CZ300061B6 - Zpusob výroby fotokatalyticky aktivovaného samocisticího predmetu - Google Patents
Zpusob výroby fotokatalyticky aktivovaného samocisticího predmetu Download PDFInfo
- Publication number
- CZ300061B6 CZ300061B6 CZ0310099A CZ310099A CZ300061B6 CZ 300061 B6 CZ300061 B6 CZ 300061B6 CZ 0310099 A CZ0310099 A CZ 0310099A CZ 310099 A CZ310099 A CZ 310099A CZ 300061 B6 CZ300061 B6 CZ 300061B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- coating
- pasc
- oxides
- photocatalytic
- cleaning
- Prior art date
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 69
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 370
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 327
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 134
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 68
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 claims abstract description 46
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 38
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 claims abstract description 24
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 claims abstract description 24
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 21
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 124
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 82
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 77
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 65
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 claims description 59
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 59
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 59
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 claims description 59
- 239000005329 float glass Substances 0.000 claims description 52
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 50
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 44
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims description 37
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 31
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 30
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 26
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 25
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 23
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 17
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 claims description 16
- 230000005012 migration Effects 0.000 claims description 16
- 238000013508 migration Methods 0.000 claims description 16
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 16
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 15
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 15
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 claims description 11
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 claims description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 9
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 8
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 7
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 235000013980 iron oxide Nutrition 0.000 claims description 6
- VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N iron(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Fe+2] VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 claims description 6
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 5
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical group [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- -1 zinc ethers Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims description 4
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical class [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 3
- OTCVAHKKMMUFAY-UHFFFAOYSA-N oxosilver Chemical class [Ag]=O OTCVAHKKMMUFAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical class [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000012245 magnesium oxide Nutrition 0.000 claims description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 claims description 2
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical class [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N oxotungsten Chemical class [W]=O VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N chromium(3+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Cr+3].[Cr+3] UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 claims 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 9
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract 1
- 101100373011 Drosophila melanogaster wapl gene Proteins 0.000 description 301
- 208000012396 long COVID-19 Diseases 0.000 description 301
- 210000004483 pasc Anatomy 0.000 description 301
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 158
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 65
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 29
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 8
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 7
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 6
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003303 reheating Methods 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- ADVORQMAWLEPOI-XHTSQIMGSA-N (e)-4-hydroxypent-3-en-2-one;oxotitanium Chemical compound [Ti]=O.C\C(O)=C/C(C)=O.C\C(O)=C/C(C)=O ADVORQMAWLEPOI-XHTSQIMGSA-N 0.000 description 3
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052767 actinium Inorganic materials 0.000 description 3
- QQINRWTZWGJFDB-UHFFFAOYSA-N actinium atom Chemical compound [Ac] QQINRWTZWGJFDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- CJYDNDLQIIGSTH-UHFFFAOYSA-N 1-(3,5,7-trinitro-1,3,5,7-tetrazocan-1-yl)ethanone Chemical compound CC(=O)N1CN([N+]([O-])=O)CN([N+]([O-])=O)CN([N+]([O-])=O)C1 CJYDNDLQIIGSTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKADPXVIOXHVKN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxyphenylpyruvic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)CC1=CC=C(O)C=C1 KKADPXVIOXHVKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHYLEJSGUQBKRQ-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-2,4-diene Chemical class C1=CC=CC2(C)C1O2 FHYLEJSGUQBKRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001567848 Capitellum Species 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 238000004813 Moessbauer spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 241001602876 Nata Species 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYFDDQPKLNVDPC-UHFFFAOYSA-N [O--].[O--].[Ti+4].CC(=O)CC(C)=O Chemical compound [O--].[O--].[Ti+4].CC(=O)CC(C)=O JYFDDQPKLNVDPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVTSZOCINPYFDP-UHFFFAOYSA-N [O].[Ar] Chemical compound [O].[Ar] VVTSZOCINPYFDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K butyltin trichloride Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)Cl YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001767 cationic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009750 centrifugal casting Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AALLCALQGXXWNA-DURQJQQASA-N columbin Chemical compound C=1([C@@H]2C[C@@]3([C@H](C(=O)O2)CC[C@@]2(C)[C@]4(O)C(=O)O[C@@H](C=C4)[C@@H]32)C)C=COC=1 AALLCALQGXXWNA-DURQJQQASA-N 0.000 description 1
- OKIIUWUOOIYUGL-UHFFFAOYSA-N columbin Natural products OC12C=CC(OC1=O)C3C4CC(OC(=O)C4CCC23)c5cocc5 OKIIUWUOOIYUGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 239000006066 glass batch Substances 0.000 description 1
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- AALLCALQGXXWNA-UHFFFAOYSA-N isocolumbin Natural products O1C(=O)C(CCC2(C)C3(O)C(=O)OC(C=C3)C32)C3(C)CC1C=1C=COC=1 AALLCALQGXXWNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N lithium oxide Chemical compound [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001947 lithium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000004439 roughness measurement Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000001932 seasonal effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- GROMGGTZECPEKN-UHFFFAOYSA-N sodium metatitanate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Ti](=O)O[Ti](=O)O[Ti]([O-])=O GROMGGTZECPEKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- GPMKKHIGAJLBMZ-UHFFFAOYSA-J titanium(4+);tetraacetate Chemical compound [Ti+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O GPMKKHIGAJLBMZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
- BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Zn+2].[O-][Sn]([O-])=O BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2456—Coating containing TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
- C03C17/256—Coating containing TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/212—TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/229—Non-specific enumeration
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/71—Photocatalytic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/112—Deposition methods from solutions or suspensions by spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/113—Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
- C03C2218/156—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by magnetron sputtering
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Pinball Game Machines (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Zpusob výroby fotokatalyticky aktivovaného samocisticího predmetu sestává z vytvorení skleneného predmetu majícího alespon jeden povrch a vyrobeného procesem plavení a z nanesení fotokatalyticky aktivované samocisticí vrstvy na povrch predmetu zpusobem, který se vybere ze skupiny sestávající z chemického pokovování srážením kovových par a rozprašovací pyrolýzy behem procesu výroby skla, kdy pás plaveného skla prochází cínovou lázní. Dále je na substrát nanesena bariérová vrstva proti difuzi sodíkových iontu za úcelem ochránení tohoto fotokatalyticky aktivovaného samocisticího povlaku pred otravou sodíkovými ionty.
Description
Oblast techniky
Předkládaný vynález se týká způsobu nanášení PASC povlaku na substrát, například skleněnou tabuli nebo souvislý pás plaveného skla. způsobu zamezení otrávení ionty sodíku PASC povlaku naneseného na substrát obsahující ionty sodíku a výrobků připravených v souladu s těmito způsob v.
Dosavadní stav techniky
Pro mnoho substrátů, například pro skleněné substráty, je žádoucí, aby povrch substrátu zůstal „čistý“, to znamená bez povrchových nečistot, například obvyklých organických a anorganických povrchových nečistot. Tradičně to znamená, že se takovéto povrchy musí často čistit. Typicky je tato operace čištění prováděna ručně nebo pomocí mechanických zařízení. Oba tyto způsoby jsou namáhavě, časově náročné a/nebo nákladné. Je tedy potřeba vytvořit substráty mající povrchy, které jsou samočisticí neboje alespoň jejich čištění snazší a tím odstranil nebo snížit nutnost ručního nebo mechanického čištění.
Jsou známy povlaky oxidu titaničitého (TiOj vytvářející fotokatalytieky aktivovaný samočisticí (pholoeatalytically-activated self-cleaning dále jen PASU) povrch na substrátu. Publikace zaměřené na vytvoření PASC povlaku oxidu titaničitého jsou patent US 5 595 813 a ..Eotooxidační samočisticí transparentní vrstvy oxidu titaničitého na skle“. Paz a kol.. J.Mater.Res..Vol. 10, č.l 1. strany 2843 48 (listopad 1995). Dále je bibliografie patentu a článků vztahujících se všeobecně k fotokatalytické oxidaci organických sloučenin uvedena v Bibliografii prací na téma fotokatalytického odstraňování nebezpečných sloučenin z vody a ze vzduchu, D.Blake, National Renewablc Energy Laboratory (květen 1994). doplněné o nej novější informace v říjnu 1995 a v říjnu 1996.
V současné době dostupný způsob aplikace PASC povlaku (například PASC povlaku oxidu titaničitého) na substrát je způsob sol gel. Při tomto způsobu se substrát pokryje nevykryslalizovanou koloidní suspenzí na bázi lihového rozpouštědla odstředivým litím, rozprašováním nebo ponořením při teplotě rovné nebo blízké pokojové teplotě. Poté je substrát ohříván na teplotu v rozmezí zhruba od 100 °C do 800 °C (212°E až 1472°E), což má za následek bud' spojení PASC povlaku se substrátem a/nebo krystalizaci PASC povlaku, aby se na substrátu vytvořil kry stalizovaný PASC povlak (gel).
Jedním omezením aplikace PASC povlaku vytvořeného pomocí so! - gelu je, že tento způsob není ekonomicky nebo prakticky kompatibilní s některými podmínkami aplikace či substráty. Jc—li na příklad požadováno vytvoření PASC povlaku na pásu plaveného skla během jeho výroby. může být tento pás příliš horký na přijetí sol - gelu, což je částečně závislé na použitém rozpouštědle. U mnoha rozpouštědel používaných při procesu sol - gel je vyžadováno ochlazení horkého pásu plaveného skla na zhruba pokojovou teplotu před aplikováním sol - gelu a opětné ohřátí na teplotu postačující ke krystalizaci sol -gelu v PASC povlaku. Takovéto ochlazení a opětné ohřátí vyžaduje podstatné investice na zařízení, energii a manipulační náklady a významně snižuje efektivnost výroby.
Aktivita PASC povlaků může být významně snížena nebo zničena, jsou-li v substrátu přítomny ionty sodíku a migrují ze substrátu do PASC povlaku. Tento proces je znám jako otrava sodíkem nebo otrava sodíkovými ionty. Pro mnoho substrátů, které obsahují ionty sodíku, se rychlost migrace sodíkových iontů do povlaků zvyšuje se zvyšováním teploty substrátu. Dalším omezením způsobu povlékání sol - gelem tedy je. že opětné ohřátí substrátu zvětší příležitost pro migraci sodíkových iontů a tím pro otravu PASC povlaku ionty sodíku.
Další omezení vytváření PASC povlaku způsobem sol - gelu je tloušťka poslakú. které mají tloušťku například několik mikronu. Takto tlusté PASC povlaky mohou mít nepříznivý vliv na optické a/nebo estetické vlastnosti předmětů opatřených tímto PASC povlakem.
Z výše uvedeného vyplývá, že existuje potřeba výrobku majícího nanesený PASC povlak a /pu sobu nanášení tohoto PASC povlaku, který nevykazuje nevýhody stávajícího stavu techniky.
i o Podstata vynálezu
Výše uvedené nevýhody odstraňuje způsob výroby fotokatalyticky aktivovaného samočisticího předmětu podle předkládaného vynálezu. Jeho podstatou je. že sestává z kroků vytvoření skleněného předmětu majícího alespoň jeden povrch a vyrobeného procesem plavení a nanesení folois katalyticky aktivované samočisticí vrstvy na povrch předmětu způsobem, který se vybere ze skupiny sestávající z chemického pokovování srážením kovových par a rozprašovací pyrolýzv během procesu výroby skla, kdy pás plaveného skla prochází cínovou lázní. Dále způsob obsahuje krok nanesení vrstvy zabraňující otravě sodíkovými ionty vybrané z
2d i) bariérové vrstvy proti difúzi sodíkových iontů způsobem vybraným ze skupiny sestávající z chemického pokovování srážením kovových par a rozprašovací pyrolýzv s tloušťkou alespoň 10 nm (100 A) mezi povrchem a fotokatalyticky aktivovaným samočisticím povlakem a ii) z části celkové tloušťky fotokatalyticky aktivovaného samočisticího povlaku, kde tento foto2? katalyticky aktivovaný samočisticí povlak má tloušťku překračující minimální tloušťku, takže sodíkové ionty jsou schopné migrovat pouze částí celkové tloušťky tohoto fotokatalyticky aktivovaného samočisticího povlaku během každého časového období, ve kterém teplota substrátu překročí teplotu umožňující migrací sodíkových iontů, takže tloušťka fotokatalylicky aktivovaného samočisticího povlaku na opačné straně než je povrch substrátu je so schopná si zachovat fotokatalyticky aktivovaný samočisticí povlak. Tento fotokatalyticky aktivovaný samočisticí povlak se nanese přes vrstvu zabraňující otravě sodíkovými ionty, na základě čehož bariérová vrstva sodíkových iontů zabraňuje migraci sodíkových iontů z povrchu předmětu do fotokatalyticky aktivovaného samočisticího povlaku.
V jednom možném provedení obsahuje krok žíhání fotokatalyticky aktivovaného samočisticího povlaku za účelem zvýšení rychlosti fotokatalytieké reakce tohoto fotokatalyticky aktivovaného samočisticího povlaku. Je výhodné, když se v tomto kroku žíhání zvýší teplota folokatalylickv aktivovaného samočisticího povlaku na teplotu kolem 500 °C po dobu alespoň 3 minut a tento fotokatalyticky aktivovaný samočisticí povlak se řízené ochlazuje. Vhodné je, když rychlost foto4o katalytické reakce fotokatalyticky aktivovaného samočisticího povlaku je alespoň 2 x 10 1 cm 1 min
Rychlost fotokatalytieké reakce je určena jako rychlost odstranění testovací vrstvičky kyseliny stearovc o tloušťce v rozmezí od 10 do 20 nm nanesené na uvedený fotokatalyticky aktivovaný samočisticí povlak, kde tato rychlost fotokatalytieké reakce je kvantitativně určena jako sklon křivky vytvořené vynesením množiny měření integrované intenzity valenčně vibračních absorpčních pásem uhlovodíku testovací vrstvy kyseliny stearové pomocí infračerveného spektrofotometru s Fourierovou transformací v závislosti na akumulovaném čase vystavení tohoto folokalalytieky aktivovaného samočisticího povlaku ultrafialovému záření o kmitočtu v oblasti kolem
5o 300 až 400 nanometrů poskytovaného zdrojem ultrafialového záření umístěným nad uvedeným fotokatalyticky aktivovaným samočisticím povlakem a majícím intenzitu kolem 20 W/m\ změřenou na povrchu tohoto fotokatalyticky aktivovaného samočisticího povlaku.
V jiném provedení je fotokatalyticky aktivovaný samočisticí povlak tvořen oxidem kovu vybra55 ným ze skupiny sestávající z oxidů titanu, oxidů železa, oxidů stříbra, oxidů mědi, oxidů wolíra- 2 CZ 300061 B6 mu. oxidů hliníku, oxidů křemíku, oxidů zinku, oxidů molybdenu, titanátu stroneia, cíničitanu zinku a jejich směsí.
Výhodné v tomto případě je, když fotokatalyticky aktivovaný samočisticí povlak obsahuje oxid ? titaničitý vybraný ze skupiny sestávající z oxidu titaničitého ve formě anatasu. rutilu, brookitu ajejich směsí a kombinací fází anatasu a/ncbo rutilu s brookotcm a/nebo amorfních fází.
V dalším provedení, kdy fotokatalyticky aktivovaný samočisticí povlak je nanesen zařízením pro chemické pokovování srážením kovových par umístěným nad povrch plaveného pásu v okainio žiku výroby kdy plavený pás prochází cínovou lázní, uvedený způsob zahrnuje nasměrováni pre· kurzoru obsahujícího kov vybraný ze skupiny obsahující chlorid titaničitý; tetraizopropylát titaničitý a tctractylát titaničitý v proudu nosného plynu tímto zařízením pro chemické pokovování srážením kovových par na povrch pásu plaveného skla, a žíhání tohoto pásu plaveného skla za účelem vytvoření fotokatalyticky aktivovaného samočisticího povlaku oxidu titaničitého na tomto pásu plaveného skla.
Jinou možností v případě, kdy jc fotokatalyticky aktivovaný samočisticí povlak nanesen zařízením pro rozprašovací pyroíýzu umístěným nad povrch plaveného pásu v okamžiku výroby kdy plavený pás, prochází cínovou lázní je. že rozprašovací pyrolýza zahrnuje nasměrování vodné suspenze acetylaceton titanoxidu jako prekurzoru obsahujícího kov a smáčedla ve vodním médiu tímto povlékaeím zařízením pro rozprašovací pyroíýzu na povrch pásu plaveného skla, a že vyžíhání tohoto pásu plaveného skla se děje na vzduchu za účelem vytvoření fotokatalyticky aktivovaného samočisticího povlaku oxidu titaničitého na tomto pásu plaveného skla.
Výhodné je, má-li fotokatalyticky aktivovaný samočisticí povlak tloušťku alespoň 20 nm nebo alespoň 40 nm či alespoň 50 nm.
V dalším možném provedení je bariérová vrstva proti difúzi sodíkových iontu vybrána ze skupiny sestávající z krystalického oxidu kovu, amorfního oxidu kovu a jejich směsí. Výhodné je, pokud jc vybrána zc skupiny sestávající z oxidu cínu. oxidů křemíku, oxidů titanu, oxidů zirkonia. oxidů cínu dopovaných fluorem, oxidů hliníku, oxidů hořčíku, oxidů zinku, oxidů kobaltu, oxidu chrómu, oxidů železa a jejich směsí. Výhodné je, má-li bariérová vrstva proti difúzi sodíkových iontů tloušťku alespoň kolem 25 nm nebo alespoň kolem 40 nm či alespoň kolem 50 nm.
Výhodou předkládaného vynálezu oproti způsobu vytváření PASC povlaků pomocí sol gelu je schopnost vytvoření tenké husté PASC vrstvičky na substrátu oproti tn nohem silnějším porézním povlakům získaným metodou povlékání sol - gelem. Protože jsou PASC povlaky podle předkládaného vynálezu tenké, jsou esteticky přijatelné pro použití jako transparentní povlaky na skleněných substrátech. Další výhodou je. že způsob vytvoření PASC povlaku podle předkládaného vynálezu odstraňuje potřebu znovuohřátí substrátu po aplikování povlaku nebo prekurzoru povlaku, jak je potřebné při současně dostupné metodě sol - gelu. foto činí uváděný způsob nejen méně nákladný a účinnější, například díky nižším nákladům na zařízení, energetickým nákladům, kratšímu výrobnímu času, ale rovněž je u předkládaného vynálezu významně snížena příležitost pro migraci sodíkových iontů a tudíž otravu PASC povlaku sodíkovými ionty. Dále ještě lze způsob podle předkládaného vynálezu jednoduše přizpůsobit pro vytváření PASC povlaků na kontinuálních pohybujících se substrátech, jako je pás plaveného skla. pro eož nelze současný způsob sol - gelu tak jednoduše přizpůsobil.
Přehled obrázků na výkresech
Na obr, 1 jc v nárysu ěást substrátu s dispergovaným PASC povlakem.
Obr. 2 je obdobný pohled jako na obr. 1 znázorňující SIDB vrstvu vloženou mezi substrát a PASC1 povlak.
- .5 CZ 300061 B6
Na obr. 3 je schematicky pohled na vybrané prvky povlékacího stroje CVD.
Na obr. 4 je schematicky pohled na vybrané prvky povlékacího stroje pro rozprašovací pyrolýzu.
Příklade provede η í vy nálezu
Na obr. i je předmět 20 mající znaky předkládaného vynálezu. Tento předmět 20 zahrnuje subio strát 22 opatřený PASC povlakem 24. Substrát 22 není pro vynález limituj ící a může být tvořen skleněným substrátem, například skleněnou tabulí nebo souvislým pásem plaveného skla. plastickým substrátem, kovovým substrátem a smaltovaným substrátem.
PASC povlak 24 může být přímo na substrátu 22 jak ukazuje obr. 1 nebo v alternativním provc15 dění mohou být mezi tuto vrstvu 24 a substrát 22 vloženy další vrstvy, zahrnující například, ale nikoli pouze. SIDB vrstvu 26 jak ukazuje obr. 2 a jak bude dále podrobněji popsáno. Dále, jak jsou si vědomi odborníci v dané oblasti, může být PASC povlak 24 nej hořejš i vrstvou vícevrstvého sloupce povlaků na substrátu 22 nebo může být PASC povlak jednou z vrstev jiných než je nejhořejší vrstva uvnitř takovéhoto vícevrstvého sloupce za předpokladu, že přes jakékoli povla20 ky umístěné nad PASC povlakem 24 může procházet dostatečné aktiniové záření, za účelem folokatalylieké aktivace PASC povlaku 24 a za předpokladu, že aktivní radikály mohou projít povlaky nanesenými na PASC’ povlaku 24 za účelem reakce s organickými nečistotami na nejhořejší vrstvě vícevrstvého sloupce.
PASC povlak 24 může být povlak, který je fotokatalyticky aktivován za účelem samočištení a který' může být nanášen CVD metodou, metodou rozprašovací pyrolýzy nebo MS V19 metodou. Například, avšak vynález není omezen pouze na toto řešení, může PASC povlak 24 zahrnovat jeden nebo více oxidů kovů, jako jsou oxidy titanu, oxidy železa, oxidy stříbra, oxidy mědi, oxidy wolframu, oxidy zinku, oxidy zinek/cín. titaničilan strontnatý nebo jejich směsi. Oxid kovu inňže so zahrnovat oxidy, peroxidy nebo suboxidy kovu.
Vc výhodném provedení jc PASC povlak 24 oxid titaničitý. Oxid titaničitý existuje v amorfní formě a třech krystalických formách, a to v krystalické formě anatas. rutil a brookit. Výhodný je oxid titaničitý ve fázi anatasu, neboť vykazuje silnou PASC aktivitu a zároveň vynikající odof55 nost proti chemickému narušení a vynikající fyzickou trvanlivost. Dále má oxid titaničitý ve fázi anatasu vysokou propustnost ve viditelné oblasti spektra, eož umožňuje vytvoření tenkých povlaků tohoto oxidu titan iěitého s vynikajícími optickými vlastnostmi. Fáze rutil li oxióli titan iěitého také vykazuje PASC aktivitu. Kombinace fáze anatasu a/nebo fáze rutilu s fázi brookitu a/nebo amorfní fází jsou pro předkládaný vynález přijatelné za předpokladu, že kombinace vykazují io PASC aktivitu.
F’ASC povlak 24 musí být dostatečně silný aby vykazoval přijatelnou úroveň PASC aktivity. Neexistuje žádná absolutní hodnota, která vyjadřuje, že PASC povlak 24 je „přijatelný“ nebo „nepřijatelný“, neboť zda PASC povlak má přijatelnou úroveň aktivity je určeno účelem a podmínkami, za kterých je předmět s PASC povlakem užíván a normami vlastností, vybranými v souvislostí s tímto účelem. Obecně umožňují silnější PASC povlaky vyšší PASC aktivitu. Nicméně další úvahy mohou vést k tenčímu povlaku. Tyto tenčí povlaky jsou například výhodné, má-li mít předmět vysokou prostupnost z estetických nebo optických důvodu nebo jsou-li povrchové nečistoty na povrchu předmětu jednoduše odstraněny pomocí tenčího PASC povlaku, je-li
5o tento povlak vystaven značnému ozáření a/nebo bude—li tento PASC povlak 24 vystaven otravě sodíkovými ionty, jak bude dále podrobněji popsáno. Pro široký rozsah aplikací je výhodné, je-li PASC povlak silný alespoň kolem 20 nm 200 angstromů (A)), s výhodou alespoň kolem 40 nm (400 A) a nejlépe alespoň kolem 50 nm (500 A). Bylo zjištěno, že když substrátem 22 je kousek plaveného skla a PASC povlak 24 je PASC povlak oxidu titan iěitého ve formě anatasu vytvořený přímo na tomto kousku plaveného skla CVD metodou, pak tloušťka alespoň kolem 50 ntn (500
-4CZ 300061 Bó
Λ) umožňuje rychlost PASC reakce v rozmezí od zhruba 2 x 10 1 do zhruba 5 x 10 ' na centimetr a minulu (dále ..cm 1 min ') pro odstranění testovací vrstvy kyseliny stearové. jestliže byl PASC povlak vystaven ultrafialovému záření ze světelného zdroje jako je například světelný zdroj pod obchodním jménem UVA-340 společnosti Q Panel Company Cleveland. Ohio, který má inten5 žitu kolem 20 wattů na metr čtvereční (dále W/nT) na povrchu PASC povlaku, což je přijatelné pro velkou oblast aplikací,
V souladu $ předkládaným vynálezem jc vytvořen na substrátu 22 tenký PASC povlak, například méně než 1 pm (mikron), ještě lépe méně než 0.5 pm (mikronu), metodou rozprašovací pyrolýzy. io CVD metodou nebo MSVD metodou. Při metodě rozprašovací pyrolýzy jc prekurzor obsahující kov nesen ve vodní suspenzi, při CVD metodě v nosném plynu, například v dusíku, a směrován k povrchu substrátu 22. přičemž tento substrát 22 má teplotu dostatečně vysokou, aby se prekurzor s kovem rozložil a vytvořil PASC povlak 24 na substrátu 22. Při MSVD metodě je terčová katoda obsahující kov rozprašována pod záporným tlakem v inertní nebo kyslíkové atmosféře za is účelem uložení naprášeného povlaku na substrát 22, Tento substrát 22 je během nanášení povlaku nebo po něm zahříván, což způsobuje krystalizaei naprášeného povlaku za účelem vytvoření
PASC povlaku 24.
Každý ze způsobů má výhody a omezení, například CVD metoda a pyrolýzní metoda jsou
2o výhodnější než způsob rozprašovací pyrolýzy. protože vodný roztok v metodě rozprašovací pyrolýze může mít za výsledek přítomnost OH iontů v PASC povlaku 24, což může naopak blokovat správné krystalické uspořádání v PASC povlaku 24 a tím snížil PASC aktivitu povlaku. CVD metoda a pyrolýzní metoda jsou rovněž výhodnější než MSVD metoda, protože umožňují povlékání souvislých substrátů při zvýšených teplotách, například pásů plaveného skla. O CVD metodě, metodě rozprašovací pyrolýzy a MSVD metodě nanášení PASC povlaku 24 bude dále pojednáno podrobněji. Lze ocenit, že metoda rozprašovací pyrolýzy a CVD metoda mohou být použity pro nanášení tenkých (silných například několik set angstrómů) povlaků oxidů kovů (včetně povlaku oxidu titan ÍČÍtého) na substrát. Takovéto povlaky jsou popsány v patentech ě. US 4 344 986; US 4 393 095; US 4 400 412; US 4 719 126; US 4 853 257; a US 4 971 843. na so které je zde odkazováno.
Prekurzory obsahující kov, které mohou být v praxi použily při realizaci předkládaného vynálezu za účelem vytvoření PASC povlaků oxidu titan i Čitého metodou CVD zahrnují, ale nejsou tím omezeny, chlorid titaničitý (TiCl i). izopropoxid titaničitý (I i(OC,H7).j) (dále 1 I IP) a etoxid tita55 ničitý (Ti(OC4T)4) (dále TTTt). Nosné plyny, které mohou být použity v CVD metodě, zahrnují, ale nejsou omezeny na. vzduch, dusík, kyslík, čpavek a jejích směsi. Výhodný nosný plyn je dusík a výhodný prekurzor obsahující kov jc TTIP. Koncentrace prekurzoru obsahujícího kov v nosném plynu je všeobecně v rozmezí od 0,1 % do 0.4 % objemu pro tři vyjmenované prekurzory obsahující kov podle seznamu, ale odborníkům z oboru jc jasné, že tyto koncentrace se mohou měnit pro jiné prekurzory obsahující kov.
Prekurzory obsahující kov, které mohou být v praxi použity při realizaci vynálezu za účelem vytvoření PASC povlaků metodou rozprašovací pyrolýzy zahrnují vodou relativně nerozpustné organokovové reagující složky, zejména kovové acetylacetonovc sloučeniny, které jsou drceny proudem nebo rozemlety za mokra na částice velikosti menší než zhruba 10 mikronů a suspendovány ve vodním médiu za použití chemického smáčedla. Vhodný kovový acetyl ac etonát pro vytvoření PASC povlaku oxidu titan ičitého je acety laceton titan oxid (TiO(CsH 7()2)2). Poměrná koncentrace kovového i acety lacetonátu ve vodní suspenzi je s výhodou v rozmezí od zhruba 5 do 40 váhových procent této vodní suspenze. Smáčecí prostředek může být jakékoli relativné nízko pěnící povrchově aktivní činidlo, včetně an iontových, ne iontových nebo kationtových sloučenin, ačkoli nciontovým je dávána přednost. Smáčecí prostředek je typicky přidán v množství kolem 0,24% váhy. ale může být v rozsahu od cca 0,01 % do 1 % nebo více. Vodní médium je s výhodou destilovaná nebo deionizovaná voda. Smáčecí prostředky pro pyrolvtické nanášení vrstev obsahujících kov jsou popsány v patentu US 4 719 127. zejména ve sloupci 2.
řádek 16. až sloupci 4. řádek 48.
-5 CZ 300061 B6
Jak pro CVD metodu, tak pro rozprašovací pyrolýzu musí být teplota substrátu 22 během vytváření PASC povlaku uvnitř rozmezí, které způsobí rozložení prekurzorú obsahujícího kov a vytvoření povlaku majícího PASC aktivitu (například krystalická fáze pro PASC povlaky oxidů kovu), Jc zřejmé, že dolní hranice tohoto teplotního rozmezí je široce ovlivňována teplotou rozkladu vy braného prekurzorú obsahujícího kov. Pro výše uvedené prekurzory obsahující titan, je minimální teplota substrátu 22. která zajistí dostatečný rozklad prekurzorú, uvnitř teplotního rozmezí zhruba 400 °C až 500 C (752°F až 932°F). Horní hranice této teplotní oblasti může být ovlivněna povlekaným substrátem. Například tam. kde je substrátem 22 pás plaveného skla io a PASC povlak 24 je aplikován na tento pás během jeho výroby, může plavené sklo dosáhnout teplot více než I00()°C (1832°F). Pás plaveného skla je obvykle zeslabován nebo formátován (například smršťován nebo stlačován) při teplotě nad 800 °C (1472°F). Je-li PASC povlak 24 aplikován před nebo během zeslabení plaveného skla, může tento PASC povlak 24 prasknout nebo se zvlnit, jak je pás plaveného skla smršťován nebo stlačován. Proto je při realizaci vynále15 zu výhodné aplikovat PASC povlak tehdy, když je pás plaveného skla rozměrově stabilní, například pod teplotou kolem 800 °C (1472°F) pro sodnovápenatokřemičité sklo a při teplotě pro rozklad prekurzorú obsahujícího kov. například zhruba nad 400 0 (752°F).
Vytvoření PASC povlaku 24 metodou CVD nebo metodou rozprašovací pyrolýzy je zvláště výhodné pro realizaci během výroby pásu plaveného skla. Všeobecně je pás plaveného skla vyráběn tavením skleněného vsázkového materiálu do pece a přivedením rafinovaného roztaveného skla na lázeň roztaveného cínu. Roztavené sklo je protahováno cínovou lázní jako kontinuální skleněný pás, přičemž je formátováno a řízené ochlazováno za účelem vytvoření rozměrově stabilního pásu plaveného skla. Tento pás je pak vyjmut z cínové lázně a je posouván dopravníko25 vými válečky přes chladicí pec za účelem žíhání. Vyžíhaný pás plaveného skla je pak dopravníkovými válečky veden řezacími stanicemi, kde je rozřezán na skleněné tabule požadované délky a šířky. Patenty US 4 466 562 a US 4 671 155. na které se zde odkazuje, zahrnují popis výroby plaveného skla.
3d Teploty pásu plaveného skla na cínové lázni jsou obecně v rozmezí od zhruba 1093.3 °C (2G00T) na počátku lázně do kolem 538 °C {IOOO°F) na výstupním konci lázně. Teplota pásu mezi cínovou lázní a tunelovou chladicí pecí je obecně v rozmezí od zhruba 480 °C (896°F) do zhruba 580 C (IO76°F); teplota plaveného pásu v tunelové chladicí peci je obecně v oblasti zhruba 204 °C (400°F) až 557 °C (1O35°F) špičkově.
Patenty US 853 257; US 4 971 843; US 5 536 718; US 5 464 657 a US 5 599 387 na které je zde tímto odkazováno, popisují způsoby vytváření povlaku metodou CVD a zařízení k jejich provádění, které mohou být použity při realizaci vynálezu pro potažení pásu plaveného skla během jeho výroby. CVD metodou je možné potahovat pohybující se pás plaveného skla, jelikož odoláni vá drsnému prostředí spojenému s výrobou pásu plaveného skla a je tedy vhodná pro vytvoření
PASC povlaku 24 na tomto pásu. Zařízení pro vytváření povlaku CVD metodou může být využito v několika místech výrobního procesu pásu plaveného skla. Například ho lze vy užít při průchodu pásu plaveného skla cínovou lázní, po výstupu z cínové lázně, před vstupem do tunelové chladící pece, při průchodu touto pecí nebo po výstupu zní.
Jakje známo odborníkům v dané oblasti, koncentrace prekurzorú obsahujícího kov v nosném plynu, rychlost proudění nosného plynu, rychlost plaveného pásu („rychlost linky), plocha povrchu zařízení pro povlékání metodou CVD vzhledem k povrchové ploše plaveného pásu, povrchové plochy a rychlost proudění odsávaného nosného plynu výfukovými průduchy zařízení, poměr odsávací rychlosti výfukovými průduchy k vstupní rychlosti nosného plynu v jednotce povlékání metodou CVD, známý jako „poměr přizpůsobení odsávání a teplota plaveného pásu jsou mezi parametry, které tnají vliv na konečnou tloušťku a morfologii PASC povlaku 24 vytvořeného na plaveném pásu CVD způsobem.
- 6 CZ 300061 B6
Patenty US 4 719 126; US 4 719 127; US 4 111 120 a US 3 660 06 U na které je zde tímto odkazováno, popisují způsob a zařízení pro rozprašovací pyrolýzu. které mohou byt použity při výrobě pásu plaveného skla. Metoda rozprašovací py rolýzy je rovněž tak jako CVD metoda vhodná pro vytváření povlaku na pohybujícím se pásu plaveného skla, má ale složitější zařízení než je ? zařízení pro provádění metody CVD. které je obvykle užíváno mezi výstupem z cínové lázně a vstupem do tunelové chladící pece.
Odborníkovi v dané oblasti je jasné, že složky a koncentrace pyrofyticky rozprašované vodní suspenze, rychlost průchodu plaveného pásu linkou, počet pyrolytiekýeh rozprašovacích pistolí, io rozprašovací tlak nebo objem, způsob rozprašování a teploty plaveného pásu v době nanášení jsou mezi parametry, které budou mít vliv na konečnou tloušťku a morfologii PASC povlaku 24 vy tvořeného na plaveném pásu rozprašovací pyrolýzou.
Jak je odborníkům v oblasti známo, povrch pásu plaveného skla na roztaveném cínu (což se i? obecné nazý vá „cínová strana“) má cín rozptý lený v povrchu, což způsobuje jiný model absorpce cínu na cínové straně než na protilehlé straně, která není v kontaktu s roztaveným cínem (obecně nazývané „vzduchová strana11). Tato charakteristika je popsána v pracích: Chemical
Characteristics of Hoat Glass Surfaces. Seiger. J„ JOURNAL OF NON-CRYSTAUUINE SOLIDS. svazek 19. strany 213 220 (1975); Penctration of Tin in The Bottom Surface of Hoat
Glass; A Synthesís, Columbin L„ A kol.; JOURNAL OP NON-CRYS 1ALL1NE SOLIDS, svazek 33 a 39, strany 551-556 (1980) a I in Oxidalion Stale, Dcpth Profllcs oť Sn2 and Sn’ and Oxygen Diffusivily in Float Glass by Mossbauer Spectroscopy, Wiliams. K.E.E. a kol.. JOURNAL OF NON-CRYSTAI.EINE SOLIDS, svazek 211, strany 164 172 (1997), na které jc zde tímto odkazováno. Jak je známo odborníkům v dané oblasti, PASC povlak 24 může být vyt25 vořen na vzduchové straně plavené pásu, zatímco ten je nesen cínovou lázní (u CVD metody), na vzduchové straně plavené pásu po opuštění cínové lázně jak CVD metodou, tak rozprašovací pyrolýzou a na cínové straně plavené pásu poté eo vystoupí z cínové lázně při CVD metodě. Když je PASC povlak 24 vytvořen na cínové straně plaveného pásu, očekává se, že cín a/nebo oxid cínu přítomný ve skleněném povrchu budou fungovat jako S1DB vrstva 26 pro PASC pov50 lak 24 umístěný na této vrstvě.
Patenty US 4 379 040; US 4 861 669; US 4 900 633; US 4 920 006; US 4 938 857; US 5 328 768 a US 5 492 750, na které je zde tímto odkazováno, popisují MSVD zařízení a způsoby napravování povlaků oxidu kovu na substrát, včetně skleněného substrátu. MSVD metoda není obecně kompatibilní s vytvářením PASC povlaku na pásu plaveného skla během jeho výroby, neboť, kromě jiného. MSVD metoda vyžaduje během rozprašování podtlak, který' se obtížně vytváří okolo kontinuálně se pohybujícího plaveného pásu. Nicméně MSVD metoda je přijatelná pro vytvoření PASC povlaku 24 na substrátu 22. například na skleněné desce. Odborníci v dané oblasti jsou si vědomi, že substrát 22 muže být ohřát na teplotu v rozsahu zhruba od 400 °C •to (752°E) do 500 °C (932°E). takže povlak rozprašovaný na substrát metodou MSVD krystalizuje během procesu nanášení a tím se eliminuje následná operace zahříváni.
Zahřívání substrátu během rozprašování není výhodný způsob, protože přídavná operace zahřívání během rozprašování může snižovat výrobní kapacitu. Alternativně může naprášený povlak krystalizovat v MSVD zařízení přímo a bez dalšího ohřívání použitím plazmatu s vysokou energií, ale opět, díky tendenci ke snižování výrobní kapacity povlékaeího stroje MSVD. není tento způsob výhodný.
Výhodný způsob pro realizaci PASC povlaku s použitím MSVD metody je naprášení povlaku na substrát, vyjmutí substrátu opatřeného povlakem z povlékaeího stroje MSVD a poté ohřátí povlakem opatřeného substrátu za účelem krystalizace naprášeného povlaku do podoby PASC povlaku 24. Například, avšak vynález tím není omezen, je při metodě MSVD naprašován terčík titanového kovu v argonkyslíkové atmosféře mající kolem 5-50%. s výhodou 20% kyslíku, při tlaku kolem 5-10 miíitorů (0,67 - 1,33 Pascal) a naprášením se vytvoří povlak oxidu titaničitého poža55 dováné tloušťky na substrátu 22. Povlak tak, jak je nanesen, není krystalizován. Substrát opatřený
- 7 CL 300061 B6 povlakem se vyjme z povlékacího stroje a zahřeje se na teplotu v rozmezí zhruba 400 °C (752°L) až 600 °C < 1112°l ) po dobu dostatečnou pro vytvoření PASC krystalické formy, čímž jc umožněna PASC aktivita povlaku. Obecně je výhodná doba alespoň jedna hodina při teplotě v rozmezí zhruba 400 °C (752nE) až 600 °C (1112°F). Je-li substrátem 22 skleněná deska uříznutá z pásu ? plaveného skla. PASC povlak 24 může být naprášen na vzduchovou a/nebo cínovou stranu.
Substrát 22 mající PASC povlak 24 nanesený CVD metodou, rozprašovací pyrolýzou nebo MSVD metodou může být následně podroben jedné nebo více žíhacím operacím, za účelem zvýšení samočisticí aktivity PASC povlaku 24. Lze se domnívat, že takovéto žíhání po vytvoření io PASC povlaku může zvýšit samočisticí aktivitu PASC povlaku 24 tím, že podporuje vytvořeni požadované PASC krystalické fáze. Čas a teplota žíhání mohou být ovlivněny několika faktory, zahrnujícími skladbu substrátu 22 skladbu PASC povlaku 24. tloušťku PASC povlaku 24 a to. zdaje PASC povlak 24 přímo na substrátu 22 neboje jednou z více vrstev na tomto substrátu 22.
Bylo stanoveno, žc pokud je substrát 22 plavené sklo a PASC povlak je oxid titaničitý ve formě anatasu o tloušťce 400Á nebo 625Á vytvořený metodou rozprašovací pyrolýzy, pak žíhání povlaku při teplotě 500 °C (932°F) po dobu do 13 minut zvyšuje PASC aktivitu.
Jak bylo výše diskutováno, je-li PASC povlak vytvořen metodou CVD, rozprašovací pyrolýzou nebo MSVD metodou, kde substrát 22 obsahuje sodíkové ionty, které mohou migrovat z tohoto
2d substrátu 22 do PASC povlaku naneseného na substrátu 22, mohou sodíkové ionty blokovat nebo ničit fotokatalyt ickou aktivitu PASC povlaku vytvářením neaktivních složek za současného spotřebovávání titanu například vytvářením titan ič i tanu sodíku nebo tím, že způsobují rekombinaci fotoelektricky vybuzených nábojů,
2.5 Bylo zjištěno, že PASC povlak může být na substrátu 22 obsahujícím sodíkové ionty vytvořen bez ztrát fotokatalytické aktivity takto:
1. Umožněním omezené částečné otravy sodíkovými ionty části PASC povlaku a/nebo
2. vytvořením S1DB vrstvy 26.
sn Každý z těchto způsobů bude podrobně probrán dále.
Bylo zjištěno, že přesáhne—li tloušťka PASC povlaku minimální prahovou hodnotu. PASC aktivita se migrací sodíkových iontů nezničí ani když je PASC povlak nanesen na povrchu substrátu obsahujícího sodíkové ionty a substrát je na teplotě postačující pro vyvolání migrace sodíkových iontů z tohoto substrátu do PASC povlaku. 1 když není zcela jasný mechanismus, který toto způsobí, lze se domnívat, že přesáhne li tloušťka PASC povlaku minimální tloušťku, jsou sodíkové ionty schopny migrovat pouze zlomkem celkové tloušťky PASC povlaku během doby, ve které teplota substrátu přesáhne teplotu dovolující migraci sodíkových iontů. Poté, když teplota substrátu klesne pod teplotu působící migraci sodíkových iontů, zastaví se tato migrace nebo se io „zmrazí na místě, což má za následek, že povrch PASC povlaku opačný od povrchu substrátu není zasažen otravou sodíkovými ionty a je schopen udržet PASC aktivitu, lato minimální tloušťka PASC povlaku se mění s očekávanými parametry, jako jsou například: doba po kterou je substrát udržován nad teplotou, při které se objevuje migrace sodíkových iontů, použití, pro které je PASC předmět určen a stupeň žádoucí nebo požadované PASC aktivity. Bylo zjištěno, že pro
PASC povlak oxidu titaničitého nanesený metodou CVD na ploché sodnovápenatokřemičité sklo by měla být tloušťka PASC povlaku minimálně kolem 25 nm (250 A), s výhodou minimálně kolem 40 nm (400 A) a ještě lépe minimálně kolem 50 nm (500 A), aby dostatečná část PASC' povlaku 24 nebyla zasažena otravou sodíkovými ionty a podržela si svou aktivitu.
so Podle obr. 2 je v alternativním způsobu ochrany PASC povlaku před otravou sodíkovými ionty vytvořena mezi PASC povlakem 24 a substrátem 22 S1DB vrstva 26. lato SIDB vrstva 26 může být jediná vrstva mezi PASC povlakem 24 a substrátem 22 nebo to může být jedna vrstva z vícevrstvého sloupce. Při použití vícevrstvého sloupce není požadováno, aby SIDB vrstva 26 byla v kontaktu se substrátem 22 za předpokladu, že SIDB vrstva 26 je umístěna mezi PASC
-8C7. 300061 B6 povlakem 24 a substrátem 22. aby zabránila migraci sodíkových iontu ze substrátu 22 do PASC povlaku 24.
SIDB vrstva múze být vytvořena z amorfních nebo krystalických oxidů kovu zahrnujících, avšak ne omezených na, oxidy kobaltu, chrómu nebo železa, oxidy cínu, křemíku, titanu, zirkon i a. fluorem i dopované oxidy cínu. oxidy hliníku, magnézia, zinku ajejich směsi. Směsi zahrnují, avšak nejsou omezeny na. oxidy bořčík/bliník a zinek/cín. Odborníkům v dané oblasti je zřejmé, že oxid kovu může zahrnovat oxidy, peroxidy nebo suboxidy kovu. Ačkoli se tloušťka SIDB vrstvy potřebná pro ochranu PASC povlaku před otravou sodíkovými ionty mění s mnoha faktory io včetně času, kdy bude substrát udržován na teplotě nad kterou se objevuje migrace sodíkových iontu, ryehlosti migrace sodíkových iontů ze substrátu, rychlosti migrace sodíkových iontů SIDE3 vrstvou, tloušťky PASC povlaku a stupně fotokatalytické aktivity požadované pro danou aplikaci, měla by být pro většinu aplikací tloušťka SIDB vrstvy typicky v rozmezí alespoň kolem 10 nm (100 Á), s výhodou alespoň kolem 25 nm (250 Á) a nejlépe alespoň 50 nm (500 A), aby se zab15 ranilo otravě PASC povlaku sodíkovými ionty. SIDB vrstva může být nanesena na substrát 22 CVD metodou, rozprašovací pyrolýzou nebo MSVD metodou. Je li použita metoda rozprašovací pyrolýzy nebo CVD metoda, je pro vytvoření SIDB vrstvy s výhodou substrát 22 udržován na teplotě alespoň kolem 400 °C (752°F), za účelem zabezpečení rozkladu prekurzorů obsahujícího kov. SIDB vrstva může být vytvořena jinými způsoby, včetně metody sol - gelu. která, jak bylo výše uvedeno, není kompatibilní s výrobou pásu plaveného skla.
SIDB vrstva oxidu cínu může být nanesena na substrát rozprašovací pyrolýzou lak, že se vytvoří vodní suspenze difluordibutylcínu (CJCbSuíC a vody a tato vodní suspenze se aplikuje na substrát rozprašovací pyrolýzou. Obecně obsahuje vodní suspenze obvykle 100 až 400 gramů difluordibutylcínu na litr vody. Pro zlepšení suspenze lze použít smáčecí prostředky. Během přípravy vodní suspenze mohou být částice difluordibutylcínu rozemlety na průměrnou velikost částic od 1 do 10 μιη (mikronů). Vodní suspenze je s výhodou intenzivně promíchána za účelem rovnoměrného rozprostření částic v suspenzi. Vodní suspenze je přivedena rozprašovací py rolýzou na povrch substrátu, který má teplotu alespoň zhruba kolem 400 °C (752°F), s výhodou so kolem 500 °C až 700 °C (932 - 1292°P). při níž vodní suspenze pyrolýzuje za účelem vytvoření SIDB vrstvy oxidu cínu. Tloušťka SIDB vrstvy vytvořené tímto postupem muže být kromě jiného řízena rychlostí povlékací linky, koncentrací difluordibulyleínu ve vodní suspenzí a rychlostí rozprašování.
Alternativně může být SIDB vrstva oxidu cínu vytvořena na substrátu CVD metodou / prekurzoru obsahujícího kov jako je monobutylcíntrichlorídová pára (dále jen MBTTCL) ve vzduchovém nosném plynu smíchaném s vodní párou. MBTTCL pára může být přítomna v koncentraci alespoň kolem 0,5 % ve vzduchovém nosném plynu přiváděném na substrát, zatímco substrát je na teplotě dostačující k tomu, aby způsobila nanášení vrstvy obsahující cín. například alespoň na
4o teplotě 400 °C (752°F), s výhodou kolem 500 °C až 800 °Č (932 - 1472°F) za účelem vytvoření SIDB vrstvy oxidu cínu. Výhodné jc, žc tloušťka SIDB vrstvy vytvořena tímto způsobem může být řízena mimo jiným rychlostí povlékací linky, koncentrací MBTTCL páry ve vzduchovém nosného plynu a rychlostí toku nosného plynu.
SIDB vrstva vytvořená MSVD metodou je popsána v patenty US 5 830 252 (U.S. přihlášce vynálezu sériové č. 08/597,543, podané 1.února 1996) pod názvem ..Alkali Metal Diffusion Barrier Layer - Bariérová vrstva vytvořená difúzí alkalického kovu, na kterou je zde tímto odkazováno, kde tato přihláška popisuje vytvoření bariér pomocí difúze alkalického kovu. Popsaná bariérová vrstva je obecně účinná při tloušťkách od zhruba 2 nm (20A) až do 18 nm (18()A), s účinností zvyšující se se zvyšováním hustoty' této bariéry.
PASC povlaky podle předkládaného vynálezu jsou obvykle fotokatalyticky aktivovány za účelem samočištění tím. že jsou vystaveny záření v ultrafialové oblasti elektromagnetického spektra, například 300 - 400 nanometrů (dále jen nm). Zdroje ultrafialového záření zahrnují přírodní zdroje, například sluneční záření a umělé zdroje jako je zdroj černého světla nebo ultrafialového
- 9 CZ 300061 B6 světla, například světelný zdroj UVA-340. Když se použijí umělé zdroje ultrafialového světla za zkušebních podmínek. kd\ je žádoucí určit jak bude PASC povlak reagovat na přírodní ultrafialové záření, má světelné zdroj UVA-340 rozdělení světelné energie, které je bližší slunečnímu světlu než rozdělení světelné energie zdroje černého světla, což umožňuje použití světelného zdroje UVA-340 pro bližší aproximaci toho. jak se bude PASC povlak chovat při vystavení slunečnímu světlu.
Intenzita ultrafialového záření je kalibrována na intenzitu alespoň 20 W/nr na povrchu povlečeném testovaném povlakem. Intenzita muže být kalibrována například ultrafialovým měřičem, in jaké je pod obchodní známkou BLACK-RAY prodáván firmou Ultraviolet Products. Inc., San
Gabriel. CA. model J-221. Zdroj světlaje s výhodou umístěné kolmo k testovanému povrchu opatřenému povlakem.
Zdroj ultrafialového záření a PASC povlak mohou být vzájemně umístěny tak, že ultrafialové 15 záření prochází nejprve PASC povlakem a pak substrátem (tj. zepředu neboli z povlečené strany).
Jestliže substrát propouští ultrafialové záření. PASC povlak a zdroj ultrafialového záření mohou bvl navzájem umístěny tak, že ultrafialové záření projde nejprve substrátem a pak PASC povlakem (tj. zezadu neboli ze strany substrátu). V ještě jiném provedeni může být umístěn jeden nebo více zdrojů ultrafialového záření na každé straně substrátu majícího na jednom nebo na obou
2o površích PASC povlak.
Je těžké specifikovat výhodné zdroj ultrafialového záření nebo intenzitu ultrafialového záření nebo vzájemné umístění zdroje ultrafialového záření, PASC povlaku a substrátu, protože přichází v úvahu mnoho faktoru. Tyto faktory mimo jiné jsou: účel, ke kterému je PASC povlak použit.
například venkovní nebo vnitřní použití, vybraný zdroj ultrafialového záření, tj. přírodní nebo umělý, sezónní nebo geografické vlivy je-li zdroj ultrafialového záření přírodní, požadovaná nebo očekávaná doba vystavení ultrafialovému záření, úhel dopadli ultrafialového záření na povrch PASC povlaku, očekávaný nebo požadovaný stupeň PASC aktivity, stupeň, do kterého muže být ultrafialové záření odraženo nebo absorbováno substrátem a/nebo jinými povlaky nebo in vrstvami umístěné mi nad substrátem nebo nad PASC povlakem, nečistoty, které mají být odstraněny, tloušťka PASC povlaku, složení PASC povlaku, potenciál pro otravu sodíkovými ionty a přítomnost či nepřítomnost S1DB vrstvy. Nicméně bylo zjištěno, že intenzita ultrafialového záření v oblasti kolem 5 až 100 W/nr, s výhodou alespoň 20 W/nr, měřená na povrchu PASC povlaku od zdroje ultrafialového záření umístěného nad povrchem PASC povlaku vytvoří dostatečnou intenzitu, která způsobí uspokojivou PASC aktivitu pro mnoho samočisticích aplikací.
Je užitečné, aby bylo možné měřit a srovnávat PASC účinnost nebo aktivitu PASC povlaků, za účelem vyhodnocování PASC aktivity PASC1 povlaku, Na PASC povlak muže být aplikována známá, snadno dostupná organická nečistota a po fotokatalytické aktivaci PASC povlaku je možné pozorovat a měřit schopnost PASC povlaku odstranit tuto organickou nečistotu. Kyselina stearová. CHTCHJnCOOH, je modelovou organickou nečistotou pro testování PASC? aktivity PASC povlaku, neboť tato kyselina je karboxy lová kyselina s dlouhým uhlovodíkovým řetězcem a proto je dobrou „modelovou molekulou pro molekuly běžných nečistot, jako jsou oleje v domácnosti a špína. Kyselina stearová může být aplikována na PASC povlak jako tenká testo45 vací vrstvička pomocí jakékoli běžné technologie zahrnující nanášení máčením, rozprašování, odstředivé povlékání. Obecně poskytují testovací vrstvičky kyseliny stearové o tloušťce zhruba od 10 nm (1OOA) do 20 nm (200Á) adekvátní testovací vrstvičku. Kyselina stearová může být použita jako kyselina stearová v roztoku metanolu a bylo zjištěno, ž.e roztok mající koncentraci kolem 6 x 10 ' mol kyseliny stearové na litr roztoku je dostatečný.
Aktivita PASC povlaku muže být kvalitativně odhadnuta překrytím PASC povlaku vrstvičkou kyseliny stearové (tato vrstvička se po aplikaci na PASC povlak obecně jeví jako světlehnědá vrstva), vystavením vrstvičky kyseliny stearové ultrafialovému záření požadované intenzity po požadovaný časový interval a zkoumáním vrstvičky kyseliny stearové pouhým okem. zda bud1 tato testovací vrstvička kyseliny stearové úplně zmizela nebo zda se snížila tmavost tělo vrst-10CZ 300061 B6 vičky vc srovnání s tou částí vrstvičky kyseliny stearové. která byla aplikována na PASC povlak, ale nebvla vvstavena ultrafialovému záření.
v
PASC aktivitu PASC povlaků lze také měřit kvantitativně pomocí měření integrované intenzity absorpčních pásů valenčních vibrací vazeb uhlíku-vodíku (dále C-11 vazeb) kyseliny stearové přítomné na PASC povlaku, Integrovaná intenzita je souměřitelná s tloušťkou vrstvičky kyseliny stearové zbývající na povrchu PASC povlaku a očekává se. že odstranění vrstvičky kyseliny stearové ťotokatalytieky aktivovaným samočištěním má za následek pokles intenzity pásu valenčních vibrací C-H vazby v kyselině stearové absorbující infračervené záření, které na rozdíl od ultraK) fialového záření ťotokatalyticky neaktivuje PASC povlak. Tato absorpce se obecně objevuje mezi vlnočty 2800 až 3000 cm 1 a může být měřena infračerveným spektrofotometrem s Fouricrovou transformací, dále jen FTIR spektrofotometrem. Tento spektrofotometr může být vybaven detektorem jako je deuterovaný triglycerid sulfátový detektor, dále jen DTGS detektor, nebo mčď-kadmium-tclluridový detektor, dále jen MCT detektor. MCT detektor je výhodný neboť má i? mnohem vyšší poměr signál/šum než DTGS detektor. To může být důležité tam, kde substrát a/nebo jiné povlaky přidané k PASC povlaku absorbují infračervené záření, které je použito spektrofotometrem pro generování absorpčního spektra. Je-li infračervené záření absorbováno substrátem a/nebo jinými povlaky; intenzita paprsku infračerveného zářeni, který prochází vrstvičkou kyseliny stearové, PASC povlakem a substrátem k detektoru, je významně snížena. V
2o kombinace s nízkou koncentrací kyseliny stearové na povrchu PASC povlaku (eož vytváří velmi slabou vlastnost absorpce infračerveného záření) to znamená, že výsledný signál infračerveného záření není zvláště intenzivní. Proto zařízení vybavené MCT detektorem vytváří spektrum, ve kterém je poměr signál/šum zhruba o jeden řád vyšší než u zařízení vybaveného DTGS detektorem. Měří—Ίi sc PASC aktivita testovací vrstvičky kyseliny stearové nanesené na vrstvičky a sub25 straty, přes které může paprsek infračerveného záření procházet, lze tento paprsek infračerveného záření směrovat přes vrstvičky a substrát na detektor, umístěný na odvrácené straně vzorku, který je testován. Když vrstvičky a substráty nedovolují průchod infračerveného záření, lze paprsek infračerveného záření směrovat na povrch pod takovým úhlem, kdy prochází testovací vrstvičkou kyseliny stearové a odráží se od substrátu, na rozdíl od průchodu substrátem na detektor. Tato
5(i poslední metoda je známa jako reflexní infračervená spektroskopie.
Rychlost PASC reakce lze určit pro PASC povlak měřením rychlosti, s jakou tento povlak reaguje při odstraňování vrstvičky kyseliny stearové z tohoto povlaku, je-li tento PASC povlak vystaven radiaci aktinia. Rychlost PASC reakce je konkrétně vyjádřena stupněm snížení integrované intenzity valenčních vibrací C-11 vazeb (přímo úměrná povrchu pokrytí) s akumulovaným časem vystavení radiaci aktinia (dále předpokládáno ultrafialové) záření. Například je FTIR spektrofotometrem změřena počáteční PASC aktivita pro testovací vrstvičku kyseliny stearové na PASC povlaku. PASC povlak může nebo nemusí být vyslaven pro toto počáteční měření ultrafialovému záření. Kyselina stearová pokrývající PASC povlak je poté vystavena ultrafialovému záření po to měřený časový interval, na konci kterého se provádí pomocí FTIR. spektrofotometru druhé měření PASC aktivit). Očekává se, že integrované intenzity valenčních vibrací C-H vazeb při druhém měření budou nižší než při první měření díky tomu, že část testovací vrstvičky kyseliny stearové hýla odstraněna vystavením ultrafialovému záření. Z těchto dvou měření lze vynést křivku závislosti integrované intenzity valenčních vibrací C-H vazeb na čase, jejíž sklon určuje rychlost
PASC reakce. I když dva body jsou pro určení křivky postačující, je výhodné provést během měření PASC aktivity měření několik, aby se získala přesnější křivka. Zatímco doba vystavení ultrafialovému záření mezi měřeními FTIR spektrofotometrem muže být konstantní nebo se může měnit při akumulaci více než dvou měření PASC aktivity (protože pro vynášení křivky je použit kumulovaný čas vystavení ultrafialovému záření), intenzita a orientace (strana povlaku nebo strana substrátu) ultra Halového záření by měla být konstantní pro všechna měření při určování rychlosti PASC reakce.
Rychlost PASC reakce může být uváděna v em 'min ', kde vyšší hodnota indikuje větší PASC aktivitu. Neexistuje žádná absolutní rychlost, která vyjadřuje, že PASC povlak je „přijatelný nebo „nepřijatelný, protože to. zda PASC povlak má přijatelnou úroveň aktivity je široce určeno
- 11 CZ 300061 B6 účelem, pro který je předmět opatřený PASC povlakem použit a výkonnostními normami zvolenými pro tento účel. Pro většinu aplikací je žádoucí PASC aktivita alespoň kolem 2x10 \ výhodněji pak alespoň kolem 5 x 10 ' cm “min
Rovněž tak je užitečné měřit tloušťku PASC povlaku pro účelné určení a porovnání PASC aktivity PASC povlaku připravených dle předkládaného vynálezu, neboť tloušťka PASC povlaku může ovlivnit fotokatalytiekou aktivitu, jak bude dále demonstrováno na příkladech. Tloušťka PASC povlaku 24 a/nebo SIDB vrstvy 26. pokud existuje, může být určena bud' pomocí spektroskopické elipsometrie s proměnným úhlem (Varible Angle Speetroseopie Ellipsometry - dále κι VAŠE) nebo z profil o metr ických měření odstraněné hrany v měřené vrstvě nebo může být odhadnuta z interferenčních barev, jak je v dané oblasti známo.
Velikost částeček PASC povlaku 24 a/nebo SIDB vrstvy 26, pokud existuje, je možné vypočítat z údajů dífrakce rentgenových paprsků (X - ray Diffraction - dále jen XRD) za použití
Seherrerova vztahu. Tento vztah je v oboru znám a pojednání o něm lze nalézt v kapitole 9 knihy X-Ray Diffraction Procedil res for Póly cry stal line and Amorphous Materials. Klug and Alexander, John Wiley & Sons, lne. (1954).
Následující příklady předkládaného vynálezu jsou uvedeny pro ilustraci, avšak vynález na ně není omezen.
Příklad 1
PASC povlak o tloušťce 210 nm (21OOA) vytvořený CVD metodou
PASC aktivita povlaku oxidu titaničitého majícího tloušťku kolem 210 nm (2100Λ) byla zkoumána následujícím způsobem. PASC povlak byl nanesen pomocí CVD metody na substrát 22, který byl vzduchovou stranou kousku sodnovápenatokřemičiteho plaveného skla. prodávaného o pod ochrannou známkou SOLEX&1 firmou PPG Industries, lne., Pittsburgh. Pennsylvania. fen to kousek skla Solexfé) měl zhruba šířku 5,5 palců, délku 12 palců a tloušťku 0.016 palců (14cm x 30.5cm x 0,4ein) a byl pokryt PASC povlakem oxidu titaničitého za použití sklo CVD povlékaeího stroje 88, jak ukazuje obr. 3. Tento CVD povlékací stroj 88 obecně sestává ze tří zón, znázorněných na obr. 3. oddělených svislými čárkovanými čárami 90 a 92. Tyto tři zóny zahrnují pře35 dehřívací zónu 94, povlékací zónu 96 a chladicí zónu 98. Kousek skla Sol exot). označeného zde jako substrát 22, se pohyboval těmito třemi zónami na nekonečném dopravníku 102 ve směru šipky 104.
Substrát 22 byl přiveden do předehřívací zóny 94 a byl předehřát na teplotu kolem 649 °C (kolem κι I2OO°F) množinou ohřívačů 106 umístěných nad a pod dopravníkem 102. Poté byl substrát 22 dopravníkem 102 přiveden do CVD povlékací zóny 96. l ato CVD povlékací zóna 96 s výhodou obsahuje alespoň jednu povlékací jednotku 97. Aby bylo možné postupně nanášet více než jeden povlak, může povlékací zóna 96 obsahovat množinu povlckacích jednotek 92.
(5 Povlékací jednotka 97 obsahuje podpůrné subsystémy a řídicí prvky jako jsou subsy stém dodávání plynu, subsystém dodávání kapaliny, řízení teploty, subsystémy a řízení odsávání a monitorovací subsystémy teploty a tlaku, z nichž žádný není na obrázku uveden. Subsystém dodávání plynu řídí tok nosného plynu k povrchu substrátu 22. Jako nosný plyn byl použit dusík. Přívodní proud dusíku byl udržován ohřívači, které nejsou zakresleny, na teplotě kolem I 13 °C (kolem
235°F). NH; byl v nosném plynu obsažen 20 % celkového průtoku. Průtoková rychlost odsávání byla 125 % přívodní průtokové rychlosti. Prekurzor obsahující kov použitý pro nanášení PASC povlaku 22 kysličníku titaničitého byl TTIP, který tvořil 0,4 % objemu celkového průtoku a byl rovněž přiváděn při teplotě kolem 113 °C (kolem 235°F). Celkový průtok N2. NIh a TTIP páry CVD povlékacím strojem 88 byl 75 standardních litrů za minutu (sliti). Posuvná rychlost dopravníku 102 byla kolem 50 palců (127 cm) za minutu a šířka drážky povlékací jednotky byla
- D CZ 300061 B6 kolem 3/16 palců {0.48 cm). Substrát 22 byl v povlékací jednotce 97 udržován na teplotě kolem 554 °C (1030° E). přičemž byl na tento substrát 22 nanesen povlak 24 za účelem vytvoření vzorku 100 opatřeného povlakem. Na vzorku 100 byl vytvořen PASC povlak 24 oxidu titaničitého o přibližné tloušťce 210 nm (2100A) (jak bylo změřeno pomocí VAŠE).
Vzorek W0 opatřený povlakem potom postoupil chladící zóny 98, kde byl žíhán z počáteční teploty kolem 549 °C (l020°F) na konečnou teplotu kolem 121 °C (250°E) po dobu zhruba 26 minut.
io Vzorek 100 opatřen) PASC povlakem byl podroben XRD analýze. Byla určena velikost částeček PASC povlaku 24 kolem 30,9 nm (309Á). jak bylo vypočteno použitím Scherrerova vztahu. Povlečený vzorek 100 vykazoval ostré vrcholy v XRD obrazci, odpovídající oxidu titaničitému ve formě anatasu.
i? Poté byl vzorek 100 s PASC povlakem za účelem měření jeho fotokatalytické aktivity překrví testovací vrstvou kyseliny stearové. Roztok kyselina stearová/metanol o koncentraci kolem 6 x 10 1 mol kyseliny stearové na litr roztoku byl aplikován pipetováním tohoto roztoku rychlostí kolem 2 ml/10 sec na střed vzorku 100. přičemž povlečený vzorek 100 byl odstřeďován rychlostí kolem 1000 otáček za minutu, v důsledku čehož se kyselina stearová rozlévala po povrchu povle20 čeného vzorku 100 a odstředivou silou byla vytvořena na povrchu povlečeného vzorku 100 vrstva kyseliny stearové v podstatě jednotné tloušťky, o tloušťce v rozmezí zhruba W až 20 nm (100 až200Á). Výraz „v podstatě je v předchozím použit proto, Že tloušťka vrstvy kyseliny stearové nebyla konstantní po celé délce povlečeného vzorku 100, ale byla v důsledku působení odstředivé síly na koncích tohoto vzorku 100 silnější a ve středu vzorku 100 tenčí. Je nutné se uvědomit, že popsané koncentrace roztoku kyseliny stearové, rychlost otáčení, velikost vzorku a rychlost pipeto vání mohou být modifikovány za účelem získání povlaků kyseliny stearové požadované tloušťky. Podle výše popsaných parametrů byla průměrná tloušťka testovací vrstvičky kyseliny stearové kolem 150Á, jak bylo určeno kalibrací intenzity infračerveného záření mikrováhami s křemíkovým krystalem.
Vzorek 100 povlečený PASC povlakem oxidu titaničitého a testovací vrstvičkou kyseliny stearové byl z povlečené strany vzorku 100 ozařován ultrafialovým zářením z normálového zdroje černého světla o intenzitě 20 Wm na povrchu PASC povlaku 24 po celkovou dobu zhruba 30 minut za účelem vyvolání fotokatalytieky aktivovaného samoěištění testovací vrstvičky kyseliny stearové. Pro kvantitativní měření fotokatalytické aktivity byla prováděna periodická měření FTIR spektrofotometrem v průběhu kumulované doby 30 minut vystavení ultrafialovému světlu za použití EUR spektrofotometru vybaveného MCT detektorem. Konkrétné byla testovací vrstvička kyseliny stearové na vzorku 100 s PASC povlakem vystavena ultrafialovému záření po měřenou časovou periodu, po které byl povlečený vzorek 100 umístěn do EUR spektrofotometru, •40 kde byla pro určení PASC aktivity měřena integrovaná oblast pod C-l í absorpčním pásmem kyseliny stearové. Poté byl povlečený vzorek 100 opět vystaven ultrafialovému záření po další měřenou časovou periodu za účelem dalšího odstranění kyseliny stearové a poté bylo realizováno další ETIR měření. Tento postup se opakoval, čímž se získal diagram intenzity absorpce integrovaného infračerveného záření C-H valenčních vibrací v závislosti na kumulovaném čase vystavení ultrafialovému záření, jehož sklon udává PASC? rychlost pro vzorek 100 s PASC povlakem oxidu titaničitého a testovací vrstvičkou kyseliny stearové. Je nutné si uvědomit, žc všechna ETIR měření byla prováděna ve zhruba stejné oblasti vzorku 100, aby se minimalizovalo působení různosti tloušťky testovací vrstvy kyseliny stearové jak bylo výše popsáno. Rychlost fotokatalytické reakce byla určena na 3,53 x 10 3 cm 'min což se blíží hodnotě pro substráty povlečené PASC povlakem, které obsahují málo nebo žádné sodíkové ionty (například substráty z křemenného skla). To indikuje, že tloušťka 2100Á povlaku oxidu titaničitého byla pro překonání otravy sodíkovými ionty postačující.
C.7. 300061 B6
Příklad 2
PASC povlak o tloušťce 70 až 80 nm (700 až 800Á) vytvořena CVD metodou
PASC povlak 24 oxidu titaničitého o tloušťce kolem (70 až 80 nm) (700 až 800Λ) byl nanesen na skleněný substrát prostřednictvím CVD metody tímtéž způsobem jako v příkladu I. s následujícími výjimkami.
Sklo použité v příkladu 2 bylo 3 mm (0,12 palců) silné, čisté (tj. sodnovápenatokřemičité s nízio kým obsahem železa) sklo. Teplota předehřátí v příkladu 2 byla 593 °C (lOOOJJ, TTIP koncentrace v příkladu 2 byla OJ % při celkovém průtoku 50slrn. Nff byl obsažen v nosném plynu % celkového průtoku. Rychlost posunu byla 30 palců za minutu (76.2 cm za minutu). Šířka drážky byla 1/16 palec (0.16 cm). Tloušťka PASC povlaku 24 oxidu titaničitého byla odhadnuta z interferenčních barev způsobem známým v oblasti měření tlouštěk tenkých vrstev a bylo urče15 no. že je v oblasti kolem (70 až 80 nm) (700 až 800 A).
Testovací vrstvička kyseliny stearové byla na PASC povlak oxidu titaničitého aplikována tímtéž způsobem jak bylo uvedeno v příkladu 1 a poté byla vystavována ultrafialovému záření způsobem popsaným v tomto příkladu 1 s periodickými měřeními aktivity fotokatalyticky aktivovanc20 ho saniočištční PTIR spektrofotometrem po kumulovanou dobu 33 hodin. Rychlost fotokatalytické reakce byla určena na 0,17 x 10 1 cm 'min
Lze se domnívat, že snížená PASC aktivita z příkladu 2 vzniká v důsledku rozdílu v tloušťce povlaku oxidu titaničitého mezi příklady 1 a 210 nm (21 ()()A) versus zhruba (70 až 80 nm) (700 až 800A). Zvláště pak sc lze domnívat, že rychlost PASC reakce z příkladu 2 byla nižší než v příkladu 1 díky zvýšené hloubce difúze sodíkových iontů do povlaku oxidu titaničitého z příkladu 2. čili do většího procenta celkové tloušťky PASC povlaku oxidu titaničitého v příkladu 2 než v příkladu 1. Lze se domnívat, že v příkladu 2 sodíkové ionty migrovaly ze skleněného vzorku do PASC povlaku v chladicí peci 44. Jeden závěr, který může vyplývat z porovnání příkladů 1
A) a 2 je. že při absenci SIDB vrstvy jsou silnější PASC povlaky méně citlivé na otravu sodíkovými ionty, takže si udrží vyšší PASC aktivitu.
Příklad 3
PASC povlak na SIDB vrstvě vytvořené CVD metodou
V tomto příkladě bylo zjišťováno působení přítomnosti SIDB vrstvy oxidu cíniěitého na PASC aktivitu. SIDB vrstva oxidu cíničitcho byla vytvořena na vzduchové straně čtyř kousků plaveného skla a byly zkoumány některé fyzikální charakteristiky SIDB vrstvy. Poté bylo dalších šestnáct kousků plaveného skla opatřeno SIDB vrstvou oxidu cíniěitého CVD metodou a každá z těchto SIDB vrstev oxidu cíniěitého byla překry ta PASC povlakem oxidu titaničitého naneseného CVD metodou. Z každého zc šestnácti kousků plaveného skla opatřených PASC povlakem a SIDB vrstvou byl jeden vzorek odstřihnut a těchto šestnáct vzorků bylo překryto testovací vrst45 vičkou kyseliny slcarovc. Těchto šestnáct vzorků s testovací vrstvičkou kyseliny stearové, PASC povlakem oxidu titaničitého a SIDB vrstvou oxidu cíniěitého bylo vystaveno ultrafialovému záření a pro tyto vzorky byly určeny rychlosti PASC reakce.
3A. Vyšetřování SIDB vrstvy
SIDB vrstva byla nanesena prostřednictvím CVD metody za použití CVD zařízení popsaného v příkladě 1 na vzduchové straně čtyř kousků skla o velikosti zhruba 5 palců x 12 palců x 0,16 palců (12,7 cm x 30,48 cm x 0,4 cm), uříznutých z pásu sodnovápcnatokřemiěitého plaveného skla. Tato SIDB vrstva byla SIDB vrstva oxidu cíniěitého a bylo zjišťováno působení kon55 ccntrace prekurzoru obsahujícího kov, koncentrace vodní páry; rychlosti linky CVD, předehříva- 14CZ 300061 B6 cích teplot a tloušťky SIDB vrstvy na tuto SIDB vrstvu oxidu eíničitélio. Pro vytvoření SIDB vrstvy oxidu eíničitého CVD metodou byla pro všechny čtyři kousky skla jako prekurzor s obsahem kovu použita NBTTCL pára, která byla smíchána s vodní párou ve vzduchovém nosném plynu.
První ze čtyř kousků skla byl povlečen SIDB vrstvou oxidu eíničitého C‘VD metodou za pomoci zařízení z příkladu 1 přivedením MBTTCL páry o koncentraci kolem 1,5% a vodní páry o koncentraci kolem 1,5 % ve vzduchovém nosném plynu na vzduchovou stranu tohoto kousku skla. Predehřívací teplota byla kolem 648 °C (1200Ύ) a rychlost linky pro tento kousek skla byla io kolem 50 palců (127 cm) za minutu. Jak bylo určeno pomocí. VAŠE. takto vytvořená SIDB vrstva oxidu eíničitého mela tloušťku kolem?50 nm (35OOÁ). Změřený měrný odpor a velikost částeček SIDB vrstvy byly kolem 4.6 x 10 ohm.cm respektive 19,8 nm (198Á).
Druhý kousek skla byl opatřen SIDB vrstvou oxidu eíničitého obdobně, přičemž rychlost linky i? byla snížena na zhruba 20 palců (50,8 cm) za minutu a koncentrace MBTTCL páry a vodní páre byly sníženy na zhruba 0.5 % ve vzduchovém nosném plynu. Predehřívací teplota byla udržována na zhruba 648 °C (1200°F). Takto vytvořená SIDB vrstva oxidu eíničitého měla tloušťku kolem 4340Λ. jak bylo zjištěno pomoci VAŠE. Byl zjištěn měrný odpor kolem 3.9 x 10 ’ ohm.cm a velikost částeček kolem 18.5 nm (185Á),
2o
Obdobně byl opatřen SIDB vrstvou oxidu eíničitého třetí vzorek, přičemž teplota předehřátí byla snížena na zhruba 480 °C (900°F), zatímco rychlost linky sc zvýšila na zhruba 50 palců (127 em) za minutu. Ve vzduchovém nosném plynu byla koncentrace MBTTCL kolem 1,5 %, koncentrace vodní páry zhruba 1,5 %. Výsledná SIDB vrstva oxidu eíničitého měla tloušťku kolem 100 nm (lOOOÁ). jak bylo určeno pomocí VAŠE. měrný odpor kolem 3,8 x 10 “ ohm-cm a velikost částeček kolem 5,9 nm (59Á).
Obdobné byl SIDB vrstvou oxidu eíničitého opatřen čtvrtý kousek skla. predehřívací teplota byla udržována na hodnotě kolem 480 °C (900°F) a rychlost linky se snížila na 20 palců (50,8 em) za
5D minutu. Ve vzduchovém nosném plynu byla koncentrace MBTTCL zhruba 0.5 % a koncentrace vodní páry kolem 0,5 %. Tloušťka SIDB vrstvy oxidu eíničitého byla zjištěna pomocí VAŠE zhruba kolem 101 nm (ΙΟΙΟΑ). měrný odpor bvl koleni 2x 10 ohm-cm a velikost částeček kolem 7,8 nm (78Á).
Z předchozího byl učiněn závěr, že v uvedených rozmezích teplot, koncentrací, rychlostí linky a tloušťkách SIDB vrstvy se může měnit měrný odpor a velikost částeček, ale bylo zjištěno, že všechny čtyři kousky skla měly strukturu kasiteritu.
3B. Vytvoření PASC povlaku na SIDB vrstvě oxidu eíničitého CVD metodou
Šestnáct dalších kousků plaveného skla o rozměrech 5 x 12 x 0,16 palců (12,7 x 30,48 x 0,4 em) bylo povlečeno SIDB vrstvou oxidu eíničitého CVD povlékacím strojem způsobem, obecně popsaným v příkladu 3A. Dále byly pokryty PASC povlakem oxidu titaničitého pomocí CVD zařízení způsobem, popsaným obecně v příkladu 1. Pro tuto potahovací operaci byl ve spraženém CVD způsobu použit pár následných nanášecích jednotek (jedna pro SIDB vrstvu a jedna pro PASC povlak). Překrytí SIDB vrstvy PASC povlakem činí oddělenou analýzu SIDB vrstvy obtížnou, ne-ii nemožnou, a proto se předpokládalo, že SIDB vrstvy oxidu eíničitého překryté PASC povlakem oxidu titaničitého mají stejné vlastnosti jako nepřekryté vrstvy oxidu eíničitého popsané výše v oddíle 3A. ačkoli jak SIDB vrstvy, tak PASC povlaky byly na šestnáct skleněných kousků so naneseny při různých specifických parametrech, jak bude podrobněji popsáno dále a jak je uvedeno v tabulce 1.
Šestnáct SIDB vrstev oxidu eíničitého bylo nanášeno z prekurzorú obsahujícího kov tvořeného ΜΒΤΊ CL párou ve vzduchovém nosném plynu smíchanou s vodní párou, též nesenou vzduchem.
Teplota MB I ICL páry byla udržována na hodnotě kolem 160°C (320°F). Celková průtoková
- 15 CZ 300061 B6 rychlost byla 60 sím a odpovídající poměr přizpůsobení odsávání byl I 15 %. Šířka drážky byla 0.16 cm (1/16 palce). Specifické parametry povlékání. které se měnily pro SIDB vrstvy vytvářené v tomto příkladě zahrnovaly teplotu předehřívací zóny 94. rychlost linky, koncentraci MBTTCL, koncentraci vodní páry a tloušťku SIDB vrstvy. V tabulce I, uvedené níže. jsou parametry povlékání SIDB vrstvy oxidu eíničitého a očekávané tloušťky SIDB vrstvy pro každý ze šestnácti kousků skla. Nebyla prováděna skutečná měření tloušťky; očekávané tloušťky jsou založeny na výsledcích získaných v oddíle 3A. Těchto šestnáct kousků je v tabulce 1 rozděleno do čtyř skupin. každá po čtyřech substrátech, na základe teploty předehřátí a rychlosti linky.
- 16 CZ 300061 B6
CVD povlékací parametry bariérové vrstvy proti difúzi iontů sodíku
SnO2
Tabulka 1
| Skupina | Vzorek | Teplota | Rychlost | H2O | MBTTCL | Očekávaná |
| číslo | číslo | předehř. X X | posuvu | konc. | koncentr. | tloušťka |
| _ w W °F | palcc/min | % | % | SIDB vrstvy |
nm
| 1 | 1 | 900 | 20 | 0,5 | 0,5 | 1010 / | |
| 2 | 900 | 20 | 0,5 | 0,5 | 101/) | ||
| 3 | 900 | 20 | 0,5 | 0,5 | 10)0 | ||
| 4 | 900 | 20 | 0,5 | 0,5 | 10)0 | ||
| II | 5 | 900 | 50 | 1,5 | 1,5 | 100/) | |
| 6 | 900 | 50 | 1,5 | 1,5 | 100/) | ||
| 7 | 900 | 50 | 1,5 | 1,5 | 1000 t | ||
| 8 | 900 | 50 | 1,5 | 1,5 | 100,0 | ||
| III | 9 | 1200 | 20 | 0,5 | 0,5 | 4340 | |
| 10 | 1200 | 20 | 0,5 | 0,5 | 434/) | ||
| 11 | 1200 | 20 | 0,5 | 0,5 | 434/) | ||
| 12 | 1200 | 20 | 0,5 | 0,5 | 434p | ||
| IV | 13 | 1200 | 50 | 1,5 | 1,5 | 35()0 | |
| 14 | 1200 | 50 | 1,5 | 1,5 | 359Ο | ||
| 15 | 1200 | 50 | 1,5 | 1,5 | 3590 | ||
| 16 | 1200 | 50 | 1,5 | 1,5 | 3500 / |
** Teplota (°C) , Teplota (°F) - 32
1,8 pozru: 1 palec 2,54cm
Kazdy ze šestnácti kousku skla povlečeny SIDB vrstvou byl překryt PASC povlakem oxidu titaničitého naneseného v druhé povlékací CVD jednotce umístěné za první povlékací SIDB jednotkou. ve které byla I TIP pára jako prekurzor s obsahem kovu v nosném plynu dusíku (Ni) směrována na povrch skleněných kousku pokrytý SIDB vrstvou. Ke směsi TTIP/nosný plyn byl u osmi ze šestnácti skleněných kousků přidán amoniak (NIC). Nosný ply n by l pro všech šestnáct kousku m udržován na teplotě kolem 113 °C (235°F). Těchto šestnáct kousků bylo žíháno jako v příkladu 1.
- 17C.7. 300061 B6
Teplota TUP rozprašovače byla udržována kolem hodnoty 104.4 °C (22OCF). V tabulce 2 jsou uvedeny parametry PASC povlaku oxidu titaničitého pro těchto šestnáct kousku skla. 1 'yto kousky skla jsou v tabulce 2 rozděleny do čtyř skupin po čtyřech podle teploty předehřátí a rychlosti posuvu.
Tabulka 2
Parametry PASC povlaku TiO2
| Skupina č. | vzorek č, | Teplota * předehřátí# °F- | rychlost posuvu palce/min | celková rychlost proudění L/min | odsáv ání % | TTIP konce ntrac e % | nh3 koncertu ace % | šířka drážky palce |
| 1 | 1 | 900 | 20 | 35 | 105 | 0.1 | 0 | 1/16 |
| 2 | 900 | 20 | 7 5 | 105 | 0,4 | 0 | 3/16 | |
| 3 | 900 | 20 | 35 | 125 | 0,4 | 20 | 1/16 | |
| 4 | 900 | 20 | 75 | 125 | 0,1 | 2 | 3/16 | |
| II | 5 | 900 | 50 | 75 | 125 | 0,4 | 0 | 1/16 |
| 6 | 900 | 50 | 35 | 125 | 0.1 | 0 | 3/16 | |
| 7 | 900 | 50 | 75 | 105 | OJ | 20 | 1/16 | |
| 8 | 900 | 50 | 35 | 105 | 0,4 | 20 | 3/16 | |
| III | 9 | 1200 | 20 | 75 | 125 | 0,1 | 0 | 1/16 |
| 10 | 12000 | 20 | 35 | 125 | 0,4 | 0 | 3/16 | |
| 11 | 1200 | 20 | 75 | 105 | 0.4 | 20 | 1/16 | |
| 12 | 1200 | 20 | 35 | 105 | 0,1 | 20 | 3/16 | |
| IV | 13 | 1200 | 50 | 35 | 105 | 0,4 | 0 | 1/16 |
| 14 | 1200 | 50 | 75 | 105 | o,1 | 0 | 3/16 | |
| 15 | 1200 | 50 | 35 | 125 | 0,1 | 20 | 1/16 | |
| 16 | 1200 | 50 | 75 | 125 | 0,4 | 20 | 3/16 |
Pozn. 1 palec 2.54cm ^Teplota předehřáli se zde vztahuje k teplotě předehřívací zóny 94. Byla pouze jedna operace předehřátí a zde uvedené teploty předehřátí jsou tytéž teploty, na které se předehřály kousky skla v předehřívací zóně při pohybu povlékaeím strojem 88, kde byla nejprve vytvořena SIDB vrstva a poté PASC povlak, a to před vstupem do chladicí zóny 98.
V níže uvedené tabulce 3 jsou vybrané vlastnosti každého ze šestnácti kousků skla po aplikaci PASC povlaku, jak bylo popsáno v tabulce 2. Tloušťky PASC povlaku nebyly měřeny, ale předpokládá se. že se uvnitř každé skupiny mění, díky rozdílům v dalších parametrech nanášení, jako je rychlost linky a koncentrace prekurzoru. Povrchová drsnost a velikost částeček PASC povlaku byly určovány, aby bylo možné dát do vztahu PASC aktivitu a drsnost a velikost částeček. Měření povrchové drsnosti byla prováděna odhadem na základě měření mikroskopem atomárních sil (Atomie f;orce Microscope - dále jen AFM) prováděných na PASC povlaku. Bylo zjištěno, že existují velké rozdíly v drsnosti povrchu, velikosti částeček a krystalické fázi jako funkce teploty předehřátí.
- 18CZ 300061 B6
Tabulka 3
Vlastnosti PASC povlaku Tí(T
| Skupina c. | Vzorek č. | Povrchová drsnost Rms 1 | Velikost částeček nm | Krystalická fáze |
| 1 | 1 | 4,13 | nedetekováno | |
| 2 | 5,18 | nedetekováno | ||
| 3 | 7,87 | anatas/rutil | ||
| 4 | 7,84 | anatas/rutil | ||
| II | 5 | 6,39 | nedetekováno | |
| 6 | 4,38 | nedetekováno | ||
| 7 | 5,99 | a natas/rut i I | ||
| 8 | 7,50 | nedetekováno | ||
| lil | 9 | 14,71 | nedetekováno | |
| 10 | 15,58 | 2J7 | anatas | |
| 11 | 23,08 | 121 t | anatas | |
| 12 | 16,93 | 13/5 | anatas | |
| IV | 13 | 13,13 | 21;6 | anatas |
| 14 | 15,72 | * | nedetekováno | |
| 15 | 14,52 | * | slabá anatas | |
| 16 | 15,93 | analns |
*Nebylo možné počítat velikost částeček, protože buď nebyly detekovány žádné špičky pro fázi anatasu v difrakcní mřížce rentgenových paprsků (vzorky 1,2,5,6,8,9 a 14) nebo byly tyto špičky velmi široké a slabé pro měření (vzorky 3,4,7 a 15).
3C. Popis testování PASC aktivity šestnácti substrátů
Vzorek neboli testovací proužek o velikosti 1 palec x 4 palce (2,54 x 10,16 cm) byl vystřižen ze středu každého z šestnácti skleněných kousků, pokrytých PASC povlakem a S1DB vrstvou. Kawiý v těchto šestnáct: testovacích proužků by! odstředěním překryt testovací vrstvičkou kyseliny stearové, jak bylo popsáno v příkladu 1. Pak bylo těchto šestnáct testovacích proužku vystaveno ultrafialovému záření ze zdroje černého světla o intenzitě 20 W/nr po dobu 7 hodin kumulované časové periody za účelem vybuzení fotokatalyticky aktivovaného samočistční testovací vrstvičky kyseliny stearové.
- 19CZ 300061 B6
Protože bylo zjištěno, že tloušťka testovací vrstvičky kyseliny stearové se v délce testovacích proužků 1 x4 palce (2,54 x 10,16 cm) mění (tj. silnější testovací vrstvička kyseliny stearové na každém konci testovacích proužků a tenčí testovací vrstvička kyseliny stearové směrem ke středu každého testovacího proužku, díky působení odstředivé síly na kyselinu stearovou kápnutou na střed otáčejícího se testovacího proužku jak bylo popsáno výše a jak bylo vizuálně pozorováno změnou interferenčních barev v délce těchto testovacích proužků), bvla fotokatalvtická aktivita měřena na každém konci každého ze šestnácti testovacích proužků, za použití FTIR spektrofotometru vybaveného MCT detektorem. Rychlosti PASC reakce získané FTIR spektroskopickými testy jsou pro každou dvojici testů provedených na každém z šestnácti testovacích proužků uvelo děny v tabulce 4.
Tabulka 4 b Fotokatalytieky aktivovaná samočisticí aktivita šestnácti testovacích proužků
| Skupina č. | Vzorek č. | Rychlost aktivity Levá strana testproužku X 10'3cm'1min1 | Aktivita Pravá strana test. proužku X 102cm'1min'1 |
| I | 1 | 0,39 | 0,45 |
| 2 | 0,32 | 0,28 | |
| 3 | 0,26 | 0,31 | |
| 4 | 0,4 | 0,39 | |
| II | 5 | 0,5 | 0,57 |
| 6 | 0,23 | 0,14 | |
| 7 | 0,27 | 0,22 | |
| 8 | 0,014 | 0,019 | |
| III | 9 | 0,23 | 0,048 |
| 10 | 0,96 | 077 | |
| 11 | 0,4 | 0,31 | |
| 12 | 0,52 | 0,43 | |
| IV | 13 | 1,18 | 0,94 |
0,73 0,77
0,42 0,41
075 0,35
Z tabulky 4 je zřejmé, že pro některé testovací proužky existuje významný rozdíl v aktivitách mezi oběma konci testovacího proužku. Lze se domnívat, že tento rozdíl má vztah k nejednotnosti tloušťky vrstvy kyseliny stearové na testovacím proužku.
-20 CZ 300061 B6
Podle tabulky 4 se zdá, že neexistuje dostatečná korelace mezi podmínkami nanášení a PASC aktivitou PASC povlaku naneseného na SIDB vrstvu. Tabulka 4 ukazuje, že na základě aktivit levých stran testovacích proužků jsou nejaktivnější tři testovací proužky, a to vzorky 13, 10 a 14.
Tyto proužky 13. 10 a 14 odpovídají vyšší teplotě předehřátí 1200° F (648.8 °C). Jestliže se zbývajících 13 testovacích proužků seřadí podle PASC aktivity, je vidět směs předehřívacích teplot jakož í ostatních parametrů povlékání indikující, že přítomnost bariérové vrstvy proti difúzi sodíkových iontů může působit na prevenci otravy PASC povlaku sodíkovými ionty a může umožnit větší rozsah povlékacích podmínek a parametru, při kterých se ještě získá fotokatalytieká aktivita.
io
Příklad 4
PASC povlak vytvořený rozprašovací pyrolýzou
V tomto příkladu byly kousky skla povlečeny rozprašovací pyrolýzou PASC povlakem oxidu titan ičitého různé tloušťky za účelem zjišťování působení této tloušťky PASC povlaku na PASC aktivitu.
2o Tři kousky plaveného skla, každý o rozměrech 4 x 4 x 0,16 palců (10,16 x 10.16 x 0.4 cm) měly vzduchovou stranu povlečenou PASC povlakem oxidu titaničitého, který byl vytvořen rozprašovací pyrolýzou.
Základní části zařízení pro rozprašovací pyrolýzu použitého pro vytvoření PASC povlaku na kousky skla jsou uvedeny na obr. 4. Toto zařízení obsahuje předehřívací zónu 120 a zónu 122 pyrolytického rozprašování. Kousek 126 skla byl dopravníkem, který není nakreslen, dopraven do předehřívací zóny 120, kde byl zahřát pomocí množiny elektrických ohřívačů 130 na teplotu v rozmezí kolem 600 °C až 700 °C (1112°F až 1292°F). Tento kousek 126 skla byl dále dopraven za kmitající rozprašovací trysku 132, která byla umístěna zhruba 10 palců (25,4 cm) nad vzduji) chovou stranou kousku 126 skla. Vodní suspenze organokovových povlékacích reagujících složek 134 byla udržována v suspenzním stavu pomocí míchacího zařízení F36 v mísící komoře 138. Tato vodní suspenze 134 byla vedena potrubím 140 do naprašovací trysky 132, kde byla smíchána se stlačeným vzduchem jakýmkoli vhodným způsobem (stlačeny vzduch je od zdroje 142 stlačeného vzduchu veden do rozprašovací trysky 132 potrubím 144). Tvar 146 rozprašování byl vytvořen tím, žc směs vodní suspenze 1_34 a stlačeného vzduchu byla naprášena z. trysky 112 na povrch kousku 126 skla a byla pyro lyžována za účelem vytvoření PASC povlaku na tomto kousku 126 skla. Kousek 126 skla opatřený PASC povlakem byl ochlazen na vzduchu,
Pro tento příklad byl jako organokovová povlékací reagující složka 134 vybrán acety laceton
4o titanoxid a rychlost vodní suspenze přiváděné na povrch tří kousků 126 skla byia řízena tak, aby na každém kousku skla vznikl PASC' povlak s požadovanou tloušťkou, t loušťky byly 40 nm (400A), 72.5 nm (725A) a 100 nm (Ι000Α). Všechny povlékací parametry byly udržovány konstantní. aby byl určen vliv tloušťky PASC povlaku na fotokatalytickou aktivitu pro PASC povlak oxidu titaničitého nanesený rozprašovací pyrolýzou na čisté plavené sklo bez SIDB bariérové vrstvy.
Tabulka 5 ukazuje konkrétní povlékací parametry pro tento příklad.
. Ί
Cl 300061 Bó
Tabulka 5
Parametry pyroly tiekého napravování PASC povlaku oxidu titaničitého
| Vzorek č. | Rychlost posuvu palec/mín | Povlaková reagující složka | Koncentrace organokovu gms/í nebo poměr | Přívodní rychlost ml/min | Tlak rozprašovacíh o vzduchu | Teplota nanášení UC | Tloušťka oxidu titaničitého nm |
| A | 75 | titanyl acetylacetonát | 20 gml | 40 ml/min | 50 | 572 | 400 ) |
| B | 75 | titanyl acetylacetonát | 20 o ml | 55 ml/min | 50 | 577 | |
| C | 75 | titanyl acetylacetonát | 27 g m! | 57 m(/min | 50 | 688 | 1000 1 |
Po nanesení PASC povlaku oxidu titaničitého byl každý ze tří skleněných kousků rozřezán na čtyři testovací proužky o velikosti 1 x 4 palců (2.54 x 10,16 em), čímž vzniklo celkem 12 testovacích proužků.
Jeden testovací proužek z každého ze třech původních skleněných kousků byl podroben difrakční m analýze rentgenovým zářením. Z této analýzy bylo zjištěno, že všechny ze tří skleněných kousků mají silné rentgenové difrakční čáry odpovídající oxidu titaničitému ve formě anatasu.
Pro vyhodnocení fotokataíytické aktivity těchto tří skleněných kousků byl vždy jeden testovací proužek z každého ze tří skleněných kousků pokryt testovací vrstvičkou kyseliny stearové. způ15 sobem popsaným v příkladě I. Tyto tři testovací proužky byly poté vystaveny po dobu sedmi hodin kumulované časové periody ultrafialovému záření o intenzitě 20 W/m“ ze zdroje černého světla umístěného kolmo na pokrytou stranu každého testovacího proužku. Rychlost fotokatalytické reakce každého ze tří testovacích proužků byla kvantitativně určena FTIR spektroskopií za použití MC I’ detektoru, jak bylo popsáno výše. Rychlost fotokataíytické reakce pro tyto tři testo2o \aeí proužky je uvedena v tabulce 5.
Z výše uvedeného lze vyvodit, že nízké, ale přijatelné rychlosti fotokataíytické reakce lze získal PASC povlaky vytvořenými technikou rozprašovací pyrolýzy, aniž by došlo k otravě PASC povlaku sodíkovými ionty. Lze též vyvodit, že silnější PASC povlaky zvy šují PASC aktivitu, jak
2? demonstruje vzorek C v tabulce 5,
Příklad 5 so Porovnání PASC povlaků vytvořených rozprašovací pyrolýzou s a bez SIDB vrstvy a zjišťování vlivu žíhání po nanesení PASC povlaku
V tomto experimentálním uspořádání bylo osm kousků skla opatřeno PASC povlakem použitím metody rozprašovací pyrolýzy za účelem určení vlivu přítomnosti nebo nepřítomnosti SIDB vrstvy, tloušťky PASC povlaku a teploty substrátu během nanášení PASC povlaku na rychlost PASC reakce PASC povlaku.
Vzduchová strana čtyř z osmi kousku 4milimetrového plaveného skla Solex® byla pokryta 50 nm (500Á) silnou SIDB vrstvou oxidu eíničitého, i která byla nanesena rozprašovací pyrolý40 /.ou z vodní suspenze dibuty Icíntluoridu (C.jHqhSnF, a smáčedla. SI DB vrstva oxidu eíničitého byla aplikována zařízením pro rozprašovací pyrolýzu a způsobem popsaným v příkladě 4. Po nanesení SIDB vrstvy byly skleněné vzorky ochlazeny na pokojovou teplotu, tyto čtyři skleněné
- 77 CZ 300061 B6 kousky a zbývající čtyři skleněné kousky byly přes SIDB vrstvu povlečeny PASC povlakem oxidu titaničitého a byly ochlazeny na pokojovou teplotu. Je nutné poznamenat, že čtyři kousky skla pokryté SIDB vrstvou, které byly ochlazeny na pokojovou teplotu mezí aplikací SIDB vrstvy a PASC povlaku a poté znovu ohřátý před aplikací PASC povlaku, byly připravovány tímto zpu5 sobem proto, žc laboratorní zařízení pro rozprašovací pyrolýzu použité při tomto pokusu mělo pouze jedno místo rozprašovací pyrolýzy, což vyžadovalo přechod zc suspenze dibutilcíndifluoridu (pro vytvoření SIDB vrstvy) na suspenzi acetylacelon titanoxid (pro vytvoření PASC povlaku). Tento mezikrok chlazení by byl vyloučen ve výhodném provedení povlékacího stroje, například opatřeného dvěma místy pro rozprašovací pyrolýzu pro následné nanesení SIDB vrstvy a io PASC povlaku na pohybující se substrát, jako je spojitý pás plaveného skla. bez mezikroku chlazení.
Poté. co bylo všech osm skleněných kousků opatřených PASC povlakem ochlazeno na pokojovou teplotu, byly tyto skleněné kousky překryty vrstvičkou kyseliny stearové popsané v příkladě 1 a tyto vrstvičky pak byly vystaveny ultrafialovému záření světelného zdroje UVA 340 umístěného kolmo k potažené straně skleněných kousků za účelem vytvoření intenzity 20 W/mJ na povrchu PASC povlaku. Rychlost PASC reakce pro odstranění testovací vrstvičky kyseliny stearové byla kvantitativně určena použitím způsobu popsaného v příkladě 1. Tato rychlost reakce je zaznamenána v níže uvedené tabulce 6 ve sloupci sc záhlavím O.OOmin, Je nutné poznamenat, že parametr O.OOmin se vztahuje ke skutečnosti, že kousek skla s vytvořeným PASC povlakem byl poté ponechán, aby se ochladil na pokojovou teplotu a nebyl žíhán; nevztahuje se k akumulované době vystavení ultrafialovému záření.
Působení času žíhání na odstranění kyseliny stearové bylo zjišťováno následujícím způsobem.
Zbývající testovací vrstvička kyseliny stearové byla omyta z PASC povlaku každého z osmi skleněných kousků otíráním povrchu utěrkou napuštěnou metylalkoholem tak dlouho, až. nebyla pozorována žádná vrstvička kyseliny stearové nebo zákal. Pak bylo těchto osm kousků skla postupně umísťováno do pccc. udržované po dobu zhruba 3 minul na teplotě 500 °C (932°F) za účelem ohřátí jednotlivých kousků skla. Ohřívací pec byla vypnuta, dveře pece otevřeny a každý so z kousků skla byl v peci ponechán, dokud se neocbladil zhruba na pokojovou teplotu. Malá rychlost) ochlazování v peci zajišťovala vyžíhání. Každý z jednotlivých kousků skla byl pak překryt novou testovací vrstvičkou kyseliny stearové, vystaven ultrafialovému záření a byla určena rychlost PASC reakce stejným způsobem jako u nevyžíhaného PASC povlaku, popsaným bezprostředně výše v tomto příkladu. Zbývající testovací vrstvička kyseliny stearové byla opět omyta z povrchu každého jednotlivého kousku skla jak bylo popsáno výše a každý z těchto kousků skla byl jednotlivě podroben přídavnému ohřívání po dobu 10 minut a ponechán v peci k pomalému ochlazování stejným způsobem, vedoucím k 13niinutové době akumulovaného ohřevu, načež byla znovu aplikována testovací vrstvička kyseliny stearové tak, jak bylo popsáno a byla stanovena rychlost PASC reakce, jak bylo uvedeno výše. Proces se opakoval ještě jednou •ta za účelem získání 73miuutové doby akumulovaného ohřevu s následujícím pomalým chlazením v peci, které zajišťuje vyžíhání.
Vlastnosti SIDB vrstvy a PASC povlaku a rychlost PASC reakce versus doba akumulovaného žíhání pro těchto osm skleněných kousků (D - K) jsou uvedeny v následující tabulce 6.
CZ 300061 Bó
Tabulka 6
Rychlosti reakce fotokatalytieké aktivit) PASC povlaků s a bez bariérové vrstvy proti difúzi sodíkových iontů
| Vzorek č. | Rariér vrstva | Tloušťka TiO2 | Teplota skla během nanášení TiO2 | Fotokatalytieké aktivita* po ochlazení na 500°C | |||
| 0,00 | 3 | 13 | 73 | ||||
| min | min | min | min | ||||
| D | žádná | 400nm | 1t45°F | 0,72 | 1,05 | 1,94 | |
| E | žádná | 625ntn / | 1145°F | 0,69 | 1,05 | 1,67 | 2,97 |
| F | 500A | 400nm t | 1147°F | 2,39 | 5,02 | 7,39 | *** |
| SnO2 | |||||||
| G | 500Á | 6^5nm | 1152°F | 2,23 | 5,35 | 8,74 | 5,13 |
| SnO2 | |||||||
| H | žádná | 400nm i | 1260°F | 2,05 | 6,59 | 5,14 | * * A |
| 1 | žádná | 625 nm t | 1260°F | 4,71 | 7,99 | 9,95 | 5,39 |
| J | 500A | 40,0 nm | 1300°F | 2,4 | 5,26 | 3,73 | *A* |
| SnC>2 | |||||||
| K | 500A | 62,5nm | 128O°F | 4,64 | 12,29 | 5,57 | 4,4 |
S Π O 2 ‘rychlost PASC reakce pro odstranění kyseliny stearové (x 1 0’3crrf1 min'1)
Výsledky fotokatalytieké analýzy uvedené v tabulce 6 naznačují, že tloušťka vrstvy oxidu titaničitého kolem 62,5 nm (625Á) bez bariérové vrstvy (vzorek I) se může přiblížit PASC aktivitě tenčího 40 nm (400Á) PASC povlaku na SIDB vrstvě (vzorek K). Je nutné poznamenat, že u vzorku K byla SIDB vrstva podrobena ochlazení mezi operacemi a následnému opětnému ohřátí, iu jak bylo popsáno, kde operace znovuohřátí mohla snížit účinnost SIDB vrstvy pro vzorek K.
která by mohla mít jinak vyšší PASC aktivitu.
Vzorek K z tabulky 6 rovněž ukazuje jak významný dopad může mít na rychlost PASC reakce doba žíhání. Po 3 minutách žíhání vzrostla PASC aktivita vzorku K ze zhruba 4,64 na zhruba 12,29 x 10 Vm 'min ', ale následně s dalším žíháním klesala. Má se zato, že během žíhání se vytvořil PASC povlak oxidu titaničitého ve fázi anatasu, když byla měřena PASC aktivita po tříminutovém časovém úseku a byl vytvořen bez patrné otravy sodíkovými ionty díky přítomnosti riviflii pinii Q I ΓΛ vrctvA I i ců L I ί ί )rt* pokračování žíhání po příliš dlouhou akumulovanou dobu může vy volal otravu sodíkovými ionty, navzdory přítomnosti SIDB vrstvy, což by mohlo vysvětlovat pokles PASC' aktivity vzorku K
Výše uvedené příklady ilustrují předkládaný vynález, avšak vynález ji mi není omezen.
-74 CZ 300061 B6
Přestože výše uvedené způsoby vytvoření PASC povlaku byly popsány ve spojení s vytvořením takových povlaků na kontinuálním pohybujícím se substrátu, například na pásu plaveného skla.
během výroby tohoto substrátu, je třeba si uvědomit, že tylo způsoby by mohly být rovněž použity v dalších fázích procesu výroby substrátu. Například by PASC povlaky mohly být vytvořeny na substrátech včetně, ale ne jenom, skleněných substrátů jako část procesů ohý bání a/nebo temperování substrátu. Například, když je skleněný substrát ohříván za účelem následného ohýbání a/nebo temperování, může na něm byt před tímto ohýbán ím/tem pérováním vytvořen PASC povlak s nebo bez SIDB vrstvy rozprašovací pyrolýzou nebo technikami CVD nebo MSVD popsanými výše. CVD způsob a rozprašovací pyrolýza mohou být použity, když je skleněný substrát ío zahřát na teplotu ohýbání/temperování. PASC povlak s nebo bez SIDB vrstvy může být aplikován na skleněný substrát v operaci dodatečného znovuohřátí po ohýbání/temperování kteroukoli z metod CVD, rozprašovací pyrolýza nebo MSVD.
Lze se domnívat, že existují rozdíly v PASC povlacích připravených procesem sol - gelu a v
PASC povlacích připravených výše uvedenými způsoby. Například je možné očekávat, že PASC povlaky připravené metodou sol - gelu mohou být poréznější, méně husté, všeobecně silnější a méně aplikovatelné pro užití jako transparentní a mohou obsahovat více OH skupin než vrstvy, připravené CVD způsobem nebo rozprašovací pyrolýzou. Jak bylo uvedeno výše, nadbytek OH skupin je nežádoucí, protože může blokovat vytvoření správné krystalické formy v PASC povla20 ku, což může mít za následek snížení PASC aktivity. Očekává se. že PASC povlaky připravené CVD způsobem nebo rozprašovací pyrolýzou budou mít jemnější strukturu zrna než vrstvy připravené metodou sol - gelu.
Claims (17)
- PATENTOVÉ NÁROKY50 L Způsob výroby fotokatalyticky aktivovaného samočisticího předmětu, vyznačující se tím, že sestává z kroků vytvoření skleněného předmětu majícího alespoň jeden povrch a vyrobeného procesem plavení a nanesení fotokatalyticky aktivované samočisticí vrstvy na povrch předmětu způsobem, který se vybere ze skupiny sestávající z chemického pokovování srážením kovových par a rozprašovací pyrolýzy během procesu výroby skla, kdy pás plaveného55 skla prochází cínovou lázní a dále obsahující krok nanesení vrstvy zabraňující otravě sodíkovými ionty vybrané zi) bariérové vrstvy proti difúzi sodíkových iontů způsobem vybraným ze skupiny sestávající z chemického pokovování srážením kovových par a rozprašovací pyrolýzy s tloušťkou a les4o poň 10 nm (100 Á) mezi povrchem a fotokatalyticky aktivovaným samočisticím povlakem, aii) z části celkové tloušťky fotokatalyticky aktivovaného samočisticího povlaku, kde tento fotokatalyticky aktivovaný samočisticí povlak má tloušťku překračující minimální tloušťku,45 takže sodíkové ionty jsou schopné migrovat pouze částí celkové tloušťky tohoto fotokatalyticky aktivovaného samočisticího povlaku během každého časového období, vc kterém teplota substrátu překročí teplotu umožňující migraci sodíkových iontů, takže tloušťka fotokatalytieky aktivovaného samočisticího povlaku na opačné straně než je povrch substrátu je schopná si zachovat fotokatalyticky aktivovaný samočisticí povlak a nanesení tohoto foto50 katalyticky aktivovaného samočisticího povlaku přes vrstvu zabraňující otravě sodíkovými ionty, na základě čehož bariérová vrstva sodíkových iontů zabraňuje migraci sodíkových iontů z povrchu předmětu do fotokatalyticky aktivovaného samočisticího povlaku.- 25 C7 300061 B6
- 2. Způsob podle nároku 1. v y z n a č u j í c í se t í m . že obsahuje krok žíhání fotokatalytieky aktivovaného samočisticího povlaku za účelem zvv šení ry chlosti fotokatalv tické reakce tohoto fotokatalytieky aktivovaného samočisticího povlaku.?
- 3, Způsob podle nároku 2. vy z n ač u j í c í se t í m , že žíhání zahrnuje krok zvýšení teploty fotokatalytieky aktivovaného samočisticího povlaku na teplotu kolem 500 °C po dobu alespoň 3 minut a řízené ochlazování tohoto fotokatalytieky aktivovaného samočisticího povlaku.
- 4. Způsob podle nároku 3, vyznačující se tím, že fotokatalytieky aktivovaný io samočisticí povlak má rychlost fotokatalytické reakce alespoň 2 x 10 'cm 'min
- 5. Způsob podle nároku 4, vyznačující se t í m , že rychlost fotokatalytické reakce je určena jako rychlost odstranění testovací vrstvičky kyseliny stearové o tloušťce v rozmezí od 10 do 20 nm nanesené na uvedený fotokatalytieky aktivovaný samočisticí povlak, kde tato ryehts lost fotokatalvtické reakce je kvantitativně určena jako sklon křivky vytvořené vynesením množiny měření integrované intenzity valenčně vibračních absorpčních pásem uhlovodíku testovací vrstvy kyseliny stearové pomocí infračerveného spektrofotometru s Fourierovou transformací v závislosti na akumulovaném čase vystavení tohoto fotokatalytieky aktivovaného samočisticího povlaku ultrafialovému záření o kmitočtu v oblasti kolem 300 až 400 nanometrů poskytovaného20 zdrojem ultrafialového záření umístěným nad uvedeným fotokatalytieky aktivovaným samočisticím povlakem a majícím intenzitu kolem 20 W/m , změřenou na povrchu tohoto fotokatalytieky aktivovaného samočisticího povlaku.
- 6. Způsob podle nároku 1. vyznačující sc tím, že fotokatalytieky aktivovaný25 samočisticí povlak je tvořen oxidem kovu vybraným ze skupiny sestávající z oxidů titanu, oxidů železa, oxidů stříbra, oxidů mědi, oxidů wolframu, oxidů hliníku, oxidů křemíku, oxidů zinku, oxidů molybdenu, titanátu stroncia, eíničitanů zinku a jejich směsí.
- 7. Způsob podle nároku 6. vy z n a č u j í c í sc t í m , že fotokatalytieky aktivovaný samo3(i čisticí povlak obsahuje oxid titaničitý vybraný ze skupiny sestávající z oxidu titaničitého ve formě anatasu, rutilu, brookitu ajejich směsí a kombinací fází anatasu a/nebo rutilu s brookotem a/nebo amorfních fází.
- 8. Způsob podle nároku 1, kdy fotokatalytieky aktivovaný samočisticí povlak je nanesen září35 zením pro chemické pokovování srážením kovových par umístěným nad povrch plaveného pásu v okamžiku výroby kdy plavený pás prochází cínovou lázní, vyznačující se t í m , že obsahuje nasměrování prekurzoru obsahujícího kov vybraný ze skupiny obsahující chlorid titaničitý, tetraizopropylát titaničitý a tetraetylát titaničitý v proudu nosného plynu tímto zařízením pro chemické pokovování srážením kovových par na povrch pásu plaveného skla. a žíhání tohoto •to pásu plaveného skla za účelem vytvoření fotokatalytieky aktivovaného samočisticího povlaku oxidu titaničitého na tomto pásu plaveného skla.
- 9. Způsob podle nároku 1, kdy fotokatalytieky aktivovaný samočisticí povlak je nanesen zařízením pro rozprašovací pyrolýzu umístěným nad povrch plaveného pásu v okamžiku výroby kdv45 plavený pás prochází cínovou lázní, vyznačující se t ί ιη , že rozprašovací pyrolýza zahrnuje nasměrování vodní suspenze acetyl aceton ti ta nox idu jako prekurzoru obsahujícího kov a smáčedla ve vodním médiu tímto povlékacím zařízením pro rozprašovací pyrolýzu na povrch pásu plaveného skla. a že vyžíhání tohoto pásu plaveného skla se děje na vzduchu za účelem vytvoření fotokatalytieky aktivovaného samočisticího povlaku oxidu titaničitého na tomto pásu5d plaveného skla.
- 10. Způsob podle nároku 1, vy zn ač u j í c í se t í m , že fotokatalytieky aktivovaný samočisticí povlak má tloušťku alespoň 20 nm.-26CZ 300061 B6
- 11. Způsob podle nároku 1, vy znacuj ící se t í m . že fotokatalyticky aktivovaný samočisticí povlak má tloušťku alespoň 40 nm.
- 12. Způsob podle nároku 1.vyznačující se t í m . že fotokatalyticky aktivované samo5 čisticí povlak rná tloušťku alespoň 50 nm.
- 13. Způsob podle nároku 1.vyznačuj ící se t í m , že bariérová vrstva proti difúzí sodíkových iontů je vy brána ze skupiny sestávající z krystalického oxidu kovu. amorfního oxidu kovu a jejich směsí.KI
- 14. Způsob podle nároku 13.vyznačuj ící se t ί m , že bariérová vrstva proti difúzi sodíkových iontů je vybrána ze skupiny sestávající z oxidů cínu, oxidů křemíku, oxidu titanu, oxidů zirkonia, oxidů cínu dopovaných fluorem, oxidů hliníku, oxidů hořčíku, oxidů zinku, oxidů kobaltu, oxidů chrómu, oxidů železa a jejich směsí.
- 15. Způsob podle nároku 14, v y z π a č u j í c í se t i m . že bariérová vrstva proti difúzi sodíkových iontů má tloušťku alespoň kolem 25 nm.
- 16. Způsob podle nároku 14, v y z n a č u j í c í s c t í m , že bariérová vrstva proti difúzi sodí20 kových iontů má tloušťku alespoň kolem 40 nm.
- 17. Způsob podle nároku 1,vyznačující se tím, že bariérová vrstva proti difúzi sodíkových iontů má tloušťku alespoň kolem 50 nm.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US4056697P | 1997-03-14 | 1997-03-14 | |
| US08/899,257 US6027766A (en) | 1997-03-14 | 1997-07-23 | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ310099A3 CZ310099A3 (cs) | 2000-04-12 |
| CZ300061B6 true CZ300061B6 (cs) | 2009-01-21 |
Family
ID=26717182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ0310099A CZ300061B6 (cs) | 1997-03-14 | 1998-03-12 | Zpusob výroby fotokatalyticky aktivovaného samocisticího predmetu |
Country Status (20)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US6027766A (cs) |
| EP (1) | EP0966409B1 (cs) |
| KR (1) | KR100499549B1 (cs) |
| CN (2) | CN100462320C (cs) |
| AT (1) | ATE233230T1 (cs) |
| AU (1) | AU737164B2 (cs) |
| BR (1) | BR9808337A (cs) |
| CA (1) | CA2283222C (cs) |
| CZ (1) | CZ300061B6 (cs) |
| DE (1) | DE69811640T2 (cs) |
| DK (1) | DK0966409T3 (cs) |
| ES (1) | ES2195323T3 (cs) |
| HK (1) | HK1028014A1 (cs) |
| ID (1) | ID23383A (cs) |
| IL (2) | IL131767A0 (cs) |
| PL (1) | PL199170B1 (cs) |
| PT (1) | PT966409E (cs) |
| SK (1) | SK287462B6 (cs) |
| TR (2) | TR199902245T2 (cs) |
| WO (1) | WO1998041480A1 (cs) |
Families Citing this family (201)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2738813B1 (fr) * | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
| US6238738B1 (en) * | 1996-08-13 | 2001-05-29 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for depositing titanium oxide coatings on flat glass |
| EP1052224B2 (en) * | 1996-08-30 | 2014-02-12 | Showa Denko K.K. | Particles, aqueous dispersion and film of titanium oxide, and preparation thereof |
| US20020155299A1 (en) * | 1997-03-14 | 2002-10-24 | Harris Caroline S. | Photo-induced hydrophilic article and method of making same |
| US6027766A (en) * | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
| US20030039843A1 (en) * | 1997-03-14 | 2003-02-27 | Christopher Johnson | Photoactive coating, coated article, and method of making same |
| US7096692B2 (en) * | 1997-03-14 | 2006-08-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same |
| US7776460B2 (en) * | 1998-03-20 | 2010-08-17 | Agc Glass Europe | Coated substrate with high reflectance |
| US6881505B2 (en) * | 1998-03-20 | 2005-04-19 | Glaverbel | Coated substrate with high reflectance |
| GB9806027D0 (en) | 1998-03-20 | 1998-05-20 | Glaverbel | Coated substrate with high reflectance |
| US6599618B1 (en) * | 1999-05-20 | 2003-07-29 | Frederick Lee Simmon, Jr. | Wavelength selective photocatalytic dielectric elements on polytetrafluoroethylene (PTFE) refractors having indices of refraction greater than 2.0 |
| US6886297B1 (en) * | 1998-07-23 | 2005-05-03 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Insulating unitless window sash |
| US6440895B1 (en) * | 1998-07-27 | 2002-08-27 | Battelle Memorial Institute | Catalyst, method of making, and reactions using the catalyst |
| JP3065041B2 (ja) * | 1998-10-29 | 2000-07-12 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 半導体デバイスの成膜方法及び成膜装置 |
| US7029768B1 (en) * | 1998-12-09 | 2006-04-18 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Food container using titanium oxide particle and production method thereof |
| US6414213B2 (en) * | 1999-01-07 | 2002-07-02 | Showa Denko K.K. | Titanium oxide particle-coated interior member or indoor equipment |
| US6350397B1 (en) | 1999-03-10 | 2002-02-26 | Aspen Research Corporation | Optical member with layer having a coating geometry and composition that enhance cleaning properties |
| JP2000311933A (ja) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Canon Inc | 基板保持装置、基板搬送システム、露光装置、塗布装置およびデバイス製造方法ならびに基板保持部クリーニング方法 |
| US6312831B1 (en) | 1999-04-30 | 2001-11-06 | Visteon Global Technologies, Inc. | Highly reflective, durable titanium/tin oxide films |
| US6929862B2 (en) * | 1999-06-08 | 2005-08-16 | Libbey-Owens-Ford Co. | Coated substrates |
| GB9913315D0 (en) * | 1999-06-08 | 1999-08-11 | Pilkington Plc | Improved process for coating glass |
| US6849328B1 (en) | 1999-07-02 | 2005-02-01 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Light-transmitting and/or coated article with removable protective coating and methods of making the same |
| US6168830B1 (en) * | 1999-07-28 | 2001-01-02 | National Science Council Of Republic Of China | Process for fabricating crystalline metal oxide material |
| US7361404B2 (en) | 2000-05-10 | 2008-04-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated article with removable protective coating and related methods |
| US7365118B2 (en) * | 2003-07-08 | 2008-04-29 | Los Alamos National Security, Llc | Polymer-assisted deposition of films |
| US7604839B2 (en) * | 2000-07-31 | 2009-10-20 | Los Alamos National Security, Llc | Polymer-assisted deposition of films |
| US6589457B1 (en) * | 2000-07-31 | 2003-07-08 | The Regents Of The University Of California | Polymer-assisted aqueous deposition of metal oxide films |
| US6403030B1 (en) | 2000-07-31 | 2002-06-11 | Horton, Iii Isaac B. | Ultraviolet wastewater disinfection system and method |
| US6447721B1 (en) | 2000-07-31 | 2002-09-10 | Remotelight, Inc. | Drinking water UV disinfection system and method |
| US6561460B2 (en) | 2000-08-03 | 2003-05-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Switchable electrochromic devices for use in aircraft transparency windows |
| JP3569763B2 (ja) * | 2000-08-30 | 2004-09-29 | 独立行政法人 科学技術振興機構 | 二酸化チタン・コバルト磁性膜及びその製造方法 |
| US6677063B2 (en) * | 2000-08-31 | 2004-01-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods of obtaining photoactive coatings and/or anatase crystalline phase of titanium oxides and articles made thereby |
| US7323249B2 (en) * | 2000-08-31 | 2008-01-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods of obtaining photoactive coatings and/or anatase crystalline phase of titanium oxides and articles made thereby |
| GB0021396D0 (en) * | 2000-09-01 | 2000-10-18 | Pilkington Plc | Process for coating glass |
| CN102962017A (zh) * | 2000-09-11 | 2013-03-13 | Gr智力储备股份有限公司 | 光谱化学 |
| FR2814094B1 (fr) * | 2000-09-20 | 2003-08-15 | Saint Gobain | Substrat a revetement photocatalytique et son procede de fabrication |
| US7431547B2 (en) * | 2000-10-04 | 2008-10-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Corner restraint for securing articles on a shipping and/or storage rack |
| US6558410B1 (en) | 2000-11-28 | 2003-05-06 | Remotelight, Inc. | Cardiac deblocking device and method |
| US6737020B1 (en) | 2000-11-28 | 2004-05-18 | Remotelight, Inc. | Microorganism neutralization device and method |
| US6524529B1 (en) | 2000-11-28 | 2003-02-25 | Horton, Iii Isaac B. | Appliances having UV disinfection device and method |
| US7200211B1 (en) | 2004-10-12 | 2007-04-03 | Palmsource, Inc. | Method and system for providing information for identifying callers based on a partial number |
| EP1291331A3 (de) * | 2001-09-10 | 2004-02-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Beschichtung mit photoinduzierter Hydrophilie |
| CN1610581B (zh) * | 2001-11-29 | 2013-04-03 | 芝浦机械电子装置股份有限公司 | 光催化剂的制造方法和光催化剂的制造装置 |
| GB0129434D0 (en) | 2001-12-08 | 2002-01-30 | Pilkington Plc | Self-cleaning glazing sheet |
| US7612015B2 (en) * | 2001-12-21 | 2009-11-03 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Member having photocatalytic function and method for manufacture thereof |
| US6679978B2 (en) * | 2002-02-22 | 2004-01-20 | Afg Industries, Inc. | Method of making self-cleaning substrates |
| US20030215723A1 (en) * | 2002-04-19 | 2003-11-20 | Bearinger Jane P. | Methods and apparatus for selective, oxidative patterning of a surface |
| US8679580B2 (en) * | 2003-07-18 | 2014-03-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Nanostructured coatings and related methods |
| US20050031876A1 (en) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Songwei Lu | Nanostructured coatings and related methods |
| US6791066B2 (en) | 2002-07-24 | 2004-09-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Eliminating hot spots at end portions of bus bars of a heatable transparency having an electrically conductive member |
| US6791065B2 (en) * | 2002-07-24 | 2004-09-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Edge sealing of a laminated transparency |
| US20040028365A1 (en) * | 2002-08-09 | 2004-02-12 | Abds-Sami Malik | Metal oxide coated fiber and methods for coating an optical fiber with a metal oxide coating |
| KR20020077852A (ko) * | 2002-08-30 | 2002-10-14 | 주식회사 새롬원 | 김서림방지용 유리판 |
| US7223523B2 (en) * | 2002-09-18 | 2007-05-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Demonstration kit and method for enhancing and/or demonstrating photoactive properties |
| US7132625B2 (en) | 2002-10-03 | 2006-11-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Heatable article having a configured heating member |
| US6811884B2 (en) * | 2002-12-24 | 2004-11-02 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Water repellant surface treatment and treated articles |
| CN100394654C (zh) * | 2003-01-16 | 2008-06-11 | 松下电器产业株式会社 | 光电子放出板及使用该板的负粒子发生装置 |
| EP1608719A2 (en) * | 2003-03-05 | 2005-12-28 | Electrochromix, Inc | Electrochromic mirrors and other electrooptic devices |
| CN100473620C (zh) * | 2003-03-24 | 2009-04-01 | 中岛硝子工业株式会社 | 用氧化钛薄膜包覆的玻璃板的制造方法 |
| GB0306797D0 (en) * | 2003-03-25 | 2003-04-30 | Pilkington Plc | Titania coatings |
| US20040241490A1 (en) * | 2003-03-28 | 2004-12-02 | Finley James J. | Substrates coated with mixtures of titanium and aluminum materials, methods for making the substrates, and cathode targets of titanium and aluminum metal |
| US20040202890A1 (en) * | 2003-04-08 | 2004-10-14 | Kutilek Luke A. | Methods of making crystalline titania coatings |
| US6891517B2 (en) * | 2003-04-08 | 2005-05-10 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Conductive frequency selective surface utilizing arc and line elements |
| JP4022167B2 (ja) * | 2003-05-06 | 2007-12-12 | 株式会社不二機販 | 光触媒コーティング方法 |
| GB0313029D0 (en) | 2003-06-06 | 2003-07-09 | Pilkington Plc | Coated glass |
| US7950194B2 (en) | 2003-06-23 | 2011-05-31 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Plastic spacer stock, plastic spacer frame and multi-sheet unit, and method of making same |
| US7588653B2 (en) * | 2003-06-23 | 2009-09-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making an integrated window sash |
| WO2005001229A2 (en) * | 2003-06-23 | 2005-01-06 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Integrated window sash and methods of making an integrated window sash |
| US7739851B2 (en) * | 2003-06-23 | 2010-06-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Plastic spacer stock, plastic spacer frame and multi-sheet unit, and method of making same |
| US7827761B2 (en) | 2003-06-23 | 2010-11-09 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Plastic spacer stock, plastic spacer frame and multi-sheet unit, and method of making same |
| US7997037B2 (en) * | 2003-06-23 | 2011-08-16 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Integrated window sash with groove for desiccant material |
| US7765769B2 (en) * | 2003-06-23 | 2010-08-03 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Integrated window sash with lattice frame and retainer clip |
| US7856791B2 (en) * | 2003-06-23 | 2010-12-28 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Plastic spacer stock, plastic spacer frame and multi-sheet unit, and method of making same |
| FR2857030B1 (fr) * | 2003-07-01 | 2006-10-27 | Saint Gobain | Procede de depot d'oxyde de titane par source plasma |
| US7211513B2 (en) | 2003-07-01 | 2007-05-01 | Pilkington North America, Inc. | Process for chemical vapor desposition of a nitrogen-doped titanium oxide coating |
| FR2857885B1 (fr) * | 2003-07-23 | 2006-12-22 | Saint Gobain | Procede de preparation d'un revetement photocatalytique integre dans le traitement thermique d'un vitrage |
| US7159756B2 (en) * | 2003-08-29 | 2007-01-09 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of soldering and solder compositions |
| US7727917B2 (en) * | 2003-10-24 | 2010-06-01 | Schott Ag | Lithia-alumina-silica containing glass compositions and glasses suitable for chemical tempering and articles made using the chemically tempered glass |
| US7351607B2 (en) * | 2003-12-11 | 2008-04-01 | Georgia Tech Research Corporation | Large scale patterned growth of aligned one-dimensional nanostructures |
| CA2550331A1 (en) * | 2003-12-22 | 2005-07-14 | Cardinal Cg Compagny | Graded photocatalytic coatings |
| US8906460B2 (en) | 2004-01-30 | 2014-12-09 | Cristal Usa Inc. | Composition for use as NOx removing translucent coating |
| US7267842B2 (en) | 2004-03-15 | 2007-09-11 | Air Products And Chemicals, Inc. | Method for removing titanium dioxide deposits from a reactor |
| DE102004016436B3 (de) * | 2004-03-31 | 2005-12-29 | Verein zur Förderung von Innovationen durch Forschung, Entwicklung und Technologietransfer e.V. (Verein INNOVENT e.V.) | Verfahren zur Herstellung von Mehrschichtsystemen mit photokatalytischen Eigenschaften auf Oberflächen und dessen Verwendung |
| ES2336453T3 (es) * | 2004-04-06 | 2010-04-13 | Lg Electronics, Inc. | Procedimiento para fabricar un producto metalico revestido con una pelicula delgada ultrahidrofila, y producto metalico revestido con una pelicula delgada ultrahidrofila. |
| FR2868770B1 (fr) * | 2004-04-09 | 2006-06-02 | Saint Gobain | Substrat, notamment substrat verrier, portant une couche a propriete photocatalytique modifiee pour pouvoir absorber des photons du visible |
| US9051211B2 (en) * | 2004-04-27 | 2015-06-09 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Effects of methods of manufacturing sputtering targets on characteristics of coatings |
| US7959980B2 (en) * | 2004-05-28 | 2011-06-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Hydrophilic compositions, methods for their production, and substrates coated with such compositions |
| US7354624B2 (en) * | 2004-05-28 | 2008-04-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-layer coatings and related methods |
| US7354650B2 (en) * | 2004-05-28 | 2008-04-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-layer coatings with an inorganic oxide network containing layer and methods for their application |
| EP1773729B1 (en) | 2004-07-12 | 2007-11-07 | Cardinal CG Company | Low-maintenance coatings |
| US7431992B2 (en) * | 2004-08-09 | 2008-10-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated substrates that include an undercoating |
| EP1797017B1 (en) * | 2004-10-04 | 2010-11-24 | Cardinal CG Company | Thin film coating and temporary protection technology, insulating glazing units, and associated methods |
| US20060087231A1 (en) * | 2004-10-27 | 2006-04-27 | Eastman Kodak Company | Self-cleaning area illumination system |
| DE102004052169A1 (de) * | 2004-10-27 | 2006-05-04 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Oberflächenveredeltes Objekt, Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung des Objektes |
| JPWO2006054730A1 (ja) * | 2004-11-19 | 2008-06-05 | 日本板硝子株式会社 | 薄膜付きガラス板の製造方法 |
| US7597938B2 (en) * | 2004-11-29 | 2009-10-06 | Guardian Industries Corp. | Method of making coated article with color suppression coating including flame pyrolysis deposited layer(s) |
| US8092660B2 (en) * | 2004-12-03 | 2012-01-10 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films |
| US7923114B2 (en) * | 2004-12-03 | 2011-04-12 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films |
| EP1852402A1 (en) * | 2004-12-06 | 2007-11-07 | Nippon Sheet Glass Company Limited | Glass member having photocatalytic function and heat ray reflective function, and double layer glass employing it |
| EP2169092A3 (en) * | 2004-12-16 | 2010-08-25 | AGC Glass Europe | Substrate with antimicrobial properties |
| CN100545114C (zh) * | 2005-01-31 | 2009-09-30 | 同济大学 | 玻璃基纳米氧化钛自洁净薄膜及其制备方法 |
| US7438948B2 (en) * | 2005-03-21 | 2008-10-21 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method for coating a substrate with an undercoating and a functional coating |
| FR2884111B1 (fr) | 2005-04-07 | 2007-05-18 | Saint Gobain Mat Constr Sas | Granule biocide, notamment pour la fabrication de bardeau d'asphalte |
| US7527832B2 (en) * | 2005-04-27 | 2009-05-05 | Ferro Corporation | Process for structuring self-cleaning glass surfaces |
| US7359764B2 (en) * | 2005-05-16 | 2008-04-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | On-line/off-line scoring bridge |
| KR20050079953A (ko) * | 2005-06-18 | 2005-08-11 | 주식회사 엠닥터 | 플라스틱 사출성형품의 세정제 제조방법 및 그 세정제 |
| WO2006136058A1 (fr) * | 2005-06-23 | 2006-12-28 | Kuo, Ming Cheng | Fibre revêtue d'un photocatalyseur munie de films protecteurs et procédé pour la fabriquer |
| US8344238B2 (en) * | 2005-07-19 | 2013-01-01 | Solyndra Llc | Self-cleaning protective coatings for use with photovoltaic cells |
| US7679063B2 (en) * | 2005-11-07 | 2010-03-16 | Cardinal Cg Company | Method and apparatus for identifying photocatalytic coatings |
| US20070141319A1 (en) * | 2005-12-21 | 2007-06-21 | Shulong Li | Photocatalytic substrate and process for producing the same |
| US7521394B2 (en) * | 2005-12-29 | 2009-04-21 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Nanoparticles containing titanium oxide |
| WO2007117332A2 (en) * | 2005-12-29 | 2007-10-18 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Titanium oxide base photocatalysts |
| BRPI0600312A (pt) * | 2006-01-20 | 2007-10-30 | Opto Eletronica S A | método e processo para produzir filme fino nanoestruturado e autolimpante sobre a superfìcie de lentes e dispositivos ópticos |
| US8097340B2 (en) * | 2006-02-08 | 2012-01-17 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated substrates having undercoating layers that exhibit improved photocatalytic activity |
| US7654010B2 (en) * | 2006-02-23 | 2010-02-02 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing system, substrate processing method, and storage medium |
| CN101466649B (zh) | 2006-04-11 | 2013-12-11 | 卡迪奈尔镀膜玻璃公司 | 具有低维护性能的光催化涂层 |
| US7989094B2 (en) | 2006-04-19 | 2011-08-02 | Cardinal Cg Company | Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances |
| DE102006023375A1 (de) * | 2006-05-17 | 2007-11-22 | Nano-X Gmbh | Beschichtungsmaterial |
| US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
| US20080022721A1 (en) * | 2006-07-25 | 2008-01-31 | Bernd Disteldorf | Method of making glass including surface treatment with aluminum chloride at or just prior to annealing lehr |
| DE102006038593A1 (de) * | 2006-08-17 | 2008-02-21 | Siemens Ag | Selbstreinigende Oberflächenbeschichtung (Photokatalyse) |
| US20080081148A1 (en) * | 2006-09-13 | 2008-04-03 | Kenneth Bond | Panel having a frame bonded thereto |
| US20080097018A1 (en) | 2006-10-18 | 2008-04-24 | John Stratton | Depolluting coating composition |
| US7736750B2 (en) | 2006-12-14 | 2010-06-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated non-metallic sheet having a brushed metal appearance, and coatings for and method of making same |
| FR2911130B1 (fr) | 2007-01-05 | 2009-11-27 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince et produit obtenu |
| EP1953488A1 (de) * | 2007-02-02 | 2008-08-06 | Siemens Aktiengesellschaft | Verdunstungskühler und dessen Verwednung, sowie Gasturbinenanlage mit einem Verdunstungskühler |
| US20080295884A1 (en) * | 2007-05-29 | 2008-12-04 | Sharma Pramod K | Method of making a photovoltaic device or front substrate with barrier layer for use in same and resulting product |
| JP5474778B2 (ja) * | 2007-06-14 | 2014-04-16 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 自己クリーニングシステム及び窓ガラス |
| US7954284B2 (en) | 2007-08-30 | 2011-06-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Retainer clip for grid simulating muntins |
| US7748185B2 (en) | 2007-08-30 | 2010-07-06 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Muntin grids for transparencies and transparencies having muntin grids |
| US9358502B2 (en) | 2007-08-31 | 2016-06-07 | Cristal Usa Inc. | Photocatalytic coating |
| KR101563197B1 (ko) | 2007-09-14 | 2015-10-26 | 카디날 씨지 컴퍼니 | 관리 용이한 코팅 및 이의 제조방법 |
| DE202008018513U1 (de) | 2008-01-04 | 2014-10-31 | Saint-Gobain Glass France | Dispositif |
| GB0803574D0 (en) * | 2008-02-27 | 2008-04-02 | Pilkington Group Ltd | Coated glazing |
| US8497015B2 (en) * | 2008-03-11 | 2013-07-30 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Reflective article |
| FR2929938B1 (fr) | 2008-04-11 | 2010-05-07 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince. |
| US8071953B2 (en) * | 2008-04-29 | 2011-12-06 | Redlen Technologies, Inc. | ACF attachment for radiation detector |
| US8294141B2 (en) * | 2008-07-07 | 2012-10-23 | Georgia Tech Research Corporation | Super sensitive UV detector using polymer functionalized nanobelts |
| US8197940B2 (en) * | 2008-07-25 | 2012-06-12 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Aqueous suspension for pyrolytic spray coating |
| US7846866B2 (en) | 2008-09-09 | 2010-12-07 | Guardian Industries Corp. | Porous titanium dioxide coatings and methods of forming porous titanium dioxide coatings having improved photocatalytic activity |
| US20100062032A1 (en) * | 2008-09-09 | 2010-03-11 | Guardian Industries Corp. | Doped Titanium Dioxide Coatings and Methods of Forming Doped Titanium Dioxide Coatings |
| US20100062265A1 (en) * | 2008-09-09 | 2010-03-11 | Guardian Industries Corp. | Titanium Dioxide Coatings and Methods of Forming Titanium Dioxide Coatings Having Reduced Crystallite Size |
| US8647652B2 (en) * | 2008-09-09 | 2014-02-11 | Guardian Industries Corp. | Stable silver colloids and silica-coated silver colloids, and methods of preparing stable silver colloids and silica-coated silver colloids |
| US20100112359A1 (en) * | 2008-11-03 | 2010-05-06 | Sharma Pramod K | Titanium dioxide coatings having barrier layers and methods of forming titanium dioxide coatings having barrier layers |
| US8545899B2 (en) * | 2008-11-03 | 2013-10-01 | Guardian Industries Corp. | Titanium dioxide coatings having roughened surfaces and methods of forming titanium dioxide coatings having roughened surfaces |
| JP5343133B2 (ja) | 2008-11-19 | 2013-11-13 | ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド | トップコートの機能を向上させるアンダーコーティング層 |
| US20100124642A1 (en) * | 2008-11-19 | 2010-05-20 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Undercoating layers providing improved conductive topcoat functionality |
| US8133599B2 (en) * | 2008-11-19 | 2012-03-13 | Ppg Industries Ohio, Inc | Undercoating layers providing improved photoactive topcoat functionality |
| US7998586B2 (en) | 2008-11-19 | 2011-08-16 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Undercoating layers providing improved topcoat functionality |
| US20100193449A1 (en) * | 2009-02-02 | 2010-08-05 | Jian-Ku Shang | Materials and methods for removing arsenic from water |
| FI20090057A0 (fi) * | 2009-02-17 | 2009-02-17 | Beneq Oy | Antibakteerinen lasi |
| US20100242953A1 (en) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Solar reflecting mirror having a protective coating and method of making same |
| MX2011010130A (es) | 2009-03-27 | 2011-10-11 | Ppg Ind Ohio Inc | Espejo reflectante solar que tiene un recubrimiento protector y metodo de fabricacion del mismo. |
| US8467124B2 (en) * | 2010-02-19 | 2013-06-18 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Solar reflecting mirror and method of making same |
| TWI403413B (zh) * | 2009-04-27 | 2013-08-01 | Univ Tatung | 親疏水性可轉換複合膜及其製備方法 |
| FR2949774B1 (fr) * | 2009-09-08 | 2011-08-26 | Saint Gobain | Materiau comprenant un substrat en verre revetu d'un empilement de couches minces |
| JP5719546B2 (ja) * | 2009-09-08 | 2015-05-20 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
| JP5439097B2 (ja) * | 2009-09-08 | 2014-03-12 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
| JP5469966B2 (ja) * | 2009-09-08 | 2014-04-16 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
| JP5639816B2 (ja) * | 2009-09-08 | 2014-12-10 | 東京応化工業株式会社 | 塗布方法及び塗布装置 |
| US7838403B1 (en) * | 2009-09-14 | 2010-11-23 | International Business Machines Corporation | Spray pyrolysis for large-scale production of chalcopyrite absorber layer in photovoltaic devices |
| US20110076450A1 (en) * | 2009-09-29 | 2011-03-31 | Sharma Pramod K | Titanium dioxide coatings and methods of forming improved titanium dioxide coatings |
| US9540822B2 (en) | 2009-11-24 | 2017-01-10 | Certainteed Corporation | Composite nanoparticles for roofing granules, roofing shingles containing such granules, and process for producing same |
| US8815402B2 (en) * | 2010-03-31 | 2014-08-26 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Mirror having reflective coatings on a first surface and an opposite second surface |
| US8551609B2 (en) | 2010-04-27 | 2013-10-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of depositing niobium doped titania film on a substrate and the coated substrate made thereby |
| CN103649003B (zh) * | 2011-07-12 | 2016-08-24 | 旭硝子株式会社 | 带层叠膜的玻璃基板的制造方法 |
| GB201112648D0 (en) | 2011-07-22 | 2011-09-07 | Pilkington Group Ltd | Deposition process |
| CN102582137B (zh) * | 2012-01-13 | 2015-10-21 | 苏州力合光电薄膜科技有限公司 | 自清洁防雾元件及其制造方法 |
| WO2014035435A1 (en) * | 2012-09-02 | 2014-03-06 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Composite article for use as self-cleaning material |
| WO2014138731A1 (en) * | 2013-03-08 | 2014-09-12 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Quantum levitation for permanent superlyophobic and permanent self-cleaning materials |
| DE112014001520B4 (de) | 2013-03-21 | 2023-06-15 | Kennametal Inc. | Beschichtungen für Schneidwerkzeuge |
| US9371580B2 (en) | 2013-03-21 | 2016-06-21 | Kennametal Inc. | Coated body wherein the coating scheme includes a coating layer of TiAl2O3 and method of making the same |
| DE112014001562B4 (de) | 2013-03-21 | 2019-08-08 | Kennametal Inc. | Beschichtungen für Schneidwerkzeuge |
| KR102075528B1 (ko) * | 2013-05-16 | 2020-03-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착장치, 유기발광 디스플레이 장치 제조방법 및 유기발광 디스플레이 장치 |
| CN104726832A (zh) * | 2013-12-20 | 2015-06-24 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 一种氧化铝自清洁薄膜的制备方法 |
| TWI516370B (zh) | 2013-12-31 | 2016-01-11 | 財團法人工業技術研究院 | 光觸媒膜層結構 |
| WO2015152909A1 (en) | 2014-04-02 | 2015-10-08 | Halliburton Energy Services, Inc. | Self-cleaning windows for downhole and process chemistry environment |
| US9719175B2 (en) | 2014-09-30 | 2017-08-01 | Kennametal Inc. | Multilayer structured coatings for cutting tools |
| TWI593651B (zh) * | 2014-09-30 | 2017-08-01 | 鴻海精密工業股份有限公司 | 鍍膜玻璃及其製造方法、應用該鍍膜玻璃之電子裝置 |
| US9720142B2 (en) * | 2014-11-28 | 2017-08-01 | Seiko Epson Corporation | Optical component and timepiece |
| JP2016102950A (ja) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | セイコーエプソン株式会社 | 光学部品および時計 |
| US9650712B2 (en) | 2014-12-08 | 2017-05-16 | Kennametal Inc. | Inter-anchored multilayer refractory coatings |
| US9650714B2 (en) | 2014-12-08 | 2017-05-16 | Kennametal Inc. | Nanocomposite refractory coatings and applications thereof |
| CN105219128B (zh) * | 2015-10-14 | 2017-11-24 | 上海晓溪新材料科技有限公司 | 增强敏感基底稳定性的复合光催化涂层及其制备方法 |
| CN105478267B (zh) * | 2015-12-24 | 2021-02-19 | 浙江海洋学院 | 一种大面积钢体表面喷涂二氧化钛薄膜的喷涂系统和方法 |
| GB201523160D0 (en) * | 2015-12-31 | 2016-02-17 | Pilkington Group Ltd | High strength glass containers |
| CN105642110A (zh) * | 2016-01-25 | 2016-06-08 | 芜湖美智空调设备有限公司 | 催化组件及其制备方法和空气调节设备 |
| US10604442B2 (en) | 2016-11-17 | 2020-03-31 | Cardinal Cg Company | Static-dissipative coating technology |
| US10195602B2 (en) | 2016-12-01 | 2019-02-05 | GM Global Technology Operations LLC | Nucleation layers for enhancing photocatalytic activity of titanium dioxide (TiO2) coatings |
| JP6361995B2 (ja) * | 2017-01-20 | 2018-07-25 | ウシオ電機株式会社 | 発光素子、蛍光光源装置 |
| CN107140850A (zh) * | 2017-05-02 | 2017-09-08 | 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司 | 一种镀膜抗菌钢化玻璃及其制备方法 |
| CN107759099A (zh) * | 2017-10-23 | 2018-03-06 | 武汉理工大学 | 一种致密高透过高催化活性超亲水自洁净薄膜玻璃及其制备方法 |
| SG11202004375UA (en) * | 2017-12-08 | 2020-06-29 | Apogee Enterprises Inc | Adhesion promoters, glass surfaces including the same, and methods for making the same |
| CN108911521A (zh) * | 2018-08-09 | 2018-11-30 | 陈文学 | 一种中透光耐磨自洁净玻璃及其制备方法 |
| CN109133669A (zh) * | 2018-09-11 | 2019-01-04 | 大连理工大学 | 一种Ag/AgCl/WO3纳米薄膜材料及其制备方法 |
| CN109534692B (zh) * | 2019-01-24 | 2022-01-04 | 福建工程学院 | 一种抗划伤除污光催化玻璃及其制备方法 |
| CN111579570B (zh) * | 2019-11-29 | 2021-09-24 | 中国科学院金属研究所 | 利用微区x射线衍射表征钢中非金属夹杂物晶体结构的方法 |
| GB2600168A (en) | 2020-10-26 | 2022-04-27 | Pilkington Group Ltd | Use of coated substrates |
| CN113999057B (zh) * | 2021-12-28 | 2022-04-08 | 佛山市陶莹新型材料有限公司 | 一种去甲醛瓷砖及其制备方法 |
| CN115321836A (zh) * | 2022-06-29 | 2022-11-11 | 张敏 | 一种防反射坚硬玻璃及其制备方法 |
| CN115350705A (zh) * | 2022-08-01 | 2022-11-18 | 昆明理工大学 | 一种金属氧化物半导体异质结光催化剂的制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997007069A1 (en) * | 1995-08-18 | 1997-02-27 | Adam Heller | Self-cleaning glass and method of making thereof |
| WO1997010186A1 (fr) * | 1995-09-15 | 1997-03-20 | Saint-Gobain Vitrage | Substrat a revetement photocatalytique |
Family Cites Families (130)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1217716A (en) | 1967-06-14 | 1970-12-31 | Matsushita Electronics Corp | A process for forming a titanium dioxide film |
| US4112142A (en) | 1969-09-09 | 1978-09-05 | Glaswerk Schott & Gen. | Method for the production of light-reflecting layers on a surface of a transparent glass article |
| US4017661A (en) | 1974-08-09 | 1977-04-12 | Ppg Industries, Inc. | Electrically conductive transparent laminated window |
| GB1523991A (en) | 1976-04-13 | 1978-09-06 | Bfg Glassgroup | Coating of glass |
| GB1524326A (en) | 1976-04-13 | 1978-09-13 | Bfg Glassgroup | Coating of glass |
| JPS53149281A (en) | 1977-06-02 | 1978-12-26 | Teijin Ltd | Laminate with hydrophilic film |
| JPS54150418A (en) | 1978-05-19 | 1979-11-26 | Hitachi Ltd | Production of liquid crystal display element |
| GB2026454B (en) * | 1978-07-20 | 1982-07-21 | Bfg Glassgroup | Coating glass with tin oxide |
| BE879189A (fr) | 1978-10-19 | 1980-04-04 | Bfg Glassgroup | Procede de formation d'un revetement d'oxyde d'etain sur un support de verre chaud et produits ainsi obtenus |
| GB2031756B (en) | 1978-10-20 | 1983-03-09 | Gordon Roy Gerald | Non-iridescent glass structures and processes for their production |
| CH628600A5 (fr) | 1979-02-14 | 1982-03-15 | Siv Soc Italiana Vetro | Procede pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide et installation pour la mise en oeuvre de ce procede. |
| US4379040A (en) * | 1981-01-29 | 1983-04-05 | Ppg Industries, Inc. | Method of and apparatus for control of reactive sputtering deposition |
| JPS5826052A (ja) | 1981-08-06 | 1983-02-16 | Asahi Glass Co Ltd | アルカリ拡散防止酸化ケイ素膜付ガラス体 |
| US4971843A (en) | 1983-07-29 | 1990-11-20 | Ppg Industries, Inc. | Non-iridescent infrared-reflecting coated glass |
| GB2150044B (en) | 1983-12-22 | 1986-12-17 | Glaverbel | Coated glazing material |
| US4544470A (en) | 1984-05-31 | 1985-10-01 | Ford Motor Company | Electrochemical photocatalytic structure |
| US5165972A (en) | 1984-08-13 | 1992-11-24 | Pilkington Plc | Coated glass |
| JPS6191041A (ja) | 1984-10-06 | 1986-05-09 | Tadashi Yada | 歯冠用結晶化ガラス及びその製法 |
| JPS6191042A (ja) | 1984-10-08 | 1986-05-09 | Toyota Motor Corp | 防曇ガラス及びその製造方法 |
| JPS6191043A (ja) | 1984-10-12 | 1986-05-09 | Seiko Epson Corp | 高強度ガラス |
| JPH0682625B2 (ja) | 1985-06-04 | 1994-10-19 | シーメンス ソーラー インダストリーズ，エル．ピー． | 酸化亜鉛膜の蒸着方法 |
| GB8531424D0 (en) | 1985-12-20 | 1986-02-05 | Glaverbel | Coating glass |
| JPS635301A (ja) | 1986-06-25 | 1988-01-11 | Matsushita Electric Works Ltd | 反射鏡 |
| JPS63100042A (ja) | 1986-10-14 | 1988-05-02 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 汚れ難いガラス物品 |
| US5035784A (en) | 1987-07-27 | 1991-07-30 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Degradation of organic chemicals with titanium ceramic membranes |
| US5032241A (en) | 1987-09-04 | 1991-07-16 | Nutech Energy Systems Inc. | Fluid purification |
| US4892712A (en) | 1987-09-04 | 1990-01-09 | Nutech Energy Systems Inc. | Fluid purification |
| US4888038A (en) | 1988-02-12 | 1989-12-19 | Libbey-Owens-Ford Co. | Apparatus and method for tempering glass sheets |
| US4898789A (en) * | 1988-04-04 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for automotive heat load reduction |
| GB8814922D0 (en) * | 1988-06-23 | 1988-07-27 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
| GB8824104D0 (en) | 1988-10-14 | 1988-11-23 | Pilkington Plc | Process for coating glass |
| US5028568A (en) | 1989-07-05 | 1991-07-02 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Niobium-doped titanium membranes |
| US5194161A (en) * | 1989-09-25 | 1993-03-16 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Materials and methods for enhanced photocatalyzation of organic compounds with palladium |
| US4997576A (en) * | 1989-09-25 | 1991-03-05 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Materials and methods for photocatalyzing oxidation of organic compounds on water |
| US5256616A (en) * | 1989-09-25 | 1993-10-26 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Materials and methods for photocatalyzing oxidation of organic compounds on water |
| US5348805A (en) | 1990-07-05 | 1994-09-20 | Saint-Gobain Vitrage International | Formation of a layer of aluminum and tin or titanium oxides on a glass substrate |
| US5393593A (en) * | 1990-10-25 | 1995-02-28 | Ppg Industries, Inc. | Dark gray, infrared absorbing glass composition and coated glass for privacy glazing |
| FR2670199B1 (fr) | 1990-12-06 | 1993-01-29 | Saint Gobain Vitrage Int | Procede de formation d'une couche a base d'oxyde d'aluminium sur du verre, produit obtenu et son utilisation dans des vitrages a couche conductrice. |
| US5616532A (en) | 1990-12-14 | 1997-04-01 | E. Heller & Company | Photocatalyst-binder compositions |
| GB9102766D0 (en) * | 1991-02-09 | 1991-03-27 | Tioxide Group Services Ltd | Destruction process |
| FR2677639B1 (fr) | 1991-06-14 | 1994-02-25 | Saint Gobain Vitrage Internal | Technique de formation par pyrolyse en voie gazeuse d'un revetement essentiellement a base d'oxygene et de silicium. |
| FR2684095B1 (fr) | 1991-11-26 | 1994-10-21 | Saint Gobain Vitrage Int | Produit a substrat en verre muni d'une couche a basse emissivite. |
| JP2667331B2 (ja) | 1992-03-13 | 1997-10-27 | 東陶機器株式会社 | 光触媒機能を有する部材及びその製造方法 |
| US5368892A (en) | 1992-04-10 | 1994-11-29 | Saint-Gobain Vitrage International | Non-wettable glass sheet |
| JP3340149B2 (ja) | 1992-04-28 | 2002-11-05 | セントラル硝子株式会社 | 親水性被膜ならびにその被膜の形成方法 |
| DK0583871T3 (da) | 1992-07-11 | 1997-04-21 | Pilkington Uk Ltd | Fremgangsmåde til fremstilling af reflekterende belægninger på glas og spejle fremstillet derved |
| US5580364A (en) | 1992-07-11 | 1996-12-03 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method of producing a coated glass substrate exhibiting reflected color |
| JPH06293519A (ja) | 1992-07-28 | 1994-10-21 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 酸化チタンの粒子と膜の製造方法 |
| US5595813A (en) | 1992-09-22 | 1997-01-21 | Takenaka Corporation | Architectural material using metal oxide exhibiting photocatalytic activity |
| GB9300400D0 (en) * | 1993-01-11 | 1993-03-03 | Glaverbel | A device and method for forming a coating by pyrolysis |
| US5478783A (en) | 1994-02-03 | 1995-12-26 | Libbey-Owens-Ford Co. | Glass compositions |
| US5308805A (en) | 1993-05-05 | 1994-05-03 | Libbey-Owens-Ford Co. | Neutral, low transmittance glass |
| AU676299B2 (en) | 1993-06-28 | 1997-03-06 | Akira Fujishima | Photocatalyst composite and process for producing the same |
| US5751484A (en) | 1993-07-08 | 1998-05-12 | Libbey-Owens-Ford Co. | Coatings on glass |
| US5749931A (en) | 1993-07-08 | 1998-05-12 | Libbey-Owens-Ford Co. | Coatings on glass |
| DE69431573T2 (de) | 1993-07-28 | 2003-06-12 | Asahi Glass Co Ltd | Verfahren zur Herstellung von Schichten |
| FR2708924B1 (fr) | 1993-08-12 | 1995-10-20 | Saint Gobain Vitrage Int | Procédé de dépôt d'une couche de nitrure métallique sur un substrat transparent. |
| JPH0799425A (ja) | 1993-09-29 | 1995-04-11 | Mitsubishi Electric Corp | 移相器 |
| WO1995015816A1 (fr) | 1993-12-10 | 1995-06-15 | Toto, Ltd. | Substance multifonction a effet photocatalytique et procede de production |
| US5849200A (en) | 1993-10-26 | 1998-12-15 | E. Heller & Company | Photocatalyst-binder compositions |
| JPH07117600A (ja) | 1993-10-28 | 1995-05-09 | Mitsubishi Motors Corp | 後席エアバッグ装置 |
| FR2711983B1 (fr) | 1993-11-02 | 1996-01-19 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent muni d'une couche de nitrure métallique. |
| EP0684075B1 (en) | 1993-12-10 | 2003-03-26 | Toto Ltd. | Multi-functional material having photo-catalytic function and production method therefor |
| JP3000837B2 (ja) | 1993-12-21 | 2000-01-17 | 日産自動車株式会社 | 加工情報作成装置 |
| JP2998534B2 (ja) | 1993-12-24 | 2000-01-11 | 日産自動車株式会社 | 圧型加工用ｃａｍモデルの形状変更方法 |
| GB9400320D0 (en) | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coating on glass |
| JPH07205019A (ja) | 1994-01-17 | 1995-08-08 | Toshimasu Eguchi | 研磨機における加圧プレート |
| DE69526461D1 (de) | 1994-01-18 | 2002-05-23 | Libbey Owens Ford Co | Laminierte Glaseinheit |
| GB9407609D0 (en) | 1994-04-15 | 1994-06-08 | Pilkington Glass Ltd | Bending and tempering glass sheets |
| GB9407610D0 (en) | 1994-04-15 | 1994-06-08 | Pilkington Glass Ltd | Bending and tempering glass sheets |
| US5830252A (en) * | 1994-10-04 | 1998-11-03 | Ppg Industries, Inc. | Alkali metal diffusion barrier layer |
| US5961843A (en) | 1994-10-05 | 1999-10-05 | Toto Ltd. | Antimicrobial solid material, process for producing the same, and method of utilizing the same |
| JPH08119673A (ja) | 1994-10-21 | 1996-05-14 | Kansai Paint Co Ltd | ガラスの親水化処理方法 |
| US6387844B1 (en) | 1994-10-31 | 2002-05-14 | Akira Fujishima | Titanium dioxide photocatalyst |
| KR100365663B1 (ko) | 1994-10-31 | 2003-02-25 | 카나가와 아카데미 오브 사이언스 앤드 테크놀로지 | 산화티탄광촉매구조체및그제조방법 |
| JP3282184B2 (ja) | 1994-11-16 | 2002-05-13 | 東陶機器株式会社 | 光触媒機能材及びその製造方法 |
| JP3732247B2 (ja) | 1994-12-13 | 2006-01-05 | コルコート株式会社 | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物及びその製法 |
| DE19655363B4 (de) | 1995-03-20 | 2007-05-24 | Toto Ltd., Kitakyushu | Verwendung eines Verbundstoffes um ein Beschlagen der Oberflächen zu verhindern |
| US5753322A (en) * | 1995-04-21 | 1998-05-19 | Ykk Corporation | Antibacterial, antifungal aluminum building materials and fixtures using the materials |
| US5742291A (en) * | 1995-05-09 | 1998-04-21 | Synthonics Incorporated | Method and apparatus for creation of three-dimensional wire frames |
| US5736055A (en) * | 1995-05-16 | 1998-04-07 | Photo-Catalytics, Inc. | Cartridge for photocatalytic purification of fluids |
| JPH08309202A (ja) * | 1995-05-22 | 1996-11-26 | Bridgestone Corp | 光触媒体 |
| JPH08313705A (ja) * | 1995-05-22 | 1996-11-29 | Seiko Epson Corp | 防曇性物品及びその製造方法 |
| JPH08309204A (ja) * | 1995-05-22 | 1996-11-26 | Bridgestone Corp | 光触媒 |
| EP0923988B1 (en) | 1995-06-19 | 2008-04-09 | Nippon Soda Co., Ltd. | Photocatalyst-carrying structure and photocatalyst coating material |
| KR100377606B1 (ko) | 1995-09-15 | 2003-08-25 | 로디아 쉬미 | 이산화티타늄-기재광촉매코팅기판,및이산화티타늄-기재유기분산액 |
| US5897958A (en) | 1995-10-26 | 1999-04-27 | Asahi Glass Company Ltd. | Modified titanium oxide sol, photocatalyst composition and photocatalyst composition-forming agent |
| JPH09173783A (ja) | 1995-10-27 | 1997-07-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 板ガラスと樹脂板とその製造方法と汚染物質の除去方法 |
| DE69613326T2 (de) | 1995-12-21 | 2001-11-22 | Asahi Glass Co Ltd | Photokatalysatorzusammenstellung und Verfahren für seine Herstellung, Photokatalysatorzusammenstellung verbunden auf einen Träger |
| WO1997023572A1 (fr) | 1995-12-22 | 1997-07-03 | Toto Ltd. | Procede photocatalytique pour rendre une surface hydrophile et materiau composite ayant une surface rendue hydrophile par un processus photocatalytique |
| US6090489A (en) | 1995-12-22 | 2000-07-18 | Toto, Ltd. | Method for photocatalytically hydrophilifying surface and composite material with photocatalytically hydrophilifiable surface |
| JP3930591B2 (ja) * | 1995-12-22 | 2007-06-13 | 東陶機器株式会社 | 光触媒性親水性コーティング組成物、親水性被膜の形成方法および被覆物品 |
| JPH09173775A (ja) | 1995-12-22 | 1997-07-08 | Sekisui Jushi Co Ltd | 吸音材 |
| US5811192A (en) * | 1996-01-12 | 1998-09-22 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Titanium dioxide film having photocatalytic activity and substrate having the same |
| JPH09227157A (ja) | 1996-02-26 | 1997-09-02 | Nissan Motor Co Ltd | 防曇性被膜形成基材、これを用いた防曇膜及びその製造方法 |
| JPH09227158A (ja) | 1996-02-28 | 1997-09-02 | Nissan Motor Co Ltd | 防曇性被膜形成基材、これを用いた防曇膜及びその製造方法 |
| JPH09235140A (ja) | 1996-03-04 | 1997-09-09 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | ガラス |
| JPH09241037A (ja) | 1996-03-07 | 1997-09-16 | Nissan Motor Co Ltd | 防曇性被膜形成基材およびその製造方法 |
| FR2752235B3 (fr) | 1996-08-07 | 1998-08-28 | Saint Gobain Vitrage | Substrat verrier muni d'une couche reflechissante |
| US5939194A (en) | 1996-12-09 | 1999-08-17 | Toto Ltd. | Photocatalytically hydrophilifying and hydrophobifying material |
| US5698262A (en) | 1996-05-06 | 1997-12-16 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for forming tin oxide coating on glass |
| FR2748743B1 (fr) | 1996-05-14 | 1998-06-19 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage a revetement antireflet |
| US6165256A (en) | 1996-07-19 | 2000-12-26 | Toto Ltd. | Photocatalytically hydrophilifiable coating composition |
| JP2901550B2 (ja) | 1996-07-26 | 1999-06-07 | 株式会社村上開明堂 | 防曇素子 |
| WO1998005413A1 (fr) | 1996-08-05 | 1998-02-12 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Photocatalyseur et procede de preparation associe |
| US5773086A (en) | 1996-08-13 | 1998-06-30 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method of coating flat glass with indium oxide |
| US6238738B1 (en) | 1996-08-13 | 2001-05-29 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for depositing titanium oxide coatings on flat glass |
| GB9616983D0 (en) | 1996-08-13 | 1996-09-25 | Pilkington Plc | Method for depositing tin oxide and titanium oxide coatings on flat glass and the resulting coated glass |
| JPH10146530A (ja) | 1996-09-18 | 1998-06-02 | Nippon Ita Glass Techno Res Kk | 酸化チタン系光触媒およびその製造方法 |
| FR2757151B1 (fr) | 1996-12-12 | 1999-01-08 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage comprenant un substrat muni d'un empilement de couches minces pour la protection solaire et/ou l'isolation thermique |
| JP3700358B2 (ja) | 1996-12-18 | 2005-09-28 | 日本板硝子株式会社 | 防曇防汚ガラス物品 |
| GB2320499A (en) | 1996-12-21 | 1998-06-24 | Pilkington Plc | Safety glass interlayer |
| GB2320503A (en) | 1996-12-21 | 1998-06-24 | Pilkington Plc | Safety glass interlayer |
| US6106955A (en) | 1997-01-14 | 2000-08-22 | Takenaka Corporation | Metal material having photocatalytic activity and method of manufacturing the same |
| US6054227A (en) * | 1997-03-14 | 2000-04-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning appliances |
| US6027766A (en) | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
| GB2324098A (en) | 1997-04-08 | 1998-10-14 | Pilkington Plc | Solar control coated glass |
| US5980983A (en) | 1997-04-17 | 1999-11-09 | The President And Fellows Of Harvard University | Liquid precursors for formation of metal oxides |
| US5873203A (en) * | 1997-09-02 | 1999-02-23 | Ppg Industries, Inc. | Photoelectrolytically-desiccating multiple-glazed window units |
| US5939476A (en) | 1997-11-12 | 1999-08-17 | Air Products And Chemicals, Inc. | Surface tension reduction with alkylated polyamines |
| US6103360A (en) | 1998-01-09 | 2000-08-15 | Armstrong World Industries, Inc. | High light reflectance and durable ceiling board coating |
| US6103353A (en) | 1998-07-08 | 2000-08-15 | Eastman Kodak Company | Copy restrictive documents |
| JP2000226234A (ja) | 1998-12-03 | 2000-08-15 | Toto Ltd | 親水性部材 |
| AU746565B2 (en) | 1998-12-21 | 2002-05-02 | Cardinal Cg Company | Soil-resistant coating for glass surfaces |
| US6350397B1 (en) | 1999-03-10 | 2002-02-26 | Aspen Research Corporation | Optical member with layer having a coating geometry and composition that enhance cleaning properties |
| KR20020005038A (ko) | 1999-05-18 | 2002-01-16 | 카디날 아이지 컴퍼니 | 기판용 경화성 긁힘 방지 코팅 |
| GB9913315D0 (en) | 1999-06-08 | 1999-08-11 | Pilkington Plc | Improved process for coating glass |
| US6858306B1 (en) | 1999-08-10 | 2005-02-22 | Pilkington North America Inc. | Glass article having a solar control coating |
| GB2355273A (en) | 1999-10-12 | 2001-04-18 | Pilkington Plc | Coating glass |
| US6524647B1 (en) | 2000-03-24 | 2003-02-25 | Pilkington Plc | Method of forming niobium doped tin oxide coatings on glass and coated glass formed thereby |
-
1997
- 1997-07-23 US US08/899,257 patent/US6027766A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-03-12 CA CA 2283222 patent/CA2283222C/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-12 SK SK1192-99A patent/SK287462B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1998-03-12 ES ES98909123T patent/ES2195323T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-12 TR TR1999/02245T patent/TR199902245T2/xx unknown
- 1998-03-12 TR TR200401194T patent/TR200401194T2/xx unknown
- 1998-03-12 AU AU66986/98A patent/AU737164B2/en not_active Ceased
- 1998-03-12 IL IL13176798A patent/IL131767A0/xx active IP Right Grant
- 1998-03-12 DK DK98909123T patent/DK0966409T3/da active
- 1998-03-12 PL PL335736A patent/PL199170B1/pl unknown
- 1998-03-12 PT PT98909123T patent/PT966409E/pt unknown
- 1998-03-12 DE DE1998611640 patent/DE69811640T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-12 KR KR10-1999-7008374A patent/KR100499549B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-03-12 CN CNB031274994A patent/CN100462320C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-12 CZ CZ0310099A patent/CZ300061B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1998-03-12 AT AT98909123T patent/ATE233230T1/de not_active IP Right Cessation
- 1998-03-12 ID ID991004A patent/ID23383A/id unknown
- 1998-03-12 CN CN98804204A patent/CN1131183C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-12 WO PCT/US1998/004785 patent/WO1998041480A1/en active IP Right Grant
- 1998-03-12 EP EP98909123A patent/EP0966409B1/en not_active Revoked
- 1998-03-12 BR BR9808337A patent/BR9808337A/pt active Search and Examination
-
1999
- 1999-04-01 US US09/282,943 patent/US6413581B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-06 IL IL131767A patent/IL131767A/en not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-11-17 HK HK00107328A patent/HK1028014A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-02-14 US US10/075,316 patent/US6722159B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-06-27 US US10/608,486 patent/US7049002B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997007069A1 (en) * | 1995-08-18 | 1997-02-27 | Adam Heller | Self-cleaning glass and method of making thereof |
| WO1997010186A1 (fr) * | 1995-09-15 | 1997-03-20 | Saint-Gobain Vitrage | Substrat a revetement photocatalytique |
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CZ300061B6 (cs) | Zpusob výroby fotokatalyticky aktivovaného samocisticího predmetu | |
| CA2452637C (en) | Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same | |
| KR100939392B1 (ko) | 광-유도된 친수성 제품 및 그의 제조방법 | |
| KR20040024582A (ko) | 광활성 코팅, 코팅 제품 및 그의 제조 방법 | |
| CZ299321B6 (cs) | Substrát na bázi skla, keramiky nebo sklokeramiky, monolitická vícevrstvová jednotka, použití substrátu a zpusob výroby substrátu | |
| AU2002318321A1 (en) | Visible-light responsive photoactive coating, coated article, and method of making same | |
| AU2002316028A1 (en) | Photo-induced hydrophilic article and method of making same | |
| JP3381886B2 (ja) | 光触媒構造体及びその製造方法 | |
| JP4334459B2 (ja) | 光触媒活性化自浄式物品及びその製法 | |
| JP3676824B6 (ja) | 光触媒活性化自浄式物品及びその製法 | |
| AU765169B2 (en) | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same | |
| MXPA99008454A (en) | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PD00 | Pending as of 2000-06-30 in czech republic | ||
| MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20170312 |