KR20160021404A - 배기 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법 - Google Patents

배기 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 기판 처리 장치는 내부에 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 처리 용기 및 상기 처리 공간에서 발생되는 퓸을 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은 상기 처리 용기에 결합되며, 내부에 통합 유로가 형성되는 통합 배관, 내부에 분기 유로가 형성되는 복수 개의 분기 배관들, 그리고 상기 통합 유로와 선택된 상기 분기 유로를 서로 연통시키는 밸브 어셈블리를 포함하되, 상기 밸브 어셈블리는 내부에 버퍼 공간을 가지는 내측 바디 및 선택된 상기 분기 유로의 일부가 상기 통합 유로에 연통되고, 상기 분기 유로의 다른 일부를 차단하도록 상기 내측 바디를 회전시키는 구동 부재를 포함한다. 따라서 복수 개의 분기 배관들을 선택적으로 개방하는 배기 유닛의 구성을 간소화할 수 있다.

Description

배기 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법{Exhaust Unit, Apparatus and Method for treating substrate with the unit}
본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 케미칼 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
반도체소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서, 기판에 포토리소그라피, 식각, 애싱, 이온주입, 그리고 박막 증착등의 다양한 공정들이 수행된다. 각각의 공정에서 생성된 오염물 및 파티클을 제거하기 위해 공정이 진행되기 전 또는 후 단계에서 기판을 세정하는 세정 공정이 실시된다.
세정 공정은 기판 상에 케미칼을 공급하여 기판 상에 잔류된 파티클을 제거하는 공정이다. 세정 공정에는 다양한 종류의 케미칼들이 사용되며, 이 중에는 강산 또는 강염기의 성질을 가지는 케미칼들이 사용된다. 특히 강산의 케미칼과 강염기의 케미칼은 서로 혼합되는 경우에 염을 발생시키고, 케미칼의 회수 라인을 오염시킨다. 이로 인해 서로 다른 성질을 가지는 케미칼들은 각각 분리 배출하여 서로 혼합되는 것을 방지하고, 재사용할 수 있다.
또한 강산 및 강염기의 케미칼들은 다량의 퓸을 발생시킨다. 각각의 퓸은 서로 혼합되어 염을 발생시키고, 주변 장치를 오염시킨다. 이에 따라 각각의 퓸은 서로 분리 배기시켜야 한다. 도 1은 일반적인 배기 유닛을 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 하우징 내에 분위기는 통합 라인(2) 및 복수 개의 분기 라인들(4a,4b)로 배기된다. 각각의 분기 라인(4)에는 밸브(6a,6b)가 설치되며, 밸브(6)는 그 분기 라인(4)을 개폐한다. 예컨대, 강산의 케미칼 처리 공정이 수행될 때에는 하우징의 내부 분위기를 제1분기 라인(4a)으로 배기하고, 강염기의 케미칼 처리 공정이 수행될 때에는 제2분기 라인(4b)을 배기할 수 있다.
그러나 상술한 바와 같이, 복수 개의 분기 라인들(4)을 개폐하기 위해서는 복수 개의 밸브들(6)이 설치된다. 이에 따라 그 밸브들(6)을 설치하기 위한 설치 공간이 증대되어야 하며, 분기 라인(4)의 개수가 증가할수록 밸브(6)의 개수도 함께 증가된다.
또한 분기 라인(4)이 분기되는 지점이 직육면체 형상으로 제공되는 경우에는 그 내부 공간의 가장자리 영역에 퓸이 정체되고, 이는 통합 라인(2) 또는 분기 라인(4)을 오염시킨다.
본 발명은 새로운 구조의 배기 유닛을 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 배기 유닛의 구성이 간소화된 기판 처리 장치를 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 단일의 구동 부재를 통해 복수 개의 분기 라인들을 개폐할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 실시예는 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 기판 처리 장치는 내부에 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 처리 용기, 상기 처리 공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 제1처리액을 공급하는 제1처리액 공급 유닛, 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 제2처리액을 공급하는 제2처리액 공급 유닛, 상기 처리 용기와 상기 기판 지지 유닛 간에 상대 높이가 변경되도록 상기 처리 용기 또는 상기 기판 지지 유닛을 승하강시키는 승강 유닛, 그리고 상기 처리 공간에서 발생되는 퓸을 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은 상기 처리 용기에 결합되며, 내부에 통합 유로가 형성되는 통합 배관, 내부에 분기 유로가 각각 형성되는 복수 개의 분기 배관들, 그리고 상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 선택된 분기 유로를 서로 연통시키는 밸브 어셈블리를 포함하되, 상기 밸브 어셈블리는 상기 통합 유로와 상기 분기 유로들이 서로 연통되도록 상기 통합 배관 및 상기 분기 배관들 각각에 연결되는 외측 바디, 상기 외측 바디 내에 위치되며, 내부에 버퍼 공간을 가지는 내측 바디, 그리고 상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 하나가 서로 연통되도록 상기 내측 바디를 회전시키는 구동 부재를 포함한다.
상기 내측 바디는 구 형상으로 제공되며, 상기 통합 유로와 통하는 유입홀 및 상기 분기 유로들 중 어느 하나와 통하는 유출홀이 형성될 수 있다. 상기 구동 부재는 상기 유입홀이 향하는 방향에 평행한 축을 중심으로 상기 내측 바디를 회전시킬 수 있다. 상기 외측 바디는 상기 통합 배관과 결합되는 통합 포트, 상기 분기 배관들과 결합되는 복수 개의 분기 포트들, 그리고 상기 통합 포트 및 상기 분기 포트들을 서로 연결하고, 내부에 상기 내측 바디가 위치되는 중앙 몸체를 포함하되, 상기 유입홀은 상기 통합 포트에 대향하고, 상기 유출홀은 상기 분기 포트 중 어느 하나에 대향되게 제공될 수 있다. 상기 통합 포트의 길이방향과 평행한 방향으로 상기 밸브 어셈블리를 바라볼 때, 상기 분기 포트들은 상기 통합 포트를 둘러싸도록 위치될 수 있다. 서로 인접한 상기 분기 포트들 간의 사이각들은 동일하게 제공될 수 있다. 상기 처리 용기는 상기 기판 지지 유닛을 감싸는 안내벽, 상기 안내벽을 감싸며, 상기 안내벽의 상단과의 사이 공간에 제1유입구를 가지는 내부 회수통, 그리고 상기 내부 회수통을 감싸며, 상기 내부 회수통의 상단과의 사이 공간에 제2처리액이 유입되는 제2유입구를 가지는 외부 회수통을 포함할 수 있다. 상기 안내벽의 하단과 상기 내부 회수통 간에 사이 공간에는 제1배출구가 형성되고, 상기 내부 회수통의 하단과 상기 외부 회수통 간의 사이 공간에는 제2배출구가 형성될 수 있다.
기판을 처리하는 처리 공간의 분위기를 배기하는 장치는 상기 처리 공간에 연결되며, 내부에 통합 유로가 형성되는 통합 배관, 내부에 분기 유로가 각각 형성되는 복수 개의 분기 배관들, 그리고 상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 선택된 분기 유로를 서로 연통시키는 밸브 어셈블리를 포함하되, 상기 밸브 어셈블리는 상기 통합 유로와 상기 분기 유로들이 서로 연통되도록 상기 통합 배관 및 상기 분기 배관들 각각에 연결되는 외측 바디, 상기 외측 바디 내에 위치되며, 내부에 버퍼 공간을 가지는 내측 바디, 그리고 상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 하나가 서로 연통되도록 상기 내측 바디를 회전시키는 구동 부재를 포함한다.
상기 내측 바디는 구 형상으로 제공되며, 상기 통합 유로와 통하는 유입홀 및 상기 분기 유로들 중 어느 하나와 통하는 유출홀이 형성될 수 있다. 상기 구동 부재는 상기 유입홀이 향하는 방향에 평행한 축을 중심으로 상기 내측 바디를 회전시킬 수 있다.
상기 기판 처리 장치를 이용하여 기판을 처리하는 방법으로는 상기 기판 상에 상기 제1처리액을 공급하고, 상기 제1유입구를 통해 상기 제1처리액을 회수하고, 이후에 상기 기판 상에 상기 제2처리액을 공급하고, 상기 제2유입구를 통해 상기 제2처리액을 회수하되, 상기 제1처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 분기 배관들 중 어느 하나의 분기 유로를 통해 배기되도록 상기 내측 바디를 이동시키고, 상기 제2처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 분기 배관들 중 다른 하나의 분기 유로를 통해 상기 내측 바디를 이동시키는 것을 포함한다.
상기 기판 상에 상기 제1처리액을 공급하는 것은 상기 기판이 상기 제1유입구에 대응된 위치에서 진행되고, 상기 기판 상에 상기 제2처리액을 공급하는 것은 상기 기판이 상기 제2유입구에 대응된 위치에서 진행될 수 있다. 상기 제1처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 제1배출구를 통해 상기 배기 유닛으로 배기되고, 상기 제2처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 제2배출구를 통해 상기 배기 유닛으로 배기될 수 있다. 상기 제1처리액은 산을 포함하는 케미칼이고, 상기 제2처리액은 염기를 포함하는 케미칼로 제공될 수 있다.
도 1은 일반적인 배기 유닛을 보여주는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다.
도 3은 도 2의 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다.
도 4는 도 3의 배기 유닛을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 5는 도 4의 밸브 어셈블리를 보여주는 사시도이다.
도 6은 도 5의 밸브 어셈블리를 보여주는 단면도이다.
도 7은 도 5의 밸브 어셈블리를 수직으로 절단한 사시도이다.
도 8 및 도 9는 도 6의 밸브 어셈블리의 배기 경로를 전환하는 과정을 보여주는 단면도들이다.
도 10은 도 5의 밸브 어셈블리의 다른 실시예를 보여주는 사시도이다.
도 11은 도 5의 밸브 어셈블리의 또 다른 실시예를 보여주는 사시도이다.
도 12는 도 3의 처리 용기의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.
본 실시예에는 기판을 케미칼 처리 및 린스 처리하는 세정 공정을 일 예로 설명한다. 그러나 본 실시예는 세정 공정에 한정되지 않고, 식각 공정, 애싱 공정, 현상 공정 등, 처리액을 이용하여 기판을 처리하는 공정에 적용 가능하다.
이하, 도 2 내지 도 12를 참조하여 본 발명의 일 예를 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다. 도 2를 참조하면, 기판 처리 설비(1)는 인덱스모듈(10)과 공정처리모듈(20)을 가진다. 인덱스모듈(10)은 로드포트(120) 및 이송프레임(140)을 가진다. 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하며, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(16)이라 칭한다.
로드포트(140)에는 기판(W)이 수납된 캐리어(130)가 안착된다. 로드포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 로드포트(120)의 개수는 공정처리모듈(20)의 공정효율 및 풋 프린트조건 등에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(130)에는 기판(W)들을 지면에 대해 수평하게 배치한 상태로 수납하기 위한 다수의 슬롯(미도시)이 형성된다. 캐리어(130)로는 전면개방일체형포드(Front Opening Unifed Pod;FOUP)가 사용될 수 있다.
공정처리모듈(20)은 버퍼유닛(220), 이송챔버(240), 그리고 공정 챔버(260)를 가진다. 이송챔버(240)는 그 길이 방향이 제 1 방향(12)과 평행하게 배치된다. 이송챔버(240)의 양측에는 각각 공정 챔버들(260)이 배치된다. 이송챔버(240)의 일측 및 타측에서 공정 챔버들(260)은 이송챔버(240)를 기준으로 대칭되도록 제공된다. 이송챔버(240)의 일측에는 복수 개의 기판처리부(260)들이 제공된다. 공정 챔버들(260) 중 일부는 이송챔버(240)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정 챔버들(260) 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송챔버(240)의 일측에는 공정 챔버들(260)이 A X B의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 제1방향(12)을 따라 일렬로 제공된 공정 챔버(260)의 수이고, B는 제3방향(16)을 따라 일렬로 제공된 공정 챔버(260)의 수이다. 이송챔버(240)의 일측에 공정 챔버(260)가 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정 챔버(260)들은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정 챔버(260)의 개수는 증가하거나 감소할 수도 있다. 상술한 바와 달리, 공정 챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한, 공정 챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.
버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 이송챔버(240) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(220)은 이송챔버(240)와 이송프레임(140) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼유닛(220)의 내부에는 기판(W)이 놓이는 슬롯(미도시)이 제공된다. 슬롯(미도시)들은 서로 간에 제3방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개가 제공된다. 버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 마주보는 면 및 이송챔버(240)와 마주보는 면이 개방된다.
이송프레임(140)은 로드포트(120)에 안착된 캐리어(130)와 버퍼유닛(220) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송프레임(140)에는 인덱스레일(142)과 인덱스로봇(144)이 제공된다. 인덱스레일(142)은 그 길이 방향이 제2방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스로봇(144)은 인덱스레일(142) 상에 설치되며, 인덱스레일(142)을 따라 제2방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스암(144c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스암(144c)들 중 일부는 공정처리모듈(20)에서 캐리어(130)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 이의 다른 일부는 캐리어(130)에서 공정처리모듈(20)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스로봇(144)이 기판(W)을 반입 및 반출하는 과정에서 공정 처리 전의 기판(W)으로부터 발생된 파티클이 공정 처리 후의 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
이송챔버(240)는 버퍼유닛(220)과 공정 챔버(260) 간에, 그리고 공정 챔버(260)들 간에 기판(W)을 반송한다. 이송챔버(240)에는 가이드레일(242)과 메인로봇(244)이 제공된다. 가이드레일(242)은 그 길이 방향이 제1방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인로봇(244)은 가이드레일(242) 상에 설치되고, 가이드레일(242) 상에서 제1방향(12)을 따라 직선 이동된다. 메인로봇(244)은 베이스(244a), 몸체(244b), 그리고 메인암(244c)을 가진다. 베이스(244a)는 가이드레일(242)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(244b)는 베이스(244a)에 결합된다. 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 몸체(244b)에 결합되고, 이는 몸체(244b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 메인암(244c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다.
공정 챔버(260)는 기판(W)에 대해 세정 공정을 수행하는 기판 처리 장치(300)가 제공된다. 기판 처리 장치(300)는 수행하는 세정 공정의 종류에 따라 상이한 구조를 가질 수 있다. 이와 달리 각각의 공정 챔버(260) 내의 기판 처리 장치(300)는 동일한 구조를 가질 수 있다. 선택적으로 공정 챔버(260)들은 복수 개의 그룹으로 구분되어, 동일한 그룹에 속하는 공정 챔버(260) 내에 기판 처리 장치(300)들은 서로 동일하고, 서로 상이한 그룹에 속하는 공정 챔버(260) 내에 기판 처리 장치(300)의 구조는 서로 상이하게 제공될 수 있다.
기판 처리 장치(300)는 도 3은 도 2의 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다. 도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(300)는 하우징(310), 처리 용기(320), 기판 지지 유닛(340), 승강 유닛(360), 액 공급 유닛(370), 그리고 배기 유닛을 포함한다.
하우징(310)은 내부에 공간을 형성한다. 처리 용기(320)는 하우징(310)의 내부에 위치된다. 처리 용기(320)의 내부에는 기판(W)을 처리하는 처리 공간이 형성된다. 처리 용기(320)는 안내벽(321), 내부 회수통(322), 중간 회수통(324), 그리고 외부 회수통(326)을 가진다. 각각의 회수통(322,324,326)은 공정에 사용된 처리액 중 서로 상이한 처리액을 분리 회수한다. 안내벽(321)은 기판 지지 유닛(340)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 내부 회수통(322)은 안내벽(321)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 중간 회수통(324)은 내부 회수통(322)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 외부 회수통(326)은 중간 회수통(324)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내부 회수통(322)과 안내벽(321)의 사이 공간은(322a)은 처리액이 유입되는 제1유입구로 기능한다. 내부 회수통(322)과 중간 회수통(324)의 사이 공간(324a)은 처리액이 유입되는 제2유입구로 기능한다. 중간 회수통(324)과 외부 회수통(326)의 사이 공간(326a)은 처리액이 유입되는 제3유입구로 기능한다. 또한 안내벽(321)의 하단과 내부 회수통(322)의 사이 공간(322c)은 처리액으로부터 발생된 퓸을 배출되는 제1배출구로 기능한다. 내부 회수통(322)의 하단과 중간 회수통(324)의 사이 공간(324c)은 처리액으로부터 발생된 퓸을 배출되는 제2배출구로 기능한다. 중간 회수통(324)의 하단과 외부 회수통(326)의 사이 공간(326c)은 처리액으로부터 발생된 퓸을 배출되는 제3배출구로 기능한다. 각각의 회수통에는 서로 상이한 종류의 처리액이 유입될 수 있다. 각각의 회수통(322,324,326)에는 그 저면 아래 방향으로 수직하게 연장되는 회수 라인(322b,324b,326b)이 연결된다. 각각의 회수라인(322b,324b,326b)은 각각의 회수통(322,324,326)을 통해 유입된 처리액을 배출한다. 배출된 처리액은 외부의 처리액 재생 시스템(미도시)을 통해 재사용될 수 있다.
기판 지지 유닛(340)은 공정 진행 중 기판(W)을 지지하고 기판(W)을 회전시키는 스핀 헤드로 제공된다. 스핀 헤드(340)는 몸체(342), 지지핀(344), 척핀(346), 그리고 지지축(348)을 가진다. 몸체(342)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형으로 제공되는 상부면을 가진다. 몸체(342)의 저면에는 구동부(349)에 의해 회전가능한 지지축(348)이 고정결합된다.
지지핀(344)은 복수 개 제공된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면의 가장자리부에 소정 간격으로 이격되게 배치되고 몸체(342)에서 상부로 돌출된다. 지지 핀(344)들은 서로 간에 조합에 의해 전체적으로 환형의 링 형상을 가지도록 배치된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면으로부터 기판(W)이 일정거리 이격되도록 기판(W)의 후면 가장자리를 지지한다.
척핀(346)은 복수 개 제공된다. 척핀(346)은 몸체(342)의 중심에서 지지핀(344)보다 멀리 떨어지게 배치된다. 척핀(346)은 몸체(342)에서 상부로 돌출되도록 제공된다. 척핀(346)은 스핀 헤드(340)가 회전될 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 척핀(346)은 몸체(342)의 반경 방향을 따라 대기 위치와 지지 위치 간에 직선 이동이 가능하도록 제공된다. 대기 위치는 지지 위치에 비해 몸체(342)의 중심으로부터 멀리 떨어진 위치이다. 기판(W)이 스핀 헤드(340)에 로딩 또는 언로딩 시 척핀(346)은 대기위치에 위치되고, 기판(W)에 대해 공정 수행 시 척 핀(346)은 지지 위치에 위치된다. 지지 위치에서 척핀(346)은 기판(W)의 측부와 접촉된다.
승강 유닛(360)은 처리 용기(320)를 상하 방향으로 직선이동시킨다. 처리 용기(320)가 상하로 이동됨에 따라 스핀 헤드(340)에 대한 처리 용기(320)의 상대 높이가 변경된다. 승강 유닛(360)은 브라켓(362), 이동축(364), 그리고 구동기(366)를 가진다. 브라켓(362)은 처리 용기(320)의 외벽에 고정설치되고, 브라켓(362)에는 구동기(366)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동축(364)이 고정결합된다. 기판(W)이 스핀 헤드(340)에 놓이거나, 스핀 헤드(340)로부터 들어올려 질 때 스핀 헤드(340)가 처리 용기(320)의 상부로 돌출되도록 처리 용기(320)는 하강된다. 또한, 공정이 진행될 시에는 기판(W)에 공급된 처리액의 종류에 따라 처리액이 기설정된 회수통(360)으로 유입될 수 있도록 처리 용기(320)의 높이가 조절한다. 선택적으로, 승강 유닛(360)은 스핀 헤드(340)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.
액 공급 유닛(370)은 기판(W) 상으로 처리액을 공급한다. 액 공급 유닛(370)은 복수 개로 제공되며, 각각은 서로 상이한 종류의 처리액들을 공급한다. 일 예에의하면, 액 공급 유닛(370)은 제1처리액 공급 유닛(370a) 및 제2처리액 공급 유닛(370b)으로 제공될 수 있다.
제1처리액 공급 유닛(370a)은 지지축(376), 아암(372), 구동기(378), 그리고 노즐(374)을 포함한다. 지지축(376)은 처리 용기(320)의 일측에 위치된다. 지지축(376)은 그 길이방향이 제3방향을 향하는 로드 형상을 가진다. 지지축(376)은 구동기(378)에 의해 회전 가능하도록 제공된다. 아암(372)은 지지축(376)의 상단에 결합된다. 아암(372)은 지지축(376)으로부터 수직하게 연장된다. 아암(372)의 끝단에는 노즐(374)이 고정 결합된다. 지지축(376)이 회전됨에 따라 노즐(374)은 아암(372)과 함께 스윙 이동 가능하다. 노즐(374)은 스윙 이동되어 공정 위치 및 대기 위치로 이동될 수 있다. 여기서 공정 위치는 노즐(374)이 기판 지지 유닛(340)에 지지된 기판(W)과 대향되는 위치이고, 대기 위치는 노즐(374)이 공정 위치를 벗어난 위치이다.
선택적으로, 아암(372)은 그 길이방향을 향해 전진 및 후진 이동이 가능하도록 제공될 수 있다. 상부에서 바라볼 때 노즐(374)은 스윙 이동되어 기판(W)의 중심축과 일치되도록 이동될 수 있다. 예컨대, 제1처리액은 강산의 성질을 가지는 케미칼일 수 있다. 케미칼은 황산(H2SO4) 또는 인산(P2O5)일 수 있다.
제2처리액 공급 유닛(370b)은 기판 지지 유닛(340)에 지지된 기판(W) 상에 제2처리액을 공급한다. 예컨대, 제2처리액은 강염기의 성질을 가지는 케미칼일 수 있다. 제1처리액 및 제2처리액은 서로 혼합되어 염을 발생시키는 케미칼일 수 있다. 제2처리액 공급 유닛(370b)은 제1처리액 공급 유닛(370a)과 동일한 형상을 가지도록 제공된다. 이에 따라 제2처리액 공급 유닛(370b)에 대한 상세한 설명은 생략한다.
배기 유닛(400)은 처리 공간에 발생된 퓸을 배기한다. 배기 유닛(400)은 기판을 액 처리 시 발생되는 퓸을 배기한다. 도 4는 도 3의 배기 유닛(400)을 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 4를 참조하면, 배기 유닛(400)은 통합 배관(410), 분기 배관(420), 밸브 어셈블리(440), 그리고 제어기(490)를 포함한다. 통합 배관(410)은 처리 용기(310)의 배기홀에 연결된다. 통합 배관(410)의 내부에는 통합 경로가 형성된다. 분기 배관(420)은 복수 개로 제공된다. 분기 배관(420)의 내부에는 분기 경로가 형성된다. 각각의 분기 배관(420)은 통합 배관(410)에 연결된다. 각각의 분기 경로는 서로 상이한 종류의 퓸들이 분리 배기되는 경로로 제공된다. 일 예에 의하면, 각각의 분기 배관(420)은 통합 배관(410)의 동일 지점으로부터 분기되게 제공될 수 있다. 분기 배관(420)들은 2 개일 수 있다. 제1분기 배관(420a)은 강산의 퓸이 배기되는 배관이고, 제2분기 배관(420b)은 강염기의 퓸이 배기되는 배관일 수 있다.
밸브 어셈블리(440)는 복수 개의 분기 배관(420)들을 통합 배관(410)에 연결시킨다. 밸브 어셈블리(440)는 분기 경로들 중 일부가 통합 경로에 연통되도록 분기 경로들의 다른 일부를 차단한다. 일 예에 의하면, 밸브 어셈블리(440)는 분기 경로들 중 하나가 통합 경로와 일대일로 연통하도록 나머지 분기 경로들을 차단할 수 있다.
도 5는 도 4의 밸브 어셈블리를 보여주는 사시도이고, 도 6은 도 5의 밸브 어셈블리를 보여주는 단면도이다. 도 5 및 도 6을 참조하면, 밸브 어셈블리(440)는 외측 바디(450), 내측 바디(460), 그리고 구동 부재(470)를 포함한다. 외측 바디(450)는 통합 배관(410)과 복수 개의 분기 배관(420)들을 서로 연결한다. 외측 바디(450)에는 통합 배관(410) 및 분기 배관(420)들이 각각 결합된다. 외측 바디(450)는 중앙 몸체(452), 통합 포트(454), 그리고 분기 포트(456)를 포함한다. 중앙 몸체(452)는 내부에 공간이 형성된다. 공간이 형성되는 중앙 몸체(452)의 내측면은 구 형상을 가지도록 제공된다.
통합 포트(454)는 통합 경로에서 몸체의 내부 공간으로 퓸이 유입되는 밸브 어셈블리(440)의 입구로 기능한다. 통합 포트(454)는 중앙 몸체(452)로부터 연장되게 제공된다. 통합 포트(454)는 중앙 몸체(452)의 외측면으로부터 외측 방향으로 돌출되게 제공된다. 통합 포트(454)는 그 길이 방향이 중앙 몸체(452)의 중심을 지나도록 제공된다. 분기 포트(456)는 몸체의 내부 공간에서 분기 경로로 퓸이 유출되는 밸브 어셈블리(440)의 출구로 기능한다. 분기 포트(456)는 복수 개로 제공된다. 각각의 분기 포트(456)들은 중앙 몸체(452)로부터 연장되게 제공된다. 각각의 분기 포트(456)는 중앙 몸체(452)의 외측면으로부터 외측 방향으로 돌출되게 제공된다. 일 예에 의하면, 분기 포트(456)는 분기 배관(420)과 일대일 대응되는 개수로 제공될 수 있다. 제1분기 포트(456a)에는 제1분기 배관(420a)이 결합되고, 제2분기 포트(456b)에는 제2분기 배관(420b)이 결합될 수 있다. 제1분기 포트(456a) 및 제2분기 포트(456b)는 통합 포트(454)의 길이 방향을 중심으로 서로 대칭되게 위치될 수 있다. 통합 포트(454)는 중앙 몸체(452)의 일측면에 위치되고, 복수 개의 분기 포트(456)들은 그 일측면과 반대되는 타측면에 위치될 수 있다.
도 7은 도 5의 밸브 어셈블리를 수직으로 절단한 사시도이다. 도 7을 참조하면, 내측 바디(460)는 중앙 몸체(452)의 내측면과 대응되는 형상을 가지도록 제공된다. 내측 바디(460)는 구 형상을 가지도록 제공된다. 내측 바디(460)는 중앙 몸체(452)의 내부에 위치된다. 내측 바디(460)는 중앙 몸체(452)의 내부에서 회전 가능하도록 제공된다. 내측 바디(460)의 내부에는 버퍼 공간(462)이 형성되고, 외측면에는 유입홀(464) 및 유출홀(466)이 형성된다. 유입홀(464)은 통합 포트(454)에 대향되게 위치되고, 유출홀(466)은 제1분기 포트(456a) 또는 제2분기 포트(456b) 중 어느 하나에 대향되게 위치된다. 유입홀(464) 및 유출홀(466)은 버퍼 공간(462)을 통해 서로 통하도록 제공된다.
다시 도 5 및 도 6을 참조하면, 구동 부재(470)는 통합 포트(454)의 길이방향과 평행한 방향을 축으로 내측 바디(460)를 회전시킨다. 구동 부재(470)는 구동축(472) 및 모터(474)를 포함한다. 구동축(472)은 통합 포트(454)와 평행한 길이방향을 가지도록 제공된다. 구동축(472)을 중앙 몸체(452)를 관통하여 내측 바디(460)에 결합된다. 구동축(472)은 통합 포트(454)와 평행한 길이방향을 가진다. 구동축(472)은 내측 바디(460)를 사이에 두고 통합 포트(454)에 대향되게 위치된다. 모터(474)는 구동축(472)을 회전시킨다. 내측 바디(460)는 구동축(472)과 함께 회전 가능하다.
제어기(490)는 제1처리액 공급 유닛(370a), 제2처리액 공급 유닛(370b), 승강 유닛(360), 그리고 밸브 어셈블리(440)을 제어한다. 제어기(490)는 기판(W)을 제1처리액으로 처리 시 제1유입구(322a)가 기판(W)에 대응되도록 처리 용기(320)의 높이를 조절하고, 통합 배관(410)과 제1분기 배관(420a)이 서로 통하도록 밸브 어셈블리(440)을 제어한다. 또한 제어기(490)는 기판(W)을 제2처리액으로 처리 시 제2유입구(324a)가 기판(W)에 대응되도록 처리 용기(320)의 높이를 조절하고, 통합 배관(410)과 제2분기 배관(420b)이 서로 통하도록 밸브 어셈블리(440)를 제어한다.
다음은 상술한 배기 유닛(400)을 이용하여 제1처리액 및 제2처리액 각각으로부터 발생된 퓸을 배기하는 과정을 설명한다. 도 8 및 도 9는 도 6의 밸브 어셈블리의 배기 경로를 전환하는 과정을 보여주는 단면도들이다. 도 8 및 도 9를 참조하면, 내부 회수통의 내측 공간이 기판과 대응되는 높이로 이동되면, 제1처리액 공급 유닛은 기판 상에 제1처리액을 공급한다. 이와 동시에 내측 바디(460)는 제1분기 배관(420a)이 개방되도록 회전된다. 내측 바디(460)는 유출홀(466)이 제1분기 배관(420a)과 대향되도록 회전된다. 제1처리액으로부터 발생된 퓸을 순차적으로 통합 배관(410), 밸브 어셈블리(440), 그리고 제1분기 배관(420a)을 통해 배기된다. 이후 외부 회수통과 내부 회수통 간의 사이 공간이 기판과 대응되는 높이로 이동되면, 제2처리액 공급 유닛은 기판 상에 제2처리액을 공급한다. 이와 동시에 내측 바디(460)는 제2분기 배관(420b)이 개방되도록 회전된다. 내측 바디(460)는 유출홀(466)이 제2분기 배관(420b)과 대향되도록 회전된다. 제2처리액으로부터 발생된 퓸을 순차적으로 통합 배관(410), 밸브 어셈블리(440), 그리고 제2분기 배관(420b)을 통해 배기된다.
상술한 실시예에는 분기 배관(420)이 2 개로 제공되는 것으로 설명하였다. 그러나 도 10과 같이 분기 배관(420) 및 분기 포트(456) 각각은 3 개 이상으로 제공될 수 있다. 통합 포트(454)의 길이방향으로 통합 포트(454)를 바라볼 때, 각각의 분기 포트(456)는 유입 배관을 둘러싸도록 위치될 수 있다. 통합 포트(454)의 길이방향으로 통합 포트(454)를 바라볼 때, 각각의 분기 포트(456)는 통합 포트(454)에 중첩되지 않도록 위치될 수 있다. 각각의 분기 포트(456)는 서로 조합되어 원형으로 제공될 수 있다.
또한 통합 포트(454)는 중앙 몸체(452)의 일측면에 제공되고, 분기 포트(456)들은 타측면에 제공되는 것으로 설명하였다. 그러나 도 11과 같이, 분기 포트(456)들은 중앙 몸체(452)의 일측면에 제공될 수 있다. 분기 포트(456)들은 통합 포트(454)를 감싸도록 배열될 수 있다.
또한 처리 용기(320)는 내부 회수통(322), 중간 회수통(324), 그리고 외부 회수통(326)을 가지며, 제1처리액 및 제2처리액을 분리 회수하는 것으로 설명하였다. 그러나 도 12와 같이, 처리 용기(320)는 1 개의 회수통으로 제공되며, 처리 공간에 발생된 퓸을 서로 분리 배출할 수 있다. 선택적으로, 회수통은 4 개 이상으로 제공될 수 있다.
320: 처리 용기 340: 기판 지지 유닛
360: 승강 유닛 370a: 제1처리액 공급 유닛
370b: 제2처리액 공급 유닛 400: 배기 유닛
410: 통합 배관 420: 분기 배관
440: 밸브 어셈블리 450: 외측 바디
460: 내측 바디 470: 구동 부재

Claims (15)

  1. 내부에 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 처리 용기와;
    상기 처리 공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과;
    상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 제1처리액을 공급하는 제1처리액 공급 유닛과;
    상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 제2처리액을 공급하는 제2처리액 공급 유닛과;
    상기 처리 용기와 상기 기판 지지 유닛 간에 상대 높이가 변경되도록 상기 처리 용기 또는 상기 기판 지지 유닛을 승하강시키는 승강 유닛과;
    상기 처리 공간에서 발생되는 퓸을 배기하는 배기 유닛을 포함하되,
    상기 배기 유닛은,
    상기 처리 용기에 결합되며, 내부에 통합 유로가 형성되는 통합 배관과;
    내부에 분기 유로가 각각 형성되는 복수 개의 분기 배관들과;
    상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 선택된 분기 유로를 서로 연통시키는 밸브 어셈블리를 포함하되,
    상기 밸브 어셈블리는,
    상기 통합 유로와 상기 분기 유로들이 서로 연통되도록 상기 통합 배관 및 상기 분기 배관들 각각에 연결되는 외측 바디와;
    상기 외측 바디 내에 위치되며, 내부에 버퍼 공간을 가지는 내측 바디와;
    상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 하나가 서로 연통되도록 상기 내측 바디를 회전시키는 구동 부재를 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 내측 바디는 구 형상으로 제공되며, 상기 통합 유로와 통하는 유입홀 및 상기 분기 유로들 중 어느 하나와 통하는 유출홀이 형성되는 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 구동 부재는 상기 유입홀이 향하는 방향에 평행한 축을 중심으로 상기 내측 바디를 회전시키는 기판 처리 장치.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 밸브 어셈블리는,
    상기 외측 바디는,
    상기 통합 배관과 결합되는 통합 포트와;
    상기 분기 배관들과 결합되는 복수 개의 분기 포트들과;
    상기 통합 포트 및 상기 분기 포트들을 서로 연결하고, 내부에 상기 내측 바디가 위치되는 중앙 몸체를 포함하되,
    상기 유입홀은 상기 통합 포트에 대향하고, 상기 유출홀은 상기 분기 포트 중 어느 하나에 대향되게 제공되는 기판 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 통합 포트의 길이방향과 평행한 방향으로 상기 밸브 어셈블리를 바라볼 때, 상기 분기 포트들은 상기 통합 포트를 둘러싸도록 위치되는 기판 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    서로 인접한 상기 분기 포트들 간의 사이각들은 동일하게 제공되는 기판 처리 장치.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 처리 용기는,
    상기 기판 지지 유닛을 감싸는 안내벽과;
    상기 안내벽을 감싸며, 상기 안내벽의 상단과의 사이 공간에 제1유입구를 가지는 내부 회수통과;
    상기 내부 회수통을 감싸며, 상기 내부 회수통의 상단과의 사이 공간에 제2처리액이 유입되는 제2유입구를 가지는 외부 회수통을 포함하는 기판 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 안내벽의 하단과 상기 내부 회수통 간에 사이 공간에는 제1배출구가 형성되고,
    상기 내부 회수통의 하단과 상기 외부 회수통 간의 사이 공간에는 제2배출구가 형성되는 기판 처리 장치.
  9. 기판을 처리하는 처리 공간의 분위기를 배기하는 장치에 있어서,
    상기 처리 공간에 연결되며, 내부에 통합 유로가 형성되는 통합 배관과;
    내부에 분기 유로가 각각 형성되는 복수 개의 분기 배관들과;
    상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 선택된 분기 유로를 서로 연통시키는 밸브 어셈블리를 포함하되,
    상기 밸브 어셈블리는,
    상기 통합 유로와 상기 분기 유로들이 서로 연통되도록 상기 통합 배관 및 상기 분기 배관들 각각에 연결되는 외측 바디와;
    상기 외측 바디 내에 위치되며, 내부에 버퍼 공간을 가지는 내측 바디와;
    상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 하나가 서로 연통되도록 상기 내측 바디를 회전시키는 구동 부재를 포함하는 배기 유닛.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 내측 바디는 구 형상으로 제공되며, 상기 통합 유로와 통하는 유입홀 및 상기 분기 유로들 중 어느 하나와 통하는 유출홀이 형성되는 배기 유닛.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 구동 부재는 상기 유입홀이 향하는 방향에 평행한 축을 중심으로 상기 내측 바디를 회전시키는 배기 유닛.
  12. 제8항의 기판 처리 장치를 이용하여 기판을 처리하는 방법에 있어서,
    상기 기판 상에 상기 제1처리액을 공급하고, 상기 제1유입구를 통해 상기 제1처리액을 회수하고, 이후에 상기 기판 상에 상기 제2처리액을 공급하고, 상기 제2유입구를 통해 상기 제2처리액을 회수하되,
    상기 제1처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 분기 배관들 중 어느 하나의 분기 유로를 통해 배기되도록 상기 내측 바디를 이동시키고,
    상기 제2처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 분기 배관들 중 다른 하나의 분기 유로를 통해 상기 내측 바디를 이동시키는 기판 처리 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 기판 상에 상기 제1처리액을 공급하는 것은 상기 기판이 상기 제1유입구에 대응된 위치에서 진행되고,
    상기 기판 상에 상기 제2처리액을 공급하는 것은 상기 기판이 상기 제2유입구에 대응된 위치에서 진행되는 기판 처리 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제1처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 제1배출구를 통해 상기 배기 유닛으로 배기되고,
    상기 제2처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 제2배출구를 통해 상기 배기 유닛으로 배기되는 기판 처리 방법.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 제1처리액은 산을 포함하는 케미칼이고,
    상기 제2처리액은 염기를 포함하는 케미칼로 제공되는 기판 처리 방법.


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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200334711Y1 (ko) * 2003-09-04 2003-11-28 도 순 김 볼 밸브 구조
KR200338640Y1 (ko) * 2003-10-27 2004-01-16 도 순 김 볼 밸브
JP2011509369A (ja) * 2008-01-04 2011-03-24 コンチネンタル オートモーティヴ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 自動車のための排気ガス再循環弁
KR20110133280A (ko) * 2010-06-04 2011-12-12 삼성전자주식회사 반도체 기판의 세정 장치 및 이를 이용한 반도체 기판의 세정 방법
KR20130062685A (ko) * 2011-12-05 2013-06-13 세메스 주식회사 기판처리장치

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200334711Y1 (ko) * 2003-09-04 2003-11-28 도 순 김 볼 밸브 구조
KR200338640Y1 (ko) * 2003-10-27 2004-01-16 도 순 김 볼 밸브
JP2011509369A (ja) * 2008-01-04 2011-03-24 コンチネンタル オートモーティヴ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 自動車のための排気ガス再循環弁
KR20110133280A (ko) * 2010-06-04 2011-12-12 삼성전자주식회사 반도체 기판의 세정 장치 및 이를 이용한 반도체 기판의 세정 방법
KR20130062685A (ko) * 2011-12-05 2013-06-13 세메스 주식회사 기판처리장치

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