０ｂが連結され、現像液供給管７０ａ，７０ｂには開閉弁Ｖ１，Ｖ２が介設され現像液供給源７１ａ，７１ｂに接続されている。また、リンスノズル６１には、リンス液供給管７６ａ，７６ｂが連結され、リンス液供給管７６ａ，７６ｂには開閉弁Ｖ３，Ｖ４が介設されリンス液供給源７７ａ，７７ｂに接続されている。また、第１の現像液排出管路及び第２の現像液排出管路は、各々の現像処理装置５０Ａ，５０Ｂにおいて別々に設ける必要がある。

従って、現像処理装置５０ＡにおけるウエハＷへのポジ型現像液の供給は現像ノズル５４ａにより行われ、ポジ型リンス液の供給はポジ型リンスノズル６１ａにより行われる。また、現像処理装置５０ＢにおけるウエハＷへのネガ型現像液の供給は現像ノズル５４ｂによって行われ、ネガ型リンス液の供給はネガ型リンスノズル６１ｂにより行うことができる。

上記第６実施形態によれば、一のモジュールに２つの現像処理装置５０Ａ，５０Ｂが設けられている場合に、各々の現像処理装置５０Ａ，５０Ｂで現像処理、リンス処理を同時に行うことができる。そのため、上記第１実施形態で得られる効果に加えて、現像処理やリンス処理を効率よく行うことができるという効果が得られる。

〈第７実施形態〉
次に、図１５Ａ，図１５Ｂに基づいて、この発明に係る第７実施形態の現像処理装置５０について説明する。

図１５Ａ，図１５Ｂに示すように、第７実施形態では、一のモジュールに２つの現像処理装置５０Ａ，５０Ｂが設けられ、各々の現像処理装置５０Ａ，５０Ｂには、ポジ型現像液を供給可能なポジ型現像液供給ノズル９４ａ，９４ｂと、ポジ型リンス液を供給可能なポジ型リンス液供給ノズル９５ａ，９５ｂが設けられている。また、ネガ型現像液及びネガ型リンス液を供給可能なネガ型処理液供給ノズル９６は、現像処理装置５０Ａ，５０Ｂで共有する。

ポジ型現像液供給ノズル９４ａ，９４ｂにはポジ型現像液供給管７０ｃ，７０ｄが接続されている。また、現像液供給管７０ｃには開閉弁Ｖ５が介設されポジ型現像液供給源７１ｃが接続され、現像液供給管７０ｄには開閉弁Ｖ６が介設されポジ型現像液供給源７１ｄが接続されている。

ポジ型リンス液供給ノズル９５ａ，９５ｂには、ポジ型リンス液供給管７６ｃ，７６ｄが接続されている。ポジ型リンス液供給管７６ｃには開閉弁Ｖ７が介設されポジ型リンス液供給源７７ｃが接続され、ポジ型リンス液供給管７６ｄには開閉弁Ｖ８が介設されポジ型リンス液供給源７７ｄが接続されている。また、ネガ型処理液ノズル９６には、ネガ型現像液供給管７０ｄ及びネガ型リンス液供給管７６ｄが接続され、ネガ型現像液供給管７０ｄ及びネガ型リンス液供給管７６ｄには開閉弁Ｖ９，Ｖ１０が介設されネガ型現像液供給源７１ｅ，ネガ型リンス液供給源７７ｅが接続されている。

従って、現像処理装置５０ＡにおけるウエハＷへのポジ型現像液の供給はポジ型現像液供給ノズル９４ａにより行われ、ポジ型リンス液の供給はポジ型リンス液供給ノズル９５ａにより行われる。また、現像処理装置５０ＢにおけるウエハＷへのポジ型現像液の供給はポジ型現像ノズル９４ｂにより行われ、ポジ型リンス液の供給はポジ型リンスノズル９５ｂにより行われる。一方、現像処理装置５０Ａ，５０ＢにおけるウエハＷへのネガ型現像液及びネガ型リンス液の供給はネガ型現像液ノズル９６により行われる。

上記第７実施形態によれば、各々の現像処理装置５０Ａ，５０Ｂに対して一組のポジ型の現像ノズルとリンスノズルが設けられ、現像処理装置５０Ａ，５０Ｂで共有するネガ型処理液ノズル９６が設けられているため、既存のポジ型現像液を用いた現像処理装置にネガ型処理像液ノズル９６を設けることでポジ型現像液及びネジ型現像液に対応が可能となる。従って、上記第１実施形態で得られる効果に加えて、現像処理やリンス処理を効率よく行うことができる現像処理装置を容易に組み立てることができるという効果が得られる。

〈排液の逆流防止機構〉
次に、図１６に基づいて、排液の逆流防止機構１００について説明する。図１６に示すように、ポジ型現像液の逆流防止機構１００は第２の現像液排出管路４９ｂに設けられ、第２の現像液排出管路４９ｂ内の空気を排出する排気口１１０と、排気口１１０に介設されている逆止弁ＣＶ１とを備えている。また、ネガ型現像液の逆流防止機構１０１は第１の現像液排出管路４９ａに設けられ、第１の現像液排出管路４９ａ内の空気を排出する排気口１０２と、排気口１０２に介設されている逆止弁ＣＶ２とを備えている。

第１の現像液排出管路４９ａ及び第２の現像液排出管路４９ｂには、排出管路６２ａ，６２ｂを介して現像処理装置５０Ａ，５０Ｂに設けられている現像ノズル５４の待機部５９Ａが接続されている。また、第１の現像液排出管路４９ａ及び第２の現像液排出管路４９ｂには、各々の現像処理装置５０Ａ，５０Ｂに設けられている図示しないカップ体が接続されている。また、リンス液排出管路４９ｄには、排出管路６２ｃ，６２ｄを介してポジ型リンス液供給ノズルの待機部５９Ｂが接続されている。

このように、第１の現像液排出管路４９ａ、第２の現像液排出管路４９ｂに排気口１１０，１０２を有する逆流防止機構１００，１０１が設けられるため、第１の現像液排出管路４９ａ、第２の現像液排出管路４９ｂを流通する排液に圧力がかかった場合であっても、排気口１１０，１０２により圧力を逃がすことができる。そのため、第１の現像液排出管路４９ａ、第２の現像液排出管路４９ｂを流通する排液の逆流を防止することができる。

次に、この発明におけるポジ現像処理とネガ現像処理について、連続して処理する場合と変更して処理する場合を図１７〜図２０を参照して説明する。

＜ポジ−ポジ現像処理＞
ポジ現像処理を連続して行う場合は、図１７に示すように、ポジ現像処理が完了した時点では、可動カップ４５が上昇している（Ｓ１１、図１７（ａ）参照）。この状態で、支持ピン１３が上昇してスピンチャック４０上のウエハＷをウエハ受け渡し位置へ移動する（Ｓ１２、図１７（ｂ）参照）。この状態では、可動カップ４５が上昇しているので、支持ピン１３の上昇に伴う気流によって可動カップ４５内にパーティクルが侵入してウエハＷに付着するのを防止することができる。

支持ピン１３が上昇した後、可動カップ４５が下降する（Ｓ１３、図１７（ｃ）参照）。なお、この場合、支持ピン１３の上昇と可動カップ４５の下降を同時に行ってもよい。支持ピン１３の上昇と可動カップ４５の下降を同時に行うことにより、時間の短縮が図れる。

次に、現像装置の外部の主搬送手段Ａ２が装置内に進入して、支持ピン１３によって支持されているウエハＷが主搬送手段Ａ２に受け渡される（Ｓ１４、図１７（ｄ）参照）。その後、ウエハＷは主搬送手段Ａ２によって搬出される（Ｓ１５、図１７（ｅ）参照）。

次に、現像処理が未処理のウエハＷを保持した主搬送手段Ａ２が装置内に進入して（Ｓ１６、図１７（ｆ）参照）、支持ピン１３がウエハＷを受け取る（Ｓ１７、図１７（ｇ）参照）。その後、主搬送手段Ａ２は装置から後退する。

次に、可動カップ４５が上昇した後（Ｓ１８、図１７（ｈ）参照）、支持ピン１３が下降して支持ピン１３によって支持されたウエハＷをスピンチャック４０上に載置して、次のポジ現像処理が開始される（Ｓ１９、図１７（ｉ）参照）。このように、可動カップ４５を上昇した状態で、支持ピン１３を下降することにより、支持ピン１３の下降に伴う気流によって可動カップ４５内にパーティクルが侵入してウエハＷに付着するのを防止することができる。

なお、可動カップ４５の上昇と支持ピン１３の下降を同時に行ってもよい。これにより、時間の短縮が図れる。

＜ネガ−ネガ現像処理＞
ネガ現像処理を連続して行う場合は、図１８に示すように、ネガ現像処理が完了した時点では、可動カップ４５が下降している（Ｓ２１、図１８（ａ）参照）。この状態で、支持ピン１３が上昇してスピンチャック４０上のウエハＷをウエハ受け渡し位置へ移動する（Ｓ２２、図１８（ｂ）参照）。

次に、現像装置の外部の主搬送手段Ａ２が装置内に進入して、支持ピン１３によって支持されているウエハＷが主搬送手段Ａ２に受け渡される（Ｓ２３、図１８（ｃ）参照）。その後、ウエハＷは主搬送手段Ａ２によって搬出される（Ｓ２４、図１８（ｄ）参照）。

次に、現像処理が未処理のウエハＷを保持した主搬送手段Ａ２が装置内に進入して（Ｓ２５、図１８（ｅ）参照）、支持ピン１３がウエハＷを受け取る（Ｓ２６、図１８（ｆ）参照）。その後、主搬送手段Ａ２は装置から後退する。

次に、支持ピン１３が下降して支持ピン１３によって支持されたウエハＷをスピンチャック４０上に載置して、次のネガ現像処理が開始される（Ｓ２７、図１８（ｇ）参照）。

＜ポジ−ネガ現像処理＞
ポジ現像処理後にネガ現像処理を行う場合は、図１９に示す動作手順で行う。なお、ここでは、上記ポジ−ポジ現像処理とネガ−ネガ現像処理と共通のステップは同一の符号を用いて説明する。

ポジ現像処理が完了した時点では、可動カップ４５が上昇している（Ｓ１１、図１９（ａ）参照）。この状態で、支持ピン１３が上昇してスピンチャック４０上のウエハＷをウエハ受け渡し位置へ移動する（Ｓ１２、図１９（ｂ）参照）。この状態では、可動カップ４５が上昇しているので、支持ピン１３の上昇に伴う気流によって可動カップ４５内にパーティクルが侵入してウエハＷに付着するのを防止することができる。

支持ピン１３が上昇した後、可動カップ４５が下降する（Ｓ１３、図１９（ｃ）参照）。なお、この場合、支持ピン１３の上昇と可動カップ４５の下降を同時に行ってもよい。支持ピン１３の上昇と可動カップ４５の下降を同時に行うことにより、時間の短縮が図れる。

次に、現像装置の外部の主搬送手段Ａ２が装置内に進入して、支持ピン１３によって支持されているウエハＷが主搬送手段Ａ２に受け渡される（Ｓ１４、図１９（ｄ）参照）。その後、ウエハＷは主搬送手段Ａ２によって搬出される（Ｓ１５、図１９（ｅ）参照）。

次に、現像処理が未処理のウエハＷを保持した主搬送手段Ａ２が装置内に進入して（Ｓ１６、図１９（ｆ）参照）、支持ピン１３がウエハＷを受け取る（Ｓ１７、図１９（ｇ）参照）。その後、主搬送手段Ａ２は装置から後退する。

次に、支持ピン１３が下降して支持ピン１３によって支持されたウエハＷをスピンチャック４０上に載置して、次のネガ現像処理が開始される（Ｓ２７、図１９（ｈ）参照）。

＜ネガ−ポジ現像処理＞
ネガ現像処理後にポジ現像処理を行う場合は、図２０に示す動作手順で行う。なお、ここでは、上記ポジ−ポジ現像処理とネガ−ネガ現像処理と共通のステップは同一の符号を用いて説明する。

ネガ現像処理が完了した時点では、可動カップ４５が下降している（Ｓ２１、図２０（ａ）参照）。この状態で、支持ピン１３が上昇してスピンチャック４０上のウエハＷをウエハ受け渡し位置へ移動する（Ｓ２２、図２０（ｂ）参照）。

次に、現像装置の外部の主搬送手段Ａ２が装置内に進入して、支持ピン１３によって支持されているウエハＷが主搬送手段Ａ２に受け渡される（Ｓ２３、図２０（ｃ）参照）。その後、ウエハＷは主搬送手段Ａ２によって搬出される（Ｓ２４、図２０（ｄ）参照）。

次に、現像処理が未処理のウエハＷを保持した主搬送手段Ａ２が装置内に進入して（Ｓ２５、図２０（ｅ）参照）、支持ピン１３がウエハＷを受け取る（Ｓ２６、図２０（ｆ）参照）。その後、主搬送手段Ａ２は装置から後退する。

次に、可動カップ４５が上昇した後（Ｓ１８、図２０（ｇ）参照）、支持ピン１３が下降して支持ピン１３によって支持されたウエハＷをスピンチャック４０上に載置して、次のポジ現像処理が開始される（Ｓ１９、図２０（ｈ）参照）。このように、可動カップ４５を上昇した状態で、支持ピン１３を下降することにより、支持ピン１３の下降に伴う気流によって可動カップ４５内にパーティクルが侵入してウエハＷに付着するのを防止することができる。

なお、可動カップ４５の上昇と支持ピン１３の下降を同時に行ってもよい。これにより、時間の短縮が図れる。

〈その他の実施形態〉
以上、この発明の実施形態の一例について説明したが、この発明はこの形態に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば、この発明の第１実施形態では、可動カップ４５が上方に移動している場合にポジ型現像液が導入され、可動カップ４５が下方に移動している場合にネガ型現像液が導入されているが、可動カップ４５が上方に移動している場合にネガ型現像液が導入され、可動カップ４５が下方に移動している場合にポジ型現像液が導入されてもよい。この場合には、第１実施形態において外周流路４８ａに導入されていたネガ型現像液がポジ型現像液となり、内周流路４８ｂに導入されていたポジ型現像液がネガ型現像液となる。また、この発明の第２実施形態でも、可動カップ４５が上方に移動している場合にネガ型現像液を導入し、可動カップ４５が下方に移動している場合にポジ型現像液を導入してもよい。この場合には、第２実施形態において外周流路４８ａ及び内周流路４８ｂに導入されていたネガ型現像液がポジ型現像液となり、内周流路４８ｂに導入されていたポジ型現像液がネガ型現像液となる。

また、第６実施形態では、一のモジュールに２つの現像処理装置５０Ａ，５０Ｂが設けられている場合について説明したが、一のモジュールの３つ以上の現像処理装置が設けられていてもよい。

１３ 支持ピン（基板保持部材）
１５ 昇降機構
３２ａ，３２ｂ 現像液用開閉弁
３３ａ，３３ｂ 現像液用ポンプ
３３ｄ 洗浄液用ポンプ
４０ スピンチャック（基板保持部）
４２ 回転駆動機構
４３ カップ体
４３ｂ 内周壁
４３ｃ 外周壁
４４ 固定カップ
４４ｂ 周壁
４４ｃ 環状突起
４４ｄ 環状ナイフエッジ
４４ｅ 環状凹溝
４４ｆ 排液通路
４５，８５ 可動カップ
４５ｂ 仕切
４５ｄ 開口縁
４８ａ 外周流路
４８ｂ 内周流路
４９ａ，８９ａ 第１の現像液排出管路
４９ｂ 第２の現像液排出管路
４９ｃ 排気管路
４９ｄ，４９ｅ 洗浄液排出管路
５４ａ ポジ型現像液供給ノズル
５４ｂ ネガ型現像液供給ノズル
６０ コントローラ（制御部、切換ダンパ制御部）
６１ａ ポジ型リンス液供給ノズル（ポジ型洗浄液供給ノズル）
６１ｂ ネガ型リンス液供給ノズル（ネガ型洗浄液供給ノズル）
８１ 洗浄液供給ノズル
９９ａ，９９ｂ 接続部
９３ａ ポジ型排気管路
９３ｂ ネガ型排気管路
９３ｃ 切換ダンパ
Ｗ ウエハ（基板）

Claims (8)

1. 表面にポジ型レジスト又はネガ型レジストが塗布され、露光された基板に現像液を供給して現像を行う現像処理装置であって、
   上記基板を水平に保持する基板保持部と、
   該基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、
   上記基板保持部に保持された基板の表面に対して上記ポジ型レジスト用の現像液を供給するポジ型現像液供給ノズルと、
   上記基板保持部に保持された基板の表面に対して上記ネガ型レジスト用の現像液を供給するネガ型現像液供給ノズルと、
   上記基板保持部に保持された基板の表面に対して上記ポジ型レジスト用の洗浄液を供給するポジ型洗浄液供給ノズルと、
   上記基板保持部に保持された基板の表面に対して上記ネガ型レジスト用の洗浄液を供給するネガ型洗浄液供給ノズルと、
   上側を開口した有底の円環状に形成され、上記基板の回転に伴って飛散する現像液を回収するカップ体と、
   上記カップ体の外周側に接続され上記カップ体で回収された上記ポジ型レジスト用又は上記ネガ型レジスト用の一方の現像液を排出させる第１の現像液排出管路と、
   上記カップ体の内周側に接続され上記カップ体で回収された上記ポジ型レジスト用又は上記ネガ型レジスト用の他方の現像液を排出させる第２の現像液排出管路と、
   上記基板の回転に伴って飛散する上記洗浄液を回収する上記カップ体によって回収された上記洗浄液を排出させる洗浄液排出管路と、
   上記カップ体の内周壁と上記カップ体の外周壁との間に周壁を有し、上記基板保持部に保持されている基板の下側に形成されている固定カップと、
   上記固定カップの周壁と上記カップ体の外周壁との間に仕切を有し、上記仕切を上昇させることで、該仕切と上記固定カップの周壁とで囲まれた内周流路に上記ポジ型レジスト用又は上記ネガ型レジスト用の一方の飛散した現像液を導入させ、上記仕切を下降させることで、該仕切と上記カップ体の外周壁とで囲まれた外周流路に上記ポジ型レジスト用又は上記ネガ型レジスト用の他方の飛散した現像液を導入させる可動カップと、
   上記ポジ型レジスト用の現像液の使用時には上記可動カップを上昇させ、上記ネガ型レジスト用の現像液の使用時には上記可動カップを下降させる制御部と、を備え、
   上記カップ体と接続されている上記第１の現像液排出管路の接続部において上記カップ体の底壁に起立する上記カップ体と同心円状の外側壁と、上記カップ体と接続されている上記第２の現像液排出管路の接続部において上記カップ体の底壁に起立する上記カップ体と同心円状の内側壁とによって上記両接続部が上方向に迂回するように形成され、
   上記外側壁と上記内側壁と上記カップ体の底壁の間に形成された下部流路に上記洗浄液排出管路が設けられている、ことを特徴とする現像処理装置。
2. 請求項１に記載の現像処理装置において、
   上記制御部により、上記回転駆動機構が制御可能に形成され、上記ポジ型レジスト用の現像液の使用時における上記基板保持部の回転数を、上記ネガ型レジスト用の現像液の使用時における上記基板保持部の回転数より大きくした、ことを特徴とする現像処理装置。
3. 請求項１又は２に記載の現像処理装置において、
   上記固定カップは、上記基板保持部により保持された基板の周縁と上記可動カップの開口縁との間に位置する気液分離用の環状突起を備える、ことを特徴とする現像処理装置。
4. 請求項３に記載の現像処理装置において、
   上記固定カップは、上記環状突起の内周側に上記基板の下面に近接する環状ナイフエッジを備え、上記環状突起と環状ナイフエッジとの間に形成される環状凹溝の底部に上記カップ体の底部に連通する排液通路を形成してなる、ことを特徴とする現像処理装置。
5. 請求項１ないし４のいずれかに記載の現像処理装置において、
   上記制御部により、上記基板保持部の基板保持面に対して昇降可能な基板支持部材を昇降可能に形成し、
   上記ポジ型レジスト用の現像液のポジ現像処理後、又は、上記ネガ型レジスト用の現像液のネガ現像処理後に、上記制御部により、上記基板支持部材を上昇させて装置外部の基板搬送手段への基板の受け渡し、及び基板の受け取りを可能に形成し、
   上記ポジ現像処理後にポジ現像処理を行う場合は、上記基板支持部材を上昇させて処理後の基板を基板受渡し位置へ移動した後、又は、処理後の基板を基板受渡し位置へ移動すると同時に、上記可動カップを下降させ、
   上記基板支持部材が未処理の基板を受け取った状態で、上記基板支持部材が下降した後、又は、上記基板支持部材が下降すると同時に、上記可動カップを上昇させ、
   上記ポジ現像処理後に上記ネガ現像処理を行う場合は、上記基板支持部材を上昇させて処理後の基板を基板受渡し位置へ移動した後、又は、処理後の基板を基板受渡し位置へ移動すると同時に、上記可動カップを下降させ、
   上記ネガ現像処理後に上記ポジ現像処理を行う場合は、上記基板支持部材が未処理の基板を受け取った状態で、上記基板支持部材が下降した後、又は、上記基板支持部材が下降すると同時に、上記可動カップを上昇させる、
   ことを特徴とする現像処理装置。
6. 請求項１に記載の現像処理装置において、
   上記第１の現像液排出管路及び第２の現像液排出管路には現像液用ポンプ及び現像液用開閉弁が介設され、
   上記第１の現像液排出管路又は上記第２の現像液排出管路の一方に介設されている上記現像液用ポンプが駆動し上記現像液用開閉弁が開いている場合には、上記第１の現像液排出管路又は上記第２の現像液排出管路の他方に介設されている上記現像液用ポンプの駆動が停止し上記現像液用開閉弁が閉じることを特徴とする現像処理装置。
7. 請求項１に記載の現像処理装置において、
   上記カップ体に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルが設けられ、
   該洗浄液供給ノズルから供給される洗浄液が上記カップ体に設けられた上記下部流路に貯留するように形成することを特徴とする現像処理装置。
8. 請求項１ないし７のいずれかに記載の現像処理装置において、
   上記基板の回転に伴って飛散する現像液に起因して生じるミストを排気する排気管路内に設けられ、上記ポジ型レジスト用の現像液の飛散に起因して発生する気体を排気するポジ型排気管路と、
   上記排気管路内に設けられ、上記ネガ型レジスト用の現像液の飛散に起因して発生する気体を排気するネガ型排気管路と、
   上記排気管路内に設けられ、上記ポジ型排気管路若しくは上記ネガ型排気管路のいずれか一の管路と上記カップ体との接続を切り換える切換ダンパと、
   上記ポジ型レジスト用の現像液の使用時には、上記ポジ型排気管路と上記カップ体とを連通し上記ネガ型排気管路と上記カップ体との連通を阻止するように上記切換ダンパを移動させ、上記ネガ型レジスト用の現像液の使用時には、上記ネガ型排気管路と上記カップ体とを連通し上記ポジ型排気管路と上記カップ体との連通を阻止するように上記切換ダンパを移動させる切換ダンパ制御部と、
   を備えることを特徴とする現像処理装置。

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