JP6155992B2 - 透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法 - Google Patents
透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法 Download PDFInfo
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Description
上記構成によれば、1つの方向から照射する光を用いたパターニングを通じて互いに対向する2つの透明電極層を形成することの可能な透明導電性積層体を備えるタッチパネルが得られる。
上記方法によれば、一方のレジストを感光するための光を用いて他方のレジストが誤って感光することが抑えられる。
図1〜図11を参照して、透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法の第1の実施形態について説明する。第1の実施形態において、透明導電性積層体は、タッチパネルの構成部材の1つである。
透明導電性積層体は、最外層として、互いに対向する2つの透明電極層を備えている。2つの透明電極層は、露光光を部分的に吸収する機能層を挟んでいる。図1を参照して、上記構成を有する透明導電性積層体の具体的な例について説明する。
第1基板13aが有する2つの面のうち一方の面である第1面には、第1外側樹脂層14aと、第1光学調整層15aと、第1透明電極層16aとが、第1基板13aに近い方から、この順に積層されている。第1基板13aの他方の面である第2面には、第1内側樹脂層12aが形成されている。
基板13a,13bは、例えば、ガラス板や樹脂フィルムである。ガラス板の形成材料や樹脂フィルムの形成材料は、透明電極層の成膜工程、および、その後工程において、基板に要求される強度を満たす材料であれば、特に限定されない。樹脂フィルムの形成材料は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアリレート、環状ポリオレフィン、ポリイミドからなる群から選択される少なくとも1つである。第1基板13aと第2基板13bとは、同じ材料から形成されてもよく、互いに異なる材料から形成されてもよい。基板13a,13bの厚さは、10μm以上200μm以下であることが好ましい。基板13a,13bの厚さがこうした範囲であれば、透明導電性積層体10の薄型化が図られ、また、基板13a,13bの可撓性も得られる。
樹脂層12b,14a,14bの厚みは限定されないが、0.5μm以上15μm以下であることが好ましい。樹脂層12b,14a,14bと基板13a,13bとは、屈折率が同じかもしくは近似していることが好ましい。具体的には、屈折率は、1.45以上1.75以下であることが好ましい。
添加される粒子としては、有機または無機の粒子が挙げられる。透明導電性積層体10の透明性を高めるためには、有機粒子を用いることが好ましい。有機粒子としては、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、または、フッ素樹脂等からなる粒子が挙げられる。
図3〜図11を参照して、透明導電性積層体の製造方法について説明する。
図3に示されるように、まず、第1基板13aの第1面に第1外側樹脂層14aが形成され、第1基板13aの第2面に第1内側樹脂層12aが形成される。
溶剤は、上記の主成分の樹脂等を溶解するものであれば、限定されない。溶剤の具体例としては、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコール、または、モノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、2種以上の溶剤を混合して用いてもよい。
図9に示されるように、次に、レジスト21a,21bの感光していない部分が現像液によって除去される。これにより、第1レジスト21aには、第1透明電極層16aの第1導電領域17aに対応するパターンが形成される。また、第2レジスト21bには、第2透明電極層16bの第2導電領域17bのうちの、第1透明電極層16aの第1導電領域17aと対向する領域に対応するパターンが形成される。
第1の実施形態の透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法がもたらす作用について説明する。
なお、第1の実施形態では、第1レジスト21aと第2レジスト21bとの双方をネガ型のレジストとしたが、2つのレジストの双方がポジ型のレジストであってもよいし、一方のレジストがネガ型のレジストで、他方のレジストがポジ型のレジストであってもよい。こうした場合、第1内側樹脂層12aにおける光吸収領域19aと光透過領域19bの配置は、レジストの特性に応じて決定される。
(1)第1内側樹脂層12aが露光光を部分的に透過するため、第1内側樹脂層12aを、一方のレジストを露光するためのマスクとして利用できる。その結果、積層体とは別体のマスクや光源をレジストごとに設ける必要がなくなり、一方向からの露光光の照射によって、2つのレジスト21a,21bを露光することが可能となる。
図12〜図19を参照して、透明導電性積層体の製造方法の第2の実施形態について説明する。第2の実施形態では、2つのレジストが露光される手順が、第1の実施形態と主に異なる。以下では、第1の実施形態との相違点を中心に説明し、第1の実施形態と同様の構成については同じ符号を付してその説明を省略する。
図12に示されるように、第2の実施形態の透明導電性積層体10は、第1の実施形態の透明導電性積層体10と同様の構成層を有している。第2の実施形態では、第1内側樹脂層12aにおける光吸収領域19aは、第2透明電極層16bにおける第2非導電領域18bと同じパターンに形成されている。すなわち、光吸収領域19aは、透明導電性積層体10の積層方向から見て、第2非導電領域18bと重なる部分に配置され、光透過領域19bは、第2導電領域17bと重なる部分に配置されている。
図13に示されるように、第1の実施形態と同様に、第1内側樹脂層12a、第1外側樹脂層14a、第1光学調整層15a、および、第1透明導電層20aが形成された第1基板13aと、第2内側樹脂層12b、第2外側樹脂層14b、第2光学調整層15b、および、第2透明導電層20bが形成された第2基板13bとが、粘着層11を介して貼り合せられる。そして、第1基板13aの第1面側において、第1透明導電層20aの面上に第1レジスト21cが形成され、第2基板13bの第1面側において、第2透明導電層20bの面上に第2レジスト21dが形成される。第2の実施形態では、ネガ型のレジストが用いられる。
図17に示されるように、次に、レジスト21c,21dの感光していない部分が現像液によって除去される。これにより、第1レジスト21cには、第1透明電極層16aの第1導電領域17aに対応するパターンが形成される。また、第2レジスト21dには、第2透明電極層16bの第2導電領域17bに対応するパターンが形成される。
[作用]
第2の実施形態の透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法がもたらす作用について説明する。
(5)透明導電性積層体10の積層方向から見て、光透過領域19bは、第2導電領域17bと重なる部分に配置され、光吸収領域19aは、第2非導電領域18bと重なる部分に配置されている。これにより、ネガ型のレジストが用いられる場合に、第1内側樹脂層12aが、第2透明電極層16bを形成するためのマスクとして適切に機能する。
・第1内側樹脂層12aにおいて、露光光を吸収する領域と露光光を透過する領域とは、樹脂膜のパターニングによって区画されていなくてもよい。例えば、第1内側樹脂層12aが第1基板13aの全面を覆う層として形成され、紫外領域の波長の光を吸収する機能が部分的に付加されてもよい。要は、第1内側樹脂層12aが、露光光を吸収する光吸収領域19aと、露光光を透過する光透過領域19bとを有していればよい。ただし、光吸収領域19aと光透過領域19bとがパターニングによって形成されている方が、露光を行う際に、マスク22と第1内側樹脂層12aのパターンとの位置合わせが行いやすい。
Claims (8)
- 第1の透明電極層と、
前記第1の透明電極層と対向する第2の透明電極層と、
前記第1の透明電極層と前記第2の透明電極層とに挟まれる機能層と、を備え、
前記機能層は、前記第1の透明電極層、および、前記第2の透明電極層と平行な面内において、可視領域以外に波長を有する光を吸収する光吸収領域と、前記光を透過する光透過領域とを有し、
前記第2の透明電極層は、積層体の積層方向から見て、第1の透明電極層と異なる形状を有し、前記機能層の形状に追従する形状を含む
透明導電性積層体。 - 前記光は、紫外線であり、
前記機能層は、樹脂層を含み、
前記樹脂層は、前記樹脂層のうち前記光吸収領域となる部分に紫外線吸収体を有する
請求項1に記載の透明導電性積層体。 - 前記光透過領域は、積層体の積層方向から見て、前記第1の透明電極層が有する導電領域と前記第2の透明電極層が有する導電領域とが重なる部分に配置され、
前記光吸収領域は、前記積層方向から見て、前記第1の透明電極層の前記導電領域と、前記第2の透明電極層のうちの前記導電領域が配置されていない領域とが重なる部分に配置されている
請求項1または2に記載の透明導電性積層体。 - 前記光透過領域は、積層体の積層方向から見て、前記第2の透明電極層が有する導電領域と重なる部分に配置され、
前記光吸収領域は、前記積層方向から見て、前記第2の透明電極層のうちの前記導電領域が配置されていない領域と重なる部分に配置されている
請求項1〜3のいずれか一項に記載の透明導電性積層体。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の透明導電性積層体を備える
タッチパネル。 - 積層体を形成する工程を含み、
前記積層体が、
互いに向かい合う第1の透明導電層および第2の透明導電層と、
前記第1の透明導電層と前記第2の透明導電層とに挟まれ、前記第1の透明導電層および前記第2の透明導電層と平行な面内において、可視領域以外に波長を有する露光光を吸収する光吸収領域と、前記露光光を透過する光透過領域とを有する機能層と、を備え、
前記第1の透明導電層の面上に第1のレジストを形成し、前記第2の透明導電層の面上に第2のレジストを形成する工程と、
前記第1のレジストから前記第2のレジストに向かう方向に沿って前記積層体外から前記積層体内へ露光光を照射して、前記第1のレジストと前記第2のレジストとを感光させる工程と、
感光した前記第1のレジストおよび前記第2のレジストを現像する工程と、
現像された前記第1のレジストをマスクとして前記第1の透明導電層をエッチングし、現像された前記第2のレジストをマスクとして前記第2の透明導電層をエッチングする工程と、をさらに含む
透明導電性積層体の製造方法。 - 前記第1のレジストと前記第2のレジストとを感光させる工程では、前記積層体とは別体のマスクを用いて第1のレジストが露光され、前記機能層をマスクとして前記第2のレジストが露光される
請求項6に記載の透明導電性積層体の製造方法。 - 前記第1のレジストの感光波長と前記第2のレジストの感光波長とは、互いに異なる領域の波長を含む
請求項6または7に記載の透明導電性積層体の製造方法。
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