CN115669237A

CN115669237A - 层叠体的制造方法及触摸面板传感器

Info

Publication number: CN115669237A
Application number: CN202180039252.3A
Authority: CN
Inventors: 米泽裕之
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2020-06-05
Filing date: 2021-06-02
Publication date: 2023-01-31
Also published as: TW202209078A; US20230108276A1; WO2021246450A1; JPWO2021246450A1

Abstract

一种层叠体的制造方法及其应用，该层叠体的制造方法依次具有：准备依次具有基材、第1透明导电部及感光性组合物层的层叠体前体的工序1；通过散射光从上述感光性组合物层中与设置有上述基材的一侧相反的一侧，对上述感光性组合物层进行图案曝光的工序2；及对经上述图案曝光的上述感光性组合物层实施显影处理而形成图案状的固化层的工序3。

Description

层叠体的制造方法及触摸面板传感器

技术领域

本发明关于一种层叠体的制造方法及触摸面板传感器。

背景技术

在触摸面板传感器、显示装置等电子零件中，设置有用于保持以层状配置的配线之间的绝缘性的层间绝缘膜等固化层。使用感光性组合物来形成这种固化层。

例如，在专利文献1中举出如下方法：在具有导电部的基板上形成感光性组合物层，并隔着具有预定图案的光掩模来曝光感光性组合物层，用显影液显影并溶解去除不必要的部分，通过形成固化层来制造层叠体。在专利文献1中，公开了经由设置于固化层的开口部来连接导电部之间。

专利文献1：国际公开第2018/186428号

发明内容

发明要解决的技术课题

近年来，随着电子零件的小型化和高功能化，要求更进一步提高导电部之间的连接可靠性。

本发明的发明人等根据专利文献1中记载的方法来形成使从多个开口部露出的透明导电部之间导通的导电部(所谓桥接配线)，并对其连接可靠性进行评价的结果，发现并不满足以往的要求水平，需要进一步改进。

图2是表示作为专利文献1等由先前的方法获得的层叠体的使用方式之一的透明导电膜的层结构的一例的概略剖视图。如图2所示，在使用利用先前的方法获得的层叠体的透明导电膜30中，在基材12的面上依次层叠有第1透明导电部14、图案状的固化层16A、第2透明导电部18及任意设置的作为保护层的透明树脂层20。图案状的固化层16A的非形成区域作为透明导电膜30的接触孔22发挥作用。

在一般的图案曝光中，如图2所示，由于接触孔22的锥角较陡，因此在形成图案状的固化层16A之后形成第2透明导电部18时，在接触孔22的顶部的角部及底部的角落部，有可能引起如图2所示那样的形成第2透明导电部18时的溅射膜的成膜不良以及由角部中应力集中引起的断线的产生等。

并且，若接触孔22的锥角较陡，则有时产生如下问题：接触孔侧面上的光的反射及由角部处的厚度不均匀引起的光的反射变大、变得容易在透明导电膜中视觉辨认接触孔、在对作为保护层的透明树脂层20进行层压时容易卷入气泡等。

因此，可以考虑到将图案状的固化层的侧面的角度设得更平缓的方法。然而，在先前公知的曝光装置中，重视曝光时的能量应用效率、形成高清晰图案等，入射光以接近垂直的角度，例如准直角度为1°～5°程度、以所希望的入射角度进行曝光、并且以所希望的角度使感光性组合物层的侧面固化较困难。

本发明的一实施方式要解决的课题在于提供一种在形成接触孔之后形成第2透明导电部时，断线的发生得到抑制且能够适用于触摸面板传感器的层叠体的制造方法。

本发明的另一实施方式要解决的课题在于提供一种由第2透明导电部的断线引起的故障的产生得到抑制的触摸面板传感器。

用于解决技术课题的手段

在用于解决上述问题的手段中包含以下方式。

<1>一种层叠体的制造方法，其依次具有：准备依次具有基材、第1透明导电部及感光性组合物层的层叠体前体的工序1；从上述感光性组合物层中与设置有上述基材的一侧相反的一侧，通过散射光对上述感光性组合物层进行图案曝光的工序2；及对经上述图案曝光的上述感光性组合物层实施显影处理而形成图案状的固化层的工序3。

<2>如<1>所述的层叠体的制造方法，其中，

上述工序1是在具有基材及在上述基材上配置的第1透明导电部的导电性基板的上述第1透明导电部侧形成感光性组合物层的工序，

上述工序2是从在上述感光性组合物层中与设置有上述基材的一侧相反的一侧配置的曝光光源，隔着曝光掩膜而对上述感光性组合物层照射散射光，从而进行图案曝光的工序。

<3>如<1>或<2>所述的层叠体的制造方法，其中，

在上述工序2中，在上述感光性组合物层中与设置有上述基材的一侧相反的一侧配置漫透射率为5％以上的散射层以及曝光光源，从上述曝光光源隔着上述散射层照射散射光。

<4>如<3>所述的层叠体的制造方法，其中，

上述散射层的散射角为20°以上。

<5>如<1>至<4>中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

在上述工序2中，在上述感光性组合物层中与设置有上述基材的一侧相反的一侧，从上述感光性组合物层侧依次具有上述曝光掩膜、漫透射率为5％以上的散射层及上述曝光光源。

<6>如<1>至<4>中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

在上述工序2中，在上述感光性组合物层中与设置有上述基材的一侧相反的一侧，从上述感光性组合物层侧依次具有漫透射率为5％以上的散射层、上述曝光掩膜及上述曝光光源。

<7>如<3>至<6>中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

上述散射层含有基体材料及存在于上述基体材料中的粒子，上述基体材料与上述粒子的折射率之差为0.05以上。

<8>如<3>至<7>中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

上述散射层含有基体材料及存在于上述基体材料中的粒子，上述粒子的平均一次粒径为0.3μm以上。

<9>如<3>至<6>中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

上述散射层在至少一个面具有凹凸。

<10>如<9>所述的层叠体的制造方法，其中，

上述凹凸具有多个凸部，相邻的凸部与凸部的顶部之间的距离为10μm～50μm。

<11>如<3>至<10>中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

上述散射层与上述曝光掩膜配置于不相互接触的位置。

<12>如<3>至<10>中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

上述散射层与上述曝光掩膜接触地配置。

<13>如<1>至<4>中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

上述曝光掩膜是漫透射率为5％以上的散射性曝光掩膜。

<14>如<1>至<13>中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

上述工序1包括使用具有临时支承体及在上述临时支承体上配置的至少一层的感光性组合物层的转印材料来形成上述感光性组合物层的工序。

<15>如<14>所述的层叠体的制造方法，其中，

上述临时支承体是漫透射率为5％以上的临时支承体。

<16>如<14>或<15>所述的层叠体的制造方法，其中，

上述工序2中的图案曝光是使上述临时支承体与上述曝光掩膜接触来进行曝光的接触曝光。

<17>如<14>所述的层叠体的制造方法，其中，

在上述转印材料中，在上述临时支承体与上述感光性组合物层之间还具有漫透射率为5％以上的散射层，在上述转印中，转印上述感光性组合物层及上述散射层。

<18>如<1>至<17>中任一项所述的层叠体的制造方法，其在上述工序3之后还包括在上述图案状的固化层上形成第2透明导电部的工序4。

<19>一种触摸面板传感器，其依次具有基材、第1透明导电部、具有接触孔的固化层及第2透明导电部，上述固化层的与上述基材的法线方向平行的截面中的上述接触孔的相对上述基材的面方向的锥角为50°以下。

发明效果

根据本发明的一实施方式，能够提供一种在形成接触孔之后形成第2透明导电部时，断线的产生得到抑制且能够适用于触摸面板传感器的层叠体的制造方法。

根据本发明的另一实施方式，能够提供一种由第2透明导电部的断线引起的故障的产生得到抑制的触摸面板传感器。

附图说明

图1是表示成为通过本发明的层叠体的制造方法而获得的层叠体的应用方式之一的透明导电膜的层结构的一例的概略剖视图。

图2是表示成为通过先前技术的制造方法而获得的层叠体的应用方式之一的透明导电膜的层结构的一例的概略剖视图。

图3是表示在工序2的光照射中，散射层的配置位置的第1方式的概略剖视图。

图4是表示在工序2的光照射中，散射层的配置位置的第2方式的概略剖视图。

图5是表示在工序2的光照射中，使用成为散射层的配置位置的第3方式的光散射性曝光掩膜的一例的概略剖视图。

图6是表示在工序2的光照射中，散射层的配置位置的第4方式的概略剖视图。

图7是表示在工序2的光照射中，成为散射层的配置位置的第5方式的将光散射性临时支承体用作转印材料的一例的概略剖视图。

图8是表示在工序2的光照射中，散射层的配置位置的第6方式的概略剖视图。

图9是表示接触孔相对于基材的面方向的锥角的测量方法的示意图。

具体实施方式

以下，对本发明的层叠体的制造方法进行说明。

但是，本发明并不限定于以下记载的任意实施方式，能够在目标范围内，适当地通过变更来实施。

在本发明中，使用“～”示出的数值范围表示将“～”的前后中记载的数值分别作为最小值及最大值包含的范围。

在本发明中阶段性记载的数值范围中，可以将在某数值范围内记载的上限值或下限值替换为其他阶段性记载的数值范围的上限值或下限值。并且，在本发明中记载的数值范围中，可以将某数值范围中记载的上限值或下限值替换为实施例中所示的值。

并且，在本发明中，2个以上的优选方式的组合为更优选的方式。

在本发明中，相当于各成分的物质存在多种的情况下，只要没有特别说明，则各成分的含量表示多种的物质的合计含量。

在本发明中，“透明”是指，波长400nm～700nm的可见光的平均透射率为80％以上，优选为90％以上。即，例如，在本发明中，“透明导电部”表示波长400nm～700nm的可见光的平均透射率为80％以上的导电部。

其中，可见光的平均透射率是使用分光光度计测量的值。作为分光光度计，例如，可以举出Hitachi，Ltd.制造的分光光度计U-3310。

在本发明中，只要没有特别说明，则聚合物的各构成单元的含有比率为摩尔比。

并且，关于本发明中的重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)，只要没有特别说明，则为以如下方式获得的分子量，即通过使用了TSKgel GMHxL、TSKg el G4000HxL、TSKgelG2000HxL(均为TOSOH CORPORATION制造的产品名称)的柱的凝胶渗透色谱(GPC)分析装置，利用THF(四氢呋喃)、差示折射计进行检测，并使用聚苯乙烯来作为标准物质进行换算而得的分子量。

在本发明中，只要没有特别说明，则具有分子量分布的化合物的分子量为重均分子量。

在本发明中，只要没有特别说明，则折射率采用在波长550nm下利用椭圆偏光计测量的值。

在本发明中，“(甲基)丙烯酸”是指，丙烯酸及甲基丙烯酸中的至少一个，“(甲基)丙烯酸酯”是指，丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯中的至少一个。

只要没有特别说明，则“取代基”的标记作为包括未经取代的基团及进一步具有取代基的基团的含义来使用，例如，标记为“烷基”的情况下，作为未经取代的烷基及进一步具有取代基的烷基这双方的含义来使用。关于其他取代基也相同。

在本发明中，“工序”这一词不仅是独立的工序，即使在无法与其他工序明确区分的情况下，只要可实现工序的预期目的，则也包含于本术语中。

在本发明中，各附图中，使用相同的符号示出的构成要件表示相同的构成要件。

<层叠体的制造方法>

本发明的层叠体的制造方法依次具有：准备依次具有基材、第1透明导电部及感光性组合物层的层叠体前体的工序1；通过散射光从上述感光性组合物层中与设置有上述基材的一侧相反的一侧，对上述感光性组合物层进行图案曝光的工序2；及对经上述图案曝光的上述感光性组合物层实施显影处理而形成图案状的固化层的工序3。

并且，在本发明中，在上述工序1中获得的至少层叠有基材、第1透明导电部及感光性组合物层的层叠体也称为““层叠体前体”，在上述工序2中获得的至少层叠有基材、第1透明导电部及经图案曝光的感光性组合物层的层叠体也称为“经曝光的层叠体前体”。

首先，举出图1来对通过本发明的层叠体的制造方法而获得的成为层叠体的使用方式之一的透明导电膜的一例中的层结构进行说明。

以下，有时将“本发明的层叠体的制造方法”简称为“本发明的制造方法”。

图1是表示适用了通过本发明的制造方法而获得的层叠体的透明导电膜的层结构的概略剖视图。

图1中示出的透明导电膜10在基材12的面上依次具有第1透明导电部14、具有图案状的固化层16A的层叠体的、在图案状的固化层16A的面上配置的第2透明导电部18及任意设置的作为保护层的透明树脂层20。图案状的固化层16A的非形成区域作为接触孔22发挥作用。

本发明中的层叠体所具有的图案状的固化层16A是通过在隔着曝光掩膜而对感光性组合物层以图案状照射散射光之后，通过显影而感光性组合物层的非固化区域被去除而形成的。如图1所示，通过本发明的制造方法而获得的层叠体，由于固化层16A的与基材12的法线方向平行的截面上的接触孔22相对基材12的面方向的锥角平缓，并且从接触孔22的侧面观察时的壁面的角度并不陡，因此在形成接触孔之后形成第2透明导电部时的断线的产生得到抑制。此外，具有如下优点：在形成接触孔22之后，形成第2透明导电部时的接触孔22的底面上的由反射引起的视觉辨认容易度得到改进，变得容易抑制在层压作为保护层的透明树脂层20时的气泡的卷入等。

以下，对本发明的层叠体的制造方法按工序的顺序进行说明。

〔工序1〕

在工序1中，准备依次具有基材、第1透明导电部及感光性组合物层的层叠体前体。

作为准备上述层叠体前体的方法，并没有特别限制，能够使用公知的方法。

作为工序1，具体而言，例如，可以优选地举出在具有基材及在基材上配置的第1透明导电部的导电性基板的第1透明导电部侧形成感光性组合物层的工序。

在基材上配置的第1透明导电部优选配置成用于在基材上形成配线的预定的图案状。第1透明导电部可以根据目的，在基材的面上配置有多个。并且，多个第1透明导电部可以相互连通。

关于基材、第1透明部及感光性组合物层的各成分以及物性等的详细内容，将在之后进行统一叙述。

在工序1中，在基材的第1透明导电部侧形成感光性组合物层的方法并没有特别限制，能够适用公知的方法。

作为感光性组合物层的形成方法，例如，可以举出使用具有临时支承体及在临时支承体上配置的至少一层的感光性组合物层的转印材料，将转印材料所具有的感光性组合物层转印到基材的第1透明导电部侧(优选为导电性基板上)的转印法，以及将感光性组合物涂布于基材的具有第1透明导电部的侧的面上而形成感光性组合物层的涂布法等。

从能够有效地形成均匀且表面形态良好的感光性组合物层的观点考虑，优选在形成感光性组合物层时适用转印法。转印法中使用的在临时支承体上具有至少一层的感光性组合物层的转印材料也称为干膜光阻。

优选在工序1中包括将具有临时支承体及在临时支承体上配置的至少一层的感光性组合物层的转印材料的感光性组合物层转印到导电性基板的上的工序。

以下，对转印法进行详细叙述。

临时支承体优选为膜，更优选为树脂膜。作为临时支承体，能够使用具有柔性，并且在加压下或在加压及加热下，不发生显著的变形、收缩或延伸的膜。

作为这种膜，可以举出聚对苯二甲酸乙二酯膜(例如，二轴延伸聚对苯二甲酸乙二酯膜)、三醋酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚酰亚胺膜及聚碳酸酯膜。

在这些之中，作为临时支承体，特别优选为二轴延伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。

优选在用作临时支承体的膜中不存在皱纹等变形、划痕等。

另外，如在工序2的说明中进行详细叙述那样，作为临时支承体，可以使用散射性临时支承体。

从能够隔着临时支承体进行图案曝光的观点考虑，临时支承体的透明性优选高，波长365nm的光的透射率优选为60％以上，更优选为70％以上。

从隔着临时支承体进行图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点考虑，临时支承体的雾度优选小。具体而言，临时支承体的雾度值优选为2％以下，更优选为0.5％以下，进一步优选为0.1％以下。

从隔着临时支承体进行图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点考虑，临时支承体中所包含的微粒、异物及缺陷的数优选少。直径为1μm以上的微粒、异物及缺陷的数优选为50个/10mm²以下，更优选为10个/10mm²以下，进一步优选为3个/10mm²以下，特别优选为0个/10mm²。

临时支承体的厚度并没有特别限制，优选为5μm～200μm，从容易操作及通用性的观点考虑，更优选为10μm～150μm，进一步优选为10μm～50μm。

从在临时支承体的表面赋予处理性的观点考虑，可以设置含有微小的粒子的层(即，润滑剂层)。润滑剂层可以设置于临时支承体的单面，也可以设置于双面。优选将润滑剂层中所包含的粒子的直径设为0.05μm～0.8μm。并且，润滑剂层的膜厚优选设为0.05μm～1.0μm。

作为临时支承体，例如，可以举出膜厚为16μm的二轴延伸聚对苯二甲酸乙二酯膜、膜厚为12μm的二轴延伸聚对苯二甲酸乙二酯膜及膜厚为9μm的二轴延伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。

作为临时支承体的优选方式，例如，记载于日本特开2014-085643号公报[0017]～[0018]段、日本特开2016-027363号公报的[0019]～[0026]段、国际公开第2012/081680A1号的[0041]～[0057]段、国际公开第2018/179370A1号的[0029]～[0040]段中，这些公报的内容被编入到本说明书中。

并且，作为临时支承体的市售品，可以举出Lumirror 16KS40、Lumirror 16FB40(以上为TORAY INDUSTRIES，INC制造)、Cosmo Shine A4100、Cosmo Shine A4300、CosmoShine A8300(以上为Toray Industries，Inc.制造)。

作为在临时支承体上形成感光性组合物层的方法，可以举出在临时支承体上涂布感光性组合物，而且，根据需要进行干燥的方法。

另外，感光性组合物优选包含溶剂。

作为溶剂，优选为有机溶剂。作为有机溶剂，例如，可以举出甲基乙基酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯(别名：1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)、二乙二醇乙基甲基醚、环己酮、甲基异丁基酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺、正丙醇及2-丙醇。作为溶剂，优选为甲基乙基酮与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂或二乙二醇乙基甲基醚与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂。

作为溶剂，还能够使用美国专利申请公开第2005/282073号说明书的[0054]段及[0055]段中记载的溶剂，该说明书的内容通过参考而编入到本说明书中。

并且，作为溶剂，还能够根据需要而使用沸点为180℃～250℃的有机溶剂(即，高沸点溶剂)。

感光性组合物可以单独包含1种溶剂，也可以包含2种以上的溶剂。

感光性组合物包含溶剂的情况下，感光性组合物的总固体成分量相对于感光性组合物的总质量优选为5质量％～80质量％，更优选为5质量％～40质量％，进一步优选为5质量％～30质量％。

感光性组合物包含溶剂的情况下，例如，从涂布性的观点考虑，感光性组合物在25℃下的粘度优选为1mPa·s～50mPa·s，更优选为2mPa·s～40mPa·s，进一步优选为3mPa·s～30mPa·s。粘度使用粘度计来测量。作为粘度计，例如，能够适当地使用TOKISANGYO CO.，LTD.制造的粘度计(产品名称：VISCOMETER TV-22)。但是，粘度计并不限制于上述粘度计。

感光性组合物包含溶剂的情况下，例如，从涂布性的观点考虑，感光性组合物在25℃下的表面张力优选为5mN/m～100mN/m，更优选为10mN/m～80mN/m，进一步优选为15mN/m～40mN/m。表面张力使用表面张力计来测量。作为表面张力计，例如，能够适当地使用KyowaInterface Science Co.，Ltd制造的表面张力计(产品名称：Automatic SurfaceTensiometer CBVP-Z)。但是，表面张力计并不限制于上述表面张力计。

作为感光性组合物的涂布方法，例如，可以举出印刷法、喷涂法、辊涂法、棒涂法、帘涂法、旋涂法及模涂法(即，狭缝涂布法)。在上述中，作为涂布方法，优选为模涂法。

作为干燥方法，例如，可以举出自然干燥、加热干燥及减压干燥。上述方法能够单独适用或组合多种来适用。

在本发明中，“干燥”并不限定于去除组合物中所包含的溶剂的全部，包括通过去除组合物中所包含的溶剂中至少一部分而使组合物中的溶剂的含量减少的含义来使用。

为了保护感光性组合物层，优选在与转印膜的临时支承体相反一侧的表面设置保护膜。另外，在感光性组合物层上进一步配置折射率调整层的情况下，保护膜配置于保护折射率调整层的位置。

保护膜优选为树脂膜，能够使用具有耐热性及耐溶剂性的树脂膜，例如，可以举出聚丙烯(PP)膜及聚乙烯(PE)膜等聚烯烃膜。并且，作为保护膜还可以使用由与上述临时支承体相同的材料构成的树脂膜。

保护膜的厚度优选为1μm～100μm，更优选为5μm～50μm，进一步优选为5μm～40μm，特别优选为15μm～30μm。保护膜的厚度在上述范围内，从而机械强度优异且操作性良好，并且变得比较便宜，因此优选。

为了容易使保护膜从感光性组合物层或折射率调整层中剥离，优选保护膜与感光性组合物层或折射率调整层之间的粘接力小于临时支承体与感光性组合物层之间的粘接力。

保护膜中所包含的直径为80μm以上的鱼眼数优选为5个/m²以下。另外，“鱼眼”是指，通过对材料进行热熔融、混炼、挤压、二轴延伸、浇铸的方法等来制造膜时，材料的异物、未溶解物质及氧化劣化物等被掺入到膜中而成的物质。

保护膜中所包含的直径3μm以上的粒子的数优选为30个/mm²以下，更优选为10个/mm²以下，进一步优选为5个/mm²以下。由此，保护膜中所包含的粒子引起的凹凸能够抑制通过转印至感光性组合物层或折射率调整层而产生的缺陷。

从赋予卷绕性的观点考虑，保护膜中，与感光性组合物层或折射率调整层接触的面相反一侧的表面的算术平均粗糙度Ra优选为0.01μm以上，更优选为0.02μm以上，进一步优选为0.03μm以上。另一方面，优选小于0.50μm，更优选为0.40μm以下，进一步优选为0.30μm以下。

从抑制转印时的缺陷的观点考虑，保护膜中，与感光性组合物层或折射率调整层接触的面的表面粗糙度Ra优选为0.01μm以上，更优选为0.02μm以上，进一步优选为0.03μm以上。另一方面，优选小于0.50μm，更优选为0.40μm以下，进一步优选为0.30μm以下。

具有临时支承体及在临时支承体上配置的至少一层的感光性组合物层的转印材料(即，干膜光阻)具有保护膜的情况下，能够通过从具有保护膜的转印材料(干膜光阻)剥离保护膜，并且以剥离了保护膜的转印材料的感光性组合物层侧与基材对置的方式与基材(优选为导电性基板的第1透明导电部侧)贴合而在基材上形成感光性组合物层。

将转印材料贴合于基材时的温度并没有特别限制，优选为80℃～150℃，更优选为90℃～150℃，进一步优选为100℃～150℃。使用具备橡胶辊的层压机的情况下，层压温度是指橡胶辊的温度。

作为贴合时的线压，优选为0.5N/cm～20N/cm，更优选为1N/cm～10N/cm，进一步优选为1N/cm～5N/cm。

另外，在导电性基板上贴合转印材料之后，临时支承体可以剥离，也可以不剥离而供给到后述的工序2。

〔工序2〕

工序2是通过散射光从上述感光性组合物层中与设置有上述基材的一侧相反的一侧，对上述感光性组合物层进行图案曝光的工序。

作为工序2，具体而言，例如，可以优选地举出从在上述感光性组合物层中与设置有上述基材的一侧相反的一侧配置的曝光光源，隔着曝光掩膜而对感光性组合物层照射散射光，从而进行图案曝光的工序。

散射光的照射优选在上述感光性组合物层中与设置有上述基材的一侧相反的一侧配置漫透射率为5％以上的散射层及曝光光源，并且从曝光光源隔着散射层来照射散射光。

另外，本发明中的图案曝光是指，以图案状曝光的方式，即，在感光性组合物层中，存在曝光部和非曝光部的方式的曝光。

(曝光光源)

作为本发明中的曝光光源，能够使用公知的曝光光源。作为在上述曝光中使用的曝光光源，只要在感光性转印材料的被曝光处能够照射能够进行化学反应的波长域的光(例如，365nm、405nm等)，则能够适当选定来使用。具体而言，可以举出超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯等。

作为曝光量，优选为5mJ/cm²～200mJ/cm²程度，更优选为10mJ/cm²～100mJ/cm²程度。

另外，图案曝光可以在从感光性树脂层剥离临时支承体之后进行，也可以在剥离临时支承体之前，隔着临时支承体来进行曝光，然后剥离临时支承体，也可以是使临时支承体与曝光掩膜接触而进行曝光的接触曝光。

为了防止由感光性树脂层与掩膜的接触引起的掩膜污染，并且避免由附着于掩膜的异物引起的对曝光的影响，优选在不剥离临时支承体而进行曝光。

(散射层)

在工序2中，优选散射光的照射隔着在曝光光源与感光性组合物层之间配置的漫透射率为5％以上的散射层进行。

另外，以下，有时将“漫透射率为5％以上的散射层”简称为“散射层”。

散射层可以单独设置，也可以使用层叠体的其他层，例如，曝光掩膜的基材、干膜光阻中的临时支承体等中具有散射性的材料来赋予作为散射层的功能。

漫透射率的测量使用光漫透射率的指标。光漫透射率是指，向散射层照射光，在透射散射层的光中，从包含平行成分及扩散成分的全部的光线的总透射率中去除平行成分的扩散光的透射率。

光漫透射率能够根据JIS K 7136“塑胶-透明材料的雾度的计算方法(2000年)”而求出。

即，雾值是指下述式所表示的值，因此，能够通过使用雾度计来求出成为被检体的散射层的漫透射率。

雾度值(雾值)％＝〔漫透射率(Td)/总透光率(Tt)〕×100

作为本发明中的测量装置，采用使用了NIPPON DENSHOKU INDUSTRIES Co.，LTD雾度计NDH7000II的值。

散射层的漫透射率优选为5％以上，更优选为50％以上，进一步优选为70％以上，特别优选为90％以上。漫透射率的上限并没有特别限制，例如，能够设为100％。

散射层的散射角优选为15°以上，更优选为20°以上，进一步优选为20°以上且60°以下，特别优选为20°以上且40°以下。其中，散射角是指，将透射散射层的光的垂直方向作为0°的强度且成为其2分的1的强度的角度为止的宽度(正侧及负侧的合计)。散射角还有时用诸如半峰全角的术语来表示。

散射角能够使用测角仪等来测量。

关于光的散射特性，一般正侧的角度与负侧的角度对称，但在正侧的角度与负侧的角度不对称的情况下，散射角的定义也不改变。

散射角的值根据测量面的朝向而不同的情况下，将其中最大的值设为其散射层的散射角。

散射层只要能够实现上述漫透射率，则并没有特别限制。其中，从容易调整漫透射率，并且容易获得的观点考虑，散射层优选为含有下述基体材料及存在于基体材料中的粒子的散射层(以下，有时称为含有基体材料及粒子的散射层)或者，在至少一个面具有凹凸的散射层。

-含有基体材料及粒子的散射层-

作为本发明的制造方法中所使用的散射层的一方式，可以举出含有基体材料及存在于基体材料中且用于向散射层赋予光散射性的粒子(以下，有时称为特定粒子)的层。

包含特定粒子的散射层优选为特定粒子分散于透明的基体材料中而包含的层。

作为基体材料，可以举出玻璃、石英、树脂材料等。

将玻璃或石英用作基体材料的情况下，只要糅合特定粒子使其在玻璃或石英中均匀地分散，并作为散射层即可。

将树脂材料用作基体材料的情况下，优选为能够形成紫外线透射性的树脂层的树脂，例如，可以举出丙烯酸树脂、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、环氧树脂、氨基甲酸酯树脂、硅酮树脂等。

将树脂材料用作基体材料的情况下，能够通过公知的方法来形成散射层。例如，能够通过对基体材料的树脂颗粒及特定粒子进行熔融混炼，并且利用射出成形而获得板状的散射层。并且，通过固化包含树脂的前体单体及特定粒子的树脂组合物来设为散射层，也可以在包含树脂材料及成为任意成分的溶剂等的混合物中固化混炼有特定粒子的树脂组合物来设为散射层。另外，散射层的形成方法并不限于上述方法。

特定粒子为了向散射层赋予充分的光散射性，基体材料与特定粒子的折射率差优选为0.05以上。折射率差更优选为0.05～1.0的范围，进一步优选为0.05～0.6。

若基体材料与特定粒子的折射率差在上述范围内，则能够增加散射光强度，并且在散射光强度过大时所担忧的由入射光的反射变得过大而引起的能量赋予的降低得到抑制，并且能够赋予使感光性组合物层固化的充分的能量的量。

特定粒子为了向散射层赋予充分的光散射性，特定粒子的尺寸中，平均一次粒径优选为0.3μm以上。特定粒子的平均一次粒径优选为0.3μm～2.0μm的范围，更优选为0.5μm～1.5μm的范围。若平均一次粒径为上述范围，则发生紫外线的米氏散射，前方散射光的强度变大，容易赋予使感光性组合物层固化的充分的能量的量。

特定粒子的平均一次粒径采用通过使用电子显微镜来测量存在于视野角内的任意200个特定粒子的粒径，并且将所测量的数值进行算术平均而计算出的值。

另外，粒子的形状不是球形的情况下，将最长的边作为粒径。

作为特定粒子，例如，可以举出氧化锆粒子(ZrO₂粒子)、氧化铌粒子(Nb₂O₅粒子)、氧化钛粒子(TiO₂粒子)、氧化铝粒子(Al₂O₃粒子)、二氧化硅粒子(SiO₂粒子)等无机粒子、以及交联聚甲基丙烯酸甲酯等有机粒子。

散射层可以仅包含1种特定粒子，也可以包含2种以上。

特定粒子的含量并没有特别限制，优选通过调整散射层中的特定粒子的种类、尺寸、含量、形状、折射率等来实现所希望的漫透射率或者所希望的散射角。

作为特定粒子的含量，例如，相对于散射层的总质量，能够设为5质量％～50质量％。

-在至少一个面具有凹凸的散射层-

作为散射层的另一方式，可以举出在至少一个面具有凹凸的散射层。通过在散射层中的至少一个面具有凹凸，通过凹凸而光被散射，散射光隔着散射层而向感光性组合物层照射。

关于散射层中的凹凸，相邻的凸部与凸部的顶部之间的距离优选为10μm～50μm，更优选为15μm～40μm。

关于凹凸，相邻的凸部与凸部的底部之间接触，从光散射性的观点考虑，优选相邻的凸部与凸部不具有空隙等间隔而密集地形成。

通过制备凸部的尺寸、形状、凸部的每单位面积的形成密度等，能够实现所希望的漫透射率或者所希望的散射角。凸部的形状并没有特别限制，可以根据作为目标的漫透射率、扩散角度等而从半球形、圆锥形、棱锥形、脊状等中适当选择。

在至少一个面具有凹凸的散射层可以使用市售品。作为市售品，例如，可以举出OPTICAL SOLUTIONS Corporation制造、透镜扩散板(注册商标)、产品名称：(以下，相同)LSD5ACUVT10、LSD10ACUVT10、LSD20ACUVT10、LSD30ACUVT10、LSD40ACUVT10、LSD60ACUVT10、LSD80ACUVT10(以上为紫外线透射丙烯酸树脂制)、

透镜扩散板(注册商标)：LSD5AC10、LSD10AC10、LSD20AC10、LSD30AC10、LSD40AC10、LSD60AC10、LSD80AC10(以上为丙烯酸树脂制)、

透镜扩散板(注册商标)：LSD5PC10、LSD10PC10、LSD20PC10、LSD30PC10、LSD40PC10、LSD60PC10、LSD80PC10、LSD60×10PC10、LSD60×1PC10、LSD40×1PC10、LSD30×5PC10(以上为聚碳酸酯制)、

透镜扩散板(注册商标)：LSD5U3PS(以上为石英玻璃制)等。

作为其他散射层，可以举出Nihon Tokushu Kogaku Jushi Co.，Ltd.制造的Flyeye lens FE10、FIT corporation制造的Diffuser、SUNTECHOPT Corpo ration制造的SDXK-1FS，SDXK-AFS、SDXK-2FS、Fillplus，Inc.制造的光扩散膜MX、SHIBUYA OPTICAL CO.，LTD制造的丙烯酸扩散板ADF901、ADF852、ADF803、ADF754、ADF705、ADF656、ADF607、ADF558、ADF509、ADF451、Oji F-Tex Co.，Ltd.制造的Nano buckling(注册商标)、LINTECCorporation制造的光扩散膜HDA060、HAA120、GBA110、DCB200、FCB200、IKA130、EDB200、3MJ apan Limited制造的Scotch Cal(注册商标)光扩散扩散膜3635-30、3635-70、KIMOTOCO.，LTD.制造的Light up(注册商标)SDW、EKW、K2S、LDS、PBU、GM7、SXE、MXE、SP6F、OptSayer(注册商标)L-9、L-11、L-19、L-20、L-35、L-52、L-57、STC3、STE3、Chemical Matte(注册商标)75PWX、125PW、75PB A、75BLB、75PBB、KEIWA Inc.制造的Opulse(注册商标)PBS-689G、PBS-680G、PBS-689HF、PBS-680HG、PBS-670G、UDD-147D2、UDD-148D2、SHBS-227C1、SHBS-228C2、UDD-247D2、PBS-630L、PBS-630A、PBS-632A、BS-539、BS-530、BS-531、BS-910、BS-911、BS-912、Kuraray Co.，Ltd.制造的Legend(注册商标)PC、CL、HC、OC、TR、MC、SQ、EL、OE、TSUJIDEN CO.，LTD.制造的D12OP、D121UPZ、D121UP、D261SIIIJ1、D261IVJ1、D263SIII、S263SIV、D171、D171S、D174S等。

散射层的厚度优选为2mm以下，更优选为1mm以下，进一步优选为100μm以下。

散射层的厚度优选为0.5μm以上，更优选为1μm以上。

散射层的厚度采用通过扫描式电子显微镜(SEM)观察散射层的截面而测量的任意5处的测量值的算术平均值。

散射光的照射不限于经由独立的散射层的光照射。

例如，能够使用曝光掩膜中的除了遮光部以外的层具有光散射性的散射性曝光掩膜、在转印材料中的临时支承体具有光散射性的散射性临时支承体等。例如，使用散射性曝光掩膜时，经由曝光掩膜的光成为散射光。并且，在临时支承体中使用具有光散射性的散射性临时支承体的情况下，将感光性组合物层转印到基材之后，在不剥离散射性临时支承体的情况下进行曝光，从而经由散射性临时支承体的光成为散射光。

在工序2中的散射光的照射中，散射层的配置位置只要是在曝光光源与感光性组合物层之间，则配置位置并没有特别限制。

例如，在上述感光性组合物层中与设置有上述基材的一侧相反的一侧可以依次具有曝光掩膜、漫透射率为5％以上的散射层、曝光光源，在上述感光性组合物层中与设置有上述基材的一侧相反的一侧可以依次具有漫透射率为5％以上的散射层、曝光掩膜、曝光光源。

参考附图，对将散射光隔着散射层进行照射时的散射层的配置位置的例子进行说明。

图3是表示在工序2的光照射中，散射层的配置位置的第1方式的概略剖视图。图3中示出的经曝光的层叠体前体具有基材12、感光性组合物层16、成为临时支承体24的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜及具有遮光区域26A的曝光掩膜26，散射层28在曝光光源(未图示)侧(感光性组合物层16中与设置有基材12的一侧相反的一侧)，以与曝光掩膜26不相互接触的位置配置。

在图3～图8中，照射光的光路由箭头示意性地表示。

如在图3中记载那样，透射散射层28而被散射的散射光由于与感光性组合物层16的法线方向存在角度的状态下进行散射(即，向在相对感光性组合物层16的法线方向而倾斜的方向进行散射)，因此感光性组合物层16中的固化区域中所形成的图案状的固化层16A的侧面相对基材的面方向具有平缓的斜率。图案状的固化层16A的侧面相对基材的面方向的锥角优选为50°以下。

图4是表示在工序2的光照射中，散射层的配置位置的第2方式的概略剖视图。图4中的经曝光的层叠体前体具有与图3中示出的经曝光的层叠体前体相同的层结构。在图4中示出的第2方式中，散射层28与曝光掩膜26接触地配置。

散射层28可以在曝光掩膜26的光源侧的表面通过涂布或贴附等而一体地形成。

在图4中示出的第2方式中，透射散射层28而被散射的散射光向不具有曝光掩膜26的遮光区域26A的区域作为散射光入射，如图4所示，在侧面观察感光性组合物层16中的在固化区域形成的图案状的固化层16A时，相对基材的面方向具有平缓的斜率。图案状的固化层16A在与基材的法线方向平行的截面中，相对基材的面方向的锥角优选为50°以下。

图5是表示在工序2的光照射中，使用成为散射层的配置位置的第3方式的散射性曝光掩膜的一例的概略剖视图。

在图5中示出的第3方式中，作为曝光掩膜，使用漫透射率为5％以上的散射性曝光掩膜32。散射性曝光掩膜32是在散射性的基材的所希望的区域具有遮光区域32A的散射性曝光掩膜32。散射性曝光掩膜的漫透射率如上所述。

在图5中示出的第3方式中，通过感光性组合物层16中与设置有基材12的一侧相反的一侧配置的曝光光源(未图示)照射的光透射散射性曝光掩膜32而成为散射光，由于向感光性组合物层16以相对基材的法线方向具有角度的状态入射，因此如图5所示，在侧面观察感光性组合物层16中的在固化区域形成的图案状的固化层16A时，相对基材的面方向具有平缓的斜率。图案状的固化层16A在与基材的法线方向平行的截面中，相对基材的面方向的锥角优选为50°以下。

图6是表示在工序2的光照射中，散射层的配置位置的第4方式的概略剖视图。第4方式是在感光性组合物层16中与设置有基材12的一侧相反的一侧依次具有成为转印材料的临时支承体24的PET膜、散射层28、曝光掩膜26、曝光光源(未图示)的方式的一例。

散射层28在曝光掩膜26的临时支承体侧的表面可以通过涂布或贴附等而一体地形成，也可以在成为支承体24的PET膜的曝光掩膜侧的表面通过涂布或贴附等而一体地形成。

在图6中示出的第4方式中，经曝光的层叠体前体依次具有基材12、感光性组合物层16、成为临时支承体24的PET膜、散射层28及具有遮光区域26A的曝光掩膜26，从曝光光源(未图示)照射的光入射到曝光掩膜26，并从曝光掩膜26的遮光区域26A的非形成区域作为透射了散射层28的散射光而透射临时支承体24并入射到感光性组合物层16。被照射的光由于从曝光掩膜26的遮光区域26A的非形成区域，作为隔着散射层28的散射光而向感光性组合物层16以存在角度的方式入射，因此如图6所示，感光性组合物层16中的在固化区域形成的图案状的固化层16A的侧面部分相对基材12的面方向具有平缓的斜率。图案状的固化层16A在与基材12的法线方向平行的截面中，相对基材12的面方向的锥角优选为50°以下。

图7是表示在工序2的光照射中，成为散射层的配置位置的第5方式的、在转印材料中使用光散射性临时支承体的一例的概略剖视图。

在图7中示出的第5方式中，示出在基材12上配置感光性组合物层16时所使用的转印材料，即在临时支承体上，在具有感光性组合物层16的转印材料中，作为临时支承体，使用漫透射率为5％以上的散射性临时支承体34的一例。散射性临时支承体34的漫透射率如上所述。

在图7中示出的第5方式中，由于将临时支承体设为散射性临时支承体34，因此不需要另外配置散射层，能够以更简单的结构实现本发明的制造方法。

作为散射性临时支承体34，只要使用与上述的散射层相同的临时支承体即可，例如，含有作为树脂或树脂前体的聚合性化合物等基体材料及特定粒子的临时支承体、在单面具有凹凸且具有散射性的临时支承体等。关于基体材料、特定粒子及凹凸的详细内容，如上所述。

在第5方式中，从曝光掩膜26的遮光区域26A的非形成区域入射的光透射散射性临时支承体34并作为散射光而向感光性组合物层16入射。在第5方式中，由于照射光作为散射光而向感光性组合物层16以存在角度的方式散射，因此如图7所示，感光性组合物层16中的在固化区域形成的图案状的固化层16A的侧面部分相对基材12的面方向具有平缓的斜率。图案状的固化层16A在与基材12的法线方向平行的截面中，相对基材12的面方向的锥角优选为50°以下。

图8是表示在工序2的光照射中，散射层的配置位置的第6方式的概略剖视图。在图8中示出的第6方式中，散射层28设置于成为临时支承体24的PET膜与感光性组合物层16之间。在第6方式中，在成为临时支承体24的PET膜与感光性组合物层16之间具有散射层28。

在第6方式中示出的经曝光的层叠体前体作为用于将感光性组合物层16形成于基材12上的转印材料，能够在作为临时支承体的PET膜24上使用依次具有散射层28及感光性组合物层16的转印材料来形成。

在形成第6方式中示出的经曝光的层叠体前体的情况下，只要通过在形成转印材料时，在临时支承体24上涂布含有作为树脂或树脂前体的聚合性化合物等基体材料及特定粒子的散射层形成组合物而形成散射层，然后，通过公知的方法形成感光性组合物层即可。关于基体材料及特定粒子的详细内容，如上所述。

在第6方式中示出的经曝光的层叠体前体中，从曝光光源(未图示)照射的光如图8所示那样，隔着曝光掩膜26而从曝光掩膜26的遮光区域26A的非形成区域作为直线光而入射，并且透射在临时支承体24与感光性组合物层16之间配置的散射层28而作为散射光向感光性组合物层16入射。在第6方式中，由于照射光作为散射光而向感光性组合物层16以存在角度的方式散射，因此如图8所示，感光性组合物层16中的在固化区域形成的图案状的固化层16A的侧面部分相对基材12的面方向具有平缓的斜率。图案状的固化层16A在与基材12的法线方向平行的截面中，相对基材12的面方向的锥角优选为50°以下。

在任意方式中，在本发明的制造方法中，散射光从曝光光源隔着曝光掩膜对感光性组合物层以图案状照射。因此，感光性组合物层中的在固化区域形成的图案状的固化层的侧面部分相对基材的面方向具有平缓的斜率，不容易成为斜率陡的侧面，因此能够形成具有上述的各种优点的层叠体。

在曝光后为了提高图案的平直度，也优选在工序3之前进行热处理。通过被称为所谓的PEB(Post Exposure Bake：曝光后烘烤)的工序，能够降低曝光时在感光性组合物层中产生的由驻波引起的图案边缘的粗糙。

〔工序3〕

工序3是通过对经图案曝光的感光性组合物层实施显影处理而形成图案状的固化层的工序。

通过实施工序3，在导电性基板上形成图案状的固化层，在图案状的固化层之间，例如成为透明导电膜的接触孔。

作为使用于显影的显影液，能够适用公知的显影液。作为显影液，例如，可以举出日本特开平5-072724号公报中记载的显影液。

作为显影液，优选为碱性水溶液。作为碱性水溶液中能够包含的碱性化合物，例如，可以举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵及胆碱(2-羟基氢氧化乙基三甲基铵)。

碱性水溶液在25℃下的pH优选为8～13，更优选为9～12，进一步优选为10～12。

碱性水溶液中的碱性化合物的含量相对于碱性水溶液的总质量优选为0.1质量％～5质量％，更优选为0.1质量％～3质量％。

显影液可以包含对水具有混和性的有机溶剂。

作为有机溶剂，例如，可以举出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁醚、苄基醇、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺及N-甲基吡咯啶酮。

显影液中的有机溶剂的浓度优选为0.1质量％～30质量％。

显影液可以包含表面活性剂。

显影液中的表面活性剂的浓度优选为0.01质量％～10质量％。

作为显影的方式，例如，可以举出水坑式显影、喷淋显影、旋转显影及浸渍显影等方式。

进行显影时的显影液的液体温度优选为20℃～40℃。

在进行喷淋显影时，通过以喷淋状对图案曝光后的感光性组合物层吹送显影液来去除一部分感光性组合物层。

并且，也优选在显影之后，通过喷淋来吹送清洗剂等，并用通过刷子等来擦拭以去除显影残渣。

经工序3形成的图案状的固化层的侧面部分的形状，即，具有固化层的部分的壁面相对基材的面方向具有平缓的斜率。

具有图案状的固化层的部分的壁面相对基材的面方向的锥角优选为50°以下，更优选为40°以下，进一步优选为30°以下。

锥角的下限并没有特别限制，在考虑到作为接触孔的功能时，能够设为10°以上。

参考图9对本发明中的图案状的固化层16A的侧面的锥角的测量方法进行说明。

如图9所示，从形成于基材12上的通过图案状的固化层16A而形成的接触孔充分分离的平坦区域的膜厚设为h。其中，经工序3形成的图案状的固化层的膜厚是在工序3之后，实施根据需要进行的包括后烘烤、后曝光等的所有工序之后，在实施后述工序4之前的状态下进行测量的。

所形成的图案状的固化层16A中，将相对于上述平坦区域的膜厚h而固化层16A的厚度为0.9h的点设为A。并且，检测固化层16A的厚度为0.1h的点，将从这一点向固化层16A的底面垂直地向下的虚拟线与固化层16A的底面的交点设为B。

在图9中，以直线连接在上述确定的点A和点B的虚拟线〔图9中的虚线〕与固化层16A的底面形成的角α设为固化层16A的锥角。

图案状的固化层的厚度通过利用扫描式电子显微镜(SEM)观察图案状的固化层的截面来测量。基于厚度的锥角的测量(计算)在层叠体的不同的任意5处进行，将所获得的值的算术平均设为图案状的固化层的锥角。

工序3除了包括进行基于上述显影液的显影的工序，而且可以进一步包括将通过显影而形成的图案状的固化层进行加热处理的工序。以下，有时将显影后的加热处理称为“后烘烤”。通过进行后烘烤而固化层的强度得到进一步提高。

基材是树脂基材的情况下，作为后烘烤的温度，优选为100℃～160℃，更优选为130℃～160℃。

被供给到固化层的形成的感光性组合物层包含具有羧基的(甲基)丙烯酸树脂的情况下，能够通过后烘烤而将上述(甲基)丙烯酸树脂中的至少一部分变更为羧酸酐。变更为羧酸酐，则固化层的强度变得更良好。

工序3除了包括进行基于上述显影液的显影的工序，而且可以包括将通过显影而获得的图案状的固化层进行曝光的工序。以下，有时将显影后的曝光处理称为“后曝光”。工序3包含进行后曝光的工序及进行后烘烤的工序这两者的情况下，优选在曝光之后实施后烘烤。

关于图案曝光及显影等，例如，能够参考日本特开2006-023696号公报的[0035]～[0051]段的记载。

在工序3中，通过图案状的固化层而形成的开口部(即，接触孔)的形状并没有特别限制，可以举出圆形状、椭圆形状、多边形状、细线状及无定形状。其中，优选为圆形状或椭圆形状，优选形成所谓孔图案。

通过进行工序1～工序3，能够获得对透明导电膜具有适当的图案状的固化层的层叠体。

本发明的制造方法除了工序1～工序3以外，可以进一步包括任意其他工序。

〔工序4〕

本发明的制造方法在工序3之后能够进一步包括在图案状的固化层上形成第2透明导电部的工序4。

在利用本发明的制造方法获得的层叠体中，通过在图案状的固化层上形成第2透明导电部，能够获得如图1中示出的层结构的透明导电膜。

第2透明导电部优选为选自ITO膜及IZO膜等透明导电膜、Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo、Ag及Au等的金属膜、铜镍合金等多个金属的合金膜中的膜。其中，从透明性良好的观点考虑，优选第2透明导电部由ITO膜及IZO膜等透明导电膜构成。

从导电性及透明性的观点考虑，第2透明导电部的厚度优选为0.01μm～1μm，更优选为0.03μm～0.5μm。

第2透明导电部的厚度以与第1透明导电部相同的方式测量。

作为第2透明导电部的形成方法，能够适用公知的方法。作为形成方法，例如，可以举出溅射法、以及通过涂布法而在图案状的固化层上形成膜之后，利用公知的方法蚀刻预定区域的方法。

通过本发明的制造方法而获得的层叠体中的图案状的固化层由于侧面的倾斜平缓，因此即使在通过溅射法而形成透明导电部时，与具有较陡的侧面的图案状的固化层比较时，由于由角部的存在引起的断线的产生得到抑制，因此优选。

在工序4中，在形成第2透明导电部之后，如图1所示，可以进一步具有形成作为保护层的透明树脂层20的工序。从改进可见性的观点考虑，优选在透明树脂层的第2透明导电部侧具有折射率调整层。透明树脂层优选为通过固化与本发明的制造方法中所使用的感光性组合物相同的组合物而得的膜。

通过本发明的制造方法而获得的图案状保护层由于侧面的倾斜平缓，因此具有如下优点，即，变得容易抑制层压透明树脂层20时的底面的角部中的气泡的卷入。

将通过本发明的制造方法而获得的层叠体适用于触摸面板传感器的情况下，上述第1透明导电部及第2透明导电部能够作为所谓的传感器电极发挥作用。

图案状的固化层及透明树脂层优选为无色。具体而言，在全反射(入射角8°、光源：D-65(2°视场))为CIE1976(L*，a*，b*)颜色空间中，L*值优选为10～90，a*值优选为-1.0～1.0，b*值优选为-1.0～1.0。

以下，关于基材、第1透明导电部及感光性组合物层等进行详细说明。

(基材)

本发明的层叠体中能够使用的基材的种类并没有特别限制。

考虑到透明导电膜的使用目的时，优选为透明基材。

作为基材，优选为玻璃基材或树脂基材，更优选为树脂基材。因此，作为基材，更优选为透明的树脂基材。

作为玻璃基材，例如，可以举出Corning Incorporated Co.，Ltd.的GorillaGlass(注册商标)等强化玻璃。

作为树脂基材，优选使用选自无光学变形的树脂基材及透明度高的树脂基材中的基材。

作为构成树脂基材的优选的树脂，例如，可以举出聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、三乙酰基纤维素(TAC)、聚酰亚胺(PI)、聚苯撑并噁唑(PBO)及环烯烃聚合物(COP)。

作为透明的树脂基材的材质，例如优选为日本特开2010-086684号公报、日本特开2010-152809号公报或日本特开2010-257492号公报中记载的材质。

(第1透明导电部)

在第1透明导电部中所包含的材料中，只要是能够赋予所需要的导电性的导电性材料，则并没有特别限制。

作为导电性材料，例如，可以举出氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌铝(AZO)及银奈米线。

第1透明导电部为通过金属氧化物而形成的情况下，折射率优选为1.50～2.20，更优选为1.70～2.00。

作为第1透明导电部的形成方法，能够适用公知的方法。作为形成方法，例如，可以举出溅射法及涂布法。

从导电性及透明性的观点考虑，第1透明导电部的厚度优选为0.01μm～1μm，更优选为0.03μm～0.5μm。

第1透明导电部的厚度采用通过扫描式电子显微镜(SEM)观察第1透明导电部的截面而测量的任意5处的测量值的算术平均值。

基材上的第1透明导电部的配置位置并没有特别限制，可以根据目的适当配置。优选在基材上配置有多个第1透明导电部。更具体而言，优选在基材上多个第1透明导电部离散配置。优选通过后述的第2导电部而离散配置的透明导电部彼此电连接。

(感光性组合物层)

感光性组合物层能够设为通过光而感光并固化的感光性组合物层。本发明中的感光性组合物层可以设为所谓负型的感光性组合物层(固化型感光性组合物层)。

感光性组合物层可以包含聚合性化合物、聚合引发剂及其他成分。

-聚合性化合物-

感光性组合物层优选包含聚合性化合物。

聚合性化合物是具有聚合性基团的化合物。作为聚合性基团，可以举出自由基聚合性基团及阳离子聚合性基团，从固化灵敏度更良好的观点考虑，优选为自由基聚合性基团。

聚合性化合物优选包含具有烯属不饱和基团的聚合性化合物(以下，还简称为“烯属不饱和化合物”。)。

作为烯属不饱和基团，优选为(甲基)丙烯酰基。

烯属不饱和化合物优选包含2官能以上的烯属不饱和化合物。其中，“2官能以上的烯属不饱和化合物”是指，一分子中具有2个以上的烯属不饱和基团的化合物。

作为烯属不饱和化合物，优选为(甲基)丙烯酸酯化合物。

作为烯属不饱和化合物，例如，从固化后的膜强度的观点考虑，优选包含2官能的烯属不饱和化合物(优选为2官能的(甲基)丙烯酸酯化合物)及3官能以上的烯属不饱和化合物(优选为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物)。

作为2官能的烯属不饱和化合物，例如，可以举出三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二乙醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、二噁烷乙二醇二(甲基)丙烯酸酯及1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯。

作为2官能的烯属不饱和化合物的市售品，例如，可以举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯〔产品名称：NK Ester A-DCP、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造〕、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯〔产品名称：NK Ester DCP、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造〕、1，9-壬二醇二丙烯酸酯〔产品名称：NK Ester A-NOD-N、Shin-Nakamura ChemicalCo.，Ltd.制造〕、1，10-癸工醇二丙烯酸酯〔产品名称：NK Ester A-DOD-N、Shin-NakamuraChemical Co.，Ltd.制造〕及1，6-己二醇二丙烯酸酯〔产品名称：NK Ester A-HD-N、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造〕、二噁烷乙二醇二丙烯酸酯(Nippon KayakuCo.，Ltd.制造KAYARAD R-604)。

作为3官能以上的烯属不饱和化合物，例如，可以举出二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、异三聚氰酸(甲基)丙烯酸酯及甘油三(甲基)丙烯酸酯。

其中，“(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯”是包含三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯及六(甲基)丙烯酸酯的概念。并且，“(三/四)(甲基)丙烯酸酯”是包含三(甲基)丙烯酸酯及四(甲基)丙烯酸酯的概念。

作为3官能以上的烯属不饱和化合物，官能团数的上限并没有特别限制，例如，能够设为20官能以下，还能够设为15官能以下。

作为3官能以上的烯属不饱和化合物的市售品，例如，可以举出二季戊四醇六丙烯酸酯〔产品名称：KAYARAD DPHA、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造〕。

烯属不饱和化合物更优选包含1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯或1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯及二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯。

作为烯属不饱和化合物，还可以举出(甲基)丙烯酸酯化合物的己内酯改性化合物〔Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造的KAYARAD(注册商标)DPCA-20、Shin-Nakamura ChemicalCo.，Ltd.制造的A-9300-1CL等〕、(甲基)丙烯酸酯化合物的环氧烷改性化合物〔NipponKayaku Co.，Ltd.制造的KAYARAD(注册商标)RP-1040、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造的ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.的EBECRYL(注册商标)135等〕及乙氧基化三丙烯酸甘油酯〔Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造的NK Ester A-GLY-9E等〕。

作为烯属不饱和化合物，还可以举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。作为氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，优选为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。作为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，例如，可以举出8UX-015A〔TAISEIFINE CHEMICAL CO，.LTD.制造〕、NK Ester UA-32P〔Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造〕及NK Ester UA-1100H〔Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造〕。

从提高显影性的观点考虑，烯属不饱和化合物优选包含具有酸根的烯属不饱和化合物。

作为酸根，例如，可以举出磷酸根、磺酸根及羧基。在上述中，作为酸根，优选为羧基。

作为具有酸根的烯属不饱和化合物，可以举出具有酸根的3官能～4官能的烯属不饱和化合物〔向季戊四醇三及四丙烯酸酯(PETA)骨架导入了羧基而得的化合物(酸值：80KOH/g～120mgKOH/g)〕及具有酸根的5～6官能的烯属不饱和化合物〔向二季戊四醇五丙烯酸酯及二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)骨架导入了羧基而得的化合物(酸值：25KOH/g～70mgKOH/g)〕。具有酸根的3官能以上的烯属不饱和化合物可以根据需要而干具有酸根的2官能的烯属不饱和化合物。

作为具有酸根的烯属不饱和化合物，优选为选自具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物及其羧酸酐中的至少一种化合物。若具有酸根的烯属不饱和化合物为选自具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物及其羧酸酐中的至少一种化合物，则显影性及膜强度得到进一步提高。

作为具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物，可以举出ARONIX(注册商标)TO-2349〔TOAGOSEI CO.，LTD.制造〕、ARONIX(注册商标)M-520〔TOA GOSEI CO.，LTD.制造〕及ARONIX(注册商标)M-510〔TOAGOSEI CO.，LTD.制造〕。

作为具有酸根的烯属不饱和化合物，能够优选地使用具有日本特开2004-239942号公报的[0025]～[0030]段中记载的酸根的聚合性化合物，该公报中记载的内容可以通过参考而编入到本说明书中。

烯属不饱和化合物的分子量优选为200～3,000，更优选为250～2,600，进一步优选为280～2,200，特别优选为300～2,200。

烯属不饱和化合物中，分子量为300以下的烯属不饱和化合物的含量相对于感光性组合物层中所包含的所有烯属不饱和化合物的含量优选为30质量％以下，更优选为25质量％以下，进一步优选为20质量％以下。

感光性组合物层可以单独包含1种烯属不饱和化合物，也可以包含2种以上的烯属不饱和化合物。

烯属不饱和化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量优选为1质量％～70质量％，更优选为10质量％～70质量％，进一步优选为20质量％～60质量％，特别优选为20质量％～50质量％。

感光性组合物层包含2官能以上的烯属不饱和化合物的情况下，可以进一步包含单官能烯属不饱和化合物。

感光性组合物层包含2官能以上的烯属不饱和化合物的情况下，优选在感光性组合物层中所包含的烯属不饱和化合物中，2官能以上的烯属不饱和化合物为主成分。

感光性组合物层包含2官能以上的烯属不饱和化合物的情况下，2官能以上的烯属不饱和化合物的含量相对于感光性组合物层中所包含的所有烯属不饱和化合物的含量优选为60质量％～100质量％，更优选为80质量％～100质量％，进一步优选为90质量％～100质量％。

感光性组合物层包含具有酸根的烯属不饱和化合物(优选为具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物或其羧酸酐)的情况下，具有酸根的烯属不饱和化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量优选为1质量％～50质量％，更优选为1质量％～20质量％，进一步优选为1质量％～10质量％。

-聚合引发剂-

感光性组合物层优选包含聚合引发剂。

作为聚合引发剂，可以举出热聚合引发剂、光聚合引发剂，优选为光聚合引发剂。

作为光聚合引发剂，例如，可以举出具有肟酯结构的光聚合引发剂(以下，也称为“肟系光聚合引发剂”。)、具有α-氨基烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，也称为“α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂”。)、具有α-羟基烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，也称为“α-羟基烷基苯酮系聚合引发剂”。)、具有酰基氧化膦结构的光聚合引发剂(以下，也称为“酰基氧化膦系光聚合引发剂”。)及具有N-苯基甘胺酸结构的光聚合引发剂(以下，也称为“N-苯基甘胺酸系光聚合引发剂”。)。

光聚合引发剂优选包含选自肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂、α-羟基烷基苯甲酮系聚合引发剂及N-苯基甘胺酸系光聚合引发剂中的至少一种，更优选包含选自肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂及N-苯基甘胺酸系光聚合引发剂中的至少一种。

并且，作为光聚合引发剂，例如，还可以使用日本特开2011-095716号公报的[0031]～[0042]段及日本特开2015-014783号公报的[0064]～[0081]段中所记载的聚合引发剂。

作为光聚合引发剂的市售品，例如，可以举出1-[4-(苯硫基)苯基]-1，2-辛二酮-2-(邻苯甲酰基肟)〔产品名称：IRGACURE(注册商标)OXE-01、BASF公司制造〕、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(邻乙酰肟)〔产品名称：IRGACURE(注册商标)OXE-02、BASF公司制造〕、[8-[5-(2，4，6-三甲基苯基)-11-(2-乙基己基)-11H-苯并[a]咔唑基][2-(2，2，3，3-四氟丙氧基)苯基]甲酮-(邻乙酰肟)〔产品名称：IRGACURE(注册商标)OXE-03、BASF公司制造〕、1-[4-[4-(2-苯并呋喃基羰基)苯基]硫]苯基]-4-甲基-1-戊酮-1-(邻乙酰肟)〔产品名称：IRGACURE(注册商标)OXE-04、BASF公司制造〕、2-(二甲氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-口末啉基)苯基]-1-丁酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)379EG、BASF公司制造〕、2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-口末啉代丙烷-1-酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)907、BASF公司制造〕、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苄基]苯基}-2-甲基丙-1-酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)127、BASF公司制造〕、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-口末啉代苯基)-丁酮-1〔产品名称：IRGACURE(注册商标)369、BASF公司制造〕、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)1173、BASF公司制造〕、1-羟基环己基苯基酮〔产品名称：I RGACURE(注册商标)184、BASF公司制造〕、2，2-二甲氧基-1，2-二苯乙烷1-酮〔产品名称：IRGACURE 651、BASF公司制造〕及肟酯系化合物〔产品名称：Lunar(注册商标)6、DKSH JAPAN K.K.制造〕、1-(联苯-4-基)-2-甲基-2-口末啉代丙烷-1-酮〔产品名称APi-307(注册商标)、Shenzhen UV-ChemTech LTD制造〕、1-[4-(苯硫基)苯基]-3-环戊基丙烷-1，2-二酮-2-(邻苯甲酰基肟)〔产品名称：TR-PBG-305、Chang zhouTronly New Electronic Materials CO.，LTD.制造〕、3-环己基-1-[9-乙基-6-(2-呋喃基羰基)-9H-咔唑-3-基]-1，2-丙烷二酮-2-(邻乙酰肟)〔产品名称：TR-PBG-326、ChangzhouTronly New Electronic Materials C0.，LTD.制造〕、3-环己基-1-(6-(2-(苯甲酰氧基亚氨基)己酰基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基)丙烷-1，2-二酮-2-(邻苯甲酰基肟)〔产品名称：TR-PBG-391、Changzhou Tronly New Flectronic Materials CO.，LTD.制造〕。

感光性组合物层可以单独包含1种光聚合引发剂，也可以包含2种以上的光聚合引发剂。

光聚合引发剂的含量相对于感光性组合物层的总质量优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上。并且，光聚合引发剂的含量的上限相对于感光性组合物层的总质量优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下。

-碱溶性树脂-

感光性组合物层可以包含碱溶性树脂。作为碱溶性树脂并没有特别限制。例如，可以举出丙烯酸树脂、酚醛树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂、聚苯撑并噁唑树脂、聚苯乙烯树脂等，在这些之中，优选为丙烯酸树脂。

-碱溶性丙烯酸树脂-

感光性组合物层可以包含碱溶性丙烯酸树脂。

感光性组合物层通过包含碱溶性丙烯酸树脂来提高感光性组合物层(非曝光部)对显影液的溶解性。

在本发明中，“碱溶性”是指，利用以下方法求得的溶解速度为0.01μm/秒以上。

将对象化合物(例如，树脂)的浓度为25质量％的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液涂布于玻璃基板上，接着，用100℃的烘箱加热3分钟，从而形成上述化合物的涂膜(厚度2.0μm)。通过将上述涂膜浸渍于碳酸钠的1质量％水溶液(液温30℃)而求出上述涂膜的溶解速度(μm/秒)。

另外，对象化合物不溶解于丙二醇单甲醚乙酸酯的情况下，使对象化合物溶解于除了丙二醇单甲醚乙酸酯以外的沸点小于200℃的有机溶剂(例如，四氢呋喃、甲苯或乙醇)中。

作为碱溶性丙烯酸树脂，只要是具有在上述中说明的碱溶性的丙烯酸树脂则并不受限制。其中，“丙烯酸树脂”是指包含来自于(甲基)丙烯酸的构成单元及来自于(甲基)丙烯酸酯的构成单元中的至少一个的树脂。

碱溶性丙烯酸树脂中的来自于(甲基)丙烯酸的构成单元及来自于(甲基)丙烯酸酯的构成单元的合计比例优选为30摩尔％以上，更优选为50摩尔％以上。

在本发明中，由摩尔分率(摩尔比例)来规定“构成单元”的含量的情况下，只要没有特别指定，则设为上述“构成单元”的含义与“单体单元”相同。并且，在本发明中，树脂或聚合物具有2种以上的特定的构成单元的情况下，只要没有特别说明，则上述特定的构成单元的含量设为表示上述2种以上的特定的构成单元的总含量。

从显影性的观点考虑，碱溶性丙烯酸树脂优选具有羧基。作为将羧基导入到碱溶性丙烯酸树脂的方法，例如，可以举出使用具有羧基的单体来合成碱溶性丙烯酸树脂的方法。通过上述方法，具有羧基的单体作为具有羧基的构成单元而被导入到碱溶性丙烯酸树脂。作为具有羧基的单体，例如，可以举出丙烯酸及甲基丙烯酸。

碱溶性丙烯酸树脂可以具有1个羧基，也可以具有2个以上的羧基。并且，碱溶性丙烯酸树脂中的具有羧基的构成单元可以为单独1种，也可以为2种以上。

具有羧基的构成单元的含量相对于碱溶性丙烯酸树脂的总量优选为5摩尔％～50摩尔％，更优选为5摩尔％～40摩尔％，进一步优选为10摩尔％～30摩尔％。

从固化后的透湿度及强度的观点考虑，碱溶性丙烯酸树脂优选具备具有芳香环的构成单元。作为具有芳香环的构成单元，优选为来自于苯乙烯化合物的构成单元。

作为形成具有芳香环的构成单元的单体，例如，可以举出形成来自于苯乙烯化合物的构成单元的单体及苄基(甲基)丙烯酸酯。

作为形成来自于上述苯乙烯化合物的构成单元的单体，例如，可以举出苯乙烯、对甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、α，对二甲基苯乙烯、对乙基苯乙烯、对叔丁基苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯及1，1-二苯基乙烯，优选为苯乙烯或α-甲基苯乙烯，更优选为苯乙烯。

碱溶性丙烯酸树脂中的具有芳香环的构成单元可以为单独1种，也可以为2种以上。

碱溶性丙烯酸树脂具备具有芳香环的构成单元的情况下，具有芳香环的构成单元的含量相对于碱溶性丙烯酸树脂的总量优选为5摩尔％～90摩尔％，更优选为10摩尔％～90摩尔％，进一步优选为15摩尔％～90摩尔％。

碱溶性丙烯酸树脂能够包含具有链状结构的构成单元。链状结构可以是直链状，也可以是支链状。

从粘性及固化后的强度的观点考虑，碱溶性丙烯酸树脂优选包含具有脂肪族环式骨架的构成单元。

作为脂肪族环式骨架中的脂肪族环，可以是单环，也可以是多环，例如，可以举出二环戊烷环、环己烷环、异硼环及三环癸烷环。上述中，作为脂肪族环式骨架中的脂肪族环，优选为三环癸烷环。

作为形成具有脂肪族环式骨架的构成单元的单体，例如，可以举出(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯及异莰(甲基)丙烯酸酯。

碱溶性丙烯酸树脂中的具有脂肪族环式骨架的构成单元可以为单独1种，也可以为2种以上。

碱溶性丙烯酸树脂具备具有脂肪族环式骨架的构成单元的情况下，具有脂肪族环式骨架的构成单元的含量相对于碱溶性丙烯酸树脂的总量优选为5摩尔％～90摩尔％，更优选为10摩尔％～80摩尔％，进一步优选为10摩尔％～70摩尔％。

从粘性及固化后的强度的观点考虑，碱溶性丙烯酸树脂优选具有反应性基团。

作为反应性基团，优选为自由基聚合性基团，更优选为烯属不饱和基团。并且，碱溶性丙烯酸树脂具有烯属不饱和基团的情况下，碱溶性丙烯酸树脂优选具有在侧链具有烯属不饱和基团的构成单元。

在本发明中，“主链”表示在构成树脂的高分子化合物的分子中相对最长的键合链，“侧链”表示从主链分支的原子团。

作为烯属不饱和基团，优选为(甲基)丙烯酸基或(甲基)丙烯酰氧基，更优选为(甲基)丙烯酰氧基。

碱溶性丙烯酸树脂中的具有烯属不饱和基团的构成单元可以为单独1种，也可以为2种以上。

碱溶性丙烯酸树脂具备具有烯属不饱和基团的构成单元的情况下，具有烯属不饱和基团的构成单元的含量相对于碱溶性丙烯酸树脂的总量优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～50摩尔％，进一步优选为15摩尔％～40摩尔％。

作为将反应性基团导入到碱溶性丙烯酸树脂的手段，可以举出使羟基、羧基、伯氨基、仲氨基、乙酰乙酰基及磺酸基等与环氧化合物、嵌段异氰酸酯化合物、异氰酸酯化合物、乙烯砜化合物、醛化合物、羟甲基及羧酸酐等反应的方法。

作为将反应性基团导入到碱溶性丙烯酸树脂的手段的优选例，可以举出通过聚合反应来合成具有羧基的碱溶性丙烯酸树脂之后，通过聚合物反应来使碱溶性丙烯酸树脂的羧基的一部分与(甲基)丙烯酸缩水甘油酯反应，从而将(甲基)丙烯酰氧基导入到碱溶性丙烯酸树脂的手段。通过上述手段，能够获得在侧链具有(甲基)丙烯酰氧基的碱溶性丙烯酸树脂。

上述聚合反应优选在70℃～100℃的温度条件下进行，更优选在80℃～90℃的温度条件下进行。作为使用于上述聚合反应的聚合引发剂，优选为偶氮系引发剂，例如更优选为FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造的V-601(产品名称)或V-65(产品名称)。并且，上述聚合物反应优选在80℃～110℃的温度条件下进行。在上述聚合物反应中，优选使用铵盐等催化剂。

碱溶性丙烯酸树脂的重均分子量(Mw)优选为10,000以上，更优选为10,000～100,000，进一步优选为15,000～50,000。

从显影性的观点考虑，碱溶性丙烯酸树脂的酸值优选为50mgKOH/g以上，更优选为60mgKOH/g以上，进一步优选为70mgKOH/g以上，特别优选为80mgKOH/g以上。在本发明中，碱溶性丙烯酸树脂的酸值是根据JIS K0070：1992中记载的方法进行测量的值。

从抑制经曝光的感光性组合物层(曝光部)溶解于显影液的观点考虑，碱溶性丙烯酸树脂的酸值的上限优选为200mgKOH/g以下，更优选为150mgKOH/g以下。

以下，示出碱溶性丙烯酸树脂的具体例。另外，下述碱溶性丙烯酸树脂中的各构成单元的含有比率(摩尔比)能够根据目的而在上述优选的Mw的范围内进行适当设定。

[化学式1]

[化学式2]

[化学式3]

[化学式4]

[化学式5]

感光性组合物层可以包含单独1种的碱溶性丙烯酸树脂，也可以包含2种以上的碱溶性丙烯酸树脂。

从显影性的观点考虑，碱溶性丙烯酸树脂的含量相对于感光性组合物层的总质量优选为10质量％～90质量％，更优选为20质量％～80质量％，进一步优选为25质量％～70质量％。

-包含具有羧酸酐结构的构成单元的聚合物-

感光性组合物层可以进一步含有包含具有羧酸酐结构的构成单元的聚合物(以下，也称为“聚合物B”。)来作为粘合剂。通过感光性组合物层含有聚合物B而能够提高显影性及固化后的强度。

羧酸酐结构可以是链状羧酸酐结构及环状羧酸酐结构中的任一种，优选为环状羧酸酐结构。

作为环状羧酸酐结构的环，优选为5元环～7元环，更优选为5元环或6元环，进一步优选为5元环。

具有羧酸酐结构的构成单元优选为在主链中包含从下述式P-1所表示的化合物中去除2个氢原子而得的2价的基团的构成单元或从下述式P-1所表示的化合物中去除1个氢原子而得的1价的基团直接或经由2价的连结基团而键合于主链的构成单元。

[化学式6]

式P-1中，R^A1a表示取代基，n^1a个R^A1a可以相同，也可以不同，Z^1a表示形成包含-C(＝O)-O-C(＝O)-的环的2价的基团，n^1a表示0以上的整数。

作为R^A1a所表示的取代基，例如，可以举出烷基。

作为Z^1a，优选为碳原子数2～4的亚烷基，更优选为碳原子数2或3的亚烷基，进一步优选为碳原子数2的亚烷基。

n^1a表示0以上的整数。Z^1a表示碳原子数2～4的亚烷基的情况下，n^1a优选为0～4的整数，更优选为0～2的整数，进一步优选为0。

n^1a表示2以上的整数的情况下，存在多个的R^A1a可以相同也可以不同。并且，存在多个的R^A1a可以相互键合而形成环，但是，优选相互键合而不形成环。

作为具有羧酸酐结构的构成单元，优选为来自于不饱和羧酸酐的构成单元，更优选为来自于不饱和环式羧酸酐的构成单元，进一步优选为来自于不饱和脂肪族环式羧酸酐的构成单元，特别优选为来自于马来酸酐或衣康酸酐的构成单元，最优选为来自于马来酸酐的构成单元。

聚合物B中的具有羧酸酐结构的构成单元可以为单独1种，也可以为2种以上。

具有羧酸酐结构的构成单元的含量相对于聚合物B的总量优选为0摩尔％～60摩尔％，更优选为5摩尔％～40摩尔％，进一步优选为10摩尔％～35摩尔％。

感光性组合物层可以单独包含1种聚合物B，也可以包含2种以上的聚合物B。

感光性组合物层包含聚合物B的情况下，从显影性及固化后的强度的观点考虑，聚合物B的含量相对于感光性组合物层的总质量优选为0.1质量％～30质量％，更优选为0.2质量％～20质量％，进一步优选为0.5质量％～20质量％，特别优选为1～20质量％。

-表面活性剂-

感光性组合物层能够包含表面活性剂。

作为表面活性剂，例如，可以举出日本专利第4502784号公报的[0017]段及日本特开2009-237362号公报的[0060]～[0071]段中记载的表面活性剂。

作为表面活性剂，可以举出氟系表面活性剂、硅系表面活性剂(还称为硅酮系表面活性剂)、非离子系表面活性剂等，优选为氟系表面活性剂或硅酮系表面活性剂。

作为氟系表面活性剂的市售品，例如，可以举出Megaface(注册商标)F-171、F-172、F-173、F-176、F-177、F-141、F-142、F-143、F-144、F-437、F-475、F-477、F-479、F-482、F-551-A、F-552、F-554、F-555-A、F-556、F-557、F-558、F-559、F-560、F-561、F-565、F-563、F-568、F-575、F-780、EXP、MFS-330、R-41、R-41-LM、R-01、R-40、R-40-LM、RS-43、TF-1956、RS-90、R-94、RS-72-K、DS-21(以上为DIC Corporation制造)、Fluorad(注册商标)FC430、FC431、FC171(以上为Sumitomo 3M Limited制造)、Surflon(注册商标)S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上为AGC Inc.制造)、PolyFox(注册商标)PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上为OMNOVA Solutions Inc.制造)、FTERGENT(注册商标)710FM、610FM、601AD、601ADH2、602A、215M、245F(以上为NEOSCorporation制造)等。

作为氟系表面活性剂，还能够适当地使用丙烯酸系化合物，该丙烯酸系化合物为具有具备含有氟原子的官能团的分子结构，且施加热时含有氟原子的官能团部分被切断而氟原子挥发。作为这种氟系表面活性剂，可以举出DIC CORP ORATION制造的Megaface(注册商标)DS系列(化学工业日报(2016年2月22日)、日经产业新闻(2016年2月23日))，例如，可以举出Megaface(注册商标)DS-21。

氟系表面活性剂也优选使用具有氟化烷基或氟化亚烷基醚基的含氟原子的乙烯醚化合物与亲水性乙烯醚化合物的聚合物。

氟系表面活性剂也能够使用嵌段聚合物。氟系表面活性剂也能够优选地使用含氟高分子化合物，该含氟高分子化合物包含：来自于具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元；及来自于具有2个以上(优选为5个以上)的亚烷氧基(优选为亚乙氧基、亚丙氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元。

作为氟系表面活性剂，还能够使用在侧链具有含烯属不饱和键的基团的含氟聚合物。可以举出Megaface(注册商标)RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K(以上为DICCorporation制造)等。

作为氟系表面活性剂，从提高环境适应性的观点考虑，优选为来自于全氟辛酸(PFOA)及全氟辛烷磺酸(PFOS)等具有碳原子数为7以上的直链状全氟烷基的化合物的替代材料的表面活性剂。

作为硅酮系表面活性剂，可以举出由硅氧烷键构成的直链状聚合物及向侧链或末端导入有机基团而得的改性硅氧烷聚合物。

作为硅酮系表面活性剂的市售品，具体而言，例如，可以举出DOWSIL(注册商标)8032ADDITIVE、Toray Silicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、ToraySilicone SH30PA、Toray Silicone SH8400(以上为Dow Corning Toray Co.，Ltd.制造)以及X-22-4952、X-22-4272、X-22-6266、KF-351A、K354L、KF-355A、KF-945、KF-640、KF-642、KF-643、X-22-6191、X-22-4515、KF-6004、KP-341、KF-6001、KF-6002(以上为Shin-EtsuChemical Co.，Ltd.制造)、F-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上为Momentive Performance Materials Inc.制造)、BYK307、BYK323、BYK330(以上为BYKChemie GmbH制造)等。

作为非离子系表面活性剂，可以举出甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷以及这些的乙氧基化物及丙氧基化物(例如，甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脱水山梨糖醇脂肪酸酯、PLURONIC(注册商标)L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(以上为BASF公司制造)、TETRONIC(注册商标)304、701、704、901、904、150R1(以上为BASF公司制造)、SOLSPERSE(注册商标)20000(以上为JapanLubrizol Corporation制造)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(以上为FUJIFILM Wako PureChemical Corporation制造)、Pionin(注册商标)D-6112、D-6112-W、D-6315(以上为TAKEMOTO OIL&FAT Co.，Ltd.制造)、OLFINE E1010、Surfynol 104、400、440(以上为NissinChemical Industry Co.，Ltd.制造)等。

感光性组合物层可以单独包含1种表面活性剂，也可以包含2种以上的表面活性剂。

感光性组合物层包含表面活性剂的情况下，表面活性剂的含量相对于感光性组合物层的总质量优选为0.01质量％～3质量％，更优选为0.05质量％～1质量％，进一步优选为0.1质量％～0.8质量％。

-其他成分-

感光性组合物层可以包含除了已叙述的成分以外的成分(以下，也称为“其他成分”。)。作为其他成分，例如，可以举出杂环化合物(例如，咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物)、脂肪族硫醇化合物、嵌段异氰酸酯化合物、供氢化合物、粒子(例如，金属氧化物粒子)及着色剂。

并且，作为其他成分，例如，还可以举出日本专利第4502784号公报的[0018]段中记载的热阻聚剂及日本特开2000-310706号公报的[0058]～[0071]段中记载的其他添加剂。

能够通过干燥由如上所述的感光性组合物层形成用涂布液构成的涂布层来形成感光性组合物层。关于感光性组合物层的形成，在转印材料的项中进行详细叙述。

-感光性组合物层的厚度-

感光性组合物层的厚度并没有特别限制，优选为10.0μm以下，从透明导电部之间的连接可靠性更加优异的观点考虑，更优选为8.0μm以下，进一步优选为5.0μm以下，特别优选为3.5μm以下。

感光性组合物层的厚度的下限不受限制。感光性组合物层的厚度越小，越能够提高耐弯曲性。从制造适应性的观点考虑，感光性组合物层的厚度的下限优选为0.05μm以上。从提高透明导电部的保护性的观点考虑，感光性组合物层的厚度的下限优选为0.5μm以上，更优选为1.1μm以上。

感光性组合物层的厚度采用通过扫描式电子显微镜(SEM)观察感光性组合物层的截面而测量的任意5处的测量值的算术平均值。

-感光性组合物层的折射率-

感光性组合物层的折射率优选为1.41～1.59，更优选为1.47～1.56，特别优选为1.49～1.54。

-感光性组合物层的色调-

感光性组合物层优选为无色。具体而言，在全反射(入射角8°、光源：D-65(2°视场))为CIE1976(L^*，a^*，b^*)颜色空间中，L^*值优选为10～90，a^*值优选为-1.0～1.0，b^*值优选为-1.0～1.0。

-感光性组合物层的杂质-

从提高可靠性及图案化性的观点考虑，感光性组合物层的杂质的含量优选少。

作为杂质的具体例，可以举出钠、钾、镁、钙、铁、锰、铜、铝、钛、铬、钴、镍、锌、锡及这些离子以及卤化物离子(氯化物离子、溴化物离子、碘化物离子等)等。其中，由于钠离子、钾离子、氯化物离子作为杂质而容易混入，因此特别优选设为下述含量。

以质量基准计，各层中的杂质的含量优选为1，000ppm以下，更优选为200ppm以下，特别优选为40ppm以下。以质量基准计，下限能够设为0.01ppm以上，能够设为0.1ppm以上。

作为将杂质减少至上述范围的方法，可以举出选择各层的原料中不包含杂质的方法及形成层时防止杂质的混入、通过清洗来去除等。由这种方法能够将杂质量设为上述范围内。

例如，能够利用ICP(Inductively Coupled Plasma：感应偶合电浆)发光分光分析法、原子吸光分光法、离子层析法等公知的方法来定量杂质。

并且，感光性组合物层中的苯、甲醛、三氯乙烯、1，3-丁二烯、四氯化碳、氯仿、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、己烷等化合物的含量优选少。以质量基准计，作为这些化合物的各层中的含量优选为1，000ppm以下，更优选为200ppm以下，特别优选为40ppm以下。下限并没有特别限定，但从现实上可降低的限度及测量限度的观点考虑，以质量基准计，能够设为10ppb以上，并且能够设为100ppb以上。

化合物的杂质能够以与上述金属的杂质相同的方法抑制含量。并且，能够利用公知的测量法来定量。

虽然在上述中关于感光性组合物层进行了说明，但关于从感光性组合物层形成的图案状的固化层，也优选设为相同的杂质量。

-感光性组合物层的残留单体-

感光性组合物层有时包含上述碱溶性树脂的各构成单元的残留单体。

从图案化性及可靠性的观点考虑，残留单体的含量相对于碱溶性树脂总质量优选为5,000质量ppm以下，更优选为2,000质量ppm以下，进一步优选为500质量ppm以下。下限并没有特别限制，优选为1质量ppm以上，更优选为10质量ppm以上。

从图案化性及可靠性的观点考虑，碱溶性树脂的各构成单元的残留单体相对于感光性组合物层总质量优选为3，000质量ppm以下，更优选为600质量ppm以下，进一步优选为100质量ppm以下。下限并没有特别限制，优选为0.1质量ppm以上，更优选为1质量ppm以上。

在通过高分子反应来合成碱溶性树脂时的单体的残留单体量也优选设为上述范围。例如，在羧酸侧链使丙烯酸缩水甘油酯反应而合成碱溶性树脂的情况下，优选将丙烯酸缩水甘油酯的含量设为上述范围。

残留单体的量能够通过液体层析法及气相色谱分析等公知的方法来测量。

<感光性组合物层的透射率>

感光性组合物层的每1.0μm膜厚的可见光透射率优选为80％以上，更优选为90％以上，最优选为95％以上。

作为可见光的透射率，优选波长400nm～800nm的平均透射率、波长400nm～800nm的透射率的最小值及波长400nmm的透射率均满足上述条件。

作为透射率的优选值，例如，可以举出87％、92％、98％等。

感光性组合物层的固化膜的每1μm膜厚的透射率也相同，优选方式也相同。

<感光性组合物层的透湿度>

从电极或配线的防锈性的观点及器件的可靠性的观点考虑，固化感光性组合物层而获得的图案(感光性组合物层的固化膜)的膜厚40μm下的透湿度优选为500g/m²/24hr以下，更优选为300g/m²/24hr以下，进一步优选为100g/m²/24hr以下。

利用i射线并以300mJ/cm²的曝光量对感光性组合物层进行曝光之后，在145℃下进行30分钟的后烘烤，并使用使感光性组合物层固化而得的固化膜来测量透湿度。

透湿度的测量根据JIS Z0208：1976的圆筒平板法(Cup method)来进行。优选在温度40℃/湿度90％、温度65℃/湿度90％及温度80℃/湿度95％中的任一试验条件下，为上述透湿度。

作为具体的优选数值，例如，可以举出80g/m²/24hr、150g/m²/24hr、220g/m²/24hr等。

<感光性组合物层的溶解速度>

从显影时的残渣抑制的观点考虑，关于感光性组合物层在碳酸钠1.0％水溶液中的溶解速度，优选为0.01μm/秒以上，更优选为0.10μm/秒以上，更优选为0.20μm/秒以上。

从图案的边缘形状的观点考虑，优选为5.0μm/秒以下，更优选为4.0μm/秒以下，进一步优选为3.0μm/秒以下。

作为具体的优选数值，例如，可以举出1.8μm/秒、1.0μm/秒、0.7μm/秒等。

感光性组合物层对上述1.0质量％碳酸钠水溶液的每单位时间的溶解速度以如下方式测量。

对形成于玻璃基板的充分去除了溶剂的感光性组合物层(膜厚1.0μm～10μm的范围内)，使用1.0质量％碳酸钠水溶液并在25℃下进行喷淋显影直至感光性组合物层完全溶解(其中，显影时间最长设为2分钟为止)。通过将感光性组合物层的膜厚除以感光性组合物层完全溶解为止所需的时间来求出。另外，在2分钟内未完全溶解的情况下，以相同的方式根据此时为止的膜厚变化量来计算。

感光性组合物层的固化膜(膜厚1.0μm～10μm的范围内)对碳酸钠1.0质量％水溶液的溶解速度优选为3.0μm/秒以下，更优选为2.0μm/秒以下，进一步优选为1.0μm/秒以下，最优选为0.2μm/秒以下。上述感光性组合物层的固化膜是利用i射线并以300mJ/cm²的曝光量对感光性组合物层进行曝光而获得的膜。

作为具体的优选数值，例如，能够举出0.8μm/秒、0.2μm/秒、0.001μm/秒等。

关于上述显影的条件，使用H.IKEUCHI&CO.，LTD.制造的1/4MINJJX030PP的喷淋喷嘴，并将喷淋的喷涂压力设为0.08MPa。在上述条件时，将每单位时间的喷淋流量设为1,800mL/min。

<感光性组合物层的溶胀比>

从提高图案形成性的观点考虑，曝光后的感光性组合物层对1.0质量％碳酸钠水溶液的溶胀比优选为100％以下，更优选为50％以下，进一步优选为30％以下。

曝光后的感光性树脂层的对1.0质量％碳酸钠水溶液的溶胀比以如下方式测量。

对形成于玻璃基板的充分去除了溶剂的感光性树脂层(膜厚1.0μm～10μm的范围内)用超高压汞灯在500mj/cm²(i射线测量)下进行曝光。在25℃下，将每个玻璃基板浸渍于1.0质量％的碳酸钠水溶液中，并测量经过30秒钟的时刻的膜厚。而且，计算浸渍后的膜厚相对于浸渍前的膜厚增加的比例。

作为具体的优选数值，例如，能够举出4％、13％、25％等。

<感光性组合物层中的异物>

从图案形成性的观点考虑，感光性组合物层中的直径1.0μm以上的异物的数优选为10个/mm²以下，更优选为5个/mm²以下。

异物的数量以如下方式测量。

使用光学显微镜从感光性组合物层的表面的法线方向目视观察感光性组合物层的面上的任意5处区域(1mm×1mm)，测量各区域中的直径为1.0μm以上的异物的数量，并且对它们进行算术平均以计算异物的数量。

作为具体的优选数值，例如，可以举出0个/mm²、1个/mm²、4个/mm²、8个/mm²等。

<感光性组合物层中的溶解物的雾度>

从抑制显影时产生凝聚物的观点考虑，在1.0质量％的碳酸钠的30℃水溶液1.0升中溶解1.0cm³的感光树脂层而获得的溶液的雾度优选为60％以下，更优选为30％以下，进一步优选为10％以下，最优选为1％以下。

上述雾度以如下方式测量。

首先，准备1.0质量％的碳酸钠水溶液，将液温调整为30℃。在碳酸钠水溶液1.0L中加入1.0cm³的感光树脂层。一边注意避免气泡的混入，一边在30℃下搅拌4小时。搅拌后，测量溶解有感光性树脂层的溶液的雾度。使用雾度计(产品名称“NDH4000”、NIPPONDENSHOKU INDUSTRIES Co.，LTD制造)，并使用液体测量用单元及光径长度为20mm的液体测量专用池来测量雾度。

作为具体的优选数值，例如，可以举出0.4％、1.0％、9％、24％等。

(折射率调整层)

另外，上述层叠体前体可以具有除了基材、第1透明导电部及感光性组合物层以外的其他构成要件。

例如，在工序1中获得的层叠体前体可以在第1透明导电部上具有折射率调整层。层叠物可以在感光性组合物层与第1透明导电部之间具有折射率调整层。

(散射层)

并且，上述层叠体前体可以具有在工序2中上述的漫透射率为5％以上的散射层。

优选在上述层叠体前体中，在上述感光性组合物层中与设置有上述基材的一侧相反的一侧具有上述散射层。

上述层叠体前体的散射层与在工序2中上述的散射层相同，优选方式也相同。

并且，优选通过转印材料而形成感光性组合物层的情况下，在上述转印材料中，在上述临时支承体与上述感光性组合物层之间，进一步具有漫透射率为5％以上的散射层，在上述转印中，转印上述感光性组合物层及上述散射层。

<触摸面板传感器>

本发明的触摸面板传感器依次具有基材、第1透明导电部、具有接触孔的固化层及第2透明导电部，固化层的与基材的法线方向平行的截面中的接触孔的相对基材的面方向的锥角为50°以下。

并且，本发明的触摸面板传感器的制造方法优选为包括本发明的层叠体的制造方法的方法。

锥角的测量方法如上所述。

本发明的触摸面板传感器中的接触孔相对基材的面方向的锥角为50°以下，优选为40°以下，更优选为30°以下。

由于本发明的触摸面板传感器具有如图1中示出的层结构的透明导电膜，因此通过在第1透明导电部上形成的图案状的固化层16A而形成的接触孔22在侧面的倾斜较平缓。因此，相较于具备具有陡的侧面的接触孔的触摸面板传感器，形成第2透明导电部18时的断线的产生、形成透明树脂保护层时不希望的气泡的卷入得到抑制，此外，基于反射的接触孔的可见性得到改进，并且成为外观更良好的触摸面板传感器。

实施例

以下，举出实施例来对本发明进行进一步具体的说明，但本发明只要不脱离其宗旨，则并不限于以下实施例。

另外，只要没有特别说明，则以下实施例中的“％”及“份”为质量基准。“Mw”表示重均分子量。

<实施例1>

使用高频振荡器，在100％的输出电压且250W的输出下，用直径为1.2mm的丝电极以电极长度为240mm及工作电极间距为1.5mm的条件对膜厚为38μm且折射率为1.53的环烯烃树脂膜进行3秒钟的电晕放电处理，并实施表面改性，获得了透明基材。

接着，使用狭缝状喷嘴将下述表1中示出的材料涂敷于透明基材的电晕放电处理面之后，用紫外线进行照射(累积光量300mJ/cm²)并在约110℃下进行干燥，从而形成了折射率为1.60且膜厚为80nm的透明膜。

[表1]

[化学式7]

将在透明基材上形成了透明膜的膜导入到真空腔室内，并使用SnO₂的含有率为10质量％的ITO靶(铟∶锡＝95∶5(摩尔比))，并通过直流(DC)磁控溅射(条件：透明基材的温度150℃、氩压0.13Pa、氧压0.01Pa)而在透明膜上形成了厚度为40nm且折射率为1.82的ITO膜并作为第1透明导电部。ITO膜的表面电阻为80Ω/□(Ω每Square)。

接着，利用公知的化学蚀刻法蚀刻ITO膜并进行图案化，获得了在透明基材上具有透明膜及透明导电部的导电性基板。

(感光性组合物的制备)

通过将作为粘合剂的B-1溶液(聚合物浓度36质量％、溶剂：1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)23.0份、光聚合引发剂(IRGACURE 379、BASF公司制造)0.11份、光聚合引发剂(IRGACURE907、BASF公司制造)0.11份、聚合性化合物(A-NO D-N、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)3.55份、聚合性化合物(TO-2349 TOAGOSEI CO.，LTD.制造)0.8份、聚合性化合物(A-DPH、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)2.18份、阻聚剂(啡噻嗪、FUJIFILM WakoPure Chemical Corporation制造)0.01份、苯并咪唑(Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制造)0.04份、表面活性剂(MegafaceF-551A、DIC CORPORATION制造)0.16份、作为溶剂的1-甲氧基-2-丙基乙酸酯(SHOWA DENKO K.K.制造)20.2份、甲基乙基酮(SANKYOCHEMICAL CO.，LTD.制造)49.4份及丙二醇单甲醚(DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES，LTD.制造)0.43份进行混合，并用孔径为3μm的过滤器进行过滤而制备了感光性组合物。

B-1(以下，式中的重复单元的摩尔比从左侧的重复单元开始，依次为40∶15∶25∶20，Mw为17,000。)

[化学式8]

(转印膜1的制作)

在厚度为16μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜(16KS40：产品名称、TORAY IND USTRIES，INC.制造)的临时支承体上，使用狭缝状喷嘴，将在上述制备的感光性组合物的涂布量调整为干燥后的感光性组合物层的厚度成为5μm，并涂布了感光性组合物。接着，在80℃的干燥区干燥所获得的临时支承体，形成了感光性组合物层。

接着，将厚度为16μm的聚对苯二甲酸乙二酯(16KS40：产品名称、TORAYINDUSTRIES，INC.制造)压接到感光性组合物层的表面作为保护膜，制作了转印膜1。

接着，使用转印膜1，获得了图4中示出的层结构的被曝光的层叠体前体。

即，剥离在上述制作的转印膜1的保护膜，并使所露出的感光性组合物层16的表面与导电性基板12的第1透明导电部的形成面接触，并以如下条件在导电性基板12上层压感光性组合物层16及临时支承体24，获得了图4中示出的层结构的层叠体前体。

(条件)

透明基材的温度：40℃

橡胶辊的温度：110℃

线压：3N/cm

传送速度：2m/分钟

接着，如图4所示，使曝光掩膜26(通孔形成用掩膜：50μm×250μm尺寸)密接于所获得的层叠体的临时支承体24的表面(透明基材12的感光性组合物层16侧的面)。

然后，在曝光掩膜26上，作为散射层28而配置了OPTICAL SOLUTIONS Corporation制造的透镜扩散板(注册商标)LSD30ACUVT30(散射角：30°、材质：紫外线透射丙烯酸树脂)。在表2中，将实施例1中使用的散射层记载为“具有凹凸的树脂层”。

作为曝光光源，使用具有超高压汞灯的邻近型曝光机(Hitachi High-TechCorporation制造)，透射散射层28，并且以100mJ/cm²的曝光量对具有曝光掩膜26的层叠体以图案状曝光了i射线。

然后，从经曝光的层叠体前体剥离曝光掩膜26及临时支承体24，使用温度为30℃的1质量％的碳酸钠水溶液，对剥离面(表面)进行了60秒钟的显影处理。清洗处理后，通过进一步从超高压清洗喷嘴向经显影处理的剥离面喷射超纯水而去除了残渣。然后，对去除了残渣的剥离面吹入空气并去除水分，获得了具有图案状的固化层16A的层叠体。

<实施例2>

除了将散射层变更为在以下记载的含有特定粒子的层以外，以与实施例1相同的方式获得了具有图案状的固化层16A的层叠体。

在表2中，将实施例2中使用的散射层记载为“含有特定树脂的层”。含有特定树脂的层是针对基体材料即聚甲基丙烯酸甲酯(折射率1.50)，相对于含有特定树脂的层的总量，以固体成分计，包含15质量％的特定树脂即平均一次粒径为1.5μm的二氧化硅粒子(NIPPON SHOKUBAI CO.，LTD.制造的Seahoster KE-P150、折射率1.43)的厚度为30μm的层。在实施例2的散射层中，基体材料与特定粒子的折射率之差为0.07，折射率之差为0.05以上。

<比较例1>

除了在并未隔着散射层实施图案曝光以外，以与实施例1相同的方式，获得了具有图案状的固化层的层叠体。

<实施例3～实施例10>

除了通过以下示出的树脂层制作散射层以外，以与实施例1相同的方式获得了具有图案状的固化层的层叠体。

实施例3：LSD60ACUVT30(OPTICAL SOLUTIONS Corporation制造、散射角：60°、材质：紫外线透射丙烯酸树脂、具有凹凸的树脂层、厚度760μm)

实施例4：Light upLDS(KIMOTO CO.，LTD.制造、散射角：30°、光扩散聚合物膜、具有凹凸的树脂层、厚度115μm)

实施例5：Light upGM7(KIMOTO CO.，LTD.制造、散射角：15°、光扩散聚合物膜、具有凹凸的树脂层、厚度115μm)

实施例6：Light upMXE(KIMOTO CO.，LTD.制造、散射角：30°、光扩散聚合物膜、具有凹凸的树脂层、厚度115μm)

实施例7：SDXK-1FS(SUNTECHOPT Corporation制造、散射角：15°、光扩散聚合物膜、具有凹凸的树脂层、厚度39μm)

实施例8：HAA120(LINTEC Corporation制造、散射角：25°、光扩散聚合物膜、具有折射率分布结构的树脂层、厚度120μm)

实施例9：OpulsePBS-689G(KEIWA Inc.制造、散射角：30°、含有粒子的光扩散聚合物膜、含有特定粒子的层、厚度83μm)

实施例10：OpulseUDD-247D2(KEIWA Inc.制造、散射角：30°、光扩散聚合物膜、具有凹凸的树脂层、厚度51μm)

[评价]

(散射层的漫透射率的测量)

根据JIS K 7136“塑胶-透明材料的雾度的计算方法(2000年)”，作为测量装置而使用NIPPON DENSHOKU INDUSTRIES Co.，LTD.制造的雾度计NDH7000II，求出漫透射率。

将结果示于下述表2中。

(散射层的散射角的测量)

使用MURAKAMI COLOR RESEARCH LABORATORY CO.，LTD.制造的Goniometer GP-200，对散射层垂直地入射光，并且在正90°至负90°为止的角度范围内测量了透射光的强度。将相对0°的强度，强度成为二分之一的全角度宽度作为散射角。

将结果示于下述表2中。

(图案状的固化层侧面的锥角的测量)

以如上所述的方法测量了所获得的层叠体中的形成图案状的固化层16A侧面的锥角。

将结果示于下述表2中。

(是否存在第2透明导电部的断线)

对所获得的层叠体使用直流磁控溅射，在层叠体的整个面形成厚度为100nm的ITO导电层，并且作为第2透明导电部。

利用扫描式电子显微镜(SEM)观察所形成的第2透明导电部的截面，观察了是否存在断线。

将结果示于下述表2中。

[表2]

<实施例11～实施例42>

-粘合剂聚合物溶液的准备-

制作了包含下述B-2～B-11的溶液(固体成分浓度36质量％、溶剂：1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)。

以下，示出B-2～B-11的详细内容。另外，各单体的比表示质量比。

B-2：MMA/mAA/St＝40/16/44的共聚物(酸值104mgKOH/g、Mw＝17，000)

B-3：MMA/mAA/CHMA＝35/25/40的共聚物(酸值113mgKOH/g、Mw＝17，000)

B-4：St/mMA/mAA/mAA-GMA＝47/2/19/32的共聚物(酸值124mgKOH/g、Mw＝17，000)

B-5：St/mMA/mAA/mAA-GMA/HEMA＝45/2/19/32/2的共聚物(酸值124mgKOH/g、Mw＝17，000)

B-6：St/mMA/mAA/mAA-GMA＝47/2/19/32的共聚物(酸值124mgKOH/g、Mw＝42，000)

B-7：St/mMA/mAA/mAA-GMA＝47/2/19/32的共聚物(酸值124mgKOH/g、Mw＝61，000)

B-8：St/mMA/mAA/mAA-GMA＝47/2/19/32的共聚物(酸值124mgKOH/g、Mw＝105,000)

B-9：St/mMA/mAA/mAA-GMA＝53/2/13/32的共聚物(酸值83mgKOH/g、Mw＝17,000)

B-10：St/mMA/mAA/mAA-GMA＝44/2/22/32的共聚物(酸值143mgKOH/g、Mw＝17,000)

B-11：St/BzMA/DCPMA/mAA-GMA/mMA/HEMA＝15/15/17/19/32/1/1的共聚物(酸值124mgKOH/g、Mw＝25,000)

并且，示出下述B-2～B-11中记载的各单体。

St：苯乙烯

MAA：甲基丙烯酸

MMA：甲基丙烯酸甲酯

MMA-GMA：在甲基丙烯酸中加成了缩水甘油甲基丙烯酸酯的单体

DCPMA：甲基丙烯酸二环戊酯

CHMA：甲基丙烯酸环己基

HEMA：甲基丙烯酸-2-羟乙基

BzMA：甲基丙烯酸苄酯

-折射率调整层形成用组合物的制备-

通过成为表3中记载的组成的成分及含量而制备了折射率调整层形成用组合物。另外，表3中的组成栏的各数值的单位表示“质量份”。

[表3]

表3中，“化合物B”是由以下结构式表示的聚合物(重均分子量15,500)。另外，式中的重复单元的值为摩尔比。

[化学式9]

化合物B

-感光性组合物层形成用组合物的制备-

在各实施例中，将感光性组合物分别制备成如表4或表5中记载的组成。

-层叠体的制作-

使用狭缝状喷嘴向表4或表5中记载的临时支承体调节量地涂布表4或表5中记载的感光性组合物，以使干燥后的膜厚成为表4或表5中记载的值，并且在100℃的干燥区进行干燥而获得了感光性组合物层。

然后，使用狭缝状喷嘴调节量地涂布折射率调整层形成用组合物，以使干燥后的膜厚成为表4或表5中记载的值，并且在100℃的干燥区进行干燥而获得了折射率调整层。

接着，将厚度为16μm的聚对苯二甲酸乙二酯(16KS40：产品名称、TORAYINDUSTRIES，INC.制造)压接到折射率调整层的表面作为保护膜，制作了各实施例的转印膜。另外，在实施例33～实施例36中，没有形成折射率调整层。

关于各实施例的转印膜，作为散射层，除了使用Light upLDS(KIMOTO CO.，LTD.制造)以外，以与实施例1相同的方式获得了具有图案状的固化层的层叠体。使用所获得的层叠体，与实施例1相同的方式进行了评价。

以下，示出除了上述以外的表4或表5中记载的缩写的详细内容。

R-604：季戊二醇改性的三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、KAYARAD R-604、NipponKayaku Co.，Ltd.制造

A-DCP：三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造

Irgacure OXE-02：光聚合引发剂、BASF公司制造

Irgacure OXE-03：光聚合引发剂、BASF公司制造

APi-307：光聚合引发剂、Shenzhen UV-ChemTech LTD制造)Duranate SBN-70D：六亚甲基二异氰酸酯系嵌段聚异氰酸酯、Asahi Kasei Corporation制造

Duranate MF-K60B：六亚甲基二异氰酸酯系嵌段聚异氰酸酯、Asahi KaseiCorporation制造

16FB40：临时支承体、厚度为16μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜(16FB40：产品名称、TORAY INDUSTRIES，INC.制造)

25KS40：临时支承体、厚度25μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜(25KS40：产品名称、TORAY INDUSTRIES，INC.制造)

从表2、表4及表5中记载的结果可知，隔着散射层而曝光了扩散光的在实施例1～实施例42中获得的图案状的固化层侧面相对基材的面方向的锥角均为50°以下，形成了平缓的侧面。并且，确认到在所获得的层叠体中，在图案状的固化层的面上形成的第2透明导电部的断线的产生得到抑制。

固化层侧面相对基材的面方向的锥角为50°以下，从而在适用到透明导电膜时，基于接触孔侧面的反射的可见性得到改进，并且能够期待成为外观更良好的透明导电膜。此外，能够期待在第2透明导电部的上方，通过层压而设置透明树脂层时的气泡的卷入也得到抑制。

<实施例43>

在实施例22中，粘合剂聚合物溶液：除了将B-1变更为B-11以外，以与实施例22相同的方式进行了样品制作及各种评价。各种评价结果分别与实施例22相同。

<实施例44>

在实施例27中，除了将粘合剂聚合物溶液：B-4变更为B-11以外，以与实施例27相同的方式进行了样品制作及各种评价。各种评价结果分别与实施例27相同。

<实施例51>

以与实施例1相同的方式获得了在透明基材上具有透明膜及被图案化的透明导电部的导电性基板。

将实施例1中使用的感光性组合物狭缝涂布到上述导电性基板，以使干燥后的膜厚成为5μm，并使其干燥。

以与实施例1相同的方式图案化感光性组合物层，获得具有图案状的固化层的层叠体，并进行了各种评价，结果与实施例1相同。

<比较例2>

除了在并未隔着散射层实施图案曝光以外，以与实施例51相同的方式，获得了具有图案状的固化层的层叠体，并进行了各种评价。各种评价结果分别与比较例1相同。

<实施例52>

除了将散射层变更为在实施例2中使用的散射层以外，以与实施例51相同的方式获得了图案状的层叠体，并进行了各种评价。各种评价结果分别与实施例2的结果相同。

<实施例53～实施例60>

除了通过以下示出的树脂层制作散射层以外，以与实施例51相同的方式获得了具有图案状的固化层的层叠体，并进行了各种评价。各种评价结果分别与实施例3～10的结果相同。具体而言，例如，实施例53的评价结果与对应于实施例3的评价结果的结果相同，实施例60的评价结果与对应于实施例10的评价结果的结果相同。

实施例53：LSD60ACUVT30(OPTICAL SOLUTIONS Corporation制造、散射角：60°、材质：紫外线透射丙烯酸树脂、具有凹凸的树脂层、厚度760μm)

实施例54：Light upLDS(KIMOTO CO.，LTD.制造、散射角：30°、光扩散聚合物膜、具有凹凸的树脂层、厚度115μm)

实施例55：Light upGM7(KIMOTO CO.，LTD.制造、散射角：15°、光扩散聚合物膜、具有凹凸的树脂层、厚度115μm)

实施例56：Light upMXE(KIMOTO CO.，LTD.制造、散射角：30°、光扩散聚合物膜、具有凹凸的树脂层、厚度115μm)

实施例57：SDXK-1FS(SUNTECHOPT Corporation制造、散射角：15°、光扩散聚合物膜、具有凹凸的树脂层、厚度39μm)

实施例58：HAA120(LINTEC Corporation制造、散射角：25°、光扩散聚合物膜、具有折射率分布结构的树脂层、厚度120μm)

实施例59：OpulsePBS-689G(KEIWA Inc.制造、散射角：30°、含有粒子的光扩散聚合物膜、含有特定粒子的层、厚度83μm)

实施例60：OpulseUDD-247D2(KEIWA Inc.制造、散射角：30°、光扩散聚合物膜、具有凹凸的树脂层、厚度51μm)

(实施例101)

使用在各实施例1～实施例44及实施例51～60中获得的层叠体，并利用公知的方法制造了触摸面板。将所制造的触摸面板贴合到利用日本特开2009-47936号公报的0097～0119段中记载的方法制造的液晶显示元件上，从而制造了具备触摸面板的液晶显示装置。

关于具备触摸面板的液晶显示装置，确认到显示特性优异且运作操作并没有问题。

符号说明

10-透明导电膜，12-基材，14-第1透明导电部，16-感光性组合物层，16A-图案状的固化层，18-第2透明导电部，20-透明树脂层，22-接触孔，24-临时支承体，26-曝光掩膜，26A-曝光掩膜的遮光区域，28-散射层，30-先前的透明导电膜，32-散射性曝光掩膜，32A-散射性曝光掩膜的遮光区域，34-散射性临时支承体。

关于在2020年6月5日申请的日本专利申请第2020-098776号的公开及2020年7月15日申请的日本专利申请第2020-121631号的公开，通过参考将其整体掺入到本说明书中。

关于本说明书中记载的所有文献、专利申请及技术标准，通过参考而掺入的各个文献、专利申请及技术标准以与具体记载且在各个中记载的情况相同程度地通过参考而掺入到本说明书中。

Claims

1.一种层叠体的制造方法，其依次具有：

准备依次具有基材、第1透明导电部及感光性组合物层的层叠体前体的工序1；

从所述感光性组合物层中与设置有所述基材的一侧相反的一侧，通过散射光对所述感光性组合物层进行图案曝光的工序2；及

对经所述图案曝光的所述感光性组合物层实施显影处理而形成图案状的固化层的工序3。

2.根据权利要求1所述的层叠体的制造方法，其中，

所述工序1是在具有基材及在所述基材上配置的第1透明导电部的导电性基板的所述第1透明导电部侧形成感光性组合物层的工序，

所述工序2是从在所述感光性组合物层中与设置有所述基材的一侧相反的一侧配置的曝光光源，隔着曝光掩膜而对所述感光性组合物层照射散射光，从而进行图案曝光的工序。

3.根据权利要求1或2所述的层叠体的制造方法，其中，

在所述工序2中，在所述感光性组合物层中与设置有所述基材的一侧相反的一侧配置漫透射率为5％以上的散射层以及曝光光源，从所述曝光光源隔着所述散射层照射散射光。

4.根据权利要求3所述的层叠体的制造方法，其中，

所述散射层的散射角为20°以上。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

在所述工序2中，在所述感光性组合物层中与设置有所述基材的一侧相反的一侧，从所述感光性组合物层侧依次具有所述曝光掩膜、漫透射率为5％以上的散射层及所述曝光光源。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

在所述工序2中，在所述感光性组合物层中与设置有所述基材的一侧相反的一侧，从所述感光性组合物层侧依次具有漫透射率为5％以上的散射层、所述曝光掩膜及所述曝光光源。

7.根据权利要求3至6中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

所述散射层含有基体材料及存在于所述基体材料中的粒子，所述基体材料与所述粒子的折射率之差为0.05以上。

8.根据权利要求3至7中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

所述散射层含有基体材料及存在于所述基体材料中的粒子，所述粒子的平均一次粒径为0.3μm以上。

9.根据权利要求3至6中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

所述散射层在至少一个面具有凹凸。

10.根据权利要求9所述的层叠体的制造方法，其中，

所述凹凸具有多个凸部，相邻的凸部与凸部的顶部之间的距离为10μm～50μm。

11.根据权利要求3至10中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

所述散射层与所述曝光掩膜配置于不相互接触的位置。

12.根据权利要求3至10中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

所述散射层与所述曝光掩膜接触地配置。

13.根据权利要求1至4中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

所述曝光掩膜是漫透射率为5％以上的散射性曝光掩膜。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，

所述工序1包括使用具有临时支承体及在所述临时支承体上配置的至少一层的感光性组合物层的转印材料来形成所述感光性组合物层的工序。

15.根据权利要求14所述的层叠体的制造方法，其中，

所述临时支承体是漫透射率为5％以上的临时支承体。

16.根据权利要求14或15所述的层叠体的制造方法，其中，

所述工序2中的图案曝光是使所述曝光掩膜与所述临时支承体接触来进行曝光的接触曝光。

17.根据权利要求14所述的层叠体的制造方法，其中，

在所述转印材料中，在所述临时支承体与所述感光性组合物层之间还具有漫透射率为5％以上的散射层，在所述转印中，转印所述感光性组合物层及所述散射层。

18.根据权利要求1至17中任一项所述的层叠体的制造方法，其在所述工序3之后还包括在所述图案状的固化层上形成第2透明导电部的工序4。

19.一种触摸面板传感器，其依次具有基材、第1透明导电部、具有接触孔的固化层及第2透明导电部，

所述固化层的与所述基材的法线方向平行的截面中的所述接触孔的相对所述基材的面方向的锥角为50°以下。