DE112020003935B4 - Elektronische vorrichtung - Google Patents

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Abstract

Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300), umfassend:
ein Substrat (110, 210, 310);
eine Vielzahl von transversalen Signalleitungen (120, 320), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310);
eine erste vertikale Signalleitung (132, 232, 332), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310), mit den transversalen Signalleitungen (120, 320) gekreuzt;
eine zweite vertikale Signalleitung (134, 234, 334), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310), mit den transversalen Signalleitungen (120, 320) gekreuzt, wobei die zweite vertikale Signalleitung (134, 234, 334) mit einer der transversalen Signalleitungen (120, 320) verbunden ist;
eine erste abschirmende vertikale Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310), wobei sich eine orthogonale Projektion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A) auf dem Substrat (110, 210, 310) zwischen einer orthogonalen Projektion der ersten vertikalen Signalleitung (132, 232, 332) auf dem Substrat (110, 210, 310) und einer orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung (134, 234, 334) auf dem Substrat (110, 210, 310) befindet; und
eine gemeinsame Elektrodenleitung (160), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310), wobei sich die gemeinsame Elektrodenleitung (160) zwischen den zwei angrenzenden der transversalen Signalleitungen (120, 320) befindet und die erste abschirmende vertikale Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A) und die gemeinsame Elektrodenleitung (160) direkt aufeinander gestapelt sind.

Description

  • TECHNISCHES GEBIET
  • Die Offenbarung bezieht sich auf eine elektronische Vorrichtung
  • BESCHREIBUNG STAND DER TECHNIK
  • Neben der Popularisierung elektronischer Produkte werden auch Schaltungslayouts in verschiedenen elektronischen Vorrichtungen kompliziert. Daher können viele angrenzende Leitungen verwendet werden, um verschiedene Arten von Signalen zu übertragen. Ein Kopplungseffekt zwischen den angrenzenden Leitungen wirkt sich jedoch häufig auf die Qualität der Signalübertragung aus, was zu unbefriedigenden Funktionen führt, die schließlich vorgestellt werden. Daher ist die Ausgestaltung des Schaltungslayouts oft eine von Ausgestaltungsprioritäten in elektronischen Produkten.
  • US 2014/ 0168553 A1 offenbart eine LCD-Vorrichtung, die eine Vielzahl von ersten vertikalen Gate-Leitungen und eine Vielzahl von Datenleitungen, die vertikal in einer Flüssigkristalltafel angeordnet sind, eine Vielzahl von zweiten horizontalen Gate-Leitungen, die horizontal in der Flüssigkristalltafel angeordnet sind, und eine Vielzahl von Treiber-ICs enthält, die in einem oberen oder unteren Nicht-Anzeigebereich der Flüssigkristalltafel angeordnet sind.
  • CN 104701302 A offenbart ein Array-Substrat und dessen Herstellungsverfahren sowie eine Anzeigevorrichtung, wobei das Array-Substrat enthält: eine Vielzahl von Abtastleitungen und eine Vielzahl von Signalleitungen, wobei die Vielzahl von Abtastleitungen und die Vielzahl von Signalleitungen eine Vielzahl von Pixelbereichen definieren; und eine Abschirmungselektrodenleitung, die oberhalb der Signalleitung zwischen benachbarten Pixelbereichen angeordnet ist, um Signalinterferenzen zwischen Pixelelektroden in den benachbarten Pixelbereichen abzuschirmen.
  • US 2017/ 0110091 A1 offenbart eine Pixelanordnung mit ersten Signalleitungen, zweiten Signalleitungen, aktiven Elementen, Pixelelektroden und Auswahlleitungen. Die zweiten Signalleitungen und die Auswahlleitungen werden jeweils von den ersten Signalleitungen gekreuzt. Jede erste Signalleitung hat einen Brückenpunkt an einem Schnittpunkt mit einer der Auswahlleitungen. Mindestens eine der Auswahlleitungen ist zwischen zwei benachbarten zweiten Signalleitungen angeordnet.
  • CN 202548496 U offenbart ein Pixelarraysubstrat, das ein Substrat, eine Vielzahl von Abtastleitungen, eine Vielzahl von Datenleitungen, eine Vielzahl von gemeinsam genutzten Leitungen, eine Vielzahl von Pixeleinheiten und eine Vielzahl von Abschirmelektroden enthält, wobei die Abtastleitungen, die Datenleitungen und die gemeinsam genutzten Leitungen auf dem Substrat konfiguriert sind; die Datenleitungen und die Abtastleitungen gekreuzt sind, so dass eine Vielzahl von Pixelbereichen auf der Ebene des Substrats unterteilt sind; jede Pixeleinheit in einem Pixelbereich konfiguriert ist und eine Pixelelektrode enthält.
  • ZUSAMMENFASSUNG
  • Die Offenbarung ist auf eine elektronische Vorrichtung gerichtet, die gestaltet ist, dass die Verringerung eines Kopplungseffekts zwischen den Leitungen und die Qualitätsverbesserung der elektronischen Vorrichtung erleichtert werden.
  • Gemäß der Erfindung wird eine elektronische Vorrichtung bereitgestellt, die ein Substrat, eine Vielzahl von transversalen Signalleitungen, eine erste vertikale Signalleitung, eine zweite vertikale Signalleitung und eine erste abschirmende vertikale Leitung enthält. Die transversalen Signalleitungen, die erste vertikale Signalleitung, die zweite vertikale Signalleitung und die erste abschirmende vertikale Leitung sind auf dem Substrat angeordnet. Die erste vertikale Signalleitung ist mit den transversalen Signalleitungen gekreuzt. Die zweite vertikale Signalleitung wird mit den transversalen Signalleitungen gekreuzt, und die zweite vertikale Signalleitung ist mit einer der transversalen Signalleitungen verbunden. Eine orthogonale Projektion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung auf dem Substrat befindet sich zwischen einer orthogonalen Projektion der ersten vertikalen Signalleitung auf dem Substrat und einer orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung auf dem Substrat.
  • In eine Ausführungsform der Offenbarung, enthält die elektronische Vorrichtung ferner eine Vielzahl von Pixelstrukturen, angeordnet auf dem Substrat. Eine der Pixelstrukturen ist von angrenzenden zwei der transversalen Signalleitungen und der zweiten vertikalen Signalleitung umgeben und enthält eine Pixelelektrode. Die Pixelelektrode ist mit der ersten vertikalen Signalleitung oder der zweiten vertikalen Signalleitung in einer Richtung senkrecht zu dem Substrat überlappt.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, ist die Pixelelektrode mit der ersten abschirmenden vertikalen Leitung überlappt.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, durchquert die Pixelelektrode die zweite vertikale Signalleitung, die Pixelelektrode weist einen zentralen Stammabschnitt auf, und die zweite vertikale Signalleitung wird mit dem zentralen Stammabschnitt überlappt.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, ist die erste abschirmende vertikale Leitung ein transparenter Draht.
  • Gemäß der Erfindung enthält die elektronische Vorrichtung ferner eine gemeinsame Elektrodenleitung. Die gemeinsame Elektrodenleitung ist auf dem Substrat angeordnet. Die gemeinsame Elektrodenleitung befindet sich zwischen den beiden angrenzenden der transversalen Signalleitungen.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, ist die gemeinsame Elektrodenleitung mit der ersten vertikalen Signalleitung und der zweiten vertikalen Signalleitung gekreuzt.
  • Gemäß der Erfindung sind die erste abschirmende vertikale Leitung und die gemeinsame Elektrodenleitung direkt aufeinander gestapelt.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung enthält die elektronische Vorrichtung außerdem wenigstens eine Isolierschicht und eine leitende Struktur, die in die Isolierschicht eindringt. Die Isolierschicht ist zwischen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung und der gemeinsamen Elektrodenleitung angeordnet, und die leitende Struktur verbindet die erste abschirmende vertikale Leitung und die gemeinsame Elektrodenleitung elektrisch.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, enthält die elektronische Vorrichtung ferner eine Vielzahl von Pixelstrukturen, die auf dem Substrat angeordnet sind. Eine der Pixelstrukturen befindet sich zwischen angrenzenden zwei der transversalen Signalleitungen und enthält eine Pixelelektrode. Eine Filmschicht der ersten abschirmenden vertikalen Leitung befindet sich zwischen einer Filmschicht der gemeinsamen Elektrodenleitung und einer Filmschicht der Pixelelektrode.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, enthält die elektronische Vorrichtung ferner eine Vielzahl von Pixelstrukturen, die auf dem Substrat angeordnet sind. Eine der Pixelstrukturen befindet sich zwischen angrenzenden zwei der transversalen Signalleitungen und enthält eine Pixelelektrode. Eine Filmschicht der ersten abschirmenden vertikalen Leitung befindet sich zwischen einer Filmschicht der ersten abschirmenden Leitung und einer Filmschicht der Pixelelektrode.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, enthält die gemeinsame Elektrodenleitung eine erste Leitung und eine zweite Leitung. Die erste abschirmende vertikale Leitung ist mit der ersten Leitung, der zweiten Leitung oder sowohl der ersten als auch der zweiten Leitung überlappt.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, enthält die elektronische Vorrichtung ferner eine zweite abschirmende vertikale Leitung. Die erste vertikale Signalleitung befindet sich zwischen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, enthält die elektrische Vorrichtung ferner eine dritte abschirmende vertikale Leitung. Die dritte abschirmende vertikale Leitung befindet sich zwischen der ersten vertikalen Leitung und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, enthält die elektronische Vorrichtung ferner eine vierte vertikale Signalleitung. Orthogonale Projektionen der ersten vertikalen Signalleitung und der dritten vertikalen Signalleitung auf dem Substrat befinden sich zwischen der orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung auf dem Substrat und einer orthogonalen Projektion der vierten vertikalen Signalleitung auf dem Substrat.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, enthält die elektronische Vorrichtung ferner eine abschirmende Elektrode. Die abschirmende Elektrode ist mit der ersten abschirmenden vertikalen Leitung verbunden.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, liegt die erste abschirmende vertikale Leitung vollständig zwischen angrenzenden zwei der transversalen Signalleitungen.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, enthält die elektronische Vorrichtung ferner eine Vielzahl von Pixelstrukturen, angeordnet auf dem Substrat. Eine der Pixelstrukturen enthält eine Pixelelektrode. Die orthogonale Projektion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung auf dem Substrat ist außerhalb einer orthogonalen Projektion der Pixelelektrode auf dem Substrat.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung, enthält die elektronische Vorrichtung ferner eine Vielzahl von Pixelstrukturen und eine dritte vertikale Signalleitung. Die Pixelstrukturen sind auf dem Substrat in einem Array angebracht. Die zweite vertikale Signalleitung befindet sich zwischen der dritten vertikalen Signalleitung und der ersten vertikalen Signalleitung, und die erste vertikale Signalleitung, die zweite vertikale Signalleitung und die dritte vertikale Signalleitung befinden sich zwischen zwei angrenzenden Reihen der Pixelstrukturen.
  • In einer Ausführungsform der Offenbarung enthält die elektronische Vorrichtung ferner eine zweite abschirmende vertikale Leitung, angeordnet auf dem Substrat. Eine orthogonale Projektion der zweiten abschirmenden vertikalen Signalleitung auf dem Substrat befindet sich zwischen der orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung und einer orthogonalen Projektion der dritten vertikalen Signalleitung auf dem Substrat.
  • Basierend auf der vorstehenden Beschreibung, in der elektronischen Vorrichtung der Offenbarung, sind die abschirmenden Drähte zwischen angrenzenden Leitungen angeordnet, die verschiedene Signale übertragen, um nachteilige Effekte durch einen Kopplungseffekt zwischen den Leitungen verursacht zu reduzieren. Darüber hinaus, in einigen Ausführungsformen, können die abschirmenden Drähte transparente Drähte sein. Daher, wenn die elektronische Vorrichtung für Anzeigen von Bilder verwendet wird, wird ein Anzeige-Öffnungsverhältnis (aperture ratio) davon nicht von den abschirmenden Drähten beeinflusst und wird nicht reduziert.
  • Figurenliste
    • 1 ist eine partielle schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung.
    • 2 ist eine partielle schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung.
    • 3 ist eine schematische Querschnittsansicht der elektronischen Vorrichtung von 2 entlang einer Schnittleitung A-A gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung.
    • 4 ist eine schematische Querschnittsansicht der elektronischen Vorrichtung von 2 entlang der Schnittleitung A-A gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung.
    • Jede von 5 bis 10 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung.
    • 11 ist eine schematische Querschnittsansicht der elektronischen Vorrichtung von 2 entlang einer Abschnittlinie B-B gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung.
    • 12 ist eine schematische Querschnittsansicht der elektronischen Vorrichtung von 2 entlang der Abschnittlinie B-B gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung.
    • Jede von 13 bis 19 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung.
    • 20 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 19 entlang einer Querschnittslinie C-C gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht.
    • 21 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 19 entlang einer Abschnittlinie D-D gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht.
    • 22 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 19 entlang der Querschnittslinie C-C gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht.
    • 23 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 19 entlang der Querschnittslinie D-D gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht.
    • 24 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 19 entlang der Abschnittlinie C-C gemäß noch einer ferneren Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht.
    • 25 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 19 entlang der Abschnittlinie D-D gemäß noch einer ferneren Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht.
    • 26 ist eine schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung.
    • 27 ist eine schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung.
    • 28 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 27 entlang einer Abschnittlinie E-E gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht.
    • 29 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 27 entlang einer Abschnittlinie E-E gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht.
    • 30 ist eine partielle schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung.
    • 31 ist eine partielle schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung.
    • 32 ist eine schematische Querschnittansicht, die eine Struktur einer ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250A in einer elektronischen Vorrichtung 200A von 31 gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht.
    • 33 schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250A in einer elektronischen Vorrichtung 200A von 31 gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht.
    • Jede von 34 bis 36 ist eine partielle schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung.
    • 37 ist eine schematische Querschnittansicht, die eine Struktur einer ersten abschirmenden vertikalen Leitung 350A in einer elektronischen Vorrichtung 300 gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht.
    • 38 ist eine schematische Querschnittansicht, die eine Struktur der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 350A in der elektronischen Vorrichtung 300 gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht.
    • 39 ist eine schematische Querschnittansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung 300 gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht.
  • Hier, werden die Bezugszeichen wie folgt angegeben.
  • 100', 100A-100Q, 200A-200C, 300
    elektronische Vorrichtung
    110, 210, 310
    Substrat
    120, 320
    transversale Signalleitung
    130, DL, VL, VL1, VL2
    vertikale Signalleitungen
    132, 232, 332
    erste vertikale Signalleitung
    134, 234, 334
    zweite vertikale Signalleitung
    136, 236, 336
    dritte vertikale Signalleitung
    138
    vierte vertikale Signalleitung
    140, 240, 340
    Pixelstruktur
    142
    aktive Vorrichtung
    144, 244, 344
    Pixelelektrode
    150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A
    erste abschirmende vertikale Leitung
    150C1, 152C1, 150D1, 152D1, 150K1, 152K1, 150L1, 152L1
    Verlängerungsabschnitt
    150C2, 152C2, 150D2, 152D2, 150K2, 152K2, 150L2, 152L2
    überlappender Abschnitt
    152B-152E, 152K-152Q, 252A-252c
    zweite abschirmende vertikale Leitung
    154E, 154G, 154P
    abschirmende transversale Leitung
    156F
    dritte abschirmende vertikale Leitung
    158M
    abschirmende Elektrode
    160
    gemeinsame Elektrodenleitung
    162
    erste Leitung
    164
    zweite Leitung
    244A
    erste Sub-Elektrode
    244B
    zweite Sub-Elektrode
    A-A, B-B-, C-C, D-D, E-E
    Abschnittlinie
    BK
    ausgelassener Block
    CF
    Filterschicht
    D1
    erste Richtung
    D2
    zweite Richtung
    D3
    Dickenrichtung
    I0-I3
    Isolierschicht
    MH
    horizontaler Stammabschnitt
    MV
    vertikaler Stammabschnitt
    TH, VIA
    Leitungsstruktur
    SEC1, SEC2
    Abschnitt
    ST
    Streifenabschnitt
  • BESCHREIBUNG DER AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • Das Folgende beschreibt die Offenbarung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen und spezifischen Ausführungsformen in Detail, dient aber nicht als Beschränkung der Offenbarung.
  • 1 ist eine partielle schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung. In 1, enthält eine elektronische Vorrichtung 100' ein Substrat 110, eine Vielzahl von transversalen Signalleitungen 120, eine Vielzahl von vertikalen Signalleitungen 130, und eine Vielzahl von Pixelstrukturen 140. Die Pixelstrukturen 140 sind auf dem Substrat 110 in einem Array angeordnet. Mit anderen Worten, sind die Pixelstrukturen 140 in einem Array entlang einer ersten Richtung D1 und einer zweiten Richtung D2 angeordnet, gekreuzt mit der ersten Richtung D1, wo die erste Richtung D1 als eine transversale Richtung interpretiert werden kann, und die zweite Richtung D2 kann als eine vertikale Richtung interpretiert werden. Daher können die in den folgenden Ausführungsformen beschriebenen transversalen und vertikalen Richtungen jeweils als die erste Richtung D1 und die zweite Richtung D2 in 1 angesehen werden. Jede der Pixelstrukturen 140 ist mit einer der transversalen Signalleitungen 120 verbunden. Darüber hinaus können die vertikalen Signalleitungen 130 in vertikale Signalleitungen-DL unterteilt werden, die direkt mit den Pixelstrukturen 140 verbunden sind, und vertikale Signalleitungen VL, die nicht direkt mit den Pixelstrukturen 140 verbunden ist. Die Pixelstrukturen 140, die in einer Spalte entlang der zweiten Richtung D2 angeordnet sind, sind zwischen zwei vertikalen Signalleitungen DL eingeklemmt, und jede der Pixelstrukturen 140 ist mit einer der vertikalen Signalleitungen DL verbunden. In einigen Ausführungsformen können die verschiedenen Pixelstrukturen 140, die in derselben Spalte entlang der zweiten Richtung D2 angeordnet sind, jeweils mit der vertikalen Signalleitung DL auf einer ersten Seite und der vertikalen Signalleitung DL auf einer gegenüberliegenden zweiten Seite verbunden werden. Jede der vertikalen Signalleitungen VL ist zwischen zwei Spalten der Pixelstrukturen 140 und zwei der vertikalen Signalleitungen DL eingeklemmt. In einigen Ausführungsformen, enthalten die vertikalen Signalleitungen VL vertikale Signalleitungen VL1, die durch entsprechende Leitungsstrukturen VIA mit der transversalen Signalleitung 120 verbunden sind, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf.
  • In mancher Ausführungsform, kann jede der Pixelstrukturen 140 eine aktive Vorrichtung 142 und eine Pixelelektrode 144 enthalten, die mit der aktiven Vorrichtung 142 verbunden ist, wobei jede aktive Vorrichtung 142 ein Transistor mit einem Gate, einer Source und einem Drain sein kann und das Gate kann mit einer der transversalen Signalleitungen 120 verbunden sein, die Source ist mit einer der vertikalen Signalleitungen DL verbunden und der Drain ist mit der Pixelelektrode 144 verbunden. Darüber hinaus ist jede der transversalen Signalleitungen 120 an eine der vertikalen Signalleitungen VL1 verbunden. Daher kann ein Signal des Gates der aktiven Vorrichtung 142 von der vertikalen Signalleitung VL1 an die transversale Signalleitung 120 übertragen und dann über die transversale Signalleitung 120 an das Gate eingegeben werden. Um konkret zu sein, um einen Kurzschluss zwischen den transversalen Signalleitungen 120 und den vertikalen Signalleitungen 130 zu vermeiden, können die transversalen Signalleitungen 120 und die vertikale Signalleitungen 130 durch verschiedene Filmschichten gebildet werden, und es kann eine oder eine Vielzahl von Isolierschichten zwischen den transversalen Signalleitungen 120 und den vertikalen Signalleitungen 130 gesandwiched sein. In einigen Ausführungsformen, um das Signal von der vertikalen Signalleitung VL1 an die transversale Signalleitung 120 zu übertragen, kann die Leitungsstruktur VIA zwischen der entsprechenden vertikalen Signalleitung VL1 und der transversalen Signalleitung 120 konfiguriert werden. Auf diese Weise kann das vom Gate benötigte Signal von der vertikalen Signalleitung VL1 durch die Leitungsstruktur VIA an die transversale Signalleitung 120 übertragen werden und dann von der transversalen Signalleitung 120 an das Gate übertragen werden.
  • In einigen Ausführungsformen kann die elektronische Vorrichtung 100' ferner eine Antriebsschaltung IC enthalten, und die Antriebsschaltung IC befindet sich an einem Ende der vertikalen Signalleitung 130. Die vertikale Signalleitung DL und die vertikale Signalleitungen VL1 können direkt Signale empfangen, die von der Antriebsschaltung IC bereitgestellt werden, und die transversalen Signalleitungen 120 können die entsprechenden Signale durch die vertikalen Signalleitungen VL1 empfangen. Auf diese Weise ist es nicht erforderlich, Drähte oder verwandte Schaltungen, verwendet für Übertragen von Signalen an zwei Enden der elektronischen Vorrichtung 100' in der ersten Richtung D1 zu konfigurieren, um eine Ausgestaltung mit schmalem Rand zu erreichen, und eine Kontur der elektronischen Vorrichtung 100' ist nicht beschränkt. Aus der Perspektive der Ansicht von oben kann die elektronische Vorrichtung 100' z.B. eine nicht rechteckige Kontur aufweisen. In einigen Ausführungsformen, können die vertikalen Signalleitungen VL in der elektronischen Vorrichtung 100' ferner vertikale Signalleitungen VL2 enthalten, und die vertikalen Signalleitungen VL2 können nicht verwendet werden, um die Signale zu übertragen, die von den transversalen Signalleitungen 120 benötigt werden, sondern können mit einem DC-Potenzial eingegeben werden. Beispielsweise können die vertikalen Signalleitungen VL2 möglicherweise nicht mit irgendeiner transversalen Signalleitung 120 verbunden sein, sondern können zum Implementieren von Touch-Steuerung oder anderen Funktionen verwendet werden.
  • 2 ist eine partielle schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100A von 2 weist eine Layout-Ausgestaltung auf, die dem der elektronischen Vorrichtung 100' von 1 im Wesentlichen ähnelt, so dass in den beiden Ausführungsformen das gleiche Komponentensymbol übernommen wird, um die gleichen Komponenten zu kennzeichnen. In 2 enthält die elektronische Vorrichtung 100A das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, eine Vielzahl der vertikalen Signalleitungen 130, eine Vielzahl der Pixelstrukturen 140 und eine Vielzahl der ersten abschirmenden vertikalen Leitungen 150A und die transversalen Signalleitungen 120, die vertikalen Signalleitungen 130, die Pixelstrukturen 140, die ersten abschirmenden vertikalen Leitungen 150A und eine gemeinsame Elektrodenleitung 160 sind alle auf dem Substrat 110 angeordnet. Ein Layout und eine Verbindungsbeziehung der transversalen Signalleitungen 120, der vertikalen Signalleitungen 130 und der Pixelstrukturen 140 sind z.B., wie in 1 dargestellt und werden hier nicht wiederholt. Zur einfacheren Beschreibung werden die Signalleitungen um die einzelne Pixelstruktur 140, die sich in der Mitte von 2 befindet, hauptsächlich im Folgenden beschrieben.
  • In der Ausführungsform ist eine Erstreckungsrichtung der transversalen Signalleitungen 120 z.B. die erste Richtung D1, die in 1 dargestellt ist, und eine Erstreckungsrichtung der vertikalen Signalleitungen 130 beispielsweise die zweite Richtung D2, die in 1 dargestellt ist, wobei die transversalen und vertikalen Richtungen miteinander gekreuzt sind, aber ein Schnittwinkel der beiden Richtungen nicht auf 90 Grad begrenzt ist. Die vertikale Signalleitungen 130 enthalten eine erste vertikale Signalleitung 132 und eine zweite vertikale Signalleitung 134 auf einer Seite der Pixelstruktur 140 enthalten, wo die erste vertikale Signalleitung 132 eine vertikale Signalleitung ist, die direkt mit einer der Pixelstrukturen 140 verbunden ist, und die zweite vertikale Signalleitung 134 kann mit einer der transversalen Signalleitungen 120 in der gesamten elektronischen Vorrichtung 100A verbunden werden. Eine der Pixelstrukturen 140 befindet sich zwischen angrenzenden zwei der transversalen Signalleitungen 120 und befindet sich auf einer Seite der zweiten vertikalen Signalleitung 134. Die einzelne Pixelstruktur 140 kann die aktive Vorrichtung 142 und die Pixelelektrode 144 enthalten, wobei drei Anschlüsse der aktiven Vorrichtung 142 jeweils mit der entsprechenden transversalen Signalleitung 120, der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der Pixelelektrode 144 verbunden sind.
  • Hierbei sind die transversalen Signalleitungen 120 z.B. Scansignallinien, die konfiguriert sind, um Scansignale an die Pixelstrukturen 140 bereitzustellen, und die erste vertikale Signalleitung 132 ist konfiguriert, um ein Datensignal an die Pixelstruktur 140 bereitzustellen. Mit anderen Worten, obwohl die erste vertikale Signalleitung 132 und die zweite vertikale Signalleitung 134 aneinander angrenzen, werden sie verwendet, um verschiedene Arten von Signalen zu übertragen. Bei einer solchen Schaltungskonfiguration kann Koppeln der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der zweiten vertikalen Signalleitung 134 wahrscheinlich die Signalübertragungsqualität der beiden vertikalen Signalleitungen 132 und 134 verringern. In der Ausführungsform befindet sich jedoch eine orthogonale Projektion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A auf dem Substrat 110 (d.h. ein Layoutbereich in 2) zwischen einer orthogonalen Projektion der ersten vertikalen Signalleitung 132 auf dem Substrat 110 und einer orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung 134 auf dem Substrat 110. Darüber hinaus kann die elektronische Vorrichtung 100A die gemeinsame Elektrodenleitung 160 umfassen, und die erste abschirmende vertikale Leitung 150A kann mit der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verbunden werden, die mit einem gemeinsamen Potential aufgebracht werden soll. Auf diese Weise kann die Anordnung der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A die Interferenz zwischen der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der zweiten vertikalen Signalleitung 134 verringern, um die Signalübertragungsqualität der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der zweiten vertikalen Signalleitung 134 zu gewährleisten, so dass Funktionen (wie Bildanzeige, Berührungssensorik bzw. Touch-Sensing usw.), ausgeführt von der elektronischen Vorrichtung 100A, die Erwartungen erfüllen können. In 2, enthält die gemeinsame Elektrodenleitung 160 eine erste Leitung 162 und eine zweite Leitung 164, wobei sich die erste Leitung 162 und die zweite Leitung 164 zwischen zwei angrenzenden horizontalen Signalleitungen 120 befinden und sich auf gegenüberliegenden Seiten der Pixelstruktur 140 befinden. Darüber hinaus kann die erste abschirmende vertikale Leitung 150A sowohl mit der ersten Leitung 162 als auch mit der zweiten Leitung 164 überlappen, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf.
  • In dieser Ausführungsform, können die vertikalen Signalleitungen 130 ferner eine dritte vertikale Signalleitung 136 und eine vierte vertikale Signalleitung 138, die sich auf der anderen Seite der Pixelstruktur 140 befinden, enthalten. Die Pixelstruktur 140 befindet, sich beispielsweise zwischen der zweiten vertikalen Signalleitung 134 und der vierten vertikalen Signalleitung 138. Die dritte vertikale Signalleitung 136 befindet sich zwischen der vierten vertikalen Signalleitung 138 und der ersten vertikalen Signalleitung 132. Darüber hinaus befinden sich orthogonale Projektionen der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der dritten vertikalen Signalleitung 136 auf dem Substrat 110 zwischen der orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung 134 auf dem Substrat 110 und einer orthogonalen Projektion der vierten vertikalen Signalleitung 138 auf dem Substrat 110. Darüber hinaus darf die abschirmende vertikale Leitung nicht zwischen der dritten vertikalen Signalleitung 136 und der vierten vertikalen Signalleitung 138 bereitgestellt werden, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf. Die dritte vertikale Signalleitung 136 ist mit anderen Pixelstrukturen in derselben Spalte verbunden, und die vierte vertikale Signalleitung 138 kann mit einem DC-Potential oder einer der transversalen Signalleitungen 120 in der gesamten elektronischen Vorrichtung 100A verbunden werden, aber die Offenlegung ist nicht beschränkt darauf.
  • In dieser Ausführungsform, kann die Pixelelektrode 144 der Pixelstruktur 140 mit der ersten vertikalen Signalleitung 132, der zweiten vertikalen Signalleitung 134, der dritten vertikalen Signalleitung 136, der vierten vertikalen Signalleitung 138 und der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A in einer Richtung senkrecht zum Substrat 110 überlappen. Um genau zu sein, kann die Pixelelektrode 144 die erste vertikale Signalleitung 132, die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und die dritte vertikale Signalleitung 136 schneiden und kann mit der zweiten vertikalen Signalleitung 134 durch einen Teil der Breite der zweiten vertikalen Signalleitung 134 überlappen und sich mit der vierten vertikalen Signalleitung 138 durch einen Teil der Breite der vierten vertikalen Signalleitung 138 überlappen. Die erste abschirmende vertikale Leitung 150A kann ein transparenter Draht sein, so dass der Teil der Pixelelektrode 144 mit der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A noch als ein effektiver Anzeigebereich dienen kann. Auf diese Weise, obwohl die elektronische Vorrichtung 100A zusätzlich mit der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A konfiguriert ist, ist eine Anzeigefläche der elektronischen Vorrichtung 100A aufgrund der Konfiguration der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A nicht reduziert.
  • Darüber hinaus kann in dieser Ausführungsform die Pixelelektrode 144 einen vertikalen Stammabschnitt MV, einen horizontalen Stammabschnitt MH und eine Vielzahl von Streifenabschnitten ST enthalten, wobei der vertikale Stammabschnitt MV und der horizontale Stammabschnitt in einer Kreuzform gekreuzt sind, um vier Unterbereiche zu definieren, und die Streifenabschnitte ST sind mit den vertikalen Stammabschnitt MV und dem horizontalen Stammabschnitt MH verbunden und erstrecken sich nach außen von dem vertikalen Stammabschnitt MV und dem horizontalen Stammabschnitt MH in einer im Wesentlichen radialen Weise. In anderen Ausführungsformen kann die Pixelelektrode 144 jedoch andere Muster aufweisen oder als vollständige rechteckige Form angesehen werden.
  • 3 ist eine schematische Querschnitt-Ansicht der elektronischen Vorrichtung von 2 entlang einer Abschnittlinie A-A gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Unter Bezugnahme auf 2 und 3 wird die gemeinsame Elektrodenleitung 160 auf dem Substrat 110 angeordnet. In dieser Ausführungsform, kann eine Filmschicht, in der sich die gemeinsame Elektrodenleitung 160 befindet, die Gleiche sein wie eine Filmschicht, in der sich die transversalen Signalleitungen 120 befinden. Materialien der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 und der transversalen Signalleitungen 120 enthalten ein Material mit guter Leitfähigkeit, wie Metall oder Legierung. Die Filmschicht, in der sich die gemeinsame Elektrodenleitung 160 und die transversalen Signalleitungen 120 befinden, ist beispielsweise näher an dem Substrat 110 als die Filmschichten in der sich andere Schaltungen befinden, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf.
  • Nachdem die gemeinsame Elektrodenleitung 160 und die transversalen Signalleitungen 120 hergestellt sind, kann eine weitere leitfähige Schicht direkt gebildet werden, um die erste abschirmende vertikale Leitung 150A herzustellen, so dass die erste abschirmende vertikale Leitung 150A direkt auf der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 gestapelt wird. Mit anderen Worten, kontaktiert die erste abschirmende vertikale Leitung 150A direkt die gemeinsame Elektrodenleitung 160 ohne Zwischenschicht. Die erste abschirmende vertikale Leitung 150A kann ein transparentes leitfähiges Muster sein. Ein Material der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A kann Metalloxid sein, z.B. Indiumzinnoxid, Indiumzinkoxid, Aluminiumzinnoxid, Aluminiumzinkoxid, Indium Germanium-Zinkoxid oder andere geeignete Oxide oder eine gestapelte Schicht aus wenigstens zwei der oben genannten Materialien. Das Material der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A kann ein organisches transparentes leitfähiges Material sein. Da das Material der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A und das Material der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 unterschiedliche Eigenschaften aufweisen, ist es in einigen Ausführungsformen weniger wahrscheinlich, die gemeinsame Elektrodenleitung 160 und die transversalen Signalleitungen 120 während eines Strukturierungsprozesses der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A zu beschädigen. Daher kann die erste abschirmende vertikale Leitung 150A direkt auf der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 ohne die Zwischenschicht gestapelt werden.
  • Nachdem die erste abschirmende vertikale Leitung 150A hergestellt ist, kann eine Isolierschicht I1 auf dem Substrat 110 gebildet werden, und dann werden die vertikalen Signalleitungen 130 hergestellt. Die vertikalen Signalleitungen 130 können mit den transversalen Signalleitungen 120 und der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 gekreuzt werden. Daher kann die Anordnung der Isolierschicht I1 die vertikalen Signalleitungen 130 von der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 trennen und auch die vertikale Signalleitungen 130 von den transversalen Signalleitungen 120 trennen. In einigen Ausführungsformen kann ein Material der Isolierschicht I1 ein anorganisches Isoliermaterial oder ein organisches Isoliermaterial enthalten, wobei das anorganische Isoliermaterial Siliziumoxid, Siliziumnitrid oder Siliziumoxynitrid usw. enthält, und das organische Isoliermaterial enthält Polymethylmethacrylat (PMMA), Polyvinyl Alkohol (PVA), Polyvinylphenol (PVP) oder Polyimid (PI), etc. Darüber hinaus enthält ein Material der vertikalen Signalleitungen 130 ein Material mit guter Leitfähigkeit, wie Metall oder Legierung.
  • Nachdem die vertikalen Signalleitungen 130 hergestellt sind, können eine oder mehrere Isolierschichten oder Funktionsschichten selektiv auf dem Substrat 110 gebildet werden, und in der Ausführungsform werden eine Isolierschicht I2, eine Filterschicht CF und eine Isolierschicht I3 als ein Beispiel für die Beschreibung verwendet, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf. Materialien der Isolierschichten I2 und I3 können anorganische Isoliermaterialien oder organische Isoliermaterialien enthalten, wobei die anorganischen Isoliermaterialien Siliziumoxid, Siliziumnitrid oder Siliziumoxynitrid usw. enthalten, und die organischen Isoliermaterialien enthalten Polymethylmethacrylat (PMMA), Polyvinyl Alkohol (PVA), Polyvinylphenol (PVP) oder Polyimid (PI), etc. Ein Material der Filterschicht CF kann ein Farbfiltermaterial enthalten, z.B. ein rotes Filtermaterial, ein grünes Filtermaterial und ein blaues Filtermaterial. Darüber hinaus kann die Isolierschicht I3 eine relativ dicke Dicke aufweisen, um als Planarisierungsschicht zu dienen, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf.
  • Die Pixelelektrode 144 kann auf der Isolierschicht I3 gebildet werden. Ein Material der Pixelelektrode 144 kann ein transparentes leitfähiges Material enthalten. Das transparente leitfähige Material kann Metalloxide wie Indiumzinnoxid, Indiumzinkoxid, Aluminiumzinnoxid, Aluminiumzinkoxid, Indium-Germanium-Zinkoxid oder andere geeignete Oxide oder eine gestapelte Schicht aus wenigstens zwei der oben genannten Materialien enthalten. Das transparente leitfähige Material kann ein organisches transparentes Material sein. In einigen Ausführungsformen kann ein Material der Pixelelektrode 144 mit dem Material der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A identisch sein.
  • 4 ist eine schematische Querschnitt-Ansicht der elektronischen Vorrichtung von 2 entlang der Abschnittlinie A-A gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung. In 4, sind die erste abschirmende vertikale Leitung 150A, die gemeinsamen Elektrodenleitung 160, die Isolierschicht I1, die vertikalen Signalleitungen 130, die Isolierschicht I2, die Isolierschicht I3 und die Pixelelektrode 144 sequenziell auf dem Substrat 110 gestapelt. Um genau zu sein, liegt ein Unterschied zwischen dem Querschnitt von 4 und dem Querschnitt von 3 in einer Stapelreihenfolge der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A und der gemeinsamen Elektrodenleitung 160. Daher kann die zugehörige Beschreibung von 3 für das Material und das Stapelverhältnis jeder Filmschicht im Querschnitt von 4 verwiesen werden und wird daher nicht zusätzlich wiederholt.
  • 5 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100B von 5 ähnelt im Wesentlichen der elektronischen Vorrichtung 100A von 2, so dass der vorgenannte Inhalt für dieselben in den beiden Ausführungsformen beschriebenen Komponenten verwiesen werden kann. Die elektronische Vorrichtung 100B kann das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, eine Vielzahl der vertikalen Signalleitungen 130, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, eine erste abschirmende vertikale Leitung 150B, und eine zweite abschirmende vertikale Leitung 152B enthalten. Die vertikalen Signalleitungen 130 können die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136 und die vierte vertikale Signalleitung 138 enthalten. Die Ausführungsform von 2 kann für die relative Beziehung von dem Substrat 110, der transversalen Signalleitungen 120, der ersten vertikalen Signalleitung 132, der zweiten vertikalen Signalleitung 134, der dritten vertikalen Signalleitung 136, der vierten vertikalen Signalleitung 138, der Pixelstrukturen 140, der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150B und der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verwiesen werden und Detaillierung davon wird nicht widerholt. Um genau zu sein, ist ein Unterschied zwischen der vorliegenden Ausführungsform und der Ausführungsform von 2, dass die elektronische Vorrichtung 100B ferner die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B enthält und eine Längenkonstruktion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150B anders ist.
  • In dieser Ausführungsform, befindet sich die erste abschirmende vertikale Leitung 150B zwischen der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der zweiten vertikalen Signalleitung 134, und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B befindet sich zwischen der dritten vertikalen Signalleitung 136 und der vierten vertikalen Signalleitung 138. Mit anderen Worten, befindet sich die erste vertikale Signalleitung 132 zwischen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150B und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152B, und die dritte vertikale Signalleitung 136 befindet sich zwischen der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152B. Die Pixelstruktur 140 beinhaltet die aktive Vorrichtung 142 und die Pixelelektrode 144, und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B und die erste abschirmende vertikale Leitung 150B befinden sich auf zwei gegenüberliegenden Seiten der Pixelelektrode 144. Darüber hinaus kann die Pixelelektrode 144 die erste abschirmende vertikale Leitung 150B und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B kreuzen und sich bis zu der zweiten vertikalen Signalleitung 134 und der vierten vertikalen Signalleitung 138 erstrecken. In einigen Ausführungsformen sind beispielsweise die erste abschirmende vertikale Leitung 150B und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B, symmetrisch durch die Pixelstruktur 140 verteilt. Nämlich kann ein Abstand zwischen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150B und einer Mittelachse der Pixelelektrode 144 im Wesentlichen mit einem Abstand zwischen der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152B und der Mittelachse der Pixelelektrode 144 gleich sein, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf.
  • In dieser Ausführungsform, können die erste abschirmende vertikale Leitung 150B und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B beide die erste Leitung 162 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 kreuzen, werden aber nicht mit der zweiten Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 gekreuzt. In einigen Ausführungsformen können die erste abschirmende vertikale Leitung 150B und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B durch einen Abstand von der zweiten Leitung 164 getrennt werden. In anderen Ausführungsformen, können jedoch die erste abschirmende vertikale Leitung 150B und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B sowohl die erste Leitung 162 kreuzen als auch sich mit der zweiten Leitung 164 überlappen. Dementsprechend, in anderen Ausführungsformen, können die erste abschirmende vertikale Leitung 150B und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B beide mit der zweiten Leitung 164 überlappen, aber beide von der ersten Leitung 162 durch einen Abstand getrennt. Insgesamt, solange die erste vertikale abschirmende Leitung 150B und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B eine oder beide der ersten Leitung 162 und der zweiten Leitung 164 kontaktieren können, können sie ein gemeinsames Potenzial erhalten, um einen Abschirmeffekt zu erzielen. Darüber hinaus kann die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B ein transparentes leitfähiges Muster sein, so dass die Pixelstruktur 140 auch eine effektive Anzeige in einem Bereich der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152B bereitstellen kann, ohne eine effektive Anzeigefläche der Pixelstruktur 140 aufgrund der Anordnung der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152B zu reduzieren.
  • 6 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100C von 6 ähnelt im Wesentlichen der elektronischen Vorrichtung 100B von 5, so dass der vorgenannte Inhalt für dieselben in den beiden Ausführungsformen beschriebenen Komponenten verwiesen werden kann. Die elektronische Vorrichtung 100C kann das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, eine Vielzahl der vertikalen Signalleitungen 130, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, eine erste abschirmende vertikale Leitung 150C, und eine zweite abschirmende vertikale Leitung 152C beinhalten. Die vertikale Signalleitungen 130 können die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136 und die vierte vertikale Signalleitung 138 beinhalten. Die vorgenannten Ausführungsformen können für die relative Beziehung des Substrate 110, der transversalen Signalleitungen 120, der ersten vertikalen Signalleitung 132, der zweiten vertikalen Signalleitung 134, der dritten vertikalen Signalleitung 136, der vierten vertikalen Signalleitung 138, der Pixelstrukturen 140, der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150C, der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152C und der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verwiesen werden, und die Einzelheiten davon werden nicht wiederholt. Um genau zu sein, liegt ein Unterschied zwischen der vorliegenden Ausführungsform und der Ausführungsform von 5 in verschiedenen Breitenausgestaltungen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150C und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152C in der elektronischen Vorrichtung 100C.
  • In dieser Ausführungsform, weist die erste abschirmende vertikale Leitung 150C einen erstreckenden Abschnitt 150C1 und einen überlappenden Abschnitt 150C2 auf. Der erstreckende Abschnitt 150C1 erstreckt sich in einem Spalt zwischen der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der zweiten vertikalen Signalleitung 134 und kontaktiert die erste Leitung 162 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160. Der überlappende Abschnitt 150C2 ist mit dem erstreckenden Abschnitt 150C1 verbunden und überlappt mit der ersten vertikalen Signalleitung 132. Außerdem weist die zweite abschirmende vertikale Leitung 152C auch einen erstreckenden Abschnitt 152C1 und einen überlappenden Abschnitt 152C2 auf. Der erstreckende Abschnitt 152C1 erstreckt sich in einen Spalt zwischen der dritten vertikalen Signalleitung 136 und der vierten vertikalen Signalleitung 138 und kontaktiert die erste Leitung 162 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160. Der überlappende Abschnitt 152C2 ist mit dem erstreckenden Abschnitt 152C1 verbunden und überlappt mit der dritten vertikalen Signalleitung 136. In der Ausführungsform ist der überlappende Abschnitt 150C2 mit einem Mittelabschnitt des erstreckenden Abschnitts 150C1 verbunden, und der überlappende Abschnitt 152C2 ist mit einem Mittelabschnitt des erstreckenden Abschnitts 152C1 verbunden, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf.
  • 7 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100D von 7 ähnelt im Wesentlichen der elektronischen Vorrichtung 100C von 6, so dass der vorgenannte Inhalt für dieselben in den beiden Ausführungsformen beschriebenen Komponenten verwiesen werden kann. Die elektronische Vorrichtung 100D kann das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, eine Vielzahl der vertikalen Signalleitungen 130, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, eine erste abschirmende vertikale Leitung 150D, und eine zweite abschirmende vertikale Leitung 152D beinhalten. Die vertikalen Signalleitungen 130 können die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136 und die vierte vertikale Signalleitung 138 enthalten. Die vorgenannten Ausführungsformen können für die relative Beziehung der Substrate 110, der transversalen Signalleitungen 120, der ersten vertikalen Signalleitung 132, der zweiten vertikalen Signalleitung 134, der dritten vertikalen Signalleitung 136, der vierten vertikalen Signalleitung 138, der Pixelstrukturen 140, der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verwiesen werden und Einzelheiten davon werden nicht wiederholt. Um genau zu sein, liegt ein Unterschied zwischen der vorliegenden Ausführungsform und der Ausführungsform von 6 in verschiedenen Ausgestaltungen von überlappenden Abschnitten der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150D und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152D in der elektronischen Vorrichtung 100D.
  • Um genau zu sein, weist die erste abschirmende vertikale Leitung 150D einen erstreckenden Abschnitt 150D1 und einen überlappenden Abschnitt 150D2. Der erstreckenden Abschnitt 150D1 erstreckt sich in einem Spalt zwischen der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der zweiten vertikalen Signalleitung 134 und kontaktiert die erste Leitung 162 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160. Der überlappende Abschnitt 150D2 ist mit dem erstreckenden Abschnitt 150D1 verbunden und überlappt mit der ersten vertikalen Signalleitung 132. Außerdem kann sich der überlappende Abschnitt 150D2 der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150D zu der zweiten Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 erstrecken, um die zweite Leitung 164 zu überlappen. Die zweite abschirmende vertikale Leitung 152D weist auch einen erstreckenden Abschnitt 152D1 und einen überlappenden Abschnitt 152D2 auf. Der erstreckende Abschnitt 152D1 erstreckt sich in einem Spalt zwischen der dritten vertikalen Signalleitung 136 und der vierten vertikalen Signalleitung 138 und kontaktiert die erste Leitung 162 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160. Der überlappende Abschnitt 152D2 ist mit dem erstreckenden Abschnitt 152D1 verbunden und überlappt mit der dritten vertikalen Signalleitung 136. Außerdem kann sich der überlappende Abschnitt 152D2 der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152D zu der zweiten Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 erstrecken, um die zweite Leitung 164 zu überlappen.
  • 8 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100E von 8 ist der elektronischen Vorrichtung 100B von 5 im Wesentlichen ähnlich, so dass der vorgenannte Inhalt für dieselben Komponenten, beschrieben in den zwei Ausführungen, verwiesen werden. Die elektronische Vorrichtung 100E kann das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, eine Vielzahl der vertikalen Signalleitungen 130, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, die erste abschirmende vertikale Leitung 150B, die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B und eine abschirmende transversale Leitung 154E enthalten. Die vertikalen Signalleitungen 130 können die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136 und die vierte vertikale Signalleitung 138 enthalten. Die Ausführungsform von 5 kann für die relative Beziehung des Substrats 110, der transversalen Signalleitungen 120, der ersten vertikalen Signalleitung 132, der zweiten vertikalen Signalleitung 134, der dritten vertikalen Signalleitung 136, der vierten vertikalen Signalleitung 138, der Pixelstrukturen 140, der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150B und der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 und der Anordnungsmethode der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150B und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152B verwiesen werden und deren Einzelheiten werden nicht wiederholt. Um genau zu sein, liegt ein Unterschied zwischen der vorliegenden Ausführungsform und der Ausführungsform von 5 darin, dass die elektronische Vorrichtung 100E ferner die abschirmende transversal Leitung 154E beinhaltet.
  • Die abschirmende transversale Leitung 154E erstreckt sich transversal von der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150B über die erste vertikale Signalleitung 132 und die dritte vertikale Signalleitung 136 und ist mit der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152B verbunden. Die abschirmende transversale Leitung 154E ist mit einem mittleren Abschnitt der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150B verbunden und mit einem mittleren Abschnitt der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152B verbunden, so dass die abschirmende transversale Leitung 154E, die erste abschirmende vertikale Leitung 150B und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B ein H-geformtes Muster bilden. In der Ausführungsform, weist die Pixelelektrode 144 der Pixelstruktur 140, z.B. einen horizontalen Stammabschnitt MH auf, und eine orthogonale Projektion der abschirmenden transversalen Leitung 154E auf dem Substrat 110 kann mit einer orthogonalen Projektion des horizontalen Stammabschnitts MH auf dem Substrat 110 überlappen, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf. Darüber hinaus kann die abschirmende transversale Leitung 154E ein transparentes leitfähiges Muster sein, so dass die Pixelstruktur 140 auch eine effektive Anzeigefläche in einem Bereich der abschirmenden transversalen Leitung 154E bereitstellen kann, ohne die effektive Anzeigefläche der Pixelstruktur 140 aufgrund der Anordnung der abschirmenden transversalen Leitung 154E zu reduzieren.
  • In einigen Ausführungsformen, da die abschirmende transversale Leitung 154E die erste abschirmende vertikale Leitung 150B und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B verbindet, kann nur eine der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150B und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152B mit der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verbunden werden. So kann z.B. eine der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150B und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152B mit der ersten Leitung 162 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verbunden sein, die mit der zweiten Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verbunden ist, oder mit der ersten Leitung 162 und der zweiten Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verbunden sein.
  • 9 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100F von 9 ist der elektronischen Vorrichtung 100E von 8 im Wesentlichen ähnlich, damit der vorgenannte Inhalt für dieselben Komponenten, beschrieben in den zwei Ausführungsformen, herangeführt werden kann. Die elektronische Vorrichtung 100F kann das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, eine Vielzahl der vertikalen Signalleitungen 130, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, die erste abschirmende vertikale Leitung 150B, die zweite abschirmende vertikale Leitung 152B, die abschirmende transversale Leitung 154E und eine dritte abschirmende vertikale Leitung 156F enthalten. Die vertikalen Signalleitungen 130 können die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136 und die vierte vertikale Signalleitung 138 enthalten. Die Ausführungsform von 2 kann für die relative Beziehung des Substrats 110, der transversalen Signalleitungen 120, der ersten vertikalen Signalleitung 132, der zweiten vertikalen Signalleitung 134, der dritten vertikalen Signalleitung 136, der vierten vertikalen Signalleitung 138, der Pixelstrukturen 140, der gemeinen Elektrodenleitung 160 verwiesen werden und die Ausführungsform von 5 kann für das Anordnungsverfahren der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150B und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152B verwiesen werden und die Ausführungsform von 8 kann für das Anordnungsverfahren der abschirmenden transversalen Leitung 154E verwiesen werden, so dass Einzelheiten nicht wiederholt werden.
  • Um spezifisch zu sein, ist ein Unterschied zwischen der vorliegenden Ausführungsform und der Ausführungsform von 5, dass die elektronische Vorrichtung 100F ferner die dritte abschirmende vertikale Leitung 156F enthält. Die dritte abschirmende vertikale Leitung 156F befindet sich zwischen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150B und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152B. Die dritte abschirmende vertikale Leitung 156F kann mit der abschirmenden transversalen Leitung 154E verbunden werden, und die dritte abschirmende vertikale Leitung 156F kann mit der abschirmenden transversalen Leitung 154E, um eine Kreuzform zu bilden, gekreuzt werden, aber die Offenbarung ist nicht darauf beschränkt. In der Ausführungsform, weist z.B. die Pixelelektrode 144 der Pixelstruktur 140 den vertikalen Stammabschnitt MV und den horizontalen Stammabschnitt MH auf, wobei eine orthogonale Projektion der dritten abschirmenden vertikalen Leitung 156F auf das Substrat 110 mit der orthogonalen Projektion des vertikalen Stammabschnitts MV auf dem Substrat 110 überlappen kann, und die orthogonale Projektion der abschirmenden transversalen Leitung 154E auf dem Substrat 110 kann mit der orthogonalen Projektion des horizontalen Stammabschnitts MH auf dem Substrat 110 überlappen, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf. Darüber hinaus können die abschirmenden transversalen Leitungen 154E und die dritte abschirmende vertikale Leitung 156F transparente leitfähige Muster sein, so dass die Pixelstruktur 140 auch eine effektive Anzeige in einem Bereich der abschirmenden transversalen Leitung 154E bereitstellen kann, ohne die effektive Anzeigefläche der Pixelstruktur 140 aufgrund der Anordnung der abschirmenden transversalen Leitung 154E und der dritten abschirmenden vertikalen Leitung 156F zu reduzieren.
  • 10 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100G von 10 ähnelt im Wesentlichen der elektronischen Vorrichtung 100A von 2, so dass der vorgenannte Inhalt für dieselben in den beiden Ausführungsformen beschriebenen Komponenten verwiesen werden kann. Die elektronische Vorrichtung 100G kann das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, eine Vielzahl der vertikalen Signalleitungen 130, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und eine abschirmende transversale Leitung 154G umfassen. Die vertikale Signalleitungen 130 können die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136 und die vierte vertikale Signalleitung 138 enthalten. Die Ausführungsform von 2 kann für die relative Beziehung des Substrats 110, der transversalen Signalleitungen 120, der ersten vertikalen Signalleitung 132, der zweiten vertikalen Signalleitung 134, der dritten vertikalen Signalleitung 136, der vierten vertikalen Signalleitung 138, der Pixelstrukturen 140, der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A und der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verwiesen werden und deren Einzelheiten werden nicht wiederholt.
  • Um spezifisch zu sein, liegt ein Unterschied zwischen der vorliegenden Ausführungsform und der Ausführungsform von 2 darin, dass die elektronische Vorrichtung 100G ferner die abschirmende transversale Leitung 154G enthält. Die abschirmende transversale Leitung 154G erstreckt sich transversal von der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A über die erste vertikale Signalleitung 132 und die abschirmende transversale Leitung 154G ist mit einem Ende der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A verbunden. Eine orthogonale Projektion der abschirmenden transversalen Leitung 154G auf dem Substrat 110 kann mit einer orthogonalen Projektion der zweiten Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 auf dem Substrat 110 überlappen und kann vollständig innerhalb der orthogonalen Projektion der zweiten Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 auf dem Substrat 110 positioniert werden.
  • 11 ist eine schematische Querschnittsansicht der elektronischen Vorrichtung von 2 entlang einer Abschnittlinie B-B gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung. In 11, sind die gemeinsame Elektrodenleitung 160, die abschirmende transversale Leitung 154G, die Isolierschicht I1, die vertikalen Signalleitungen 130, die Isolierschicht I2, die Filterschicht CF, die Isolierschicht I3 und die Pixelelektrode 144 sequenziell auf dem Substrat 110 gestapelt, wobei die abschirmende transversale Leitung 154G und die erste abschirmende vertikale Leitung 150A aus derselben Filmschicht sind. Die dazugehörigen Beschreibungen von 3 und 4 können für das Material jeder Filmschicht der Ausführungsformverwiesen verwiesen werden, und Einzelheiten davon werden nicht wiederholt. Darüber hinaus stellt im Querschnitt von 11 ein Abschnitt SEC1 eine Stapelreihenfolge jeder der Filmschichten dar, wenn die abschirmende transversale Leitung 154G sowohl mit den vertikalen Signalleitungen 130 als auch mit der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 überlappt ist. Währenddessen, stellt ein Schnitt SEC2 eine Stapelreihenfolge jeder der Filmschichten dar, wenn die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und die abschirmende transversale Leitung 154G mit der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 überlappen, wobei eine Reihe der Filmschichten in dem Abschnitt SEC2 und die Stapelreihenfolge der Filmschichten im Wesentlichen mit der Querschnittsstruktur von 3 gleich sind. In dem Abschnitt SEC1 sind die abschirmende transversale Leitung 154G und die erste vertikale Signalleitung 132 in einer Dickenrichtung überlappt. Die Isolierschicht I1 ist jedoch zwischen der abschirmenden transversalen Leitung 154G und der ersten vertikalen Signalleitung 132 angeordnet. Daher werden die abschirmende transversale Leitung 154G und die erste vertikale Signalleitung 132 nicht miteinander kurzgeschlossen sein.
  • 12 ist eine schematische Querschnittsansicht der elektronischen Vorrichtung von 2 entlang der Abschnittlinie B-B gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung. In 12, sind die abschirmende transversale Leitung 154G, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, die Isolierschicht I1, die vertikalen Signalleitungen 130, die Isolierschicht I2, die Filterschicht CF, die Isolierschicht I3, und die Pixelelektrode 144 sequenziell auf dem Substrat 110 gestapelt. Um spezifisch zu sein, liegt ein Unterschied zwischen dem Querschnitt von 12 und dem Querschnitt von 11 in einer Stapelreihenfolge der abschirmenden transversalen Leitung 154G und der gemeinsamen Elektrodenleitung 160. Daher kann die zugehörige Beschreibung von 11 für die Materialien und eine Stapelbeziehung der Filmschichten in dem Querschnitt von 12 verwiesen werden, und Einzelheiten davon werden nicht wiederholt. In dem Querschnitt von 12 stellt der Abschnitt SEC1 eine Stapelreihenfolge jeder der Filmschichten dar, wenn die abschirmenden transversal Leitungen 154G sowohl mit den vertikalen Signalleitungen 130 als auch mit der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 überlappen. Während der Abschnitt SEC2 eine Stapelreihenfolge jeder der Filmschichten darstellt, wenn die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und die abschirmende transversale Leitung 154G mit der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 überlappen, wobei eine Anzahl der Filmschichten in dem Abschnitt SEC2 und die Stapelreihenfolge der Filmschichten im Wesentlichen mit der Querschnittsstruktur von 4 gleich sind.
  • Im Abschnitt SEC1 von 11 und 12, kann das überlappende Verhältnis zwischen der abschirmenden transversalen Leitung 154G und den vertikalen Signalleitungen 130 und der Stapelreihenfolge der Filmschichten auf eine der Ausführungsformen von 6 bis 9 angewendet werden. Zum Beispiel wird die gemeinsame Elektrodenleitung 160 in dem Abschnitt SEC1 entfernt, sie kann als eine Querschnittsstruktur angesehen werden, bei der die überlappenden Teile 150C2 und 150D2 mit der ersten vertikalen Signalleitung 132 in den Ausführungsformen von 6 und 7 überlappen. Zum Beispiel, kann die Querschnittsstruktur, bei der die überlappenden Teile 150C2 und 150D2 mit der ersten vertikalen Signalleitung 132 überlappen, das sequenziell gestapelte Substrat 110, den überlappenden Abschnitt 150C2 oder 150D2, die Isolierschicht I1, die erste vertikale Signalleitung 132, die Isolierschicht I2, die Filterschicht CF, die Isolierschicht I3 und die Pixelelektrode 144 enthalten. Die Querschnittsstruktur, bei der sich die überlappenden Teile 152C2 und 152D2 in den Ausführungsformen von 6 und 7, mit der dritten vertikalen Signalleitung 136 überlappen, und die Querschnittsstruktur, bei der die abschirmende transversale Leitung 154E mit der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der dritten vertikalen Signalleitung 136 in den Ausführungsformen von 8 und 9 überlappt ist, zum Beispiel, die Querschnittsstruktur, bei der die überlappenden Teile 150C2 und 150D2 mit der dritten vertikalen Signalleitung 136 überlappen, kann das sequenziell gestapelte Substrat 110, den überlappenden Teil 150C2 oder 150D2, die Isolierschicht I1, die dritte vertikale Signalleitung 136, die Isolierschicht I2, die Filterschicht CF, die Isolierschicht I3 und die Pixelelektrode 144 enthalten.
  • 13 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100H von 13 ähnelt im Wesentlichen der elektronischen Vorrichtung 100G von 10, so dass der vorgenannte Inhalt für die in den beiden Ausführungsformen beschriebenen Komponenten verwiesen werden kann. Die elektronische Vorrichtung 100H kann das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, eine Vielzahl der vertikalen Signalleitungen 130, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, die erste abschirmende vertikale Leitung 150A, die abschirmende transversale Leitung 154G und eine zweite abschirmende vertikale Leitung 152H enthalten. Die vertikalen Signalleitungen 130 können die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136 und die vierte vertikale Signalleitung 138 enthalten. Die vorgenannten Ausführungsformen für die relative Beziehung des Substrats 110, die transversalen Signalleitungen 120, die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136, die vierte vertikale Signalleitung 138, die Pixelstrukturen 140, die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und die gemeinsame Elektrodenleitung 160, und Einzelheiten davon werden nicht wiederholt. Um genau zu sein, liegt ein Unterschied zwischen der vorliegenden Ausführungsform und der Ausführungsform von 10 darin, dass die elektronische Vorrichtung 100H ferner die zweite abschirmende vertikale Leitung 152H enthält.
  • In der Ausführungsform befindet sich die erste abschirmende vertikale Leitung 150A zwischen der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der zweiten vertikalen Signalleitung 134, und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152H befindet sich zwischen der dritten vertikalen Signalleitung 136 und der vierten vertikalen Signalleitung 138. Die abschirmende transversale Leitung 154G ist zwischen einem Ende der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A und einem Ende der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152H zu einem U-förmigen Muster verbunden, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf. Die Pixelstruktur 140 enthält das aktive Element 142 und die Pixelelektrode 144, und die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152H befinden sich auf zwei gegenüberliegenden Seiten der Pixelelektrode 144. Die Pixelelektrode 144 kann die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152H kreuzen. Die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152H bestehen alle aus transparenten leitfähigen Materialien, so dass die Bereiche, in denen sich die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152H befinden, keine Anzeigefläche der Pixelstruktur 140 abschirmen, so dass ein Anzeigeeffekt der elektronischen Vorrichtung 100H gewährleistet ist.
  • In der Ausführungsform, ist das U-förmige Muster, das durch Verbinden der abschirmenden transversalen Leitung 154G, der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152H miteinander, gebildet wird, z.B. überlappend mit der ersten Leitung 162 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 sowie der zweiten Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160, und die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152H kreuzen sogar die erste Leitung 162, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf. In einigen Ausführungsformen können nur eine oder zwei der abschirmenden transversalen Leitung 154G, die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152H mit und in Kontakt mit der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 überlappen. Zum Beispiel, kann die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152H unterschiedliche Längen aufweisen, so dass eine der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152H kreuzt die erste Leitung 162, und die andere ist von der ersten Leitung 162 durch einen Abstand getrennt. Alternativ darf in anderen Ausführungsformen die abschirmende transversale Leitung 154G, die zwischen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152H verbunden ist, nicht mit der zweiten Leitung 164 überlappen.
  • 14 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 1001 von 14 ähnelt im Wesentlichen der elektronischen Vorrichtung 100H von 13, so dass der vorgenannte Inhalt für dieselben in den beiden Ausführungsformen beschriebenen Komponenten verwiesen werden kann. Die elektronische Vorrichtung 1001 kann das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, eine Vielzahl der vertikalen Signalleitungen 130, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, die erste abschirmende vertikale Leitung 150A, die abschirmende transversale Leitung 154G, die zweite abschirmende vertikale Leitung 152H und die abschirmende transversale Leitung 154E. Die vertikale Signalleitung 130 kann die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136 und die vierte vertikale Signalleitung 138 enthalten. Die vorgenannten Ausführungsformen können für die relative Beziehung des Substrats 110, die transversalen Signalleitungen 120, die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136, die vierte vertikale Signalleitung 138, die Pixelstrukturen 140, die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und die gemeinsame Elektrodenleitung 160 verwiesen werden, und Einzelheiten davon werden nicht wiederholt.
  • Um genau zu sein, ist ein Unterschied zwischen der vorliegenden Ausführungsform und der Ausführungsform von 13, dass die elektronische Vorrichtung 1001 ferner die abschirmende transversale Leitung 154E enthält, wobei die Anordnung der abschirmenden transversalen Leitung 154E im Wesentlichen der abschirmenden transversalen Leitung 154E in 8 entspricht. Die abschirmende transversale Leitung 154E erstreckt sich transversal von der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A über die erste vertikale Signalleitung 132 und die dritte vertikale Signalleitung 136 und ist mit der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152H verbunden. Die abschirmende transversale Leitung 154E ist mit einem mittleren Abschnitt der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A verbunden und mit einem mittleren Abschnitt der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152H verbunden. Die Pixelelektrode 144 der Pixelstruktur 140, weist zum Beispiel den horizontalen Stammabschnitt MH und den vertikalen Stammabschnitt MV auf, und der horizontale Stammabschnitt MH und der vertikale Stammabschnitt MV sind in einer Kreuzform gekreuzt, und eine orthogonale Projektion der abschirmenden transversalen Leitung 154E auf dem Substrat 110 kann mit einer orthogonalen Projektion des horizontalen Stammabschnitts MH auf dem Substrat 110 überlappt werden, aber die Offenbarung ist nicht darauf beschränkt.
  • 15 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100J von 15 ist der elektronischen Vorrichtung 1001 von 14 im Wesentlichen ähnlich, damit der vorgenannte Inhalt für dieselben in den beiden Ausführungsformen beschriebenen Bestandteile verwiesen werden kann. Die elektronische Vorrichtung 100J kann das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, eine Vielzahl der vertikalen Signalleitungen 130, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, die erste abschirmende vertikale Leitung 150A, die abschirmende transversal Leitung 154G, die zweite abschirmende vertikale Leitung 152H, die abschirmende transversal Leitung 154E und die dritte abschirmende vertikale Leitung 156F enthalten. Die vertikalen Signalleitungen 130 können die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136 und die vierte vertikale Signalleitung 138 enthalten. Die vorgenannte Ausführungsform kann für die relative Beziehung des Substrats 110 verwiesen werden, die transversalen Signalleitungen 120, die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136, die vierte vertikale Signalleitung 138, die Pixelstrukturen 140, die erste abschirmende vertikale Leitung 150A und die gemeinsame Elektrodenleitung 160, so dass Einzelheiten davon nicht wiederholt werden.
  • Um spezifisch zu sein, ist ein Unterschied zwischen der vorliegenden Ausführungsform und der Ausführungsform von 13 ist, dass die elektronische Vorrichtung 100J ferner die dritte abschirmende vertikale Leitung 156F enthält, wobei die Anordnung der dritten abschirmenden vertikalen Leitung 156F im Wesentlichen die gleiche ist wie die dritte vertikale abschirmende Leitung 156F in 9. Die dritte abschirmende vertikale Leitung 156F befindet sich zwischen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152H. Die dritte abschirmende vertikale Leitung 156F kann mit der abschirmenden transversalen Leitung 154E verbunden werden, und die dritte abschirmende vertikale Leitung 156F kann mit der abschirmenden transversalen Leitung 154E geschnitten werden, um eine Kreuzform zu bilden, aber die Offenbarung ist nicht darauf beschränkt. In der Ausführungsform weist z.B. die Pixelelektrode 144 der Pixelstruktur 140 den vertikalen Stammabschnitt MV und den horizontalen Stammabschnitt MH auf, wobei eine orthogonale Projektion der dritten abschirmenden vertikalen Leitung 156F auf das Substrat 110 mit der orthogonalen Projektion des vertikalen Stammabschnitts MV auf dem Substrat 110 überlappen kann, und die orthogonale Projektion der abschirmenden transversalen Leitung 154E auf dem Substrat 110 kann mit der orthogonalen Projektion des horizontalen Stammabschnitts MH auf dem Substrat 110 überlappen, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf.
  • 16 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100K von 16 ähnelt im Wesentlichen der elektronischen Vorrichtung 100H von 13, so dass der vorgenannte Inhalt für die in den beiden Ausführungsformen beschriebenen Komponenten verwiesen werden kann. Die elektronische Vorrichtung 100K kann das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, eine Vielzahl der vertikalen Signalleitungen 130, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, eine erste abschirmende vertikale Leitung 150K, die abschirmende transversale Leitung 154G und eine zweite abschirmende vertikale Leitung 152K enthalten. Die vertikalen Signalleitungen 130 können die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136 und die vierte vertikale Signalleitung 138 enthalten. Die vorgenannten Ausführungsformen können für die relative Beziehung des Substrats 110, der transversalen Signalleitungen 120, der ersten vertikalen Signalleitung 132, der zweiten vertikalen Signalleitung 134, der dritten vertikalen Signalleitung 136, der vierten vertikalen Signalleitung 138, der Pixelstrukturen 140, der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150A und der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verwiesen werden, und Einzelheiten davon werden nicht wiederholt.
  • Um spezifisch zu sein, eine Ausführung bzw. ein Layout und eine Musterausgestaltung der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150K und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152K entsprechen im Wesentlichen denen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150C und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152C von 6. Bei der elektronischen Vorrichtung 100K können sich jedoch die erste abschirmende vertikale Leitung 150K und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152K ausdehnen, um die zweite Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 zu überlappen und sind durch die abschirmende transversale Leitung 154G an beiden Enden der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150K und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152K verbunden.
  • Die erste abschirmende vertikale Leitung 150K weist einen erstreckenden Abschnitt 150K1 und einen überlappenden Abschnitt 150K2 auf. Der erstreckende Abschnitt 150K1 erstreckt sich in einen Spalt zwischen der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der zweiten vertikalen Signalleitung 134 und kontaktiert die erste Leitung 162 und die zweite Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160. Der überlappende Abschnitt 150K2 ist mit dem sich erstreckenden Abschnitt 150K1 verbunden und überlappt mit der ersten vertikalen Signalleitung 132. Außerdem weist die zweite abschirmende vertikale Leitung 152K auch einen erstreckenden Abschnitt 152K1 und einen überlappenden Abschnitt 152K2. Der erstreckende Abschnitt 152K1 erstreckt sich in einen Spalt zwischen der dritten vertikalen Signalleitung 136 und der vierten vertikalen Signalleitung 138 und kontaktiert die erste Leitung 162 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160. Der überlappende Abschnitt 152K2 ist mit dem erstreckenden Abschnitt 152K1 verbunden und überlappt mit der dritten vertikalen Signalleitung 136. In der Ausführungsform ist der überlappende Abschnitt 150K2 mit einem Mittelabschnitt des erstreckenden Abschnitts 150K1 verbunden, und der überlappende Abschnitt 152K2 ist mit einem Mittelabschnitt des erstreckenden Abschnitts 152K1 verbunden, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf.
  • 17 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100L von 17 ähnelt im Wesentlichen der elektronischen Vorrichtung 100H von 13, so dass der vorgenannte Inhalt für die in den beiden Ausführungsformen beschriebenen Komponenten verwiesen werden kann. Die elektronische Vorrichtung 100L kann das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, eine Vielzahl der vertikalen Signalleitungen 130, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, eine erste abschirmende vertikale Leitung 150L, die abschirmende transversale Leitung 154G und eine zweite abschirmende vertikale Leitung 152L enthalten. Die vertikalen Signalleitungen 130 können die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136 und die vierte vertikale Signalleitung 138 enthalten. Die vorgenannten Ausführungsformen für die relative Beziehung des Substrats 110, die transversalen Signalleitungen 120, die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136, die vierte vertikale Signalleitung 138, die Pixelstrukturen 140, die erste abschirmende vertikale Leitung 150A, und der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verwiesen werden und die Einzelheiten davon werden nicht wiederholt.
  • In dieser Ausführungsform sind ein Layout und eine Musterausgestaltung der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150L und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152L im Wesentlichen die gleichen wie die der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150D und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152D der 7. Die erste abschirmende vertikale Leitung 150L kann einen erstreckenden Abschnitt 150L1, der sich zwischen der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der zweiten vertikalen Signalleitung 134 befindet, und einen überlappenden Abschnitt 150L2 mit der ersten vertikalen Signalleitung 132 enthalten. Die zweite abschirmende vertikale Leitung 152L kann einen erstreckenden Abschnitt 152L1, der sich zwischen der dritten vertikalen Signalleitung 136 und der vierten vertikalen Signalleitung 138 befindet, und einen überlappenden Abschnitt 152L2 mit der dritten vertikalen Signalleitung 136 umfassen. Darüber hinaus sind ein Ende der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150L und ein Ende der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152L durch die abschirmende transversale Leitung 154G verbunden.
  • 18 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100M von 18 enthält das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136, die vierte vertikale Signalleitung 138, eine Vielzahl von Pixelstrukturen 140, eine erste abschirmende vertikale Leitung 150M, eine zweite abschirmende vertikale Leitung 152M, eine abschirmende Elektrode 158M und die gemeinsame Elektrodenleitung 160 einschließlich der ersten Leitung 162 und der zweiten Leitung 164. In der Ausführungsform, sind das Substrat 110, die transversalen Signalleitungen 120, die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136, die vierte vertikale Signalleitung 138, die Pixelstrukturen 140, und die gemeinsame Elektrodenleitung 160 im Wesentlichen die Gleichen wie die der Ausführungsform von 2, so dass die zugehörigen Beschreibungen von 2 für detaillierte Strukturen, Materialien und ein relatives Konfigurationsverhältnis der vorgenannten Komponenten verwiesen werden kann, und Einzelheiten davon werden nicht widerholt.
  • In 18 befindet sich eine orthogonale Projektion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150M auf dem Substrat 110 zwischen der orthogonalen Projektion der ersten vertikalen Signalleitung 132 auf dem Substrat 110 und der orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung 134 auf dem Substrat 110, und eine orthogonale Projektion der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152M auf dem Substrat 110 befindet sich zwischen der orthogonalen Projektion der dritten vertikalen Signalleitung 136 auf dem Substrat 110 und der orthogonalen Projektion der vierten vertikalen Signalleitung 138 auf dem Substrat 110. Darüber hinaus, sind die erste abschirmende vertikale Leitung 150M und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152M mit der abschirmenden Elektrode 158M verbunden, und die erste abschirmende vertikale Leitung 150M und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152M können sich in Richtung der entsprechenden transversalen Signalleitung 120 erstrecken, um die erste Leitung 162 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 zu kreuzen.
  • Die abschirmende Elektrode 158M ist z.B. eine integrale Elektrode und durchquert die erste vertikale Signalleitung 132 und die dritte vertikale Signalleitung 134. Die abschirmende Elektrode 158M befindet sich im Wesentlichen zwischen der zweiten vertikalen Signalleitung 134 und der vierten vertikalen Signalleitung 138, ohne die zweite vertikale Signalleitung 134 und die vierte vertikale Signalleitung 138 zu überlappen. Eine orthogonale Projektion der abschirmenden Elektrode 158M auf dem Substrat 110 überlappt mit einer orthogonalen Projektion der Pixelelektrode 144 der Pixelstruktur 140 auf dem Substrat 110. Die abschirmende Elektrode 158M, die erste abschirmende vertikale Leitung 150M und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152M sind als ein Ganzes verbunden und bestehen beispielsweise aus einem transparenten leitfähigen Material. Obwohl die abschirmende Elektrode 158M mit dem größten Teil der Fläche der Pixelelektrode 144 überlappt ist, hat die abschirmende Elektrode 158M keinen Einfluss auf die effektive Anzeigefläche der Pixelstruktur 140.
  • 19 ist eine partielle schematische Ansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100N von 19 enthält das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136, die vierte vertikale Signalleitung 138, eine Vielzahl der Pixelstrukturen 140, die jeweils die aktive Vorrichtung 142 und die Pixelelektrode 144, eine erste abschirmende vertikale Leitung 150N, eine zweite abschirmende vertikale Leitung 152N und die gemeinsame Elektrodenleitung 160 enthalten, einschließlich der ersten Leitung 162 und der zweiten Leitung 164. In der Ausführungsform, sind die Konfigurationsverfahren, Strukturen und eine Stapelreihenfolge des Substrats 110, der transversalen Signalleitungen 120, der ersten vertikalen Signalleitung 132, der zweiten vertikalen Signalleitung 134, der dritten vertikalen Signalleitung 136, der vierten vertikalen Signalleitung 138, der Pixelstrukturen 140, und der gemeinsame Elektrodenleitung 160 im Wesentlichen die gleiche wie die der Ausführungsform von 2, so dass die Beschreibungen von 2 für Einzelheiten der obigen Komponenten verwiesen werden kann.
  • In der Ausführungsform, befindet sich eine orthogonale Projektion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150N auf dem Substrat 110 zwischen der orthogonalen Projektion der ersten vertikalen Signalleitung 132 auf dem Substrat 110 und der orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung 134 auf dem Substrat 110, und eine orthogonale Projektion der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152N auf dem Substrat 110 befindet sich zwischen der orthogonalen Projektion der dritten vertikalen Signalleitung 136 auf dem Substrat 110 und der orthogonalen Projektion der vierten vertikalen Signalleitung 138 auf dem Substrat 110. Darüber hinaus, durchqueren die erste abschirmende vertikale Leitung 150N und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152N und schneiden alle die transversalen Signalleitungen 120 und die erste Leitung 162 und die zweite Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160.
  • Die transversalen Signalleitungen 120 und die gemeinsame Elektrodenleitung 160 können aus derselben Filmschicht hergestellt werden, wobei die von den transversalen Signalleitungen 120 übertragenen Signale, Scan-Signale sind, die an die aktive Vorrichtung 142 bereitgestellt werden und das von der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 übertragene Signal ein gemeinsames Potential ist. Die erste abschirmende vertikale Leitung 150N und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152N, die mit den transversalen Signalleitungen 120 und der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 gekreuzt ist, müssen einen elektrischen Kurzschluss mit den transversalen Signalleitungen 120 und der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 vermeiden. Daher können sich die Filmschichten der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150N und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152N von den Filmschichten der transversalen Signalleitungen 120 und der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 unterscheiden. Darüber hinaus kann in der Ausführungsform die erste abschirmende vertikale Leitung 150N und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152N elektrisch mit der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 durch leitende Strukturen TH verbunden werden, um das gemeinsame Potential zu empfangen, aber die Offenbarung ist nicht darauf beschränkt. In einigen Ausführungsformen, können die leitenden Strukturen TH in der elektronischen Vorrichtung 100N ausgelassen werden, und die erste abschirmende vertikale Leitung 150N und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152N können auf den Antriebsschaltung der elektronischen Vorrichtung 100N ausgedehnt werden (wie der in 1 dargestellte Antriebskreis IC), und die Antriebsschaltung stellt direkt das erforderliche Potential für die erste abschirmende vertikale Leitung 150N und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152N bereit.
  • 20 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 19 veranschaulicht entlang einer Abschnittlinie C-C gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung, und 21 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 19 entlang einer Abschnittlinie D-D gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht. Nach 19, 20, und 21 erfährt man, dass die erste vertikale abschirmende Leitung 150N, eine Isolierschicht I0, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, die Isolierschicht I1, die erste vertikale Signalleitung 132, die Isolierschicht I2, die Filterschicht CF, die Isolierschicht I3 und die Pixelelektrode 144 sequenziell auf dem Substrat 110 gestapelt werden. Die Materialien der Isolierschicht I0, der Isolierschicht I1, der Isolierschicht I2 und der Isolierschicht I3 können anorganische Isolierstoffe oder organische Isolierstoffe enthalten, wobei die anorganischen Isoliermaterialien Siliziumoxid, Siliziumnitrid oder Siliziumoxynitrid usw. enthalten, und die organischen Isolierstoffe Polymethylmethacrylat (PMMA), Polyvinylalkohol (PVA), Polyvinylphenol (PVP) oder Polyimid (PI), etc. Ein Material der Filterschicht CF kann ein Farbfiltermaterial enthalten, z. B. ein rotes Filtermaterial, ein grünes Filtermaterial und ein blaues Filtermaterial. Materialien der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 und der ersten vertikalen Signalleitung 132 enthalten Metall oder Legierung. Materialien der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150N und der Pixelelektrode 144 enthalten ein transparentes leitfähiges Material. Darüber hinaus ist die Filmschicht der transversalen Signalleitungen 120 in 19 die gleiche wie die Filmschicht der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 und eine Stapelverfahren der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152N in der Querschnittsstruktur in 19 kann die gleiche sein wie die der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150N.
  • Gemäß 20, erfährt man, dass die leitende Struktur TH die erste abschirmende vertikale Leitung 150N und die erste Leitung 162 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 elektrisch verbinden kann, und die Leitungsstruktur TH ist eine Leiterstruktur, die in die Isolierschicht I0 eindringt. Auf diese Weise unterscheidet sich die Filmschicht der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150N von der Filmschicht der gemeinsamen Elektrodenleitung 160, aber die erste abschirmende vertikale Leitung 150N kann elektrisch mit der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verbunden sein. Wenn die gemeinsame Elektrodenleitung 160 und die transversalen Signalleitungen 120 aus derselben Schicht sind, ist die erste abschirmende vertikale Leitung 150N nicht mit den transversalen Signalleitungen 120 verbunden, und die transversalen Signalleitungen 120 und die gemeinsame Elektrodenleitung 160 können unabhängige elektrische Eigenschaften beibehalten.
  • 22 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 19 entlang der Abschnittlinie C-C gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht und 23 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 19 entlang der Abschnittlinie D-D gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht. Gemäß 19, 22, und 23 erfährt man, dass die gemeinsame Elektrodenleitung 160, die Isolierschicht I1, die erste abschirmende vertikale Leitung 150N, die Isolierschicht I2, die Filterschicht CF, die Isolierschicht I3 und die Pixelelektrode 144 sequenziell auf dem Substrat 110 gestapelt sind. Die Filmschicht der transversalen Signalleitungen 120 in 19 ist die gleiche wie die Filmschicht der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 und das Stapelverfahren der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152N in der Querschnittsstruktur von 19 kann die gleiche sein wie die der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150N. In der Ausführungsform können die zugehörigen Beschreibungen von 20 und 21 für das Material jeder Filmschicht verwiesen werden.
  • Gemäß 22 erfährt man, dass die leitende Struktur TH die erste abschirmende vertikale Leitung 150N und die erste Leitung 162 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160ng elektrisch verbinden kann, und die leitende Struktur TH ist eine Leiterstruktur, die die Isolierschicht I1 durchdringt. Auf diese Weise unterscheidet sich die Filmschicht der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150N von der Filmschicht der gemeinsamen Elektrodenleitung 160, aber die erste abschirmende vertikale Leitung 150N kann elektrisch mit der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verbunden sein. Wenn die gemeinsame Elektrodenleitung 160 und die transversalen Signalleitungen 120 aus derselben Schicht sind, ist die erste abschirmende vertikale Leitung 150N nicht mit den transversalen Signalleitungen 120 verbunden, und die transversalen Signalleitungen 120 und die gemeinsame Elektrodenleitung 160 können unabhängige elektrische Eigenschaften beibehalten.
  • Darüber hinaus, in dieser Ausführungsform, sind sowohl die erste vertikale Signalleitung 132 und als auch die erste abschirmende vertikale Leitung 150N zwischen der Isolierschicht I1 und der Isolierschicht I2 gesandwiched. Die erste vertikale Signalleitung 132 und die erste abschirmende vertikale Leitung 150N können jedoch aus verschiedenen Filmschichten bestehen. Daher können die erste vertikale Signalleitung 132 und die erste abschirmende vertikale Leitung 150N Komponenten aus verschiedenen Materialien sein. Beispielsweise kann das Material der ersten vertikalen Signalleitung 132 Metall, Legierung, usw. enthalten, und das Material der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150N kann transparente leitfähige Materialien wie Metalloxide, organische leitfähige Materialien usw. enthalten.
  • 24 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 19 entlang der Abschnittlinie C-C gemäß noch einer anderen Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht, und 25 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 19 entlang der Abschnittlinie D-D gemäß noch einer anderen Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht. Gemäß 19, 24 und 25, erfährt man, dass die erste Leitung 162 und die zweite Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160, die Isolierschicht I1, die erste vertikale Signalleitung 132, die Isolierschicht I2, die erste abschirmende vertikale Leitung 150N, die Filterschicht CF, die Isolierschicht I3 und die Pixelelektrode 144 sequenziell auf dem Substrat 110 gestapelt werden. Die Filmschicht der transversalen Signalleitungen 120 in 19 ist die gleiche wie die Filmschicht der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 und die Stapelverfahren der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152N in der Querschnittsstruktur von 19 kann die gleiche sein wie die der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150N. In der Ausführungsform können die zugehörigen Beschreibungen von 20 und 21 für das Material jeder Filmschicht herangeführt werden. In der Ausführungsform ist die Filmschicht der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150N über der Isolierschicht I2 angeordnet, und die Filmschicht der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 ist unterhalb der Isolierschicht I1 angeordnet. Daher kann die Leitungsstruktur TH, die zum elektrischen Verbinden der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150N mit der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verwendet wird, in die Isolierschicht I1 und die Isolierschicht I2 eindringen.
  • 20, 22 und 24 zeigen jeweils die Ausführungen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150N in verschiedenen Stapelreihenfolgen, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf. Darüber hinaus können die leitenden Strukturen TH in einigen Ausführungsformen weggelassen werden, und die erste abschirmende vertikale Leitung 150N und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152N können auf die Antriebsschaltung erstreckt werden, die an der Peripherie der elektronischen Vorrichtung 100N angeordnet ist, um die erforderlichen Signale zu empfangen.
  • 26 ist eine schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100O von 26 enthält das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136, die vierte vertikale Signalleitung 138, eine Vielzahl der Pixelstrukturen 140, jeweils enthaltend die aktive Vorrichtung 142 und die Pixelelektrode 144, eine erste abschirmende vertikale Leitung 1500, eine zweite abschirmende vertikale Leitung 1520 und die gemeinsame Elektrodenleitung 160, die die erste Leitung 162 und die zweite Leitung 164 enthält. In der Ausführungsform, sind Konfigurationsverfahren, Strukturen und eine Stapelreihenfolge des Substrats 110, der transversalen Signalleitungen 120, der ersten vertikalen Signalleitung 132, der zweiten vertikalen Signalleitung 134, der dritten vertikalen Signalleitung 136, der vierten vertikalen Signalleitung 138, der Pixelstrukturen 140, der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 im Wesentlichen die gleichen wie die der Ausführungsform von 19, so dass die Beschreibungen von 19 kann für Einzelheiten zu den oben genannten Komponenten verwiesen werden.
  • In dieser Ausführungsform, befindet sich eine orthogonale Projektion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 1500 auf dem Substrat 110 zwischen der orthogonalen Projektion der ersten vertikalen Signalleitung 132 auf dem Substrat 110 und der orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung 134 auf dem Substrat 110, und eine orthogonale Projektion der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 1520 auf dem Substrat 110 befindet sich zwischen der orthogonalen Projektion der dritten vertikalen Signalleitung 136 auf dem Substrat 110 und der orthogonalen Projektion der vierten vertikalen Signalleitung 138 auf dem Substrat 110. Die erste abschirmende vertikale Leitung 1500 und die zweite abschirmende vertikale Leitung 1520 sind nicht mit den transversalen Signalleitungen 120 überlappend, und nicht mit der zweiten Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 überlappend.
  • Darüber hinaus kann sich die Filmschicht der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 1500 und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 1520 von der Filmschicht der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 unterscheiden. Die erste abschirmende vertikale Leitung 1500 und die zweite abschirmende vertikale Leitung 1520 können durch die leitenden Strukturen mit der ersten Leitung 162 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 verbunden werden, um das gemeinsame Potential zu erhalten. Um spezifisch zu sein, kann die Beschreibung von 20 bis 24 für die Stapelverfahren der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 1500 und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 1520 in der Querschnittsstruktur verwiesen werden. Mit anderen Worten, können die Querschnittsstrukturen von 20 bis 24 auch als Ausführungen der elektronischen Vorrichtung 100O verwendet werden.
  • 27 ist eine schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100P von 27 enthält das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136, die vierte vertikale Signalleitung 138, eine Vielzahl der Pixelstrukturen 140, die jeweils enthalten die aktive Vorrichtung 142 und Pixelelektrode 144, eine erste abschirmende vertikale Leitung 150P, eine zweite abschirmende vertikale Leitung 152P, eine abschirmende vertikale Leitung 154P, und die gemeinsame Elektrodenleitung 160 einschließlich der ersten Leitung 162 und der zweiten Leitung 164. In dieser Ausführungsform, sind Konfigurationsmethoden, Strukturen und eine Stapelreihenfolge des Substrats 110, der transversalen Signalleitungen 120, der ersten vertikalen Signalleitung 132, der zweiten vertikalen Signalleitung 134, der dritten vertikalen Signalleitung 136, der vierten vertikalen Signalleitung 138, der Pixelstrukturen 140, der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 im Wesentlichen die gleichen wie die der Ausführungsform von 2, so dass die Beschreibungen von 2 für Einzelheiten zu den oben genannten Komponenten verwiesen werden kann.
  • In dieser Ausführungsform, befindet sich eine orthogonale Projektion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150P auf dem Substrat 110 zwischen der orthogonalen Projektion der ersten vertikalen Signalleitung 132 auf dem Substrat 110 und der orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung 134 auf dem Substrat 110, und eine orthogonale Projektion der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152P auf dem Substrat 110 befindet sich zwischen der orthogonalen Projektion der dritten vertikalen Signalleitung 136 auf dem Substrat 110 und der orthogonalen Projektion der vierten vertikalen Signalleitung 138 auf dem Substrat 110. Die abschirmende transversale Leitung 154P erstreckt sich transversal von der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150P über die erste vertikale Signalleitung 132 und die dritte vertikale Signalleitung 136, und die abschirmende transversale Leitung 154P ist zwischen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150P und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152P verbunden. Darüber hinaus kann eine orthogonale Projektion der abschirmenden transversalen Leitung 154P auf das Substrat 110 mit einer orthogonalen Projektion der zweiten Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 auf dem Substrat 110 überlappen.
  • 28 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 27 entlang einer Abschnittlinie E-E gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht. Gemäß 27 und 28 erfährt man, dass die erste abschirmende vertikale Leitung 150P, die abschirmende transversale Leitung 154P, die Isolierschicht I0, die gemeinsame Elektrodenleitung 160, die Isolierschicht I1, die erste vertikale Signalleitung 132, die Isolierschicht I2, die Filterschicht CF, die Isolierschicht I3 und die Pixelelektrode 144 sequenziell auf dem Substrat 110 gestapelt sind. Die Materialien der Isolierschicht I0, der Isolierschicht I1, der Isolierschicht I2 und der Isolierschicht I3 können anorganische Isolierstoffe oder organische Isolierstoffe umfassen, wobei die anorganischen Isoliermaterialien Siliziumoxid, Siliziumnitrid oder Siliziumoxynitrid usw. enthalten, und die organischen Isolierstoffe enthalten Polymethylmethacrylat (PMMA), Polyvinylalkohol (PVA), Polyvinylphenol (PVP) oder Polyimid (PI), usw.. Ein Material der Filterschicht CF kann ein Farbfiltermaterial enthalten, z. B. ein rotes Filtermaterial, ein grünes Filtermaterial und ein blaues Filtermaterial. Materialien der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 und der ersten vertikalen Signalleitung 132 enthalten Metall oder Legierung. Materialien der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150P, der abschirmenden transversal Leitung 154P und der Pixelelektrode 144 enthalten ein transparentes leitfähiges Material. Darüber hinaus ist die Filmschicht der transversalen Signalleitungen 120 in 27 die Gleiche wie die Filmschicht der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 und ein Stapelverfahren der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152P in der Querschnittsstruktur in 27 kann mit der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150P gleich sein. Außerdem gemäß 28 erfährt man, dass die abschirmende vertikale Leitung 154P und die erste vertikale Signalleitung 132 in einer Dickenrichtung D3 überlappen.
  • 29 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung von 27 entlang einer Abschnittlinie E-E gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht. Gemäß 27 und 29 lernt man, dass die allgemeine Elektrodenleitung 160, die Isolierschicht I1, die erste vertikale Signalleitung 132, die Isolierschicht I2, die erste abschirmende vertikale Leitung 150P, die abschirmende transversal Leitung 154P, die Filterschicht CF, die Isolierschicht I3 und die Pixelelektrode 144 sequenziell auf dem Substrat 110 gestapelt sind. Die Materialien der Isolierschicht I1, der Isolierschicht I2 und der Isolierschicht I3 können anorganische Isolierstoffe oder organische Isolierstoffe enthalten, wobei die anorganischen Isoliermaterialien Siliziumoxid, Siliziumnitrid oder Siliziumoxynitrid usw. enthalten, und die organischen Isolierstoffe enthalten Polymethylmethacrylat (PMMA), Polyvinylalkohol (PVA), Polyvinylphenol (PVP) oder Polyimid (PI), usw.. Ein Material der Filterschicht CF kann ein Farbfiltermaterial enthalten, z. B. ein rotes Filtermaterial, ein grünes Filtermaterial und ein blaues Filtermaterial. Materialien der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 und der ersten vertikalen Signalleitung 132 enthalten Metall oder Legierung. Materialien der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150P, der abschirmenden transversalen Leitung 154P und der Pixelelektrode 144 enthalten ein transparentes leitfähiges Material. Darüber hinaus ist die Filmschicht der transversalen Signalleitungen 120 in 27 die Gleiche wie die Filmschicht der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 und eine Stapelverfahren der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152P in der Querschnittsstruktur in 27 kann die Gleiche wie die der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150P sein. In der Ausführungsform ist die abschirmende transversale Leitung 154P mit der ersten vertikalen Signalleitung 132 in der Dickenrichtung D3 überlappend, und wenigstens die Isolierschicht I2 ist zwischen der Filmschicht der abschirmenden transversalen Leitung 154P und der Filmschicht der ersten vertikalen Signalleitung 132 konfiguriert. Auf diese Weise wird die abschirmende transversale Leitung 154P zwar mit der ersten vertikalen Signalleitung 132 durchschnitten, aber die beiden Leitungen sind nicht elektrisch miteinander verbunden.
  • 30 ist eine partielle schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. Eine elektronische Vorrichtung 100Q von 30 enthält das Substrat 110, eine Vielzahl der transversalen Signalleitungen 120, die erste vertikale Signalleitung 132, die zweite vertikale Signalleitung 134, die dritte vertikale Signalleitung 136, die vierte vertikale Signalleitung 138, eine Vielzahl der Pixelstrukturen 140, die jeweils enthalten die aktive Vorrichtung 142 und die Pixelelektrode 144, eine erste abschirmende vertikale Leitung 150Q, eine zweite abschirmende vertikale Leitung 152Q, die abschirmende transversale Leitung 154G und die gemeinsame Elektrodenleitung 160 einschließlich der ersten Leitung 162 und der zweiten Leitung 164. In der Ausführungsform, sind Konfigurationsmethoden, Strukturen und eine Stapelreihenfolge des Substrats 110, der transversalen Signalleitungen 120, der ersten vertikalen Signalleitung 132, der zweiten vertikalen Signalleitung 134, der dritten vertikalen Signalleitung 136, der vierten vertikalen Signalleitung 138, der Pixelstrukturen 140, der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 im Wesentlichen die Gleichen wie die der Ausführungsform von 27, so dass die Beschreibungen von 27 für Einzelheiten zu den vorstehenden Komponenten verwiesen werden können.
  • In dieser Ausführungsform, befindet sich die erste abschirmende vertikale Leitung 150Q zwischen der ersten vertikalen Signalleitung 132 und der zweiten vertikalen Signalleitung 134, und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152Q befindet sich zwischen der dritten vertikalen Signalleitung 136 und der vierten vertikalen Signalleitung 138. Die erste abschirmende vertikale Leitung 150Q und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152Q können elektrisch mit der ersten Leitung 162 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 durch die leitenden Strukturen TH verbunden werden. Die erste abschirmende vertikale Leitung 150Q und die zweite abschirmende vertikale Leitung 152Q überlappen sich nicht mit den transversalen Signalleitungen 120, und die abschirmende transversale Leitung 154G ist zwischen einem Ende der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150Q und einem Ende der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152Q verbunden, um ein U-förmiges Muster zu bilden, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf. Darüber hinaus kann die transversale abschirmende Leitung 154G mit der zweiten Leitung 164 der gemeinsamen Elektrodenleitung 160 überlappen. Die Querschnittsstrukturen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150Q, der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152Q und die abschirmende transversale Leitung 154G können die Gleichen wie die der der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 150P, der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 152P und der abschirmenden transversalen Leitung 154P in 28 und 29 sein.
  • 31 ist eine partielle schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. 31 zeigt ein Substrat 210, eine erste vertikale Signalleitung 232, eine zweite vertikale Signalleitung 234, eine dritte vertikale Signalleitung 236, eine Pixelelektrode 244 einer Pixelstruktur 240, eine erste abschirmende vertikale Leitung 250A und eine zweite abschirmende vertikale Leitung 252A einer elektronischen Vorrichtung 200A. Um genau zu sein, kann die elektronische Vorrichtung 200A aus den Strukturen von 31 in einem Array angeordnet sein, und die elektronische Vorrichtung 200A kann auch Leitungen und Schaltungsstrukturen, wie transversale Signalleitungen, aktive Vorrichtungen der Pixelstrukturen 240 usw. enthalten, aber um die Konfiguration der vertikalen Leitungen klar zu beschreiben, wird in 31 ein ausgelassener Block BK verwendet, um eine Position der oben genannten Komponenten anzuzeigen. In einigen Ausführungsformen kann die Beschreibung der Ausführungsform von 2, usw., für die Konfiguration der transversalen Signalleitungen und der aktiven Vorrichtungen herangeführt werden, aber die Offenbarung ist nicht beschränkt darauf.
  • In dieser Ausführungsform, kann die Pixelelektrode 244 eine erste Sub-Elektrode 244A und eine zweite Sub-Elektrode 244B enthalten, und die erste Sub-Elektrode 244A und die zweite Sub-Elektrode 244B befinden sich jeweils auf zwei gegenüberliegenden Seiten des ausgelassenen Blocks BK. Die erste vertikale Signalleitung 232 und die dritte vertikale Signalleitung 234 befinden sich an der Peripherie der Pixelelektrode 244. Die zweite vertikale Signalleitung 234 überlappt im Wesentlichen mit einem zentralen Stammabschnitt MV der ersten Sub-Elektrode 244A der Pixelelektrode 244. Um genau zu sein, wird eine orthogonale Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung 234 auf dem Substrat 210 im Wesentlichen mit einer Mittellinie einer orthogonalen Projektion der ersten Sub-Elektrode 244A auf das Substrat 110 überlappt und auch mit einer Mittellinie einer orthogonalen Projektion der zweiten Sub-Elektrode 244B auf dem Substrat 110 überlappt. Die erste abschirmende vertikale Leitung 250A und die zweite abschirmende vertikale Leitung 252A befinden sich jeweils auf zwei gegenüberliegenden Seiten der Pixelelektrode 244. Eine orthogonale Projektion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250A auf dem Substrat 210 befindet sich zwischen einer orthogonalen Projektion der ersten vertikalen Signalleitung 232 auf dem Substrat 210 und der orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung 234 auf dem Substrat 210, und die orthogonale Projektion der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 252A auf dem Substrat 210 befindet sich zwischen einer orthogonalen Projektion der dritten vertikalen Signalleitung 236 auf dem Substrat 210 und der orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung 234 auf dem Substrat 210.
  • 32 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250A in der elektronischen Vorrichtung 200A von 31 nach einer Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht. Gemäß 32 lernt man, dass die erste abschirmende vertikale Leitung 250A, die Isolierschicht I1, die Isolierschicht I2 und die Pixelelektrode 244 sequenziell auf dem Substrat 210 gestapelt werden können. Die Materialien der Isolierschicht I1 und der Isolierschicht I2 können anorganische Isolierstoffe oder organische Isolierstoffe umfassen, wobei die anorganischen Isolierstoffe Siliziumoxid, Siliziumnitrid oder Siliziumoxynitrid usw. enthalten und die organischen Isoliermaterialien enthalten Polymethylmethacrylat (PMMA), Polyvinylalkohol (PVA), Polyvinylphenol (PVP) oder Polyimid (PI) usw.. Materialien der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250A und der Pixelelektrode 244 enthalten ein transparentes leitfähiges Material. Darüber hinaus kann die Filmschicht der ersten vertikalen Signalleitung 232, die zweite vertikale Signalleitung 234 und die dritte vertikale Signalleitung 236 in 31 zwischen der Isolierschicht I1 und der Isolierschicht I2 angeordnet werden, sowie eine Stapelverfahren der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 252A in der Querschnittsstruktur von 31 kann mit der der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250A gleich sein.
  • 33 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250A in der elektronischen Vorrichtung 200A von 31 gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht. Gemäß 33 erfährt man, dass die erste abschirmende vertikale Leitung 250A, die Isolierschicht I1, die Isolierschicht I2 und die Pixelelektrode 244 sequentiell auf dem Substrat 210 gestapelt werden können und die Filterschicht CF und die dritte Isolierschicht I3 können ferner zwischen der Isolierschicht I2 und der Pixelelektrode 244 angeordnet werden. In der Ausführungsform, können die Materialien der Isolierschicht I1, der Isolierschicht I2 und der Isolierschicht I3 anorganische Isolierstoffe oder organische Isolierstoffe enthalten, wenn die anorganischen Isoliermaterialien Siliziumoxid, Siliziumnitrid oder Siliziumoxynitrid usw. enthalten und die organischen Isoliermaterialien Polymethylmethacrylat (PMMA), Polyvinylalkohol (PVA), Polyvinylphenol (PVP) oder Polyimid (PI) usw. enthalten. Ein Material der Filterschicht CF kann ein Farbfiltermaterial enthalten, so wie ein rotes Filtermaterial, ein grünes Filtermaterial und ein blaues Filtermaterial. Materialien der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250A und der Pixelelektrode 244 können ein transparentes leitfähiges Material enthalten. Darüber hinaus kann die Filmschicht der ersten vertikalen Signalleitung 232, die zweite vertikale Signalleitung 234 und die dritte vertikale Signalleitung 236 in 31 zwischen der Isolierschicht I1 und der Isolierschicht I2 angeordnet werden, und ein Stapelverfahren der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 252A in der Querschnittsstruktur von 31 kann das Gleiche sein wie das der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250A.
  • In 33 befindet sich die Filmschicht der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250A zwischen der Isolierschicht I1 und dem Substrat 210. In einigen Ausführungsformen können die erste abschirmende vertikale Leitung 250A und die nicht gezeigte transversale Signalleitung durch kontinuierlich gestapelte Filmschichten gebildet werden, so dass die erste abschirmende vertikale Leitung 250A mit der transversalen Signalleitung verbunden werden kann (nicht dargestellt). Darüber hinaus, kann in anderen Ausführungsformen, die Filmschicht der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250A selektiv zwischen der Isolierschicht I2 und der Filterschicht CF oder zwischen der Filterschicht CF und der Isolierschicht I3 liegen.
  • 34 ist eine partielle schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. 34 zeigt das Substrat 210, die erste vertikale Signalleitung 232, die zweite vertikale Signalleitung 234, die dritte vertikale Signalleitung 236, die Pixelelektrode 244 der Pixelstruktur 240, eine erste abschirmende vertikale Leitung 250B und eine zweite abschirmende vertikale Leitung 252B einer elektronischen Vorrichtung 200B. Um genau zu sein, kann die elektronische Vorrichtung 200B aus den Strukturen von 34 bestehen, die in einem Array angeordnet sind, und die elektronische Vorrichtung 200B kann auch Leitungen und Schaltungsstrukturen wie transversale Signalleitungen, aktive-Vorrichtungen der Pixelstrukturen 240 usw. enthalten, aber um die Konfiguration der vertikalen Leitungen klar zu beschreiben, wird in 34 ein ausgelassener Block BK verwendet, um eine Position der oben genannten Komponenten anzuzeigen. In einigen Ausführungsformen kann die Beschreibung der Ausführungsform von 2 usw. für die Konfiguration der transversalen Signalleitungen und der aktiven Vorrichtungen herangeführt werden.
  • Die elektronische Vorrichtung 200B ist ähnlich wie die elektronische Vorrichtung 200A, so dass die gleichen Komponentensymbole in den beiden Ausführungsformen die gleichen Komponenten für den Querverweis bezeichnen. Um genau zu sein, liegt ein Hauptunterschied zwischen der elektronischen Vorrichtung 200B und der elektronischen Vorrichtung 200A in einem Layout der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250B und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 252B. In der Ausführungsform, kann die Pixelelektrode 244 die erste Sub-Elektrode 244A und die zweite Sub-Elektrode 244B enthalten, und die erste Sub-Elektrode 244A und die zweite Sub-Elektrode 244B befinden sich auf zwei gegenüberliegenden Seiten des ausgelassenen Blocks BK, und die erste abschirmende vertikale Leitung 250B und die zweite abschirmende vertikale Leitung 252B sind nicht mit der zweiten Sub-Elektrode 244B überlappend. Mit anderen Worten, die erste abschirmende vertikale Leitung 250B und die zweite abschirmende vertikale Leitung 252B überlappen sich nur mit der ersten Sub-Elektrode 244A. Die erste abschirmende vertikale Leitung 250B und die zweite abschirmende vertikale Leitung 252B befinden sich auf zwei gegenüberliegenden Seiten der ersten Sub-Elektrode 244A. Die erste abschirmende vertikale Leitung 250B befindet sich zwischen der ersten vertikalen Signalleitung 232 und der zweiten vertikalen Signalleitung 234, und die zweite abschirmende vertikale Leitung 252B befindet sich zwischen der zweiten vertikalen Signalleitung 234 und der dritten vertikalen Signalleitung 236. Die Beschreibungen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250A in 32 und 33 können für eine Stapelreihenfolge der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250B und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 252B im Querschnitt verwiesen werden.
  • 35 ist eine partielle schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. 35 zeigt das Substrat 210, die erste vertikale Signalleitung 232, die zweite vertikale Signalleitung 234, die dritte vertikale Signalleitung 236, die Pixelelektrode 244 der Pixelstruktur 240, eine erste abschirmende vertikale Leitung 250C und eine zweite abschirmende vertikale Leitung 252C einer elektronischen Vorrichtung 200C. Um spezifisch zu sein, ähnelt die elektronische Vorrichtung 200C der elektronischen Vorrichtung 200A, so dass die gleichen Komponentensymbole in den beiden Ausführungsformen die gleichen Komponenten für den Querverweis bezeichnen.
  • Ein Hauptunterschied zwischen der elektronischen Vorrichtung 200C und der elektronischen Vorrichtung 200A liegt in einem Layout der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250C und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 252C. In der Ausführungsformkann kann die Pixelelektrode 244 die erste Sub-Elektrode 244A und die zweite Sub-Elektrode 244B enthalten, und die erste Sub-Elektrode 244A und die zweite Sub-Elektrode 244B befinden sich auf zwei gegenüberliegenden Seiten des ausgelassenen Blocks, und die erste abschirmende vertikale Leitung 250C und die zweite abschirmende vertikale Leitung 252C sind nicht mit der ersten Sub-Elektrode 244A überlappend. Mit anderen Worten, überlappen sich die erste abschirmende vertikale Leitung 250C und die zweite abschirmende vertikale Leitung 252C nur mit der zweiten Sub-Elektrode 244B. Die erste abschirmende vertikale Leitung 250C und die zweite abschirmende vertikale Leitung 252C befinden sich auf zwei gegenüberliegenden Seiten der zweiten Sub-Elektrode 244B. Die erste abschirmende vertikale Leitung 250C befindet sich zwischen der ersten vertikalen Signalleitung 232 und der zweiten vertikalen Signalleitung 234, und die zweite abschirmende vertikale Leitung 252C befindet sich zwischen der zweiten vertikalen Signalleitung 234 und der dritten vertikalen Signalleitung 236. Die Beschreibungen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250A in 32 und 33 können für eine Stapelreihenfolge der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 250C und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 252C im Querschnitt verwiesen werden.
  • 36 ist eine partielle schematische Oberansicht einer elektronischen Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. 36 zeigt ein Substrat 310, eine erste vertikale Signalleitung 332, eine zweite vertikale Signalleitung 334, eine dritte vertikale Signalleitung 336, eine Pixelelektrode 344 einer Pixelstruktur 340, eine erste abschirmende vertikale Leitung 350A und eine zweite abschirmende vertikale Leitung 352A einer elektronischen Vorrichtung 300A. Um genau zu sein, kann die elektronische Vorrichtung 300A aus den Strukturen von 36 bestehen, die in einem Array angeordnet ist, und die elektronische Vorrichtung 300A kann auch Leitungen und Schaltungsstrukturen wie transversale Signalleitungen, aktive Vorrichtungen der Pixelstrukturen 340 usw. enthalten, aber um die Konfiguration der vertikalen Leitungen klar zu beschreiben, wird in 36 ein ausgelassener Block BK verwendet, um eine Position der oben genannten Komponenten anzuzeigen. In einigen Ausführungsformen kann die Beschreibung der Ausführungsform von 2 usw. für die Konfiguration der transversalen Signalleitungen und der aktiven Vorrichtungen herangeführt werden.
  • 36 zeigt zwei Pixelstrukturen 340, und der erste vertikale Signalleitung 332, die zweite vertikale Signalleitung 334, und die dritte vertikale Signalleitung 336 befinden sich zwischen den beiden Pixelstrukturen 340. Die zweite vertikale Signalleitung 334 befindet sich zwischen der ersten vertikalen Signalleitung 332 und der dritten vertikalen Signalleitung 336. In der Ausführungsform befindet sich eine orthogonale Projektion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 350A auf dem Substrat 310 zwischen einer orthogonalen Projektion der ersten vertikalen Signalleitung 332 auf dem Substrat 310 und einer orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung 334 auf dem Substrat 310, und eine orthogonale Projektion der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 352A auf dem Substrat 310 befindet sich zwischen der orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung 334 auf dem Substrat 310 und einer orthogonalen Projektion der dritten vertikalen Signalleitung 336 auf dem Substrat 310. Daher befindet sich die orthogonale Projektion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 350A auf dem Substrat 310 außerhalb einer orthogonalen Projektion der Pixelelektrode 344 auf dem Substrat 310, und die orthogonale Projektion der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 352A auf dem Substrat 310 befindet sich außerhalb der orthogonalen Projektion der Pixelelektrode 344 auf dem Substrat 310.
  • In der Ausführungsform, sind die erste abschirmende vertikale Leitung 350A und die zweite abschirmende vertikale Leitung 352A beispielsweise transparente Drähte. Mit anderen Worten, bestehen die erste abschirmende vertikale Leitung 350A und die zweite abschirmende vertikale Leitung 352A aus transparenten leitfähigen Materialien. Darüber hinaus besteht die Pixelelektrode 344 auch aus einem transparenten Material. In einigen Ausführungsformen, kann die Pixelelektrode 344, die erste abschirmende vertikale Leitung 350A, und die zweite abschirmende vertikale Leitung 352A aus der gleichen Filmschicht sein, aber in anderen Ausführungsformen kann die Filmschicht der Pixelelektrode 344 von der Filmschicht der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 350A und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung 352A abweichen.
  • 37 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 350A in der elektronischen Vorrichtung 300 gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht. Gemäß 37 erfährt man, dass die Isolierschicht I1, die Isolierschicht I2, die erste abschirmende vertikale Leitung 350A und die Isolierschicht I3 sequentiell auf dem Substrat 310 gestapelt werden können. Die Materialien der Isolierschicht I1, der Isolierschicht I2 und der Isolierschicht I3 können anorganische Isolierstoffe oder organische Isolierstoffe enthalten, wobei die anorganischen Isoliermaterialien Siliziumoxid, Siliziumnitrid oder Siliziumoxynitrid usw. enthalten und die organischen Isoliermaterialien Polymethylmethacrylat (PMMA), Polyvinylalkohol (PVA), Polyvinylphenol (PVP) oder Polyimid usw. enthalten. Die erste abschirmende vertikale Leitung 350A, die zwischen der Isolierschicht I2 und der Isolierschicht I3 angeordnet ist, kann beispielsweise aus einem transparenten leitfähigen Material bestehen. In der Ausführungsform können sich die Filmschicht der ersten vertikalen Signalleitung 332, die zweite vertikale Signalleitung 334 und die dritte vertikale Signalleitung 336 zwischen der Isolierschicht I1 und der Isolierschicht I2 befinden und die Filmschicht der nicht gezeigten transversalen Signalleitungen zwischen dem Substrat 310 und der Isolierschicht I1 liegen. Darüber hinaus kann sich die Filmschicht der Pixelelektrode 344 auf der Isolierschicht I3 befinden. Mit anderen Worten, kann die Isolierschicht I3 zwischen der Filmschicht der Pixelelektrode 344 und der Filmschicht der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 350A angeordnet werden.
  • 38 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Struktur der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 350A in der elektronischen Vorrichtung 300 gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht. Die Querschnittsstruktur von 38 ähnelt der Querschnittsstruktur von 37, so dass die gleichen Komponentensymbole in den beiden Ausführungsformen die gleichen Komponenten bezeichnen. Gemäß 38 erfährt man, dass die Isolierschicht I1, die Isolierschicht I2, die erste abschirmende vertikale Leitung 350A, die Filterschicht CF und die Isolierschicht I3 nacheinander auf dem Substrat 310 gestapelt werden können. Die zugehörige Beschreibung von 37A kann für eine Stapelreihenfolge und Materialien der Isolierschicht I1, der Isolierschicht I2, der ersten abschirmenden vertikalen Leitung 350A und der Isolierschicht I3 verwiesen werden. Ein Material der Filterschicht CF kann ein Farbfiltermaterial enthalten, z. B. ein rotes Filtermaterial, ein grünes Filtermaterial und ein blaues Filtermaterial.
  • 39 ist eine schematische Querschnittansicht, die eine Struktur der elektronischen Vorrichtung 300 gemäß einer anderen Ausführungsform der Offenbarung veranschaulicht. In 39, ist außerdem die erste vertikale Signalleitung 332, die Pixelelektrode 344 und die erste abschirmende vertikale Leitung 350A in 36 dargestellt, die transversale Signalleitung 320, die in dem ausgelassenen Block BK konfiguriert ist, ist auch dargestellt, um eine Stapelbeziehung der Komponenten in der elektronischen Vorrichtung 300 zu beschreiben. Gemäß 39 ist bekannt, dass die transversale Signalleitung 320, die Isolierschicht I1, die erste vertikale Signalleitung 332, die Isolierschicht I2 und die Pixelelektrode 344 sequenziell auf dem Substrat 310 gestapelt werden können und die Pixelelektrode 344 und die erste vertikale Signalleitung 332 aus derselben Filmschicht sein können.
  • Zusammenfassend, sind die elektronische Vorrichtung, die durch die Ausführungsformen der Offenbarung bereitgestellt ist, die abschirmenden Leitungen (wie die erstes abschirmende vertikale Leitung, die zweite abschirmende vertikale Leitung usw.) zwischen verschiedenen Signalleitungen angeordnet. Die abschirmenden Leitungen können mit einem gemeinsamen Potential verbunden werden, um eine Signalabschirmungsfunktion bereitzustellen, wodurch Interferenzen zwischen den Signalleitungen reduziert werden. Daher kann die elektronische Vorrichtung, die von den Ausführungsformen der Offenbarung bereitgestellt wird, eine günstige Qualität aufweisen.
  • Für die Fachmänner wird sich zeigen, dass verschiedene Änderungen und Variationen an den offenbarten Ausführungsformen vorgenommen werden können, ohne vom Umfang oder Geist der Offenbarung abzuweichen. Nach alledem soll die Offenbarung Änderungen und Abweichungen abdecken, sofern sie in den Umfang der nachstehenden Ansprüche und deren Äquivalente fallen.
  • INDUSTRIELLE ANWENDBARKEIT
  • In der elektronischen Vorrichtung der Offenbarung sind die abschirmenden Drähte zwischen angrenzenden Leitungen angeordnet, die verschiedene Signale übertragen, um nachteilige Effekte zu reduzieren, die durch einen Kopplungseffekt zwischen den Leitungen verursacht werden. Darüber hinaus, können in einigen Ausführungsformen die abschirmenden Drähte transparente Drähte sein. Daher, wenn die elektronische Vorrichtung verwendet wird, um Bilder anzuzeigen, wird ein Anzeige-Öffnungsverhältnis von den abschirmenden Drähten nicht beeinflusst und nicht reduziert.

Claims (17)

  1. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300), umfassend: ein Substrat (110, 210, 310); eine Vielzahl von transversalen Signalleitungen (120, 320), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310); eine erste vertikale Signalleitung (132, 232, 332), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310), mit den transversalen Signalleitungen (120, 320) gekreuzt; eine zweite vertikale Signalleitung (134, 234, 334), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310), mit den transversalen Signalleitungen (120, 320) gekreuzt, wobei die zweite vertikale Signalleitung (134, 234, 334) mit einer der transversalen Signalleitungen (120, 320) verbunden ist; eine erste abschirmende vertikale Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310), wobei sich eine orthogonale Projektion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A) auf dem Substrat (110, 210, 310) zwischen einer orthogonalen Projektion der ersten vertikalen Signalleitung (132, 232, 332) auf dem Substrat (110, 210, 310) und einer orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung (134, 234, 334) auf dem Substrat (110, 210, 310) befindet; und eine gemeinsame Elektrodenleitung (160), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310), wobei sich die gemeinsame Elektrodenleitung (160) zwischen den zwei angrenzenden der transversalen Signalleitungen (120, 320) befindet und die erste abschirmende vertikale Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A) und die gemeinsame Elektrodenleitung (160) direkt aufeinander gestapelt sind.
  2. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 1, ferner umfassend eine Vielzahl von Pixelstrukturen (140, 240, 340), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310), wobei eine von den Pixelstrukturen (140, 240, 340) von angrenzenden zwei der transversalen Signalleitungen (120, 320) und der zweiten vertikalen Signalleitung (134, 234, 334) umgeben ist und eine Pixelelektrode (144, 244, 344) umfasst, wobei die Pixelelektrode (144, 244, 344) mit der ersten vertikalen Signalleitung (132, 232, 332) oder der zweiten vertikalen Signalleitung (134, 234, 334) in einer senkrechten Richtung zum Substrat (110, 210, 310) überlappt ist.
  3. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 2, wobei die Pixelelektrode (144, 244, 344) mit der ersten abschirmenden vertikalen Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A) überlappt ist.
  4. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 2, wobei die Pixelelektrode (144, 244, 344) die zweite vertikale Signalleitung (134, 234, 334) quert, die Pixelelektrode (144, 244, 344) einen zentralen Stammabschnitt (MV) aufweist und die zweite vertikale Signalleitung (134, 234, 334) mit dem zentralen Stammabschnitt (MV) überlappt.
  5. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 1, wobei die erste abschirmende vertikale Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A) ein transparenter Draht ist.
  6. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 1, wobei die gemeinsame Elektrodenleitung (160) mit der ersten vertikalen Signalleitung (132, 232, 332) und der zweiten vertikalen Signalleitung (134, 234, 334) gekreuzt ist.
  7. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 1, ferner umfassend eine Vielzahl von Pixelstrukturen (140, 240, 340), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310), wobei sich eine der Pixelstrukturen (140, 240, 340) zwischen angrenzenden zwei der transversalen Signalleitungen (120, 320) befindet und eine Pixelelektrode (144, 244, 344) umfasst, wobei sich eine Filmschicht der ersten abschirmenden vertikalen Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A) zwischen einer Filmschicht der gemeinsamen Elektrodenleitung (160) und einer Filmschicht der Pixelelektrode (144, 244, 344) befindet.
  8. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 1, ferner umfassend eine Vielzahl von Pixelstrukturen (140, 240, 340), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310), wobei sich eine der Pixelstrukturen (140, 240, 340) zwischen angrenzenden zwei der transversalen Signalleitungen (120, 320) befindet und eine Pixelelektrode (144, 244, 344) umfasst, wobei sich eine Filmschicht der gemeinsamen Elektrodenleitung (160) zwischen einer Filmschicht der ersten abschirmenden vertikalen Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A) und einer Filmschicht der Pixelelektrode (144, 244, 344) befindet.
  9. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 1, wobei die gemeinsame Elektrodenleitung (160) eine erste und eine zweite Leitung (162, 164) umfasst, und die erste abschirmende vertikale Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A) überlappend mit der ersten Leitung (162), der zweiten Leitung (164) oder sowohl der ersten Leitung (162) als auch der zweiten Leitung (164) ist.
  10. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 1, ferner umfassend eine zweite abschirmende vertikale Leitung (152B-152E, 152K-152Q, 252A-252C), wobei sich die erste vertikale Signalleitung (132, 232, 332) zwischen der ersten abschirmenden vertikalen Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A) oder der zweiten vertikalen Leitung (134, 234, 334) befindet.
  11. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 10, ferner umfassend eine dritte vertikale Signalleitung (136, 236, 336), wobei sich die dritte vertikale Signalleitung (136, 236, 336) zwischen der ersten vertikalen Signalleitung (132, 232, 332) und der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung (152B-152E, 152K-152Q, 252A-252C) befindet.
  12. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 11, ferner umfassend eine vierte vertikale Signalleitung (138), wobei sich orthogonale Projektionen der ersten vertikalen Signalleitung (132, 232, 332) und der dritten vertikalen Signalleitung (136, 236, 336) auf dem Substrat (110, 210, 310) zwischen der orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung (134, 234, 334) auf dem Substrat (110, 210, 310) und einer orthogonalen Projektion der vierten vertikalen Signalleitung (138) auf dem Substrat (110, 210, 310) befinden.
  13. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 1, ferner umfassend: eine abschirmende Elektrode (158M), verbunden mit der ersten abschirmenden vertikalen Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A).
  14. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 1, wobei sich die erste abschirmende vertikale Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A) vollständig zwischen angrenzenden zwei der transversalen Signalleitungen (120, 320) befindet.
  15. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 1, ferner umfassend: eine Vielzahl von Pixelstrukturen (140, 240, 340), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310), wobei eine der Pixelstrukturen (140, 240, 340) eine Pixelelektrode (144, 244, 344) umfasst, wobei die orthogonale Projektion der ersten abschirmenden vertikalen Leitung (150A-150D, 150K, 150L-150Q, 250A-250C, 350A) auf dem Substrat (110, 210, 310) sich außerhalb einer orthogonalen Projektion der Pixelelektrode (144, 244, 344) auf dem Substrat (110, 210, 310) befindet.
  16. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 1, ferner umfassend eine Vielzahl von Pixelstrukturen (140, 240, 340) und eine dritte vertikale Signalleitung (136, 236, 336), wobei die Pixelstrukturen (140, 240, 340) auf dem Substrat (110, 210, 310) in einem Array angeordnet sind, die zweite vertikale Signalleitung (134, 234, 334) sich zwischen der dritten vertikalen Signalleitung (136, 236, 336) und der ersten vertikalen Signalleitung (132, 232, 332) befindet und die erste vertikale Signalleitung, die zweite vertikale Signalleitung (134, 234, 334) und die dritte vertikale Signalleitung (136, 236, 336) sich zwischen zwei angrenzenden Reihen der Pixelstrukturen (140, 240, 340) befinden.
  17. Elektronische Vorrichtung (100', 100A-100Q, 200A-200C, 300) gemäß Anspruch 16, ferner umfassend eine zweite abschirmende vertikale Leitung (152B-152E, 152K-152Q, 252A-252C), angeordnet auf dem Substrat (110, 210, 310), wobei eine orthogonale Projektion der zweiten abschirmenden vertikalen Leitung (152B-152E, 152K-152Q, 252A-252C) auf dem Substrat (110, 210, 310) sich zwischen der orthogonalen Projektion der zweiten vertikalen Signalleitung (134, 234, 334) auf dem Substrat (110, 210, 310) und eine orthogonale Projektion der dritten vertikalen Signalleitung (136, 236, 336) auf dem Substrat (110, 210, 310) befindet.
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