TWI514033B - 透明導電性積層體之製造方法 - Google Patents

Description

透明導電性積層體之製造方法

本發明係關於透明導電性積層體及透明導電性積層體之製造方法。

近年來，在各式各樣的電子設備的顯示器上，就輸入裝置而言，安裝有透明的觸控面板。觸控面板的方式例如：電阻膜式、靜電電容式等。尤其，靜電電容式可採多點觸控(multi touch)，在可攜式設備等用途中常採用。

靜電電容式之觸控面板，使用形成有圖案的透明導電層。於該透明導電層形成圖案之方法，例如有：如專利文獻1至3，使用光阻劑形成圖案之利用光微影的方法。其他方法，如專利文獻4，就導電膜形成用組成物而言，使用具有對光反應之官能基或部位之銦化合物及具有同樣的官能基或部位的錫化合物，進行圖案曝光的方法，或如專利文獻5，利用雷射光形成圖案之方法等。

又，靜電電容式之觸控面板，由於使用在顯示器上，若透明導電層之圖案形狀顯著，會有視讀性降低的問題。因此，提出藉由如專利文獻6，在透明導電層以外形成光學調整層，使得顯示器之畫質不降低，穿透率提高的觸控面板用透明導電性積層體。

先前技術文獻 專利文獻

專利文獻1日本特開平1-197911號公報

專利文獻2日本特開平2-109205號公報

專利文獻3日本特開平2-309510號公報

專利文獻4日本特開平9-142884號公報

專利文獻5日本特開2008-140130號公報

專利文獻6日本特開平11-286066號公報

但是，如專利文獻1至3之利用光微影的方法，常需要多數製造步驟。尤其，當在基板的兩面設置透明導電層而形成圖案時，由於要經過在逐個單面進行光阻劑塗布、曝光、顯影等步驟，故製造步驟變得煩雜。又，為了解決視讀性降低的問題，如專利文獻6之在透明導電層以外形成光學調整層的情形，還需要更增加製造步驟，因此製造步驟變得更為煩雜。

又，如專利文獻4或5之方法，不使用光阻劑，能縮短製造步驟，但是，專利文獻4之方法，當在基板的兩面設置透明導電層而形成圖案時，將形成在基板兩面的圖案的位置對準係為困難。尤其，當欲在基板兩面形成微細的圖案時，圖案位置的對準成為重大課題。另一方面，專利文獻5之方法中，雖可利用雷射光在基板兩面形成相同圖案，但是，於在基板兩面形成不同圖案之情況無法適用的點存在問題。

本發明有鑑於習知技術的課題，因此其目的在於提供透明導電性積層體及其製造方法以及靜電電容式觸控面板，即使使用光阻劑而在透明導電層形成圖案之方法，也能以短製造步驟在基板兩面同時形成不同形狀的圖案，即使基板兩面形成的圖案微細，也能容易進行位置對準，且對於使圖案形狀不顯著方面為有利。

就解決上述課題之方法而言，申請專利範圍第1項之發明，係一種透明導電性積層體，其特徵在於：至少包含：透明基板層；形成於前述透明基板層之兩面的第一透明導電層及第二透明導電層；形成於前述第一透明導電層之第一導電性圖案區及第一非導電性圖案區；形成於前述第二透明導電層之第二導電性圖案區及第二非導電性圖案區；且前述第一透明導電層與前述第二透明導電層之間形成之至少1層吸收光之層。

又，申請專利範圍第2項之發明，為如申請專利範圍第1項之透明導電性積層體，其中前述透明基板層為吸收光之層，前述透明基板層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收機能之樹脂。

又，申請專利範圍第3項之發明，為如申請專利範圍第1項之透明導電性積層體，其中，包含形成於前述透明基板層與前述第一透明導電層之間及/或前述透明基板層與前述第二透明導電層之間的樹脂層，前述樹脂層為吸收光之層，前述樹脂層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收機能之樹脂。

又，申請專利範圍第4項之發明，為如申請專利範圍第1項之透明導電性積層體，其中，前述透明基板層由以下構成：其中一面形成有前述第一透明導電層之第一透明基板層及其中一面形成有前述第二透明導電層之第二透明基板層，及形成在前述第一透明基板層之另一面與第二透明基板層之另一面之間的黏著層；前述黏著層為吸收光之層，前述黏著層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收機能之樹脂。

又，申請專利範圍第5項之發明，為如申請專利範圍第1項之透明導電性積層體，其中，在前述透明基板層與前述第一透明導電層之間及/或前述透明基板層與前述第二透明導電層之間具有光學調整層。

又，申請專利範圍第6項之發明，為如申請專利範圍第5項之透明導電性積層體，其中，於波長400nm的光線穿透率為60%以上，且於波長365nm之光線穿透率為20%以下。

又，申請專利範圍第7項之發明，為如申請專利範圍第6項之透明導電性積層體，其中前述導電性圖案區與前述非導電性圖案區之總光線穿透率之差為1.5%以下，且穿透色相b＊差為2.0以下。

又，申請專利範圍第8項之發明，為如申請專利範圍第7項之透明導電性積層體，其中150℃、30分鐘的熱收縮率為0.5%以下。

又，申請專利範圍第9項之發明，為一種靜電電容式觸控面板，使用如申請專利範圍第8項之透明導電性積層體作為電極材。

又，申請專利範圍第10項之發明，為一種透明導電性積層體之製造方法，其特徵在於：包含以下步驟：於透明基板層之兩面至少形成第一透明導電層及第二透明導電層之步驟；於前述第一透明導電層及前述第二透明導電層之表面塗布光阻劑之步驟；將用以在前述第一透明導電層形成圖案之光源及遮斷光之光學濾光片與光罩，及用以在前述第二透明導電層形成圖案之光源及遮斷光之光學濾光片與光罩，分別從光源側依序配置，並且將塗布在前述第一透明導電層之表面之前述光阻劑及塗布在前述第二透明導電層之表面之前述光阻劑同時曝光之步驟；將已感光之前述光阻劑顯影之步驟；將未受前述光阻劑覆蓋的前述第一透明導電層及前述第二透明導電層蝕刻之步驟；將前述光阻劑剝離；且在前述第一透明導電層與前述第二透明導電層之間形成的至少1層為吸收光之層。

又，申請專利範圍第11項之發明，為如申請專利範圍第10項之透明導電性積層體之製造方法，其中，前述透明基板層為吸收光之層，前述透明基板層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收機能之樹脂。

又，申請專利範圍第12項之發明，為如申請專利範圍第11項之透明導電性積層體之製造方法，其中，前述光學濾光片於波長365nm之光線穿透率為80%以上。

又，申請專利範圍第13項之發明，為如申請專利範圍第12項之透明導電性積層體之製造方法，其中，從在前述透明基板層形成前述透明導電層之步驟至將前述光阻劑剝離之步驟為止，係以捲繞(roll to roll)方式進行。

又，申請專利範圍第14項之發明，為如申請專利範圍第10項之透明導電性積層體之製造方法，其中，包含以下步驟：在前述透明基板層之兩面形成樹脂層之步驟；在前述樹脂層之表面形成第一透明導電層及前述第二透明導電層之步驟；前述樹脂層為吸收光之層，前述樹脂層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收機能之樹脂。

又，申請專利範圍第15項之發明，為如申請專利範圍第14項之透明導電性積層體之製造方法，其中，前述光學濾光片於波長365nm之光線穿透率為80%以上。

又，申請專利範圍第16項之發明，為如申請專利範圍第15項之透明導電性積層體之製造方法，其中，從在前述透明基板層形成前述透明導電層之步驟至將前述光阻劑剝離之步驟為止，係以捲繞方式進行。

又，申請專利範圍第17項之發明，為一種透明導電性積層體之製造方法，其特徵在於：包含以下步驟：在第一透明基板層之單面至少形成第一透明導電層之步驟；在第二透明基板層之單面至少形成第二透明導電層之步驟；以前述第一透明導電層及前述第二透明導電層作為外側，將前述第一透明基板層與前述第二透明基板層以黏著層貼合之步驟；在前述第一透明導電層及前述第二透明導電層之表面塗布光阻劑；將用以在前述第一透明導電層形成圖案之光源與將光遮斷的光學濾光片及光罩，及用以在前述第二透明導電層形成圖案之光源與將光遮斷的光學濾光片及光罩，分別從光源側起依序配置，並將塗布在前述第一透明導電層之表面的前述光阻劑與塗布在前述第二透明導電層之表面的前述光阻劑同時曝光之步驟；將已感光的前述光阻劑顯影；將未受前述光阻劑覆蓋的前述第一透明導電層及前述第二透明導電層蝕刻之步驟；將前述光阻劑剝離之步驟；形成在前述第一透明導電層與前述第二透明導電層之間的至少1層為吸收光之層。

又，申請專利範圍第18項之發明，為如申請專利範圍第17項之透明導電性積層體之製造方法，其中，前述黏著層為吸收光之層，前述黏著層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收機能之樹脂。

又，申請專利範圍第19項之發明，為如申請專利範圍第18項之透明導電性積層體之製造方法，其中，前述光學濾光片於波長365nm之光線穿透率為80%以上。

依照本發明，藉由使透明基板層、樹脂層或黏著層之其中任一層為吸收光之層，即使就形成在透明基板層之兩面的透明導電層的兩面同時形成不同的圖案，也能防止彼此的圖案的映射(reflection)。又，由於能在透明基板層之兩面同時形成不同形狀的圖案，因此，即使圖案微細也能輕易地進行位置對準。又，由於能在透明基板層之兩面以良好精度形成微細的圖案，因此，能因為微細圖案使圖案形狀變得不顯眼，結果能得到視讀性高的透明導電性積層體。

實施發明之形態

以下使用圖式說明實施本發明之形態。又，本發明不限於以下記載之實施形態，可依據該技術領域中具有通常知識者之知識進行設計變更等變形，施加過此等變形之實施形態也包含在本發明之範圍。

第1圖為本發明之透明導電性積層體之剖面例1之說明圖。透明導電性積層體11，由設於透明基板1之兩面之形成有導電性圖案區4a及非導電性圖案區4b之第一透明導電層3a，及形成有導電性圖案區4a及非導電性圖案區4b之第二透明導電層3b構成。在此，導電性圖案區，係指透明導電層當中具有導電性的部分，非導電性圖案區係指透明導電層當中除去具有導電性之部分的不具導電性的部分。

第2圖為本發明之透明導電性積層體之剖面例2之說明圖。如第2圖，也可在第1圖所示透明導電性積層體11之透明基板1與第一透明導電層3a之間及透明基板1與第二透明導電層3b之間，各設置光學調整層2a、2b。就其他實施形態而言，也可在透明基板1與第一透明導電層3a之間或透明基板1與第二透明導電層3b之間僅其中之一設置光學調整層。

第3圖為本發明之透明導電性積層體之剖面例3之說明圖。透明導電性積層體11，由以下構成：設於透明基板1之兩面之形成有導電性圖案區4a及非導電性圖案區4b之第一透明導電層3a、形成有導電性圖案區4a及非導電性圖案區4b之第二透明導電層3b、分別設置於透明基板1與第一透明導電層3a之間及透明基板1與第二透明導電層3b之間之樹脂層5a、5b。就其他實施形態而言，也可在透明基板1與第一透明導電層3a之間或透明基板1與第二透明導電層3b之間僅其中之一設置樹脂層。

第4圖為本發明之透明導電性積層體之剖面例4之說明圖。如第4圖，也可在第3圖所示之透明導電性積層體11之樹脂層5a與第一透明導電層3a之間及樹脂層5b與第二透明導電層3b之間，分別設置光學調整層2a、2b。就其他實施形態而言，也可在樹脂層5a與第一透明導電層3a之間或樹脂層5b與第二透明導電層3b之間僅其中之一設置光學調整層。又，也可在透明基板1與樹脂層5a之間或透明基板1與樹脂層5b之間設置光學調整層。

第5圖為本發明之透明導電性積層體之剖面例5之說明圖。透明導電性積層體11，由以下構成：設於第一透明基板1a之單面的形成有導電性圖案區4a及非導電性圖案區4b之第一透明導電層3a、設於第二透明基板1b之單面之形成有導電性圖案區4a及非導電性圖案區4b的第二透明導電層3b、以第一透明導電層3a及第二透明導電層3b為外側而設於第一透明基板1a與第二透明基板1b之間的黏著層6。

第6圖為本發明之透明導電性積層體之剖面例6之說明圖。如第6圖，也可在第5圖所示之透明導電性積層體11之第一透明基板1a與第一透明導電層3a之間及第二透明基板1b與第二透明導電層3b之間，分別設置光學調整層2a、2b。就其他實施形態而言，也可在第一透明基板1a與第一透明導電層3a之間或第二透明基板1b與第二透明導電層3b之間僅其中之一設置光學調整層。

第7圖為本發明之透明導電性積層體之剖面例7之說明圖。透明導電性積層體11，也可在第一透明基板1a與第一透明導電層3a之間及第二透明基板1b與第二透明導電層3b之間，分別設置樹脂層5a、5b。就其他實施形態而言，也可在第一透明基板1a與第一透明導電層3a之間或第二透明基板1b與第二透明導電層3b之間僅其中之一設置樹脂層。

第8圖為本發明之透明導電性積層體之剖面例8之說明圖。如第8圖，也可在第7圖所示之透明導電性積層體11之樹脂層5a與第一透明導電層3a之間及樹脂層5b與第二透明導電層3b之間，分別設置光學調整層2a、2b。就其他實施形態而言，也可在樹脂層5a與第一透明導電層3a之間或樹脂層5b與第二透明導電層3b之間僅其中之一設置光學調整層。又，也可在第一透明基板1a與樹脂層5a之間或第二透明基板1b與樹脂層5b之間設置光學調整層。

本發明使用之透明基板層1、1a及1b，除了玻璃以外，也可使用由樹脂構成的塑膠膜。塑膠膜，只要是成膜步驟及後步驟中具有足夠強度，且表面平滑性良好即不特別限定，例如：聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、聚對苯二甲酸丁二醇酯膜、聚萘二甲酸乙二醇酯膜、聚碳酸酯膜、聚醚碸膜、聚碸膜、聚芳酯膜、環狀聚烯烴膜、聚醯亞胺膜等。其厚度考慮構件的薄型化及基材之可撓性，可使用10μm以上200μm以下左右者。

本發明使用之透明基板層1、1a及1b較佳為吸收光。原因在於，藉由吸收光，當於透明基板層1之兩面之透明導電層形成圖案時，可將從透明基板層1其中之一面側照射之光當中未被光阻劑吸收之光由透明基板層1吸收，防止光到達透明基板層1另一面側之光阻劑。尤其，當於透明基板層1之兩面同時形成不同圖案時，可僅將其中一面側之光阻劑曝光，因此，可防止其中一面的圖案與另一面的圖案重疊。同樣理由，透明基板層1a及1b亦以吸收光為較佳。

如上述，透明基板層1、1a及1b，較佳為吸收用於將光阻劑曝光之光。用於將光阻劑曝光之光，視光阻劑之種類或光源種類而不同，多使用紫外區之波長(約200nm～360nm)與可見區之波長(約360nm～780nm)之光，因此，透明基板層1較佳為吸收此等區之光。尤其，考慮實用性，透明基板層1較佳為吸收紫外區之光。

用於吸收紫外光使用之光吸收材料，例如紫外線吸收劑或具有紫外線吸收機能之樹脂等，可於透明基板層添加紫外線吸收劑，或使構成透明基板層之樹脂與具有紫外線吸收機能之樹脂共聚合。

透明基板層1、1a及1b含有之紫外線吸收劑，例如：二苯基酮系、苯并三唑系、苯甲酸酯系、水楊酸酯系、三系、氰基丙烯酸酯系等。具體而言，例如：苯并三唑系紫外線吸收劑，例：2-(2H-苯并三唑-2-基)-對甲酚、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚、2-[5-氯(2H)-苯并三唑-2-基]-4-甲基-6-(第三丁基)苯酚、2-(2H-苯并三唑-基)-4,6-二-第三戊基苯酚、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚等，或此等的混合物、變性物、聚合物、衍生物等。又，例如：三系紫外線吸收劑，例：2-(4,6-二苯基-1,3,5-三-2-基)-5-[(己基)氧]-苯酚、2-[4-[(2-羥基-3-十二烷氧基丙基)氧]-2-羥基苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三、2-[4-[(2-羥基-3-十三烷氧基丙基)氧]-2-羥基苯基]-4,6-雙(2,4二甲基苯基)-1,3,5-三、2,4-雙(2,4-二甲基苯基)-6-(2-羥基-4-異辛氧基苯基)-s-三等，或此等的混合物、變性物、聚合物、衍生物等。此等可單獨使用，又，也可混合多數後使用。

又，具有紫外線吸收機能之樹脂，係對於上述列舉的二苯甲酮系、苯并三唑系、苯甲酸酯系、水楊酸酯系、三系、氰基丙烯酸酯系等非反應性紫外線吸收劑，導入乙烯基或丙烯醯基、甲基丙烯醯基等具有聚合性雙鍵之官能基，或醇性羥基、胺基、羧基、環氧基、異氰酸酯基等者。將此等樹脂與透明基板層1、1a及1b含有之樹脂共聚合，可作為具有紫外線吸收機能之透明基板層使用。

上述列舉的光吸收材料，不僅可單獨使用，也可將多數組合使用。例如，藉由使用能吸收之光之波長不同的多數光吸收材料，可於廣波長區將不需要的光吸收。

光吸收材料之含量，只要是能防止未被透明基板層1、1a及1b其中一面之光阻劑吸收之光到達另一面之光阻劑即可，不特別限定，但是，相對於構成透明基板層1、1a及1b之樹脂，較佳為含有0.01重量%以上20重量%以下。低於下限值時，無法將不需要的光充分吸收故不佳。又，超過上限值時，透明基板層1、1a及1b之透明性降低，於外觀上不佳。

透明基板層1、1a及1b含有之材料，除上述材料以外，也可使用周知的各種添加劑或安定劑，例如抗靜電劑、可塑劑、潤滑劑、易接著劑等。為了改善與各層之密合性，也可施以電暈處理、低溫電漿處理、離子轟擊處理、藥品處理等作為前處理。

本發明使用之樹脂層5a、5b，係為了使透明導電性積層體11帶有機械性強度而設置。使用的樹脂不特別限定，但以具有透明性及適度硬度及機械性強度之樹脂較佳。具體而言，宜為如以能期待3維交聯的3官能以上的丙烯酸酯為主成分之單體或交聯性寡聚物的光硬化性樹脂。

3官能以上之丙烯酸酯單體，較佳為：三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、異脲氰酸EO變性三丙烯酸酯、三丙烯酸季戊四醇酯、三丙烯酸二季戊四醇酯、四丙烯酸二季戊四醇酯、五丙烯酸二季戊四醇酯、六丙烯酸二季戊四醇酯、二-三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、四丙烯酸季戊四醇酯、聚酯丙烯酸酯等較佳。特佳者為，異脲氰酸EO變性三丙烯酸酯及聚酯丙烯酸酯。此等可單獨使用，也可併用2種以上。又，此等3官能以上之丙烯酸酯以外，也可併用環氧丙烯酸酯、胺基甲酸酯丙烯酸酯、多元醇丙烯酸酯等所謂的丙烯酸系樹脂。

交聯性寡聚物，例如：聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、矽酮(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸寡聚物較佳。具體而言，例如：聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A型環氧丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯之二丙烯酸酯、甲酚酚醛清漆型環氧(甲基)丙烯酸酯等。

樹脂層5a、5b，除此以外，也可含有其他粒子、光聚合起始劑等添加劑。

添加之粒子，例如有機或無機粒子，若考慮透明性，使用有機粒子較佳。有機粒子，例如：由丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚酯樹脂、聚烯烴樹脂、聚醯胺樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、矽酮樹脂及氟樹脂等構成之粒子。

粒子之平均粒徑，視樹脂層5a、5b之厚度而異，由混濁度(haze)等外觀上的理由，使用下限為2μm以上，更佳為5μm以上，上限為30μm以下，較佳為15μm以下者。又，粒子含量亦為同樣理由，相對於樹脂，為0.5重量%以上5重量%以下較佳。

添加光聚合起始劑時，就自由基產生型之光聚合起始劑而言，例如：苯偶因、苯偶因甲醚、苯偶因乙醚、苯偶因異丙醚、苄基甲基縮酮等苯偶因與其烷基醚類、苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羥基環己基苯酮等苯乙酮類、甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-戊基蒽醌等蒽醌類、噻噸酮(thioxanthone)、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二異基噻噸酮等噻噸酮類、苯乙酮二甲基縮酮、苄基二甲基縮酮等縮酮類、二苯基酮、4,4-雙甲基胺基二苯基酮等二苯基酮類及偶氮化合物等。此等可單獨使用，或以2種以上之混合物的形式使用，又，也可組合三乙醇胺、甲基二乙醇胺等第3級胺、2-二甲基胺基乙基苯甲酸、4-二甲基胺基苯甲酸乙酯等苯甲酸衍生物等光起始助劑等使用。

上述光聚合起始劑之添加量，相對於主成分之樹脂，為0.1重量%以上5重量%以下，較佳為0.5重量%以上3重量%以下。小於下限值時，硬塗層之硬化不充分故不佳。又，超過上限值時，硬塗層會起黃變，或耐候性降低故不佳。使光硬化型樹脂硬化時使用的光，為紫外線、電子射線、或gamma射線等，為電子射線或gamma射線時，不一定要含有光聚合起始劑或光起始助劑。此等射線源，可使用高壓水銀燈、氙燈、金屬鹵化物燈或加速電子等。

又，樹脂層5a、5b之厚度，不特別限定，但以0.5μm以上15μm以下之範圍較佳。又，與透明基板層11的折射率同等或近似者更佳，1.45以上1.75以下左右較佳。

樹脂層5a、5b之形成方法，係將主成分樹脂等材料溶於溶劑，以模塗、簾流塗布、輥塗、逆向輥塗、凹版塗布、刀塗、桿塗、旋塗、微型凹版塗布等公知的塗布方法形成。

關於溶劑，只要是溶解上述主成分之樹脂者即可，不特別限定。具體而言，溶劑例如：乙醇、異丙醇、異丁醇、苯、甲苯、二甲苯、丙酮、甲乙酮、甲基異丁酮、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異戊酯、乳酸乙酯、甲基塞珞蘇、乙基塞珞蘇、丁基塞珞蘇、甲基塞珞蘇乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等。此等溶劑可單獨使用1種，也可併用2種以上。

本發明之樹脂層5a、5b，由於與透明基板層1、1a及1b同樣的理由，較佳為將用於將光阻劑曝光之光，尤其是紫外光加以吸收。吸收紫外光之樹脂層，例如含有紫外線吸收劑之樹脂層，或含有具紫外線吸收機能之樹脂之樹脂層等，具體的光吸收材料，例如與透明基板層1、1a及1b含有之材料為相同之材料。又，較佳為光吸收材料之含量也與在透明基板層1、1a及1b之含量為同程度。

樹脂層5a、5b，可為樹脂層單獨具有吸收光之機能，又，也可與透明基板層1、1a及1b均具有吸收光之機能。藉由使樹脂層5a、5b及透明基板層1、1a及1b兩方具有吸收光之機能，能將未被透明基板層之其中一面之光阻劑吸收之光充分吸收，更能防止其中一面的圖案與另一面之圖案重疊。

又，也可為樹脂層5a、5b及透明基板層1、1a及1b兩者具有吸收光之機能，且改變以樹脂層5a、5b與透明基板層1、1a及1b能吸收之光之波長。藉此，當使用波長區廣的光源時，能於廣波長區吸收不需要的光。

本發明之黏著層6，係用於將第一透明基板1a與第二透明基板1b黏接之層。黏著層6使用之樹脂，例如：丙烯酸系樹脂、矽酮系樹脂、橡膠系樹脂等，較佳為使用緩衝(cushion)性或透明性優異之樹脂。

本發明之黏著層6，由與透明基板層1、1a及1b同樣的理由，較佳為將用於將光阻劑曝光之光尤其紫外光吸收。吸收紫外光吸收之樹脂層，例如：含紫外線吸收劑之樹脂層，或含有具紫外線吸收機能之樹脂的樹脂層等，具體的光吸收材料，例如：與透明基板層1、1a及1b含有之材料為相同之材料。又，光吸收材料之含量，亦宜與在透明基板層1、1a及1b之含量為同程度。

黏著層6，可為黏著層單獨具有吸收光之機能，又，也可透明基板層1、1a及1b或樹脂層5a、5b均具有吸收光之機能。藉由使透明基板層1、1a及1b或樹脂層5a、5b均具有吸收光之機能，能將未被透明基板層之其中之一面之光阻劑吸收之光充分吸收，更能防止其中一面的圖案與另一面的圖案重疊。

又，也可黏著層6、透明基板層1、1a及1b及樹脂層5a、5b均具有吸光之機能，且改變黏著層6、透明基板層1、1a及1b及樹脂層5a、5b彼此能吸收之光之波長。藉此，當使用波長區廣的光源時，能於廣波長區將不需要的光吸收。

光學調整層2a、2b，係具有使形成於第一透明導電層3a及第二透明導電層3b之圖案不顯眼的機能，且用於使視讀性提高之層。光學調整層2a、2b使用無機化合物時，可使用氧化物、硫化物、氟化物、氮化物等材料。由上述無機化合物構成之薄膜，視其材料，折射率不同，藉由將折射率不同的薄膜形成特定膜厚，可調整光學特性。又，光學機能層之層數，可視目的光學特性，也可為多層。

折射率低之材料，例如：氧化鎂(1.6)、二氧化矽(1.5)、氟化鎂(1.4)、氟化鈣(1.3～1.4)、氟化鈰(1.6)、氟化鋁(1.3)等。又，折射率高的材料，例如：氧化鈦(2.4)、氧化鋯(2.4)、硫化鋅(2.3)、氧化鉭(2.1)、氧化鋅(2.1)、氧化銦(2.0)、氧化鈮(2.3)、氧化鉭(2.2)。惟，上述括弧內之數值表示折射率。

第一透明導電層3a及第二透明導電層3b，例如：氧化銦、氧化鋅、氧化錫其中之一，或此等的2種或3種的混合氧化物，又，添加有其他添加物之物等，可視目的、用途使用各種材料，不特別限定。目前，可靠度最高，有許多實績的材料為氧化銦錫(ITO)。

當使用最為一般的透明導電材料氧化銦錫(ITO)作為第一透明導電層3a及第二透明導電層3b使用時，攙雜於氧化銦之氧化錫之含有比例，可視裝置要求的規格，選擇任意比例。例如，基材為塑膠膜時，於提高機械強度的目的，用於使薄膜結晶化使用的濺鍍靶材，希望氧化錫之含有比小於10重量%，為了使薄膜非晶質化且帶有可撓性，氧化錫之含有比希望為10重量%以上。又，對於薄膜要求低電阻時，氧化錫之含有比希望為3重量%至20重量%之範圍。

光學調整層2a、2b及第一透明導電層3a及第二透明導電層3b之製造方法，只要能控制膜厚，可使用各種成膜方法，其中，薄膜之生成以乾式法為優異。其可使用真空蒸鍍法、濺鍍等物理性氣相析出法或如CVD法之化學性氣相析出法。尤其，為了形成大面積且均勻膜質的薄膜，製程穩定且薄膜緻密的濺鍍法較佳。

第一透明導電層3a及第二透明導電層3b，如第9圖或第10圖所示，施用X座標及Y座標之圖案。如第9圖或第10圖，形成之圖案，係由以黑色表示之導電性圖案區4a與以白色表示之非導電性圖案區4b構成。又，雖未圖示，但導電性圖案區4a連接於能檢知電流變化的電路。人的手指等若接近為檢測電極的導電性圖案區4a，由於全體的靜電電容變化，電流流過電路，能判定接觸位置。藉由將第9圖及第10圖之圖案分別設置在透明基板層之兩面，並將X座標及Y座標之圖案如第11圖之方式組合，並連接在電流變化檢知電路，能得到2維之位置資訊。又，第11圖中，以黑色表示之圖案為形成在透明基板層之表側的導電性圖案區4a，以灰色表示的圖案為形成在透明基板層之背側的導電性圖案區4a。

第一透明導電層3a及第二透明導電層3b之圖案形狀，除了如第9圖或第10圖之鑽石型圖案以外，有網型圖案等，為了精確讀取2維的位置資訊，儘可能形成微細圖案，且對於透明基板層之兩面設置的圖案精確進行位置對準為必要。

第一透明導電層3a及第二透明導電層3b之圖案形成方法，例如：在第一透明導電層3a及第二透明導電層3b上塗布光阻劑並將圖案以曝光、顯影形成後，將透明導電層以化學性溶解之利用光微影形成的方法、於真空中利用化學反應使氣化之方法、利用雷射使透明導電層昇華之方法等。圖案形成方法，可依圖案形狀、精度等適當選擇，但為了就第一透明導電層3a及第二透明導電層3b同時形成彼此不同的圖案，以利用光微影之方法較佳。

本發明之透明導電性積層體之利用光微影的曝光步驟，以第1圖所示之透明導電性積層體11為例，顯示於第12圖。形成在透明導電性積層體11之第一透明導電層3a及第二透明導電層3b的導電性圖案區4a及非導電性圖案區4b之形成方法，首先，係在第一透明導電層3a之表面塗布光阻劑7a，在第二透明導電層3b之表面塗布光阻劑7b。其次，將用以在第一透明導電層3a形成圖案之光源8a、將特定波長之光遮斷的光學濾光片9a、光罩10a，分別從光源8a側起依序配置，並將用以在第二透明導電層3b形成圖案之光源8b、將特定波長之光遮斷之光學濾光片9b、光罩10b，分別從光源8b側起依序配置。之後，利用已經用光學濾光片9a及9b將特定波長之光遮斷的光，將光阻劑7a及7b同時進行曝光。

此時，由於透明基板1具有吸收光之機能，因此未被光阻劑7a吸收的光由透明基板層1吸收，能防止塗布在第二透明導電層3b之表面的光阻劑7b受曝光。相反地，未被光阻劑7b吸收的光由透明基板層1吸收，可防止塗布在第一透明導電層3a的表面的光阻劑7a受曝光。

又，本發明之透明導電性積層體之利用光微影的曝光步驟，由於能在透明基板1的兩面同時形成圖案，因此，能輕易進行形成在兩面的圖案的位置對準。當透明基板1之兩面的圖案係逐個單面進行時，必需在其中一面形成圖案後，配合此圖案的位置，形成另一面的圖案，難以進行位置調整。尤其，為了精確讀取2維的位置資訊，或提高圖案之視讀性而形成微細的圖案時，逐個單面的圖案形成無法以良好精度進行位置對準。

在此，光學濾光片9a及9b，係用於將從光源8a及8b照射的某個特定波長的光遮斷的濾光片。藉由將用以將光阻劑曝光之光吸收之透明基板層1、1a及1b、樹脂層5a、5b或黏著層6組合，能將用以將透明基板層之其中一面之光阻劑曝光的光選擇性遮斷，並防止另一面的光阻劑感光。

例如，透明基板層1、1a及1b、樹脂層5a、5b或黏著層6含有紫外線吸收劑時，光學濾光片9a及9b將可見區的波長的光遮斷，並將透明基板層之另一面的光阻劑以紫外區之波長之光曝光。未被透明基板層之其中一面的光阻劑吸收的光，被透明基板層1、1a及1b、樹脂層5a、5b或黏著層6含有的紫外線吸收劑吸收，防止另一面的光阻劑感光。

於此情形，光學濾光片9a及9b於波長365nm之光線穿透率較佳為80%以上。藉由限定在此範圍，能僅將透明基板層之其中一面的光阻劑以紫外區的波長的光曝光，能防止另一面的光阻劑曝光，並防止圖案的映射。又，視光阻劑之種類，有時會有以穿透光學濾光片9a及9b之光無法充分感光的情形，因此藉由將光學濾光片9a及9b於波長400nm之光線穿透率於0.1%至30%間調整，能使其中一面的光阻劑充分感光，且防止另一面的光阻劑曝光，防止圖案映射。

又，光罩10a及10b，係用於在光阻劑7a及7b形成圖案之光罩，具體而言，用於形成第9圖或第10圖所示圖案等。

第2圖至第8圖所示之本發明之透明導電性積層體，也同樣，利用上述曝光步驟，可形成在第一透明導電層3a及第二透明導電層3b所形成之導電性圖案區4a及非導電性圖案區4b。

本發明之透明導電性積層體之利用光微影的圖案形成方法之各步驟，以如第13圖顯示。第13圖，舉製造第1圖之透明導電性積層體11之各步驟為例顯示。首先，準備透明基板1(步驟(a))，在其兩面形成第一透明導電層3a及第二透明導電層3b(步驟(b))。又，在第一透明導電層3a及第二透明導電層3b的表面，分別塗布光阻劑7a、7b(步驟(c))。之後，使用第12圖所示之光源8a、8b、將特定波長之光遮斷的光學濾光片9a、9b、光罩10a、10b，將光阻劑7a、7b曝光(步驟(d))。又，7c係以光感光之光阻劑。其次，將未感光的光阻劑以顯影液除去(步驟(e))，將第一透明導電層3a及第二透明導電層3b之露出部分蝕刻(步驟(f))。最後，將已感光的光阻劑7c剝離，得到透明導電性積層體11。

第13圖顯示使用負型光阻劑形成圖案之方法的各步驟，但是，也可使用正型光阻劑形成圖案。

第2圖至第8圖所示之本發明之透明導電性積層體也同樣，可利用上述各步驟，形成在第一透明導電層3a及第二透明導電層3b所形成之導電性圖案區4a及非導電性圖案區4b。

又，本發明之透明導電性積層體11，從在透明基板層形成透明導電層之步驟至將前述光阻劑剝離之步驟為止，較佳以捲繞方式進行。藉此，能將製造時間大幅縮短。

本發明之透明導電性積層體11，於波長400nm之光線穿透率為60%以上，且於波長365nm之光線穿透率為20%以下較佳。於此範圍時，能在透明導電性積層體的兩面將不同的圖案同時曝光。又，藉由將兩面同時曝光，能輕易進行兩面的圖案的位置對準，能形成微細的圖案，因此，當使用本發明之透明導電性積層體11作為靜電電容式觸控面板之電極材時，能以良好感度精確讀取2維的位置資訊。又，由於能形成微細圖案，故不易看見圖案形狀，圖案的視讀性提升。

尤其，構成透明導電性積層體11之透明基板層1、1a及1b、樹脂層5a、5b或黏著層6於波長400nm之光線穿透率為80%以上，且於波長365nm之光線穿透率為20%以下較佳。

又，本發明之透明導電性積層體11，導電性圖案區與非導電性圖案區之總光線穿透率之差為1.5%以下且穿透色相b＊差為2.0以下較佳。於此範圍時，即使在透明導電性積層體的兩面形成不同的圖案，圖案形狀仍然不顯眼，視讀性提升。

又，本發明之透明導電性積層體11，於150℃、30分鐘的熱收縮率為0.5%以下較佳。於此範圍時，能抑制於形成第一透明導電層3a及第二透明導電層3b之步驟或將光阻劑7a、7b乾燥之步驟中之加熱引起的收縮，能防止形成在第一透明導電層3a及第二透明導電層3b的圖案的位置偏離。

[實施例]

其次說明實施例及比較例。

＜實施例1＞

使用具有紫外線吸收機能的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(Toray公司製、厚度：100μm)作為透明基板，於透明基板的兩面，以微型凹版塗布機塗布下述組成之樹脂層形成用塗液，於60℃使乾燥1分鐘，並以紫外線使硬化，藉此形成樹脂層。

[樹脂層形成用塗液之組成]

樹脂：紫光UV-7605B(日本合成化學社製)　100重量份

起始劑：Irgacure 184(Chiba Japan公司製)　4重量份

溶劑：乙酸甲酯　100重量份

其次，於形成在透明基板的兩面的樹脂層之兩表面，利用濺鍍法將作為透明導電層的ITO成膜30nm。之後，使用第12圖及第13圖所示之利用光微影的方法，依以下曝光條件，在兩面同時形成第9圖及第10圖所示之圖案，於透明導電層形成導電性圖案區與非導電性圖案區。

[曝光條件]

光源：超高壓水銀燈(USHIO電機公司製)

光學濾光片：遮斷380-600nm之範圍的波長

光罩：如第9圖及第10圖所示之鑽石型圖案

＜實施例2＞

使用不具有紫外線吸收機能之聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(Toray公司製、厚度：100μm)作為透明基板，於樹脂層形成用塗液使含有三系紫外線吸收劑(2-[4-[(2-羥基-3-十三烷氧基丙基)氧]-2-羥基苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三)0.5重量份，除此以外，以與實施例1相同條件及方法，於透明導電層形成導電性圖案區與非導電性圖案區。

＜比較例＞

使用不具有紫外線吸收機能之聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(Toray公司製、厚度：100μm)作為透明基板，除此以外，以與實施例1相同條件及方法在透明導電層形成導電性圖案區與非導電性圖案區。

將得到的透明導電性積層體依下列評價方法進行評價。

[評價方法]

光線穿透率：使用分光度計(Hitachi Hitech公司製)測定於波長400nm及365nm之光線穿透率，作為透明導電性積層體之穿透率。

外觀：以目視進行得到的透明導電性積層體的色彩評價。

圖案化：以目視確認得到的透明導電性積層體兩面的圖案形狀，並評價其中之一之圖案形狀是否映射到另一圖案形狀。

實施例1及2得到的透明導電性積層體，於400nm及365nm之光線穿透率，於實施例1之透明導電性積層體各為61%及0%、於實施例2之透明導電性積層體各為65%及10%，可知能將透明導電性積層體之兩面的不同圖案同時曝光。又，外觀也沒有泛黃等缺陷，兩面的圖案也沒有彼此圖案的映射。

另一方面，比較例得到的透明導電性積層體，於400nm及365nm之光線穿透率為67%及40%，可知無法將透明導電性積層體之兩面的不同圖案同時曝光。又，關於外觀，雖未存在泛黃等缺陷，但是，關於兩面的圖案顯著存在有彼此的圖案的映射。

[產業利用性]

本發明可使用在電子設備的顯示器上作為輸入裝置而安裝的透明的觸控面板。尤其，可使用於可作多點觸控的可攜式設備等。

1．．．透明基板層

1a．．．第一透明基板層

1b．．．第二透明基板層

2a、2b．．．光學調整層

3a．．．第一透明導電層

3b．．．第二透明導電層

4a．．．導電性圖案區

4b．．．非導電性圖案區

5a、5b．．．樹脂層

6．．．黏著層

7a、7b．．．光阻劑

7c．．．已感光之光阻劑

8a、8b．．．光源

9a、9b．．．光學濾光片

10a、10b．．．光罩

11．．．透明導電性積層體

第1圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例1之說明圖。

第2圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例2之說明圖。

第3圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例3之說明圖。

第4圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例4之說明圖。

第5圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例5之說明圖。

第6圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例6之說明圖。

第7圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例7之說明圖。

第8圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例8之說明圖。

第9圖顯示透明導電層之圖案例(X座標)之說明圖。

第10圖顯示透明導電層之圖案例(Y座標)之說明圖。

第11圖顯示透明導電層之圖案例之X座標與Y座標之位置關係之說明圖。

第12圖顯示本發明之透明導電性積層體之曝光步驟例之說明圖。

第13圖顯示本發明之透明導電性積層體之圖案形成步驟例之說明圖。

1．．．透明基板層

3a．．．第一透明導電層

3b．．．第二透明導電層

4a．．．導電性圖案區

4b．．．非導電性圖案區

11．．．透明導電性積層體

Claims (10)

1. 一種透明導電性積層體之製造方法，其特徵在於：包含以下步驟：於透明基板層之兩面至少形成第一透明導電層及第二透明導電層之步驟；於該第一透明導電層及該第二透明導電層之表面塗布光阻劑之步驟；將用以在該第一透明導電層形成圖案之光源及遮斷光之光學濾光片與光罩，及用以在該第二透明導電層形成圖案之光源及遮斷光之光學濾光片與光罩，分別從光源側依序配置，並且將塗布在該第一透明導電層之表面之該光阻劑及塗布在該第二透明導電層之表面之該光阻劑同時曝光之步驟；將已感光之該光阻劑顯影之步驟；將未受該光阻劑覆蓋的該第一透明導電層及該第二透明導電層蝕刻步驟；將該光阻劑剝離步驟；且在該第一透明導電層與該第二透明導電層之間形成的至少1層為吸收光之層。
2. 如申請專利範圍第1項之透明導電性積層體之製造方法，其中，該透明基板層為吸收光之層，該透明基板層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收機能之樹脂。
3. 如申請專利範圍第2項之透明導電性積層體之製造方 法，其中，該光學濾光片於波長365nm之光線穿透率為80%以上。
4. 如申請專利範圍第3項之透明導電性積層體之製造方法，其中，從在該透明基板層形成該透明導電層之步驟至將該光阻劑剝離之步驟為止，係以捲繞(roll to roll)方式進行。
5. 如申請專利範圍第1項之透明導電性積層體之製造方法，其中，包含以下步驟：在該透明基板層之兩面形成樹脂層之步驟；在該樹脂層之表面形成第一透明導電層及該第二透明導電層之步驟；該樹脂層為吸收光之層，該樹脂層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收機能之樹脂。
6. 如申請專利範圍第5項之透明導電性積層體之製造方法，其中，該光學濾光片於波長365nm之光線穿透率為80%以上。
7. 如申請專利範圍第6項之透明導電性積層體之製造方法，其中，從在該透明基板層形成該透明導電層之步驟至將該光阻劑剝離之步驟為止，係以捲繞方式進行。
8. 一種透明導電性積層體之製造方法，其特徵在於：包含以下步驟：在第一透明基板層之單面至少形成第一透明導電層之步 驟；在第二透明基板層之單面至少形成第二透明導電層之步驟；以該第一透明導電層及該第二透明導電層作為外側，將該第一透明基板層與該第二透明基板層以黏著層貼合之步驟；在該第一透明導電層及該第二透明導電層之表面塗布光阻劑之步驟；將用以在該第一透明導電層形成圖案之光源與將光遮斷的光學濾光片及光罩，及用以在該第二透明導電層形成圖案之光源與將光遮斷的光學濾光片及光罩，分別從光源側起依序配置，並將塗布在該第一透明導電層之表面的該光阻劑與塗布在該第二透明導電層之表面的該光阻劑同時曝光之步驟；將已感光的該光阻劑顯影之步驟；將未受該光阻劑覆蓋的該第一透明導電層及該第二透明導電層蝕刻之步驟；將該光阻劑剝離之步驟；且形成在該第一透明導電層與該第二透明導電層之間的至少1層為吸收光之層。
9. 如申請專利範圍第8項之透明導電性積層體之製造方法，其中，該黏著層為吸收光之層，該黏著層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收機能之樹脂。
10. 如申請專利範圍第9項之透明導電性積層體之製造方法，其中，該光學濾光片於波長365nm之光線穿透率為80%以上。