JPH0271273A - フォトレジスト現像装置 - Google Patents
フォトレジスト現像装置Info
- Publication number
- JPH0271273A JPH0271273A JP22224388A JP22224388A JPH0271273A JP H0271273 A JPH0271273 A JP H0271273A JP 22224388 A JP22224388 A JP 22224388A JP 22224388 A JP22224388 A JP 22224388A JP H0271273 A JPH0271273 A JP H0271273A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- cup
- waste liquid
- water
- discharged
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 32
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 36
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 8
- 239000002699 waste material Substances 0.000 abstract description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 21
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 101150038956 cup-4 gene Proteins 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、半導体装置を製造する過程におけるフォトレ
ジストの現像処理装置に関するものである。
ジストの現像処理装置に関するものである。
（従来の技術）
半導体ウェハのフォトリソグラフィにおいて、ポジ型フ
ォトレジストの現像処理は、ウェハにフォトレジスト レジスト部を除去するために使われている。
ォトレジストの現像処理は、ウェハにフォトレジスト レジスト部を除去するために使われている。
従来、フェノールノボラック樹脂に感光剤としてキノン
ジアジド系の材料を添加してなるポジ型フォトレジス１
〜の現像には、水酸化テトラメチルアンモニウムを主成
分とするアルカリ性の現像液を使用している。
ジアジド系の材料を添加してなるポジ型フォトレジス１
〜の現像には、水酸化テトラメチルアンモニウムを主成
分とするアルカリ性の現像液を使用している。
その方法としては、以下の２つが一般に採用されている
。
。
■現像液にウェハを適当な時間浸し、その後、水洗いす
る。
る。
■ウェハを１枚づつチャックに保持して、現像液をノズ
ルより供給し、適当な時間後、別のノズルより水を供給
して洗浄する。
ルより供給し、適当な時間後、別のノズルより水を供給
して洗浄する。
このうち、近年、微細なパターンを精度良く再現するこ
とが要求されるに従い、前記■の方法が主流となりつつ
ある。
とが要求されるに従い、前記■の方法が主流となりつつ
ある。
第３図及び第４図はかかる従来の技術の構成を示したも
のである。
のである。
これらの図において、ウェハ３はチャック７により保持
されており、ノズル１より現像液が供給される。この時
、モータ６により適当な回転を与え、ウェハ３面内にお
ける不要フォトレジストの溶解が均一に進むように制御
される。この場合、ウェハ３の回転が速いと未反応現像
液が排液されることになり、現像液の効率が悪いため、
現像液をウェハ３上に表面張力及び界面張力によって載
せ、ウェハ３をその上の現像液が落ちない程度の低速で
回転させる方法が一般的である。更に、この時、回転を
一時的に停止させることも行われることが多い。
されており、ノズル１より現像液が供給される。この時
、モータ６により適当な回転を与え、ウェハ３面内にお
ける不要フォトレジストの溶解が均一に進むように制御
される。この場合、ウェハ３の回転が速いと未反応現像
液が排液されることになり、現像液の効率が悪いため、
現像液をウェハ３上に表面張力及び界面張力によって載
せ、ウェハ３をその上の現像液が落ちない程度の低速で
回転させる方法が一般的である。更に、この時、回転を
一時的に停止させることも行われることが多い。
不要フォトレジストの溶解が終了した後、ノズル２より
水を供給して、溶解したレジスト及び現像液を洗い流す
。この時のウェハ３の回転は、水が常に新液と交換され
た方が洗浄効果が高いため、水を十分流しながら現像時
よりも高速で回転させることが多い。
水を供給して、溶解したレジスト及び現像液を洗い流す
。この時のウェハ３の回転は、水が常に新液と交換され
た方が洗浄効果が高いため、水を十分流しながら現像時
よりも高速で回転させることが多い。
ウェハ３の洗浄が十分に行われた後、水の供給ヲ止めて
高速で回転させることにより、ウェハ３に付着している
水を飛ばし、乾燥させる。
高速で回転させることにより、ウェハ３に付着している
水を飛ばし、乾燥させる。
以上により、ポジ型フォトレジストの現像処理が終了す
ることになるが、この処理中に使用された現像液、水及
び不要フォトレジストは処理室のカップ４から排液管５
を通り、排出口８より一括して排出される構造となって
いた。
ることになるが、この処理中に使用された現像液、水及
び不要フォトレジストは処理室のカップ４から排液管５
を通り、排出口８より一括して排出される構造となって
いた。
なお、このような構造を有するフォトレジスト現像装置
として、例えば、特開昭５８−７８２６号公報に示され
るものがある。
として、例えば、特開昭５８−７８２６号公報に示され
るものがある。
（発明が解決しようとする課Ｂ）
ところで、フォトレジストの現像処理による排液は、通
常そのままで廃棄することはできない。
常そのままで廃棄することはできない。
そのため、汚泥処理、焼却処理等を行う必要がある。
しかしながら、従来の処理室では実際には処理が不必要
な水も同時に排液されるため、その排液処理量が多くな
り、その処理に多額の費用を必要としていた。
な水も同時に排液されるため、その排液処理量が多くな
り、その処理に多額の費用を必要としていた。
本発明は、上記問題点を除去し、現像排液処理量を少な
くするために、実際の現像排液と排液処理が不要又は軽
減できる水の排液とを、現像処理室において分離、排出
できるフォトレジスト現像装置を提供することを目的と
する。
くするために、実際の現像排液と排液処理が不要又は軽
減できる水の排液とを、現像処理室において分離、排出
できるフォトレジスト現像装置を提供することを目的と
する。
（課題を解決するための手段）
本発明は、上記問題点を解決するために、半導体ウェハ
を保持する機構と、前記半導体ウェハを回転する機構と
、前記半導体ウェハから飛散する排液を受ける排液管付
カップにより構成されるフォトレジスト現像装置におい
て、前記カップの内側に独立した排液管を有する内側カ
ップを設けるようにしたものである。
を保持する機構と、前記半導体ウェハを回転する機構と
、前記半導体ウェハから飛散する排液を受ける排液管付
カップにより構成されるフォトレジスト現像装置におい
て、前記カップの内側に独立した排液管を有する内側カ
ップを設けるようにしたものである。
（作用）
本発明によれば、上記のように、フォトレジスト現像装
置において現像処理室のカップを２重構造としたので、
現像液及び溶解レジストを多く含む排液と、殆どが水で
ある排液とを分離して排液することができる。従って、
実際の現像排液と排液処理が不要又は軽減できる水の排
液とを、現像処理室において分離、排出することができ
る。
置において現像処理室のカップを２重構造としたので、
現像液及び溶解レジストを多く含む排液と、殆どが水で
ある排液とを分離して排液することができる。従って、
実際の現像排液と排液処理が不要又は軽減できる水の排
液とを、現像処理室において分離、排出することができ
る。
（実施例）
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細
に説明する。
に説明する。
第１図は本発明の実施例を示すフォトレジスト現像装置
の断面図である。
の断面図である。
この図に示すように、従来のカップ４の内側に更にカッ
プ９が設けられており、カップ４は排液の排出口８を、
カップ９は排液の排出口１１を有し、それぞれのカップ
に対して排液の排出口は別個に設レノられている。
プ９が設けられており、カップ４は排液の排出口８を、
カップ９は排液の排出口１１を有し、それぞれのカップ
に対して排液の排出口は別個に設レノられている。
まず、ウェハ３はチャック７により保持されており、ノ
ズル１より現像液が供給される。この時、モータ６によ
り現像液がウェハ上に均一に広がるようにウェハ３を回
転させる。その回転は通常低速回転（０〜１０１０００
ｒｐのため、ウェハ３がら落ちる現像液及びフォトレジ
スト ップ９に受けられ、排液管１０を通り、排出口１１より
排出される。
ズル１より現像液が供給される。この時、モータ６によ
り現像液がウェハ上に均一に広がるようにウェハ３を回
転させる。その回転は通常低速回転（０〜１０１０００
ｒｐのため、ウェハ３がら落ちる現像液及びフォトレジ
スト ップ９に受けられ、排液管１０を通り、排出口１１より
排出される。
現像が終了すると、現像液の供給が止まり、ノズル２よ
り水が供給される。この時、ウェハ３を最初低速で回転
させ、現像液及びフォトレジストの溶解した不要物を洗
い落とし、カップ９に受ける。
り水が供給される。この時、ウェハ３を最初低速で回転
させ、現像液及びフォトレジストの溶解した不要物を洗
い落とし、カップ９に受ける。
その後、更に水により仕上洗浄を行う場合は、ウェハ３
を高速回転（約１０００〜６０００ｒｐｍ）させて、ノ
ズル２より水を供給する。ウェハ３を洗浄した排液は、
遠心力によりカップ９を飛び越し、カップ４に受けられ
、排液管５を通り、排出口８より排出される。
を高速回転（約１０００〜６０００ｒｐｍ）させて、ノ
ズル２より水を供給する。ウェハ３を洗浄した排液は、
遠心力によりカップ９を飛び越し、カップ４に受けられ
、排液管５を通り、排出口８より排出される。
ウェハ洗浄が終了すると、水の供給を止め、ウェハ３を
高速回転（３０００〜６０００ｒｐｍ）させることによ
り、ウェハ３に付着している水を振り飛ばすことができ
る。
高速回転（３０００〜６０００ｒｐｍ）させることによ
り、ウェハ３に付着している水を振り飛ばすことができ
る。
このようにしてポジレジストの現像が完了するが、現像
中に排出される現像液及びフォトレジストの溶解した高
濃度の排液は内側のカップの排出口１１より、また、低
濃度の排液は外側のカップの排出口８より効率良く分離
、排出される。
中に排出される現像液及びフォトレジストの溶解した高
濃度の排液は内側のカップの排出口１１より、また、低
濃度の排液は外側のカップの排出口８より効率良く分離
、排出される。
第２図に、このフォトレジスト現像装置の動作シーケン
スダイヤグラムを示す。即ち、時間ｔ。
スダイヤグラムを示す。即ち、時間ｔ。
まではウェハの回転は低速度であり、ノズル１より現像
液が供給され、時間１．を経過するとノズル２より水が
供給される。時間ｔ２に至るとウェハの回転数も上昇し
てゆく。この時点までは、排液は内側のカップ９で受け
られ、排出口１１より排出される。時間ｔ２を経過して
時間ｔ３に至るとノズル２より水は停止され、ウェハは
更に高速回転させられ、時間ｔ４までウェハの乾燥が行
われる。この時間ｔ２からｔ、までの排液は外側のカッ
プ４で受けられ、排出口８より排出される。
液が供給され、時間１．を経過するとノズル２より水が
供給される。時間ｔ２に至るとウェハの回転数も上昇し
てゆく。この時点までは、排液は内側のカップ９で受け
られ、排出口１１より排出される。時間ｔ２を経過して
時間ｔ３に至るとノズル２より水は停止され、ウェハは
更に高速回転させられ、時間ｔ４までウェハの乾燥が行
われる。この時間ｔ２からｔ、までの排液は外側のカッ
プ４で受けられ、排出口８より排出される。
第５図は本発明の他の実施例を示すフォトレジスト現像
装置の断面図である。
装置の断面図である。
この実施例においては、内側カップ９の排液管１０の外
側にラック２１を形成し、そのラック２１にビニオン２
２を噛合させて、そのビニオン２２を操作することによ
り、内側カップ９の高さを調整可能にする。即ち、２重
カップの内側カップ９の高さを調整可能にして、内側の
カップ９に排液を受けたい薬液処理時には、内側カップ
９の上面９ａがウェハ３の表面より少し上がるようにし
、外側カップ４に排液を受けたい薬液処理時には、内側
のカップ９の高さを下げるように構成する。
側にラック２１を形成し、そのラック２１にビニオン２
２を噛合させて、そのビニオン２２を操作することによ
り、内側カップ９の高さを調整可能にする。即ち、２重
カップの内側カップ９の高さを調整可能にして、内側の
カップ９に排液を受けたい薬液処理時には、内側カップ
９の上面９ａがウェハ３の表面より少し上がるようにし
、外側カップ４に排液を受けたい薬液処理時には、内側
のカップ９の高さを下げるように構成する。
この場合、内側のカップの昇降機構はランクとビニオン
に限定するものではなく、各種の機構を採用することが
できる。
に限定するものではなく、各種の機構を採用することが
できる。
また、内側のカップの昇降機構の配列上、図示しないが
、外側のカップの排液管は内側のカップの排液管の位置
とずれた位置に配置するのが望ましい。
、外側のカップの排液管は内側のカップの排液管の位置
とずれた位置に配置するのが望ましい。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
（発明の効果）
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、現像処
理室のカップ部を２重構造としたので、ポジ型フォトレ
ジスト現像時に排出される排液を、その濃度により効率
良く分離することできるため、排液処理を適宜に変更す
ることが可能となり、排液処理費用の大幅な低減を図る
ことができる。
理室のカップ部を２重構造としたので、ポジ型フォトレ
ジスト現像時に排出される排液を、その濃度により効率
良く分離することできるため、排液処理を適宜に変更す
ることが可能となり、排液処理費用の大幅な低減を図る
ことができる。
更に、２重カップの内側カップの高さを調整可能にして
、内側のカップに排液を受けたい薬液処理時には内側カ
ップの上面がウェハ表面より少し上がっているように配
置し、外カップに排液を受けたい薬液処理時にはそれを
下げるようにすることにより、分離精度を更に向上させ
ることができる。
、内側のカップに排液を受けたい薬液処理時には内側カ
ップの上面がウェハ表面より少し上がっているように配
置し、外カップに排液を受けたい薬液処理時にはそれを
下げるようにすることにより、分離精度を更に向上させ
ることができる。
また、同様な現像処理室を有しているフォトレジストコ
ーター、ネガ型フォトレジスト現像機等においては、使
用薬品側に排液を分離するように構成することも可能で
ある。
ーター、ネガ型フォトレジスト現像機等においては、使
用薬品側に排液を分離するように構成することも可能で
ある。
第１図は本発明の実施例を示すフォトレジスト現像装置
の断面図、第２図は本発明のフォトレジスト現像装置の
動作シーケンスダイヤグラム、第３図は従来のフォトレ
ジスト現像装置の一部破断斜視図、第４図は従来のフォ
トレジスト現像装置の断面図、第５図は本発明の他の実
施例を示すフォトレジスト現像装置の断面図である。 １．２・・・ノズル、 ３・・・ウェハ、４．９・・・カップ、５．１０・・・
排液管、６・・・モータ、７・・・チャック、８゜１１
・・・排出口、２１・・・ランク、２２・・・ピニオン
。
の断面図、第２図は本発明のフォトレジスト現像装置の
動作シーケンスダイヤグラム、第３図は従来のフォトレ
ジスト現像装置の一部破断斜視図、第４図は従来のフォ
トレジスト現像装置の断面図、第５図は本発明の他の実
施例を示すフォトレジスト現像装置の断面図である。 １．２・・・ノズル、 ３・・・ウェハ、４．９・・・カップ、５．１０・・・
排液管、６・・・モータ、７・・・チャック、８゜１１
・・・排出口、２１・・・ランク、２２・・・ピニオン
。
Claims (2)
- （１）半導体ウェハを保持する機構と、前記半導体ウェ
ハを回転する機構と、前記半導体ウェハから飛散する排
液を受ける排液管付カップにより構成されるフォトレジ
スト現像装置において、前記カップの内側に独立した排
液管を有する内側カップを具備することを特徴とするフ
ォトレジスト現像装置。 - （２）前記内側のカップが昇降機構を有することを特徴
とする請求項１記載のフォトレジスト現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22224388A JPH0271273A (ja) | 1988-09-07 | 1988-09-07 | フォトレジスト現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22224388A JPH0271273A (ja) | 1988-09-07 | 1988-09-07 | フォトレジスト現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0271273A true JPH0271273A (ja) | 1990-03-09 |
Family
ID=16779343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22224388A Pending JPH0271273A (ja) | 1988-09-07 | 1988-09-07 | フォトレジスト現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0271273A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05243202A (ja) * | 1992-01-07 | 1993-09-21 | Nec Corp | 枚葉式半導体製造ウェット処理装置 |
| JP2014075575A (ja) * | 2012-09-13 | 2014-04-24 | Tokyo Electron Ltd | 現像処理装置 |
-
1988
- 1988-09-07 JP JP22224388A patent/JPH0271273A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05243202A (ja) * | 1992-01-07 | 1993-09-21 | Nec Corp | 枚葉式半導体製造ウェット処理装置 |
| JP2014075575A (ja) * | 2012-09-13 | 2014-04-24 | Tokyo Electron Ltd | 現像処理装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4856456A (en) | Apparatus and method for the fluid treatment of a workpiece | |
| JP2008034779A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
| JP2007318087A (ja) | 現像装置、現像処理方法、現像処理プログラム、及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
| KR100209751B1 (ko) | 반도체 웨이퍼 세정 장치 | |
| JP2009076878A (ja) | 基板処理装置、基板処理方法、および記憶媒体 | |
| JP2009110985A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
| TWI799290B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
| JPH11297652A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH0271273A (ja) | フォトレジスト現像装置 | |
| US6090534A (en) | Device and method of decreasing circular defects and charge buildup integrated circuit fabrication | |
| JP3976084B2 (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
| JPH06333899A (ja) | 薬液処理方法およびその処理装置 | |
| JPS6350847Y2 (ja) | ||
| JPH11181584A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH03286517A (ja) | 処理方法 | |
| JPH0249708Y2 (ja) | ||
| JPH0562962A (ja) | 板状物処理治具およびそれが使用された板状物処理方法 | |
| KR200264233Y1 (ko) | 반도체 코팅장비의 감광제 배액장치 | |
| JP2000294531A (ja) | 枚葉化学処理装置とその運転方法 | |
| JPH07130618A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPS61259525A (ja) | 半導体基板の現像装置 | |
| JPH10137663A (ja) | 枚葉化学処理装置とその運転方法 | |
| JP2753492B2 (ja) | 現像装置 | |
| JPH11309403A (ja) | 基板処理方法および装置 | |
| JP3119616B2 (ja) | 現像装置 |