TWI759648B - 偵測隱藏式圖案之方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種用於偵測包括隱藏式圖案之組件的方法，其包括：偵測由包括第一圖案之組件反射或發射之紅外電磁輻射，該組件包括：基板；安置於該基板之至少一部分上方之該第一圖案；安置於該基板之至少一部分與該第一圖案之至少一部分之間的可選底塗層；及包括紅外透明顏料之第一可見不透明層，該第一可見不透明層安置於該第一圖案之至少一部分上方；以及比較由該第一圖案在一種波長下之紅外電磁輻射的反射率及/或吸收率與由該底塗層及/或該基板在相同波長下的反射率及/或吸收率。

Description

偵測隱藏式圖案之方法
本發明係關於一種用於偵測包括隱藏式圖案之組件的方法、用於偵測包括隱藏式圖案之組件的系統及包括隱藏式圖案之組件。
條碼、QR碼及其他機器可讀代碼適用於產品識別及資訊傳送。然而，此等機器可讀代碼自其上面安置有該等機器可讀代碼之產品之可見外觀而減損。此又藉由限制機器可讀代碼可安置於產品上方之區域來限制此等機器可讀代碼之有用性。
本發明係針對一種用於偵測包括隱藏式圖案之組件的方法，其包括：偵測藉由包括第一圖案之組件反射或發射之紅外電磁輻射，該組件包括：基板；安置於該基板之至少一部分上方之該第一圖案；安置於該基板之至少一部分與該第一圖案之至少一部分之間的可選底塗層；及包括紅外透明顏料之第一可見不透明層，該第一可見不透明層安置於該第一圖案之至少一部分上方；且比較第一圖案之紅外電磁輻射在一種波長下之反射率及/或吸收率與底塗層及/或基板之紅外電磁輻射在相同波長下之反射率及/或吸收率。
本發明係針對一種用於偵測包括隱藏式圖案之組件的系統，其包括：(a)第一組件，其包括：基板；安置於該基板之至少一部分上方之第一圖案；視情況安置於該基板之至少一部分與該第一圖案之至少一部分之間的底塗層；及包括紅外透明顏料之第一可見不透明層，該第一可見不透明層安置於該第一圖案之至少一部分上方，其中第一圖案之紅外電磁輻射在一種波長下的反射率及/或吸收率不同於底塗層及/或基板之紅外電磁輻射在相同波長下之反射率及/或吸收率；及(b)第二組件，其包括紅外偵測器，該紅外偵測器偵測自該第一組件反射或發射之紅外電磁輻射。
本發明係針對一種包括隱藏式圖案之組件，其包括：基板；安置於該基板之至少一部分上方之第一圖案；安置於該基板之至少一部分上方之第二圖案；視情況安置於該基板之至少一部分與該第一圖案或該第二圖案之至少一部分之間的底塗層；及包括紅外透明顏料之第一可見不透明層，該第一可見不透明層安置於該第一圖案或該第二圖案之至少一部分上方，其中第一圖案之紅外電磁輻射在一種波長下之反射率及/或吸收率不同於底塗層及/或基板之紅外電磁輻射在相同波長下之反射率及/或吸收率，且其中該第一圖案直接安置於該組件之層上方，該層包括該基板或該組件之塗層且位於該第一可見不透明層下方；且該第二圖案相較於該第一圖案直接安置於該組件之不同層上方，且該第二圖案安置於該第一可見不透明層下方，其中第一圖案之紅外電磁輻射在一種波長下之反射率及/或吸收率不同於上面直接安置有第一圖案之層的反射率及/或吸收率，且其中第二圖案之紅外電磁輻射在一種波長下之反射率及/或吸收率不同於上面直接安置有第二圖案之層的反射率及/或吸收率。
出於以下詳細描述之目的，除非其中明確地相反指定，否則應理解本發明可採用各種替代性變化形式及步驟順序。此外，除任何操作實例中或以其他方式指示外，說明書及申請專利範圍中表達例如成分數量之所有數值應理解為在所有情況下藉由術語「約」修飾。因此，除非有相反指示，否則以下說明書及隨附申請專利範圍中所闡述之數值參數為近似值，其可視藉由本發明獲得之所需特性而變化。至少，且不試圖將均等論之應用限於申請專利範圍之範疇，各數值參數至少應根據所報導之有效數位的數目且藉由應用普通捨位技術來解釋。
儘管闡述本發明之廣泛範疇的數值範圍及參數為近似值，但特定實施例中所闡述之數值應儘可能精確地報告。然而，任何數值均固有地含有某些必然由其各別測試量測中所存在之標準差造成之誤差。
此外，應理解本文中所述之任何數值範圍意欲包括其中包含之所有子範圍。舉例而言，「1至10」之範圍意欲包括所述最小值1與所述最大值10之間(且包括最小值1及最大值10)的所有子範圍，亦即具有等於或大於1之最小值及等於或小於10之最大值。
在本申請案中，除非另外特定陳述，否則單數之使用包括複數且複數涵蓋單數。另外，在本申請案中，除非另外特定陳述，否則使用「或」意謂「及/或」，儘管「及/或」可明確地用於某些情況。此外，在本申請案中，除非另外特定陳述，否則使用「一(a/an)」意謂「至少一種(個)」。舉例而言，「圖案」、「組件」及其類似者是指此等項目中的任一者中的一或多者。此外，如本文所用，術語「聚合物」意謂指預聚物、低聚合物、以及均聚物及共聚物二者。術語「樹脂」可與「聚合物」互換使用。
如本文所用，過渡術語「包含(comprising)」(及其他類似術語，例如「含有(containing)」及「包括(including)」)為「可擴充的」且對包涵未指定物質開放。儘管以「包含」之術語描述，但術語「主要由…組成」及「由…組成」亦在本發明之範疇內。
本發明係針對一種包括隱藏式圖案之組件，該組件包含：基板；安置於該基板之至少一部分上方之圖案；安置於該基板之至少一部分與該圖案之至少一部分之間的視情況選用之底塗層；及包含紅外透明顏料之可見不透明層，該可見不透明層安置於該第一圖案之至少一部分上方，其中在一個波長下藉由該圖案之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率不同於在同一波長下藉由該底塗層及/或該基板之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率。
不透明層可定義為如下層：其中Y黑色 /Y白色 之比率(如下文中所描述)為至少0.9，該層基於遍及電磁波譜之一部分之此比率之平均值，位於該電磁波譜之上之層即被認為係不透明的。為確定塗層是否可見不透明，可使用包覆有具有不同直徑(來自RD Specialties, Inc.(Webster, N.Y.))之線的不鏽鋼棒將塗佈下拉向黑色及白色不透明度圖表(BYK Leneta)上方。積分球分光光度計(X-rite Color i7)可用於擴散地照明樣品且量測Y-值(反射率)。對於電磁光譜之可見區中之各波長(400 nm至700 nm)，可藉由採取兩個Y量測(一個在圖表之黑色側上且一個在圖表之白色側上)來確定Y黑色 /Y白色 之比率。如在電磁光譜之可見區上取平均值，當Y黑色 /Y白色 之比率為至少0.9時，確定塗佈為可見不透明的。如在電磁光譜之可見區域上取平均值，當Y黑色 /Y白色 之比率小於0.9時，確定塗佈為可見透明的。類似地，如在電磁光譜之NIR區(700 nm至2500 nm)上取平均值，當Y黑色 /Y白色 小於0.9時，確定塗佈在NIR區間為透明的，且如在電磁波譜之NIR區(700 nm至2500 nm)上取平均值，當Y黑色 /Y白色 為至少0.9時，確定塗佈在NIR區間為不透明的。透明或不透明之此類指定可基於該區上之平均Y黑色 /Y白色 比率類似地擴展至電磁光譜之其他區。
如本文所用，術語「紅外輻射」或「IR輻射」或「紅外」或「IR」係指在電磁波譜之紅外區間中之電磁輻射。此IR輻射可具有700 nm至1 mm之波長。IR輻射可為近IR輻射。如本文所用，術語「近IR」或「近紅外輻射」或「NIR」係指在電磁波譜之近IR區間中之電磁輻射。此類近IR電磁輻射可具有700 nm至2500 nm(諸如1100 nm至2500 nm、諸如900 nm至1600 nm、諸如905 nm或諸如1550 nm)之波長。
組件之圖案、視情況存在之底塗層及可見不透明層可為如下文所描述之安置於基板上方之成膜塗層，其藉由塗佈組合物聚結形成塗層來形成。術語「聚結」係指塗佈組合物硬化以形成塗佈之製程。聚結可包括經固化(例如藉由自身或經由交聯劑交聯硬化)之塗佈組合物或經乾燥之塗佈組合物。如本文所用，術語「成膜樹脂」可指一種樹脂，其可在移除與成膜樹脂一起存在之任何稀釋劑或載劑後或在環境溫度或高溫下固化後即刻在基板之至少一水平表面上形成自撐式連續膜。
可用於安置於組件上方之塗層中之任一者中的成膜樹脂可包括(但不限於)用於汽車OEM塗佈組合物、汽車再加工塗佈組合物、工業塗佈組合物、建築塗佈組合物、線圈塗佈組合物、封裝塗佈組合物、保護及船舶塗佈組合物及航空塗佈組合物以及其他中之彼等樹脂。
安置於組件上方之成膜樹脂中之任一者可包括熱固性成膜樹脂。如本文所用，術語「熱固性」係指在固化或交聯後經不可逆地「定形」的樹脂，其中聚合組分之聚合物鏈藉由共價鍵接合在一起。此特性通常與常例如藉由加熱或輻射誘導之組合物成分之交聯反應相關聯。固化或交聯反應亦可在環境條件下進行。一旦經固化或交聯，熱固性樹脂將不會在加熱後熔化且不溶於溶劑中。在其他實例中，包括於本文所述之塗佈內的成膜樹脂可包括熱塑樹脂。如本文所用，術語「熱塑性」係指包括聚合物組分之樹脂，該等聚合物組分可在加熱後即刻經歷液體流動且可溶於習知溶劑中。
安置於組件上方之成膜樹脂中之任一者可包括此項技術中已知之多種熱塑性及/或熱固性組合物中之任一者。成膜樹脂可由基於水或基於溶劑之液體組合物或替代地以固體微粒形式(例如粉末塗佈)之組合物沈積。
熱固性塗料組合物通常包括可選自(例如)以下各物之交聯劑：胺基塑膠、包括封端異氰酸酯之多異氰酸酯、聚環氧化物、β羥基烷基醯胺、多元酸、酸酐、有機金屬酸官能材料、多元胺、聚醯胺及前述中之任一者之混合物。
熱固性或可固化塗佈組合物通常包括具有可與交聯劑反應之官能基的成膜樹脂。本文所述之塗層中之成膜樹脂可選自此項技術中熟知之多種聚合物中之任一者。成膜樹脂可選自例如丙烯酸聚合物、聚酯聚合物、聚胺基甲酸酯聚合物、聚醯胺聚合物、聚醚聚合物、聚矽氧烷聚合物、其共聚物及其混合物。一般而言，此等聚合物可為藉由熟習此項技術者已知之任何方法製得的此等類型之任何聚合物。成膜樹脂之官能基可選自多種反應性官能基中之任一者，包括例如羧酸基、胺基、環氧基、羥基、硫醇基、胺基甲酸酯基、醯胺基、脲基、異氰酸酯基(包括嵌段異氰酸酯基)硫醇基及其組合。
成膜樹脂之恰當混合物亦可用於製備本文所描述之各種塗層。
上面塗覆各種塗層之組件之基板可由任何適合之材料製成。基板可為(例如)金屬的或非金屬的。金屬基板可包括錫、鋁、鋼(諸如鍍錫鋼)、鉻鈍化鋼、鍍鋅鋼或捲曲鋼或其他捲曲金屬及其任何金屬合金。非金屬基板可為高分子，諸如塑膠，包括聚酯、聚烯烴、聚醯胺、纖維素、聚苯乙烯、聚丙烯酸、聚(萘二甲酸伸乙酯)、聚丙烯、聚乙烯、耐綸、EVOH、聚乳酸、其他「綠色」聚合基板、聚(對苯二甲酸乙二醇酯)(「PET」)、聚碳酸酯、聚碳酸酯丙烯腈丁二烯苯乙烯(「PC/ABS」)或聚醯胺。其他適合非金屬基板可包括木材、薄板、木材複合物、粒子板、石膏板、中密度纖維板、水泥、混凝土、石材、玻璃、陶瓷、瀝青、紙、填充或未填充之微孔膜(例如TESLIN)及其類似物。
基板可為經預處理之金屬基板(諸如上文所提及)且可塗覆有電沈積塗佈。適合之可電沈積塗佈組合物已描述於美國專利第4,933,056號(第2欄, l. 48至第13欄, l. 46)、第5,530,043號(第1欄, l. 46至第11欄, l. 25)、第5,760,107號(第2欄, l. 11至第24欄, l. 53)及第5,820,987號(第3欄, l. 48至第17欄, l. 37), 其特定部分以引用之方式併入本文中。在電沈積塗佈組合物固化之後，可將中底漆塗層(primer-surfacer coating)塗覆至電沈積塗佈之至少一部分上。可將中底漆塗層塗覆至電沈積塗佈且在後續塗覆另一塗佈之前固化。中底漆塗層可為下文所描述之視情況選用之底塗層。
包含基板之組件可為隱藏式圖案(諸如機器可讀代碼)所在之任何組件，其可用於確定關於該組件之資訊。該組件可包括載具組件，諸如載具、道路、道路交通安全產品、標牌、建築物、結構及可位於移動載具之路徑中的任何障礙。道路交通安全產品可包括障礙、馬凳、速度凸塊、交通錐及其類似產品。載具可包括任何類型之移動載具，諸如汽車、腳踏車、卡車、公共汽車、飛機、船及其類似載具。可自主地操作載具。載具組件可為衣物，諸如由個人在載具之路徑中穿戴的衣物。應理解，載具組件可包括載具自身之任何組件或可位於載具類型中之任一者之路徑中的任何類型之障礙物(載具周圍環境)。
組件可包括可與虛擬實境/擴增實境環境(VR/AR)相關聯之任何表面。如本文所用，VR/AR係指通過饋入耳機之實時攝影機或經由計算裝置來分層虛擬資訊的VR之形式，從而向使用者給予檢視三維影像之能力。因此，應瞭解，VR/AR環境中之表面可包括在實時攝影機饋入中俘獲之任何組件以形成VR/AR環境。舉例而言，在使用者正經歷VR/AR環境之房間之實況視訊饋入中，組件可為該房間中所含之任何物件。
該組件可包括封裝。「封裝」為用以包含另一物件的各類物體，特別用於從製造點運送至消費者，且經常用於消費者的後續儲存。封裝可含有食物或非食物。組件可包括標記，其可包括用於附接至物件以便表明關於彼物件(諸如其製造商、本質、所有權、目的地或類似者)之資料的材料。標記可為運送標記或定位於消費型產品上之標記。
該組件可包括識別組件。識別組件可為由實體(例如政府、企業、組織及其類似者)頒予之官方文獻，以識別發佈官方文獻之個體。識別文件可包括識別非人組件，諸如地點或事物；非限制性實例包括用於事件之票證(例如體育事件或音樂會)、交通票證(例如飛機票證)或其類似票證。識別組件可包括承載唯一識別符(諸如與其相關聯之序號)之組件。識別組件之非限制性實例包括護照、駕駛員許可證、簽證、工作證(work identification badge)及類似物。
該隱藏式圖案可作為用於成像或感測系統中之標記物或參考點而作為於該成像或感測系統中使用之基準標記物而被包括，使得基板為經組態以包括基準標記物之基板。隱藏式圖案可充當用於任務之基準標記，諸如塗漆、拍照、用於偵測其他隱藏式圖案之定向攝影機、自動停車應用及其他適合之情境。
視情況選用之底塗層可包括先前所描述之成膜樹脂中之任一者且可安置於基板之至少一部分上方。視情況選用之底塗層可安置於基板之至少一部分與圖案(下文中所描述)之至少一部分之間。
圖案可安置於基板之至少一部分上方。圖案可安置於視情況選用之底塗層之至少一部分上方，若存在於組件之塗佈系統中。圖案可包括先前所描述之成膜樹脂中之任一者。圖案可為安置於基板之至少一部分及/或視情況選用之底塗層上方之塗層，其可選擇性地以圖案形式安置於其上。圖案可為安置於基板之至少一部分及/或視情況選用之底塗層上方之貼紙。該圖案可為藉由諸如鉛筆、鋼筆、標記物及其類似物之書寫器具製得之標記。可藉由3D印刷、網板印刷、噴墨印刷及其類似者將圖案塗覆至基板。
如本文所用，術語「圖案」係指具有任何組態之標記。圖案可包括唯一識別符。圖案可包括機器可讀代碼，且機器可讀代碼可為對應於組件之唯一識別符或識別該組件之識別符。機器可讀代碼可包括條碼、QR碼或此項技術中已知的用以表示資料之任何其他類型之機器可讀代碼。圖案可包括能夠識別組件之來源之商標或其他商標。圖案可包括機器可讀識別符及/或機器可讀指令。圖案可包括任何類型之觀賞設計。圖案可包括圖像或圖式。該圖案可包括時序圖案，諸如摩斯密碼(Morse code)。圖案可包括藉由在可見不透明層下方之紅外源(紅外LED)之配置(例如網格)形成之動畫。
圖案可包括形成於組件之基板的表面上的表面劣化或組件之任何其他塗層之劣化。表面劣化之適合實例包括腐蝕區域、破裂區域、熱或化學降解、應力或應變、變形及其類似者。
組件可包括複數個圖案，諸如安置於基板上方之第一圖案及第二圖案(及任何其他數目個圖案)。該等圖案可具有彼此相同之組態或不同之組態。圖案可由相同材料製成或可由不同材料製成。由不同材料製成之圖案可在某些波長下彼此具有不同反射率及/或吸收率或紅外電磁輻射，使得在紅外電磁輻射之相同波長下第一圖案之反射率及/或吸收率不同於第二圖案之反射率及/或吸收率。第一圖案反射或發射於800 nm-1000 nm之範圍內的紅外電磁輻射，而第二圖案反射或發射於1600 nm-2500 nm之範圍內的紅外電磁輻射。涵蓋紅外電磁光譜內第一及/或第二圖案之波長範圍之其他組合。
第一及第二圖案可直接安置於組件之相同層上方或直接安置於組件之不同層(相比於彼此)上方。組件之層可包括基板及安置於基板上方之任何塗層。第一圖案可直接安置於組件之第一層(例如組件之基板或其他塗層)上方及可見不透明層下方，而第二圖案安置於不同於組件之第一層的組件之第二層上方，第二圖案亦位於可見不透明層下方。如本文所用，一個層「直接」安置於另一層上方意謂一個層與其他層直接接觸。
在一個波長下藉由圖案(或藉此發射輻射)之紅外輻射之反射率及/或吸收率不同於在同一波長下藉由視情況選用之底塗層及/或基板之紅外輻射之反射率及/或吸收率。此允許自紅外源(下文論述)導入在組件處之紅外輻射傳輸穿過具有紅外透明顏料(下文論述)之可見不透明層，到達圖案及基板及/或可選底塗層，且相比於基板及/或可選底塗層，以不同方式使紅外輻射經反射或吸收而離開圖案，以便藉由偵測由組件反射之紅外輻射的紅外偵測器(於下文描述)來區分。以此方式，紅外偵測器可識別圖案、圖案之定向、圖案之狀況及/或距圖案之距離。要確定第一塗層在預定波長下是否與第二塗層不同地反射及/或吸收，可藉由確定第一塗層與第二塗層之間的對比率(Y1 /Y2 )而確定。第一塗層及第二塗層可各自在基板上方被下拉。積分球分光光度計(X-rite Color i7)可用於擴散地照明樣本且量測基板上方之第一塗層之Y值(反射率)(在預定波長下或作為遍及複數個預定波長之平均值)及用以量測基板上方之第二塗層之Y值(反射率)(在預定波長下或作為遍及複數個預定波長之平均值)。接著可針對預定波長或在複數個預定波長上之平均值確定對比率(Y1 /Y2 )。任何非一個對比率值(Y1 及Y2 不匹配)表示第一塗層與第二塗層之間的一些對比度(不同反射及/或吸收特性)，使得在預定波長或複數個預定波長處感測之偵測器可在第一塗層與第二塗層之間鑑別。可針對電磁波譜中之任何預定波長確定第一塗層與第二塗層(或在任何兩個表面之間)之對比率。
圖案及/或視情況選用之底塗層可包括紅外反射顏料。紅外反射顏料可包含於圖案及/或視情況選用之底塗層中，只要圖案可藉由紅外偵測器偵測由組件反射之紅外輻射而區別於視情況選用之底塗層。圖案或視情況選用之底塗層可發射預定波長之輻射。
如本文所用，術語「紅外反射顏料」可指顏料或染料，其在包括於塗佈組合物中時提供固化塗佈，其紅外輻射之反射率大於以相同方式來自相同組合物但無紅外反射顏料沈積之固化塗佈。
紅外反射顏料之適合實例包括金屬或金屬合金紅外反射顏料之薄片，可包括例如鋁、鉻、鈷、鐵、銅、錳、鎳、銀、金、鐵、錫、鋅、青銅、黃銅，包括其合金，諸如鋅銅合金、鋅錫合金及鋅鋁合金以及其他。一些特定實例包括以下各者：鎳銻鈦、鎳鈮鈦、鉻銻鈦、鉻鈮、鉻鎢鈦、鉻鐵鎳、氧化鉻鐵、氧化鉻、鈦酸鉻、錳銻鈦、錳鐵氧體、赤鐵礦(chromium green-black)、鈦酸鈷、鉻鐵礦或磷酸鹽、鈷鎂及鋁氯化物、氧化鐵、鐵鈷鐵氧體、鐵鈦、鋅鐵氧體、鋅鐵鉻鐵礦、亞鉻酸銅以及其組合。
在本發明中，此類顏料可呈薄片之形式。舉例而言，「翻頁(leafing)」鋁片通常為適合的。如本文所用，術語「薄片」意謂粒子之其寬度與其厚度之比率(稱為縱橫比)至少為2且通常落入10至2,000範圍內，諸如3至400，或在一些情況下10至200，包括10至150。如此，「薄片」粒子為具有實質上扁平結構之粒子。此類片可具有沈積於其上之塗層，諸如經二氧化矽塗覆之銅片之情況。
此類薄片粒子之厚度可為小於0.05 µm至10 µm，諸如0.5至5 µm。在某些實例中，此類薄片粒子之最大寬度為10至150 µm，諸如10至30 µm。
相對於鋸齒狀邊緣，紅外反射顏料可包括具有圓形邊緣及光滑且扁平表面之薄片粒子。具有角邊緣及不均勻表面之片在此項技術中稱為「玉米片」。另一方面，特徵在於更圓邊緣及更光滑更扁平表面之片稱為「銀幣(silver dollar)」片。此外，在某些實例中，當根據ISO 1524量測時，具有圓形邊緣之薄片金屬或金屬合金粒子之最大寬度可不超過25 µm，諸如10至15 µm。
額外適合之薄片金屬或金屬合金紅外反射顏料可包括著色金屬顏料，諸如其中著色顏料化學吸附在金屬顏料表面上之彼等顏料。此類著色金屬顏料描述於美國專利第5,037,745號中第2欄第55行至第7欄第54行，其列舉部分以引用之方式併入本文中。一些此類著色金屬顏料亦可商購得且包括可在商品名FIREFLAKE下購自U.S. Aluminum, Inc. (Flemington, N.J.)之彼等顏料。諸如下文所描述之基於苝之顏料之紅外透明顏料可以化學方式吸附在金屬顏料之表面上，以提供深色(有時黑色)之著色紅外反射金屬顏料。
以組合物之總固體重量計，薄片金屬或金屬合金紅外反射顏料可以至少1重量%，諸如至少2重量%、至少3重量%、至少5重量%、至少6重量%或至少10重量%之量存在於圖案及/或視情況選用之底塗層之組合物中。在一些情況下，以組合物之總固體重量計，紅外反射顏料可以不超過50重量%，諸如不超過25重量%或不超過15重量%之量存在於前述塗佈組合物中。此類組合物中所存在之薄片金屬或金屬合金紅外反射顏料之量的範圍可包括此等值之任何組合，包括所述值，諸如以組合物之總固體重量計1重量%至25重量%、5重量%至25重量%或10重量%至15重量%。
適合之紅外反射顏料可包括著色或基本上無色、半透明或不透明之紅外反射顏料。如本文所用，術語「基本上無色」意謂當在日光下觀察時，顏料不具有顏色，例如顏料之吸收曲線在400 nm-700 nm範圍內不含吸收峰，且在經反射或透射光中不呈現色澤或色調。著色紅外反射顏料可為基本上無色之紅外反射顏料。換言之，如下文所定義，「著色」之紅外反射顏料為可見-吸收之顏料。「半透明」顏料意謂可見光能夠擴散地穿過顏料。「不透光」顏料為散射大量光之顏料。可為半透明且基本上無色(若以較低量用於塗佈中)之紅外反射顏料之一個實例為可購自Merck KGaA(Darmstadt, Germany)之SOLARFLAIR 9870顏料。此市售顏料亦可為具有塗覆有二氧化鈦之雲母基質的干涉顏料之實例。如本申請案中所使用，術語「干涉顏料」指具有折射率不同之交替材料層之多層結構的顏料。
適合之著色及/或不透明紅外反射顏料之其他實例包括例如多種金屬及金屬合金、無機氧化物及干涉顏料中之任一者。例示性顏色包括例如：白色，如同二氧化鈦之情況；棕色，如同鐵鈦棕色尖晶石之情況；綠色，如同氧化鉻綠之情況；紅色，如同氧化鐵紅之情況；黃色，如同鈦酸鉻黃及鈦酸鎳黃之情況；及藍色及紫色，如同某些經TiO2 塗覆之雲母片之情況。
含有紅外反射顏料之適合無機氧化物包括例如氧化鐵、氧化鈦(TiO2 )顏料、複合氧化物系統顏料、氧化鈦塗覆雲母顏料、氧化鐵塗覆雲母顏料及氧化鋅顏料以及許多其他顏料。無機氧化物(例如TiO2 )顏料可具有1-5 µm之平均粒度，以便反射某些紅外輻射。
紅外反射顏料可包括平均粒度為1-5 µm之TiO2 、平均粒度為5-30 µm之二氧化矽、平均粒度為1-5 µm之CaCO3 及/或其某一組合。紅外反射顏料可包括有有機黏合劑以形成紅外反射塗佈組合物。此紅外反射塗佈組合物可用作圖案及/或視情況選用之底塗層。
圖案及/或視情況存在之底塗層可包括紅外不透明層，其可包括以下中之至少一者：具有0.3-5 µm之平均粒度的CaCO3 、具有1-30 µm之平均粒度的二氧化矽及具有0.1-5 µm之平均粒度的TiO2 。紅外不透明層可進一步包括紅外及/或可見吸收顏料(例如碳黑)及黏合劑。
圖案及/或視情況選用之底塗層可包括紅外螢光顏料及/或染料(在下文中稱為紅外螢光顏料)。如本文中所使用，術語「紅外螢光顏料」可指可吸收可見光區(400至700 nm)中之電磁輻射及紅外區中之螢光的顏料。適合紅外螢光顏料之實例包括金屬顏料、金屬氧化物、混合金屬氧化物、金屬硫化物、金屬硒化物、金屬碲化物、金屬矽酸鹽、無機氧化物、無機矽酸鹽、鹼土金屬矽酸鹽。如本文所用，術語「鹼」係指元素週期表第II族之元素Be、Mg、Ca、Sr、Ba及Ra(鈹、鎂、鈣、鍶、鋇、鐳)。適合紅外螢光顏料之非限制性實例包括金屬化合物，其可摻雜有一或多種金屬、金屬氧化物、鹼金屬及/或稀土元素。如本文所用，術語「鹼金屬」係指元素週期表第I族之元素Li、Na、K、Rb、Cs及Fr(鋰、鈉、鉀、銣、銫、鈁)。如本文所用，術語「稀土元素」係指鑭系元素系列元素La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm及Yb(鑭、鈰、鐠、釹、鉕、釤、銪、釓、鋱、鏑、鈥、鉺、鋱及鐿)。
更特定言之，紅外螢光顏料之實例可包括埃及藍(Egyptian blue)(CaCuSi4 O10 )、漢藍(Han blue)(BaCuSi4 O10 )、漢紫(Han purple)(BaCuSi2 O6 )、SrCuSi4 O10 、紅寶石(Al2 O3 :Cr)。特定言之，藍色鹼土金屬矽酸銅(諸如埃及藍(CaCuSi4 O10 ))在800至1200 nm區域中發螢光。鎘顏料、CdSe及CdTe化合物、「氧化鋯」紅(塗覆有矽酸鋯玻璃之紅色鎘顏料)、靛藍、藍色碳酸銅(2CuCO3 .Cu(OH)2 )、銅藍、石青(Cu3 (CO3 )2 (OH)2 )、藍寶石(Ploss blue）((CuCa)(CH3 COO)2 .2H2 O)及大青(CoO.K.Si)可具有螢光。
紅外螢光顏料之其他實例可包括ZnO、ZnS、ZnSe及ZnTe，其具有對於紅外能量之頻帶對頻帶發射而言可能過大、但摻雜有Sn、Mn及Te可產生適合之雜質發光的能量間隙。紅外螢光顏料之其他實例可包括用於照明及用於螢光顯示器之化合物；某些直接帶隙半導體，諸如(Al, Ga)As、InP及其類似物；及用於固態雷射之材料，諸如Nd摻雜之釔鋁石榴石及鈦摻雜之藍寶石。另外，紅外螢光顏料之實例可包括在深紅色或紅外中發射之磷光體(例如LiAlO2 :Fe、CaS:Yb)。
紅外螢光顏料可為有機顏料或染料。紅外螢光有機顏料之適合的實例包括：螺[茚并[1,2-b]苯并哌喃-10,1'-異苯并呋喃]-3'-酮、7-(二烷胺基)-3'H,11H-螺[茚并[1,2-b]苯并哌喃-10,1'-異苯并呋喃]-3'-酮、changsha(CS1-6)紅外螢光團、噻吩并吡嗪、若丹明(諸如含有胺基之胺基苯并呋喃-稠合若丹明染料(AFR染料))、磺醯羅丹明染料、苝二醯亞胺或六芮二醯亞胺、供體-受體電荷轉移化合物(諸如經取代之噻吩)、二苯基苯并雙噻二唑、及硒或經衍生物取代之碲、環狀多烯、環狀多烯-炔、苝、苝雙(二甲醯亞胺)(諸如苝雙苯乙醯亞胺或苝雙(2,5-二-第三丁基苯乙醯亞胺)、含有氮供體基團之苝二醯亞胺、聚次甲基、硼二吡咯亞甲基、吡咯并吡咯花青、方酸染料、四硫富瓦烯、噻二唑稠合發色團、酞花青及卟啉衍生物、金屬卟啉、BODIPY(硼二吡咯甲烷)染料、三羰花青、紅螢烯、碳奈米管及石墨烯及氧化石墨烯。
紅外螢光有機顏料可作為奈米粒子囊封於諸如兩親媒性嵌段共聚物之聚合物中。舉例而言，囊封紅外螢光有機顏料奈米粒子之兩親媒性嵌段共聚物可為聚(己內酯)-b-聚-(乙二醇)(PCL-b-PEG)。此外，紅外螢光有機顏料可共價鍵結於囊封聚合物之聚合物基質。另外，紅外螢光有機顏料可錨定至高分子或無機粒子。
該組件可包括包括紅外反射顏料之圖案且可包括視情況選用之底塗層，其實質上不含任何紅外反射顏料。舉例而言，圖案可包括TiO2 作為紅外反射顏料，而視情況選用之底塗層實質上不含TiO2 或其他此類紅外反射顏料；視情況選用之底塗層可包括(例如)碳黑(紅外吸收顏料)。應瞭解，儘管TiO2 在紅外電磁波譜中之某些波長下充當紅外反射顏料，但其在紅外電磁波譜中之某些其他波長下充當紅外透明顏料。
該組件可包括視情況選用之底塗層，該底塗層包括紅外反射顏料及實質上不含任何紅外反射顏料之圖案。舉例而言，視情況選用之底塗層可包括TiO2 作為紅外反射顏料，而圖案實質上不含TiO2 或其他此類紅外反射或吸收顏料。
可見不透明層可包括紅外透明顏料及/或染料(下文中，紅外透明顏料)。如本文所用，術語「紅外透明顏料」可指實質上在紅外範圍(700 nm至1 mm)中透明之顏料，諸如近IR範圍(700至2500 nm)，諸如描述於[0020]-[0026]處之美國專利申請公開案第2004/0191540號中，該申請案之引用部分以引用之方式併入本文中，而在此類波長中不明顯散射或吸收輻射。在某些實例中，紅外透明顏料在紅外波長區域中可具有至少70%之平均透射率。紅外透明顏料可為可見吸收的。如本文所用，術語「可見-吸收」係指實質上吸收在400至700 nm可見光區內的至少一些波長中之輻射的顏料。
適合紅外透明顏料之非限制性實例可包括例如：銅酞菁顏料、鹵化銅酞菁顏料、蒽醌顏料、喹吖啶酮顏料、苝顏料、單偶氮顏料、雙偶氮顏料、喹酞酮顏料、靛蒽醌顏料、二噁嗪顏料、異吲哚啉顏料、二芳化物黃顏料、溴化蒽酮顏料、偶氮金屬錯合物顏料及其類似物。可使用紅外透明顏料之組合。
紅外透明顏料可包括紅外透明黑色顏料，諸如部分依賴於下文所說明之苝類型結構之彼等顏料：
Figure 02_image001
此類顏料之市售實例包括可購自BASF公司(Ludwigshafen，Germany)之PALIOGEN Black EH 0788、PALIOGEN Black L0086及PALIOGEN Black S0084。適用於本發明之某些實施例之紅外透明黑色顏料之其他實例描述於[0030]至[0034]處之美國專利申請公開案第2009/0098476號，其引用部分以引用之方式併入本文中，且包括具有苝異吲哚烯結構、唑甲亞胺結構及/或苯胺結構之彼等顏料。
可見不透明層可實質上不含、或(在一些情況下)完全不含紅外反射或吸收顏料，諸如碳黑。如本申請案中所使用，當參考可見不透明層中之紅外反射或吸收顏料之量使用時，術語「實質上不含」意謂紅外反射或吸收顏料以組合物之總固體重量計以不超過0.1重量%、不超過0.05重量%或不超過0.02重量%之量存在於組合物中。如本文所用，當參考塗佈組合物中紅外反射或吸收顏料之量使用時，術語「完全不含」意謂紅外反射或吸收顏料根本不有意存在於組合物中，諸如不超過0.01重量%或0重量%。替代地，可見不透明層可包括足夠低含量之紅外反射或吸收顏料以使得紅外偵測器(下文中描述)仍能夠偵測隱藏式圖案。相較於由紅外偵測器偵測之紅外區中之波長，可見不透明層可包括在不同波長中之紅外區中反射或吸收之紅外反射或吸收顏料，如此反射或吸收率將對紅外偵測器之影響極小，從而偵測隱藏式圖案。
組件可包括一或多個圖案上方之複數個可見不透明層，諸如第一可見不透明層及第二可見不透明層。與第二可見不透明層相比，第一可見不透明層可包括相同或不同之紅外透明顏料。第一可見不透明層及第二可見不透明層可在紅外電磁波譜中之不同波長下對紅外電磁輻射透明。
可見不透明層可包括二氧化鈦。二氧化鈦可具有0.1-1 µm(諸如0.2-0.5 µm)之平均粒度，其中根據任何適合之標準量測平均粒度。可見不透明層中之二氧化鈦對在1100-2500 nm之範圍內(諸如1600-2500 nm)之紅外電磁輻射可為透明的。
先前所描述之塗層中之任一者(例如圖案、視情況選用之底塗層及/或可見不透明層)可包括調配表面塗佈領域中熟知之其他視情況選用之材料，諸如塑化劑、抗氧化劑、受阻胺光穩定劑、UV光吸收劑及穩定劑、界面活性劑、流動控制劑、觸變劑(諸如膨潤土)、顏料、填料、有機共溶劑、催化劑(包括膦酸)及其他習用助劑。
可藉由多種方法中之任一者將沈積上文所描述之塗層中之每一者的塗佈組合物塗覆至基板，該等方法包括：浸漬或浸沒、噴塗、間歇性噴塗、浸漬隨後噴塗、噴塗隨後浸漬、刷塗或滾塗、粉末塗覆以及其他方法。在某些實例中，可藉由噴塗來塗覆塗佈組合物，且因此，此類組合物可具有適合於藉由在環境條件下噴塗來塗覆之黏度。
可使用上述應用技術中之任一者及/或使用遮罩技術將圖案作為塗層塗覆。可藉由首先將遮罩塗覆至基板及/或視情況選用之底塗層上且接著將圖案之塗佈組合物塗覆於基板及/或視情況選用之底塗層上而將圖案之塗佈組合物選擇性塗覆於基板及/或視情況選用之底塗層上，以使得遮罩區域不與圖案之塗佈組合物接觸，同時藉由圖案之塗佈組合物接觸暴露區域。可接著移除遮罩。可藉由狹縫式塗佈、彈性凸版印刷、凹版印刷、注射器分配印刷及/或氣溶膠噴射印刷將圖案之塗佈組合物選擇性地塗覆至基板及/或視情況選用之底塗層。
在將塗佈組合物塗覆至基板之後，可使該塗佈組合物聚結以在基板上形成實質上連續之膜。乾膜厚度可在0.01密耳至20密耳(0.25 µm至508 µm)之範圍內，諸如0.01密耳至5密耳(0.25 µm至127 µm)，或在一些情況下，厚度為0.1密耳至2密耳(2.54 µm至50.8 µm)。在某些實例中，此等塗層之固化可包括在環境溫度或高溫下之閃蒸，隨後進行熱烘烤。固化可發生在20℃-27℃之環境溫度至28℃至175℃之高溫下。
可視需要藉由在基板的至少一部分上方塗覆底塗層來製備包括隱藏式圖案之組份。圖案可塗覆於視情況存在之底塗層及/或基板之至少一部分上。可將可見不透明層塗覆於圖案之至少一部分上。
參考圖1A-1F，展示了包括隱藏式圖案之各種組件。
參考圖1A，包括隱藏式圖案之組件1可包括基板3。第一圖案5可直接安置於基板3之至少一部分上方。第一可見不透明層6可安置於第一圖案5之至少一部分上方。在一個波長下藉由第一圖案5之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率不同於在同一波長下藉由基板3之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率。
參考圖1B，包括隱藏式圖案之組件1可包括基板3。第一底塗層4可安置於基板3之至少一部分上方。第一圖案5可直接安置於第一底塗層4之至少一部分上方。第一可見不透明層6可安置於第一圖案5之至少一部分上方。在一個波長下藉由第一圖案5之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率不同於在同一波長下藉由第一底塗層4之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率。第一可見不透明層6可在基板3、第一底塗層4及/或第一圖案5反射之波長下透明。
參考圖1C，包括隱藏式圖案之組件1可包括基板3。第一圖案5及第二圖案8(不同於第一圖案5及/或與第一圖案5空間分離)可直接安置於基板3之至少一部分上方。第一可見不透明層6可安置於第一圖案5及第二圖案8之至少一部分上方。在一個波長下藉由第一圖案5之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率可不同於在同一波長下藉由基板3(該第一圖案直接安置於其上方)之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率。在一個波長下藉由第二圖案8之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率可不同於在同一波長下藉由基板3(該第二圖案直接安置於其上方)之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率。在一個波長下藉由第一圖案5進行之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率可不同於在同一波長下藉由第二圖案8進行之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率，使得可在不同波長下偵測第一圖案5及第二圖案8。
參考圖1D，包括隱藏式圖案之組件1可包括基板3。第一圖案5可安置於基板3之至少一部分上方。第一底塗層4可安置於第一圖案5之至少一部分上方，且第一底塗層4可在紅外電磁波譜中之區域中至少部分透明，其中第一圖案反射或發射紅外電磁輻射。第二圖案8可安置於第一底塗層4之至少一部分上方。第一不透明層6可安置於第二圖案8之至少一部分上方。在一個波長下藉由第一圖案5之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率可不同於在同一波長下藉由基板3(該第一圖案直接安置於其上方)之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率。在一個波長下藉由第二圖案8之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率可不同於在同一波長下藉由第一底塗層4(該第二圖案直接安置於其上方)之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率。在一個波長下藉由第一圖案5進行之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率可不同於在同一波長下藉由第二圖案8進行之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率，使得可在不同波長下偵測第一圖案5及第二圖案8。應瞭解，安置於反射正由紅外偵測器偵測之紅外輻射之層上方的組件之層在正經偵測之紅外輻射中之相同波長下可為透明的。參考圖1D及1C，針對組件1中之每一者展示兩個圖案；然而，應瞭解，任何數目個圖案可包括於組件1中，且圖案中之任一者的反射率及/或吸收率可不同於其他圖案中之任一者的反射率及/或吸收率，使得圖案可藉由紅外偵測器彼此區別。
參考圖1E，包括隱藏式圖案之組件1可包括基板3。第一可見不透明層6可安置於基板3之至少一部分上方。基板3之表面可在第一可見不透明層6下方經劣化(例如腐蝕或斷裂)，使得人眼不可見該劣化。可將表面劣化視為第一圖案5。在一個波長下藉由第一圖案5之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率可不同於在同一波長下藉由基板3之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率，使得表面劣化可偵測。在一個波長下藉由第一圖案5之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率可不同於在同一波長下藉由基板3之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率，使得可偵測到劣化。
參考圖1F，包括隱藏式圖案之組件1可包括基板3。第一底塗層4可安置於基板3之至少一部分上方。第一可見不透明層6可安置於第一底塗層4之至少一部分上方。第一底塗層4(或組件1之任何其他塗層)之至少一部分可在第一可見不透明層6下方經劣化(例如腐蝕)，使得人眼不可見該劣化。可將第一底塗層4之劣化視為第一圖案5。
參考圖1G，組件1可包括在紅外電磁光譜中之不同波長下為透明的及/或反射的及/或吸收性的複數個層。圖1G中之組件1包括其上面具有第一底塗層4之基板3、安置於第一底塗層4上方之第二塗層7及安置於第二塗層7上方之第一可見不透明層6。如圖1G中所說明，基板3、第一底塗層4及第二塗層7在紅外電磁光譜中之不同波長下可為反射性及/或透明的。在此實例中，基板3在850 nm處反射，而第一底塗層4、第二塗層7及第一可見不透明層6在850 nm處為透明的。第一底塗層4在1000 nm處反射，而第二塗層7及第一可見不透明層6在1000 nm處為透明的。第二塗層7在1600 nm處反射，而第一可見不透明層6在1600 nm處為透明的。具有不同透明、反射或吸收特性之塗層之此配置允許將一或多個圖案安置於組件之各個層上方且選擇性地進行偵測。圖案在紅外電磁波譜中之不同波長下亦可為透明的、反射的或吸收的。
參考圖1H，組件1可包括定位於基板3上方之第一圖案5及定位於第一圖案5上方之第一可見不透明層6。在圖1H中，第一可見不透明層6在1000 nm下透明，第一圖案5在1000 nm下反射，且基板在1000 nm下為吸收性的。以此方式，可藉由紅外偵測器偵測來自第一圖案5之反射紅外波長。偵測器可能能夠偵測遍及單一組件或遍及複數個組件之任何數目個圖案。在一些實例中，基板3對於1000 nm紅外波長可為透明的。亦應瞭解，組件1可包括額外層，諸如圖1G之第一底塗層4。應瞭解，可重複本文中所展示及描述之層結構中之任一者以形成更大的塗佈堆疊。
包括隱藏式圖案之組件(如先前所描述)可經由用於偵測包含隱藏式圖案的此類組件的系統及方法來偵測。
該方法可包括偵測由包括圖案之先前所描述之組分反射或發射的紅外電磁輻射，及比較在一個波長下由第一圖案進行之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率與在相同波長下藉由底塗層及/或基板進行之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率。該方法可進一步包括自紅外源在紅外區中在包括圖案之組件處導入具有預定波長之紅外輻射。該方法可進一步包括藉由至少一個處理器基於經偵測之紅外輻射來識別圖案、圖案之定向、圖案之狀況及/或距圖案之距離。該方法可進一步包括藉由至少一個處理器基於經識別之圖案、圖案之定向、圖案之狀況及/或距圖案之距離而確定識別與組件相關聯之資訊的組件。
參考圖2A及2B，展示了用於檢測包括圖案之組件的系統10，且該系統10可經組態以執行上述方法。系統可包括組件12，其說明為一汽車(載具組件)，但應瞭解，組件12可為先前所描述之組件中之任一者。組件12可具有安置於組件12之基板之至少一部分上方的圖案14。雖然圖案14在圖2A及2B中可見，但圖案14實際上定位於可見不透明層(如先前所描述)之下方以便對人眼隱藏。因此，組件12為包括如先前所描述之隱藏式圖案之組件。
系統10可進一步包括能夠產生紅外輻射且將該紅外輻射導入組件12處之紅外源16。可用於系統10中之紅外源16包括(但不限於)發光二極體(LED)、雷射二極體或能夠發射具有700 nm至1 mm(在紅外範圍內)或700 nm至2500 nm(在近IR範圍內)之波長之電磁輻射的任何光源。紅外源16可用於成像光達(LIDAR)(光成像、偵測及測距)系統中。成像光達系統可利用雷射產生具有700-2500 nm(諸如1100-2500 nm，諸如自900-1600 nm)之波長的電磁輻射。光達系統可利用雷射產生具有805 nm、905 nm、1550 nm之波長或紅外範圍內之任何其他適合波長之電磁輻射。紅外源16可為天然紅外源(例如圖2A中所展示)，諸如日光、月光及/或其他環境紅外源。
系統10可包括紅外偵測器18，其能夠偵測反射之紅外輻射20，該紅外輻射自組件12(例如其圖案、基板或視情況選用之底塗層)反射。紅外偵測器18可為能夠感測紅外輻射之半導體偵測器。此類紅外偵測器18可包括光電二極體或影像感測器。紅外偵測器18可與紅外源16耦合在同一外殼單元中(參見圖2B)，諸如容納紅外源16及紅外偵測器18兩者之光達系統。替代地，紅外偵測器18可位於與紅外源16分離之外殼中(參見圖2A)。
繼續參考圖2A及2B，紅外源16可將紅外輻射導入至組件12。此紅外輻射之至少一部分可作為經反射之紅外輻射20自組件12(例如其層，諸如圖案14)反射，該紅外輻射可藉由紅外偵測器18偵測。
參考圖3，展示了與圖2B中相同之用於偵測包括圖案14之組件12(第一組件)的系統10，但其包括以下額外特徵。系統可進一步包括電腦系統，該電腦系統包括與紅外偵測器18連通之至少一個處理器。在展示於圖3中之非限制性實例中，紅外源16、紅外偵測器18及電腦系統安裝至第二載具(例如汽車)(第二組件)。然而，應瞭解，在其他非限制性應用中，紅外源16、紅外偵測器18及電腦系統可能未安裝至載具且可用於其他非相關應用中。圖3僅出於說明之目的展示在自控載具之特定應用中的本發明。
繼續參考圖3，電腦系統可包括自動駕駛系統、組件資料庫24、轉向系統26及制動系統28。回應於紅外偵測器18偵測自組件12反射之紅外輻射，紅外偵測器18可將信號傳達至包括與所偵測紅外輻射相關聯之資訊的自動駕駛系統。自動駕駛系統可與組件資料庫24連通以基於經偵測之紅外輻射(基於其中儲存之圖案資料)來識別圖案且可進一步基於識別之圖案確定與組件12(汽車)相關聯之組件識別資訊。然而，應瞭解，紅外偵測器18可識別圖案且將經識別之圖案傳達至電腦系統(例如自動駕駛系統)以供進一步處理。組件資料庫24可包括將各種已知圖案(例如條碼及/或QR碼)與已知物件相關聯之資訊。
繼續參考圖3，所識別之圖案14可與資訊相關聯，該資訊與上面安置有圖案14之特定汽車相關聯。此資訊可包括所有權資訊及/或載具資訊。載具資訊可包括汽車之品牌、型號及年份；載具識別編號(VIN)；汽車之維護歷史；汽車之尺寸及其類似者。
基於與汽車相關聯之資料(基於圖案14)，自動駕駛系統可與轉向系統26及制動系統28中之一或兩者連通以控制第二汽車之轉向及/或制動。因此，基於由系統10偵測得之圖案14，自動駕駛系統可控制第二汽車以避免與組件12(第一載具)發生碰撞。
基於自紅外偵測器18偵測得之紅外輻射，紅外偵測器18及/或自動駕駛系統可另外或替代地確定圖案之定向、圖案之狀況及/或距圖案之距離。自動駕駛系統可使用經確定之距圖案之距離來與轉向系統26及/或制動系統28通訊，以基於第二汽車與組件12之間的距離來確定如何制動或轉向第二汽車。自動駕駛系統可使用組件之所確定之定向來確定組件在第二汽車之路徑中的定向。第二汽車可基於此確定與組件12(第一載具)通訊，以便協調載具之間的動作，諸如傳達至第一載具12以停止、轉彎、加速及其類似動作(例如載具旅居掛車(caravan)應用)。
在圖3中所展示之系統10中，第一汽車12充當具有圖案14之系統中之第一組件，而第二汽車充當具有紅外偵測器18之第二組件，以說明在自控載具之非限制性應用中之本發明。在其他應用中，用於偵測包括隱藏式圖案之組件的系統亦可包括具有圖案之第一組件及包括紅外偵測器及/或紅外源之第二組件。第二組件之紅外源可將紅外電磁輻射導向第一組件。第二組件可包括計算裝置，其基於經反射之紅外電磁輻射識別第一圖案且基於經識別之第一圖案確定與第一組件相關聯之組件識別資訊、第一圖案之定向、圖案之狀況及/或距第一圖案之距離。
應瞭解，基於系統之應用，替代之電腦系統可包括於系統中(除包括自動駕駛系統之彼等系統外之系統係在本發明之範圍內)。對於VR/AR應用，可包括電腦系統以基於物件上之經偵測之圖案來確定關於VR/AR環境之周圍環境中之物件的資訊。對於封裝或標記應用，可包括電腦系統以確定關於包括於封裝中之物件及/或其遞送或標記置放於其上之資訊。對於識別組件應用，可包括電腦系統以確定資訊及/或驗證識別組件之真實性，該資訊係關於向其發出識別裝置之個人的。因此，此等應用中之電腦系統可用於確定關於組件之資料，該資料係基於其上之圖案而識別，該資料亦包括至組件之距離、圖案之狀況或組件之定向。
本發明進一步包括以下各項之標的物：
第1項：一種包括隱藏式圖案之組件，其包含：基板；安置於該基板之至少一部分上方之圖案；安置於該基板之至少一部分與該圖案之至少一部分之間的視情況選用之底塗層；及包含紅外透明顏料之可見不透明層，該可見不透明層安置於該第一圖案之至少一部分上方，其中在一個波長下藉由該圖案之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率不同於在同一波長下藉由該底塗層及/或該基板之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率。
第2項：如第2項之組件，其中該可見不透明層實質上不含紅外吸收顏料及/或紅外反射顏料。
第3項：如第1或2項之組件，其中該圖案包含紅外反射顏料且該底塗層實質上不含任何紅外反射顏料。
第4項：如前述項中任一項之組件，其中該底塗層包含紅外反射顏料且該圖案實質上不含任何紅外反射顏料。
第5項：如前述項中任一項之組件，其中該圖案包含唯一識別符。
第6項：如第5項之組件，其中該唯一識別符包含機器可讀代碼。
第7項：如前述項中任一項之組件，其中該基板包含載具組件或載具環境、虛擬實境/擴增實境(VR/AR)環境中之表面、封裝、標記及/或識別組件。
第8項：一種用於製備包括隱藏式圖案之組件的方法，其包含：視情況在基板之至少一部分上方塗覆底塗層；在該底塗層之至少一部分及/或該基板之至少一部分上方塗覆圖案；及將可見不透明層塗覆於該圖案之至少一部分上方，該可見不透明層包含紅外透明顏料，其中在一個波長下藉由該圖案之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率不同於在同一波長下藉由該底塗層及/或該基板之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率。
第9項：如第8項之方法，其中該可見不透明層實質上不含紅外吸收顏料及/或紅外反射顏料。
第10項：如第8或9項之方法，其中該圖案包含機器可讀代碼。
第11項：如第8至10項中任一項之方法，其中該基板包含載具組件或載具環境、虛擬實境/擴增實境(VR/AR)環境中之表面、封裝、標記及/或識別組件。
第12項：一種用於偵測包括隱藏式圖案之組件的方法，其包含：偵測藉由包括第一圖案之組件反射或發射之紅外電磁輻射，該組件包含：基板；安置於該基板之至少一部分上方之該第一圖案；安置於該基板之至少一部分與該第一圖案之至少一部分之間的視情況選用之底塗層；包含紅外透明顏料之第一可見不透明層，該第一可見不透明層安置於該第一圖案之至少一部分上方；且比較在一個波長下藉由該第一圖案之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率與在同一波長下藉由該底塗層及/或該基板之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率。
第13項：如第12項之方法，其進一步包含：自紅外源在紅外區中在包括該第一圖案之組件處導入具有預定波長之紅外電磁輻射。
第14項：如第12或13項之方法，其進一步包含：基於該經偵測之紅外電磁輻射，識別該第一圖案、該第一圖案之定向、該圖案之狀況及/或至該第一圖案之距離。
第15項：如第14項之方法，其進一步包含：藉由至少一個處理器且基於該經識別之第一圖案確定組件，其識別與該組件相關聯之資訊、該第一圖案之定向、該圖案之狀況及/或該第一圖案之距離。
第16項：如第12至15項中任一項之方法，其中該第一可見不透明層實質上不含紅外吸收顏料及/或紅外反射顏料。
第17項：如第12至16項中任一項之方法，其中該第一圖案包含紅外反射顏料且該底塗層實質上不含任何紅外反射顏料。
第18項：如第12至17項中任一項之方法，其中該底塗層包含紅外反射顏料且該第一圖案實質上不含任何紅外反射顏料。
第19項：如第12至18項中任一項之方法，其中該第一圖案包含機器可讀代碼。
第20項：如第12至19項中任一項之方法，其中所述第一圖案由所述組件之所述基板的表面劣化形成。
第21項：如第12至20項中任一項之方法，其中該基板包含載具組件或載具環境、虛擬實境/擴增實境(VR/AR)環境中之表面、封裝、標記及/或識別組件。
第22項：如第12至21項中任一項之方法，其中該組件進一步包含安置於該基板上方之第二圖案，其中在一個波長下藉由該第一圖案之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率不同於在同一波長下藉由該底塗層及/或該基板之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率。
第23項：如第22項之方法，其進一步包含：自將具有紅外區中之預定波長之紅外電磁輻射紅外源導向包括該第二圖案之組件；基於該經偵測之紅外電磁輻射，識別該第二圖案、該第二圖案之定向、該圖案之狀況及/或至該第二圖案之距離。
第24項：如第22或23項之方法，其中該第一圖案直接安置於該組件之層上方，該層包括該基板或該組件之塗層且位於該第一可見不透明層下方；且該第二圖案相較於該第一圖案直接安置於該組件之不同層上方，且該第二圖案安置於該第一可見不透明層下方。
第25項：如第22至24項中任一項之方法，其中該第一圖案反射或發射於800-1000 nm之範圍內的紅外電磁輻射且該第二圖案反射或發射於1600-2500 nm之範圍內的紅外電磁輻射。
第26項：如第12至25項中任一項之方法，其中該組件進一步包含含有紅外透明顏料之第二可見不透明層，該第二可見不透明層安置於該第一圖案之至少一部分上方，其中該第一可見不透明層及該第二可見不透明層在該紅外電磁波譜中彼此不同之波長下為透明的。
第27項：如第26項之方法，其中該第二可見不透明層包含二氧化鈦。
第28項：如第27項之方法，其中該二氧化鈦之平均粒度為0.2-0.5 µm。
第29項：一種用於偵測包括隱藏式圖案之組件的系統，其包含：(a)第一組件，其包含：基板；安置於該基板之至少一部分上方之第一圖案；安置於該基板之至少一部分與該第一圖案之至少一部分之間的視情況選用之底塗層；及包含紅外透明顏料之第一可見不透明層，該第一可見不透明層安置於該第一圖案之至少一部分上方，其中在一個波長下藉由該第一圖案之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率不同於在同一波長下藉由該底塗層及/或該基板之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率；及(b)第二組件，其包含紅外偵測器，該紅外偵測器偵測自該第一組件反射或發射之紅外電磁輻射。
第30項：如第29項之系統，其中該第二組件進一步包含將紅外電磁輻射導入到該第一組件之紅外源。
第31項：如第30項之系統，其中該第二組件進一步包含計算裝置，該計算裝置藉由至少一個處理器基於該經反射之紅外電磁輻射識別該第一圖案，且藉由至少一個處理器基於該經識別之第一圖案而確定識別與該第一組件相關聯之資訊、該第一圖案之定向、該圖案之狀況及/或至該第一圖案之距離的組件。
第32項：一種包括隱藏式圖案之組件，其包含：基板；安置於該基板之至少一部分上方之第一圖案；安置於該基板之至少一部分上方之第二圖案；安置於該基板之至少一部分與該第一圖案或該第二圖案之至少一部分之間的視情況選用之底塗層；及包含紅外透明顏料之第一可見不透明層，該第一可見不透明層安置於該第一圖案或該第二圖案之至少一部分上方，其中在一個波長下藉由該第一圖案之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率不同於在同一波長下藉由該底塗層及/或該基板之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率，且其中該第一圖案直接安置於該組件之層上方，該層包括該基板或該組件之塗層且位於該第一可見不透明層下方；且該第二圖案相較於該第一圖案直接安置於該組件之不同層上方，且該第二圖案安置於該第一可見不透明層下方，其中在一個波長下藉由該第一圖案之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率不同於該第一圖案直接安置於其上面之層的紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率，且其中在一個波長下藉由該第二圖案之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率不同於該第二圖案直接安置於其上面之層的紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率。
第33項：一種用於偵測包括隱藏式圖案之組件的方法，其包含：偵測藉由包括第一圖案之組件反射或發射之預選波長範圍之紅外電磁輻射，該組件包含：基板；安置於該基板之至少一部分上方之該第一圖案；視情況安置於該基板之至少一部分與該第一圖案之至少一部分之間的底塗層；及包含紅外透明顏料之第一可見不透明層，該第一可見不透明層安置於該第一圖案之至少一部分上方，該第一可見不透明層在該預選波長範圍下透明，且比較在一個波長下藉由該第一圖案之預選紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率與在同一波長下藉由該底塗層及/或該基板之紅外電磁輻射之反射率及/或吸收率，其中該紅外輻射波長經選擇以使得該第一圖案之該預選紅外電磁輻射的紅外反射率及/或吸收率不同於在相同波長下該底塗層及/或該基板之反射率及/或吸收率。  實例
呈現以下實例以證明本發明之一般原理。本發明不應視為限於所呈現之特定實例。  實例1  面板製備
將電塗覆有ED6465(ACT測試面板LLC(Hillsdale, MI)項第18239號)之冷軋鋼面板用作基板。使用HVLP噴槍將市售白色密封機(可購自PPG Industries, Inc.(Pittsburgh, PA)之DAS 3021)以單塗佈塗覆至基板，厚度為31 µm。在80℃下烘烤30分鐘之前，在環境條件(20℃-27℃)中將面板水平地閃蒸15分鐘。
接著將乙烯基標籤遮罩模板塗覆於面板上，從而確保僅經暴露之面板表面為條碼及PPG標識區域。接著使用HVLP噴槍將市售黑色碳粉(可購自PPG Industries, Inc.(Pittsburgh, PA)之DMD 1683)以單塗佈塗覆來掩蔽，此時黑色塗佈之厚度為3 µm。接著將標籤自面板移除，且將面板在環境條件(20℃-27℃)下水平地閃蒸5分鐘，之後在80℃下烘烤30分鐘。
接著用IR透明DESOTHANE CA 8000/SR8000 BAC 701日光反射黑色頂塗佈(可購自PPG Industries, Inc.(Pittsburgh, PA))塗覆帶條碼之面板。使用HVLP噴槍將頂塗佈塗覆至兩個塗佈中，最終厚度為63 µm，其中在塗佈之間水平環境閃蒸45分鐘。在環境條件(20℃-27℃)下將經頂塗覆之面板水平閃蒸最後30分鐘，隨後在49℃下烘烤60分鐘。
圖4A展示由Ancter Actor-DV-001視訊攝影機在根據實例1製備之面板的夜間視覺模式中獲取之相片。  比較實例2  面板製備
將電塗覆有ED6465(ACT測試面板LLC(Hillsdale, MI)項第18239號)之冷軋鋼面板用作基板。使用HVLP噴槍將市售白色密封機(可購自PPG Industries, Inc.(Pittsburgh, PA))之DAS 3021塗覆至呈單塗佈之基板，厚度為31 µm。在80℃下烘烤30分鐘之前，在環境條件(20℃-27℃)中將面板水平地閃蒸15分鐘。
接著將乙烯基標籤遮罩模板塗覆於面板上，從而確保僅經暴露之面板表面為條碼及PPG標識區域。接著使用HVLP噴槍將市售黑色碳粉(可購自PPG Industries, Inc.(Pittsburgh, PA)之DMD 1683)以單塗佈塗覆來掩蔽，此時黑色塗佈之厚度為3 µm。接著將標籤自面板移除，且將面板在環境條件(20℃-27℃)下水平地閃蒸5分鐘，之後在80℃下烘烤30分鐘。
接著用非IR透明DESOTHANE CA 8800/B701黑色頂塗佈(可購自PPG Industries, Inc.(Pittsburgh, PA))塗覆帶條碼之面板。使用HVLP噴槍將頂塗層塗覆至兩個塗佈中，最終厚度為72 µm，其中在塗佈之間水平環境閃蒸45分鐘。在環境條件(20℃-27℃)下將經頂塗覆之面板水平閃蒸最後30分鐘，隨後在49℃下烘烤60分鐘。
圖4B展示由Ancter Actor-DV-001視訊攝影機在根據實例2製備之面板的夜間視覺模式中獲取之相片。
如在圖4A及4B之比較中可見，在其中塗覆IR透明黑色頂塗佈之面板上方的條碼在夜間視覺模式中可見，而在其中塗覆非IR透明黑色頂塗佈之面板上方的條碼於夜間視覺模式中保持隱藏。  實例3  面板製備
使用在可見光至近紅外範圍內具有高吸收率之黑色染料在金屬基板上進行標記。在染料乾燥之後，其用Glidden Paramount建築結構扁平油漆覆蓋。塗覆有建築結構扁平油漆之金屬基板展示於圖5之相片中。
在經建築結構扁平油漆乾燥之後，藉由鎢燈照射樣品。
如圖6中所示，使用XEVA-2.35短波近紅外攝影機偵測位於建築結構扁平油漆下方之金屬基板上的標記，其中該紅外攝影機之光譜靈敏度高達2350 nm(購自Xenics NV(Leuven, Belgium))且顯示於電腦上。  實例4  面板製備
如圖7中所描繪，將包括紅外反射塗層A(在1100 nm至2500 nm範圍內)之組件塗覆至基板。在此實例中之基板為密封石膏板。塗佈A為可購自(Mexico City, Mexico)之VINIMEX Total Satin Blanco，其中包含尺寸在1-5 µm範圍內之TiO2 粒子。
在塗佈A上方，塗佈B塗覆於其某些部分上方。所塗覆之塗佈B對1100 nm至2500 nm範圍內之紅外光不透明。塗佈B為可購自(Mexico City, Mexico)之VINIMEX Total Satin Negro，其中包含0.2-0.5 µm範圍內之TiO2 粒子。圖8展示在塗覆塗佈C之前塗覆於塗佈A(白色)之區段(以形成圖案)上方之塗佈B(黑色)之系統。
接著，將塗佈C(白色)塗覆於塗佈A及塗佈B上。塗佈C對1100 nm至2500 nm範圍內之紅外光為透明或半透明，但塗佈C對可見光為不透明的。塗佈C為可購自(Mexico City, Mexico)之VINIMEX Total Satin Blanco。圖9展示如此實例中所描述之塗佈系統之影像，其由在1100 nm至2350 nm之範圍內的IR光攝影機呈現。圖10展示如在此實例中所描述之影像，其由可見光攝影機呈現。  實例5  面板製備
類似於實例4，在實例5中，形成相同分層結構(來自圖7)。然而，在此實例中，將來自實例4之塗佈B之組合物作為塗佈A塗覆，且將實例4之塗層A之組合物作為塗層B塗覆。圖11展示由可見光攝影機呈現之塗佈系統之影像。圖12展示由在1100 nm至2350 nm之範圍內之IR光攝影機呈現之塗佈系統之影像。
儘管上文已出於說明之目的描述本發明之特定實施例，但對熟習此項技術者將顯而易見的是，在不脫離所附申請專利範圍中所定義之本發明的情況下，可進行本發明細節之大量變化。
1:組件 3:基板 4:第一底塗層 5:第一圖案 6:第一可見不透明層 7:第二塗層 8:第二圖案 10:系統 12:組件 14:圖案 16:紅外源 18:紅外偵測器 20:紅外輻射
圖1A展示包括隱藏式圖案之組件；
圖1B展示包括隱藏式圖案之組件；
圖1C展示包括複數個隱藏式圖案之組件；
圖1D展示包括複數個隱藏式圖案之組件；
圖1E展示包括隱藏式圖案之組件；
圖1F展示包括隱藏式圖案之組件；
圖1G展示包括在紅外光譜之不同波長下透明且具有反射性之塗層之組件；
圖1H展示包括隱藏式圖案之組件；
圖2A展示用於偵測包括隱藏式圖案之組件的系統之示意圖；
圖2B展示用於偵測包括隱藏式圖案之組件的系統之示意圖；
圖3展示用於偵測包括隱藏式圖案之組件的系統之示意圖；
圖4A展示由視訊攝影機在根據實例1製備之面板的夜間視覺模式中獲取之相片；
圖4B展示由視訊攝影機在根據比較實例2製備之面板的夜間視覺模式中獲取之相片；
圖5展示根據實例3製備之基板；
圖6展示由根據實例3製備之基板的短波近紅外攝影機獲取的相片；
圖7展示根據實例4製備之組件之塗層的示意圖；
圖8展示由塗佈A塗覆之基板之可見光攝影機及塗佈B之圖案在塗覆塗佈C之前獲取的相片；
圖9展示由根據實例4製備之組件的短波近紅外攝影機獲取的相片，其偵測隱藏式圖案；
圖10展示由根據實例4製備之組件之可見光攝影機獲取的相片；
圖11展示由根據實例5製備之組件之可見光攝影機獲取的相片；及
圖12展示由根據實例5製備之基板的短波近紅外攝影機獲取的相片。
10:系統
12:組件
14:圖案
16:紅外源
18:紅外偵測器
20:紅外輻射

Claims (24)

  1. 一種用於偵測包括隱藏式圖案之組件的方法，其包含：偵測由包括第一圖案之組件所反射或發射的紅外電磁輻射，該組件包含：基板；安置於該基板之至少一部分上方的該第一圖案；安置於該基板之至少一部分與該第一圖案之至少一部分之間的可選底塗層；及包含紅外透明顏料之第一可見不透明層，該第一可見不透明層安置於該第一圖案之至少一部分上方；以及比較由該第一圖案在一種波長下之紅外電磁輻射的反射率及/或吸收率與由該底塗層及/或該基板在該相同波長下的反射率及/或吸收率，其中該紅外透明顏料包含有機紅外透明顏料及/或二氧化鈦顏料，其中該二氧化鈦顏料之平均粒度為0.1-1.0μm。
  2. 如請求項1之方法，其進一步包含：將具有紅外區中之預定波長之紅外電磁輻射自紅外源導向包括該第一圖案之該組件。
  3. 如請求項1之方法，其進一步包含：基於該經偵測之紅外電磁輻射，識別該第一圖案、該第一圖案之定向、該圖案之狀況及/或距該第一圖案之距離。
  4. 如請求項3之方法，其進一步包含：藉由至少一個處理器且基於該經識別之第一圖案確定與該組件相關之組件識別資訊、該第一圖案之定向、該圖案之狀況及/或距該第一圖案之距離。
  5. 如請求項1之方法，其中該第一可見不透明層實質上不含紅外吸收顏料及/或紅外反射顏料。
  6. 如請求項1之方法，其中該第一圖案包含紅外反射顏料且該底塗層實質上不含任何紅外反射顏料。
  7. 如請求項1之方法，其中該底塗層包含紅外反射顏料且該第一圖案實質上不含任何紅外反射顏料。
  8. 如請求項1之方法，其中該第一圖案包含機器可讀代碼。
  9. 如請求項1之方法，其中該第一圖案係由該組件之該基板的表面劣化形成。
  10. 如請求項1之方法，其中該基板包含載具組件或載具環境、虛擬實境/擴增實境(VR/AR)環境中之表面、封裝、標記及/或識別組件。
  11. 如請求項1之方法，其中該組件進一步包含安置於該基板上方之第二圖案，其中由該第一圖案在一種波長下之紅外電磁輻射的反射率及/或吸收率不同於由該第二圖案在該相同波長下的反射率及/或吸收率。
  12. 如請求項11之方法，其進一步包含：將具有紅外區中之預定波長之紅外電磁輻射自紅外源導向包括該第二圖案之該組件；基於該經偵測之紅外電磁輻射，識別該第二圖案、該第二圖案之定向、該圖案之狀況及/或距該第二圖案之距離。
  13. 如請求項11之方法，其中該第一圖案係直接安置於該組件之層上方，該層包括該基板或該組件之塗層且位於該第一可見不透明層下方；且該第二圖案係相較於該第一圖案直接安置於該組件之不同層上方，且該第二圖案係安置於該第一可見不透明層下方。
  14. 如請求項11之方法，其中該第一圖案反射或發射800-1000nm範圍內的紅外電磁輻射且該第二圖案反射或發射1600-2500nm範圍內的紅外電磁輻射。
  15. 如請求項1之方法，其中該組件進一步包含含有紅外透明顏料之第二可見不透明層，該第二可見不透明層安置於該第一圖案之至少一部分上方， 其中該第一可見不透明層及該第二可見不透明層在紅外電磁波譜中彼此不同之波長下為透明的。
  16. 如請求項15之方法，其中該第二可見不透明層包含二氧化鈦。
  17. 如請求項16之方法，其中該二氧化鈦之平均粒度為0.1-1.0μm。
  18. 如請求項1之方法，其中該紅外透明顏料包含該有機紅外透明顏料。
  19. 如請求項1之方法，其中該紅外透明顏料包含平均粒度為0.1-1.0μm之該二氧化鈦顏料。
  20. 如請求項1之方法，其中該紅外透明顏料包含銅酞菁顏料、鹵化銅酞菁顏料、蒽醌顏料、喹吖啶酮顏料、苝顏料、單偶氮顏料、雙偶氮顏料、喹酞酮顏料、靛蒽醌顏料、二噁嗪顏料、異吲哚啉顏料、二芳化物黃顏料、溴化蒽酮顏料、偶氮金屬錯合物顏料、唑甲亞胺顏料、苯胺顏料或其某一組合。
  21. 一種用於偵測包括隱藏式圖案之組件的系統，其包含：(a)第一組件，其包含：基板；安置於該基板之至少一部分上方的第一圖案；安置於該基板之至少一部分與該第一圖案之至少一部分之間的可 選底塗層；及包含紅外透明顏料之第一可見不透明層，該第一可見不透明層安置於該第一圖案之至少一部分上方，其中由該第一圖案在一種波長下之紅外電磁輻射的反射率及/或吸收率不同於由該底塗層及/或該基板在該相同波長下的反射率及/或吸收率；及(b)第二組件，其包含紅外偵測器，該紅外偵測器偵測自該第一組件反射或發射之紅外電磁輻射，其中該紅外透明顏料包含有機紅外透明顏料及/或二氧化鈦顏料，其中該二氧化鈦顏料之平均粒度為0.1-1.0μm。
  22. 如請求項21之系統，其中該第二組件進一步包含將紅外電磁輻射導向該第一組件之紅外源。
  23. 如請求項22之系統，其中該第二組件進一步包含計算裝置，該計算裝置藉由至少一個處理器基於該經反射之紅外電磁輻射識別該第一圖案，且藉由至少一個處理器且基於該經識別之第一圖案確定與該第一組件相關之組件識別資訊、該第一圖案之定向、該圖案之狀況及/或距該第一圖案之距離。
  24. 一種包括隱藏式圖案的組件，其包含：基板；安置於該基板之至少一部分上方的第一圖案； 安置於該基板之至少一部分上方的第二圖案；安置於該基板之至少一部分與該第一圖案或該第二圖案之至少一部分之間的可選底塗層；及包含紅外透明顏料之第一可見不透明層，該第一可見不透明層安置於該第一圖案及該第二圖案之至少一部分上方，其中由該第一圖案在一種波長下之紅外電磁輻射的反射率及/或吸收率不同於由該第二圖案在該相同波長下的反射率及/或吸收率，及其中該第一圖案係直接安置於該組件之層上方，該層包括該基板或該組件之塗層且位於該第一可見不透明層下方；且該第二圖案係相較於該第一圖案直接安置於該組件之不同層上方，且該第二圖案係安置於該第一可見不透明層下方，其中由該第一圖案在一種波長下之紅外電磁輻射的反射率及/或吸收率不同於由上面直接安置有該第一圖案之該層的反射率及/或吸收率，及其中由該第二圖案在一種波長下之紅外電磁輻射的反射率及/或吸收率不同於由上面直接安置有該第二圖案之該層的反射率及/或吸收率，及其中該紅外透明顏料包含有機紅外透明顏料及/或二氧化鈦顏料，其中該二氧化鈦顏料之平均粒度為0.1-1.0μm。
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