KR20150087494A - 윈도우 부재의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

윈도우 부재의 제조 방법은 투광 영역 및 차광 영역으로 구분되는 투명 기판을 준비하는 단계; 상기 투명 기판의 일면 상에 광 경화성 점착제층을 형성하는 단계; 및 광을 조사하여, 상기 광 경화성 점착제층을 경화하는 단계를 포함하며, 상기 차광 영역에서, 상기 투명 기판의 상기 일면 또는 상기 광 경화성 점착제층의 노출면에 요홈 형상의 미세 패턴을 형성하는 단계를 더 포함한다. 상기 광 경화성 점착제층은 투명 점착제를 포함하고, 상기 투명 점착제의 저장 탄성률은 경화 전 상온에서 103Pa 내지 106Pa 이며, 경화 후 상온에서 106Pa 이상일 수 있다.

Description

윈도우 부재의 제조 방법{METHOD FOR FABRICATING WINDOW MEMBER}
본 발명은 윈도우 부재의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 슬림화 및 경량화가 가능한 윈도우 부재의 제조 방법에 관이다.
정보화 사회의 발전에 따라 휴대 전화, 내비게이션, 디지털 사진기, 전자 책(e-book), 및 휴대용 게임기와 같은 각종 모바일 기기의 사용이 증가하고 있다. 상기 모바일 기기는 각종 정보를 표시하기 위하여 표시 패널을 구비한다. 상기 표시 패널로는 유기 발광 표시 패널(OLED panel), 액정 표시 패널(LCD panel), 전기영동 표시 패널(EPD panel), 및 일렉트로웨팅 표시 패널(EWD panel)과 같이 다양한 표시 패널이 적용되고 있다.
상기 모바일 기기는 상기 표시 패널, 상기 표시 패널을 수용하는 하우징, 및 상기 표시 패널의 노출면을 보호하는 윈도우를 구비한다.
상기 윈도우는 일반적으로 고분자 필름 및 윈도우 글라스가 접합된 구조를 가지며, 상기 고분자 필름 및 상기 윈도우 글라스는 투명 접착제를 이용하여 접합된다. 즉, 상기 윈도우는 상기 고분자 필름, 상기 투명 접착제, 및 상기 윈도우 글라스와 같은 복수의 막 또는 필름을 구비한다. 따라서, 각 막 또는 필름에 의하여 상기 윈도우의 두께가 증가할 수 있다.
본 발명의 일 목적은 슬림화 및 경량화가 가능한 윈도우 부재의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 목적을 달성하기 위한 윈도우 부재의 제조 방법은 투광 영역 및 차광 영역으로 구분되는 투명 기판을 준비하는 단계; 상기 투명 기판의 일면 상에 광 경화성 점착제층을 형성하는 단계; 및 광을 조사하여, 상기 광 경화성 점착제층을 경화하는 단계를 포함하며, 상기 차광 영역에서, 상기 투명 기판의 상기 일면 또는 상기 광 경화성 점착제층의 노출면에 요홈 형상의 미세 패턴을 형성하는 단계를 더 포함한다. 상기 광 경화성 점착제층은 투명 점착제를 포함하고, 상기 투명 점착제의 저장 탄성률은 경화 전 상온에서 103Pa 내지 106Pa 이며, 경화 후 상온에서 106Pa 이상일 수 있다.
상기 미세 패턴을 형성하는 단계는 상기 광 경화성 점착제층의 상기 노출면 상에 상기 차광 영역의 일부를 노출시키는 홀들을 구비하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여 상기 광 경화성 점착제층을 식각하는 단계; 및 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 광 경화성 점착제층의 상기 노출면 상에 서로 다른 굴절률을 가지는 복수의 막을 포함하는 증착층을 형성하는 단계; 상기 투광 영역에 대응하는 상기 광 경화성 물질층 및 상기 증착층을 제거하는 단계; 및 상기 차광 영역에 대응하는 상기 증착층의 노출면 상에 광 차단층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 증착층을 형성하는 단계는 상기 광 경화성 물질층의 상기 노출면 상에 광 투과가 가능한 제1 막을 형성하는 단계; 및 상기 제2 막의 노출면 상에 상기 제1 막의 굴절률보다 작은 굴절률을 가지는 제2 막을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 미세 패턴을 형성하는 단계는 상기 투명 기판의 상기 일면 상에 상기 차광 영역의 일부를 노출시키는 홀들을 구비하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여 상기 투명 기판을 식각하는 단계; 및 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 투명 점착제는 용액 중합성 아크릴계 화합물 및 반응 개시제를 포함하는 조성물로부터 합성된 아크릴 공중합체, 및 자외선 경화성 화합물을 포함할 수 있다.
상기 용액 중합성 아크릴계 화합물은 아크릴산, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-메틸부틸아크릴레이트, 아이소옥틸아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 헥실아크릴레이트, 옥틸아크릴레이트, 데실아크릴레이트, 이소데실아크릴레이트 및 이들의 조합 중 선택되는 적어도 하나를 포함할 수 있다.
바람직하게는 상기 용액 중합성 아크릴계 화합물은, 30wt% 내지 60wt%의 부틸아크릴레이트; 30wt% 내지 60wt%의 2-에틸헥실아크릴레이트; 및 0.1wt% 내지 40wt%의 아크릴산을 포함할 수 있다.
상기 반응 개시제는 벤조일퍼옥사이드, 아세틸퍼옥사이드, 다이아우릴퍼옥사이드, 아이드로겐퍼옥사이드, 포타슘 퍼설퍼네이트, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 및 이들의 조합 중 선택되는 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 자외선 경화성 화합물은 카프로락톤 아크릴레이트(caprolactone acrylate), 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(1,6-hexanediol diacrylate), 트리메틸올프레인 트리아크릴레이트(trimethylolpropane triacrylate), 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(pentaerythritol triacrylate), 라우릴 아크릴레이트(lauryl acrylate), 우레탄 아크릴레이트(urethane acrylate), 에폭시 아크릴레이트(epoxy acrylate), 폴리에스테르 아크릴레이트(polyester acrylate), 실리콘 아크릴레이트(silicon acrylate) 및 이들의 조합 중 선택되는 적어도 하나를 포함할 수 있다.
바람직하게는 상기 자외선 경화성 화합물은 5wt% 내지 50wt%의 트리메틸올프로페인 트리아크릴레이트; 5wt% 내지 50wt%의 다관능 우레탄 아크릴레이트; 및 5wt% 내지 50wt%의 1,6-헥사디올 디아크릴레이트를 포함할 수 있다.
상기 투명 점착제는 광 개시제를 더 포함할 수 있다.
상기 투명 점착제에서, 상기 아크릴 공중합체 및 상기 자외선 경화성 화합물은 70:30 내지 95.5:0.5 중량비로 포함할 수 있다.
상기 투명 점착제의 저장 탄성률은 경화 후 상온에서 107Pa 이상일 수 있다.
상술한 바와 같은 윈도우 부재는 고분자 필름 및 투명 접착제를 구비하지 않으므로, 슬림화 및 경량화가 가능하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 윈도우 부재를 구비하는 모바일 기기를 설명하기 위한 분해 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 모바일 기기의 단면도이다.
도 3은 도 1에 도시된 윈도우 부재를 설명하기 위한 평면도이다.
도 4는 도 3의 I-I' 라인에 따른 단면도이다.
도 5는 도 4의 A 영역의 확대도이다.
도 6은 도 3에 도시된 윈도우 부재에 적용되는 투명 점착제의 저장 탄성률을 설명하기 위한 그래프이다.
도 7 내지 도 10, 도 12 및 도 13은 도 3에 도시된 윈도우 부재의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도이다.
도 11은 도 10의 B 영역의 확대도이다.
도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 윈도우 부재를 설명하기 위한 단면도이다.
도 15는 도 14의 C 영역의 확대도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "아래에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 윈도우 부재를 구비하는 모바일 기기를 설명하기 위한 분해 사시도이며, 도 2는 도 1에 도시된 모바일 기기의 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 모바일 기기는 표시 패널(100), 상기 표시 패널(100)을 수용하기 위한 하우징(200), 상기 표시 패널(100) 상부에 배치된 윈도우 부재(400), 상기 표시 패널(100) 및 상기 하우징(200) 사이에 배치되는 충격 흡수 시트(300), 상기 표시 패널(100) 및 상기 윈도우 부재(400) 사이에 점착 시트(500)을 포함한다.
상기 표시 패널(100)은 영상을 표시할 수 있다. 상기 표시 패널(100)은 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 표시 패널(100)로 유기 발광 표시 패널(Organic Light Eemitting Display panel, OLED panel)과 같은 자발광이 가능한 표시 패널을 사용하는 것이 가능하다. 또한, 상기 표시 패널(100)로 액정 표시 패널(Liquid Crystal Display panel, LCD panel), 전기영동 표시 패널(Electro-Phoretic Display panel, EPD panel), 및 일렉트로웨팅 표시 패널(Electro-Wetting Display panel, EWD panel)과 같은 비발광성 표시 패널을 사용하는 것이 가능하다. 상기 표시 패널(100)로 비발광성 표시 패널을 사용하는 경우, 상기 모바일 기기는 상기 표시 패널(100)로 광을 공급하는 백라이트 유닛(Back-light unit)을 구비할 수도 있다. 본 실시예에서는 상기 표시 패널(100)로 상기 유기 발광 표시 패널을 예로서 설명한다.
상기 표시 패널(100)은 표시 소자로써 유기 발광 소자가 배치되는 제1 기판(110), 및 상기 제1 기판(110)에 마주하는 제2 기판(120)을 구비할 수 있다.
상기 제1 기판(110)은 절연 기판 상에 배치된 적어도 하나의 박막 트랜지스터를 구비하는 박막 트랜지스터 기판(미도시), 및 상기 박막 트랜지스터에 접속하는 상기 유기 발광 소자를 구비할 수 있다. 또한, 상기 제1 기판(110)은 상기 박막 트랜지스터 기판의 일측에 배치되고, 상기 유기 발광 소자를 구동시킬 수 있는 구동부(115)를 구비할 수도 있다. 여기서, 상기 구동부(115)는 COG(Chip on Glass) 타입의 구동 소자일 수 있다.
상기 유기 발광 소자는 상기 박막 트랜지스터 기판 상에 배치된다. 또한, 상기 유기 발광 소자는 상기 박막 트랜지스터에 접속하는 제1 전극, 상기 제1 전극 상에 배치되는 유기막, 및 상기 유기막 상에 배치되는 제2 전극을 포함할 수 있다. 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 중 어느 하나는 애노드(anode) 전극일 수 있으며, 다른 하나는 캐소드(cathode) 전극일 수 있다. 또한, 상기 제1 전극 및 제2 전극 중 적어도 하나는 투명할 수 있다.
예를 들면, 상기 제 1 전극은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), AZO(Aluminum Zinc Oxide), GZO(gallium doped zinc oxide), ZTO(zinc tin oxide), GTO(Gallium tin oxide) 및 FTO(fluorine doped tin oxide) 중 어느 하나의 투명 도전성 산화물을 포함하는 도전막일 수 있다. 상기 제 2 전극은 광 반사가 가능하며, 상기 제 1 전극에 비하여 일함수가 낮은 Mo, MoW, Cr, Al, AlNd 및 Al 합금 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
또한, 상기 유기막은 적어도 발광층(emitting layer, EML)을 포함하며, 일반적으로 다층 박막 구조를 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 유기막은 정공을 주입하는 정공 주입층(hole injection layer, HIL), 정공의 수송성이 우수하고 상기 발광층에서 결합하지 못한 전자의 이동을 억제하여 정공과 전자의 재결합 기회를 증가시키기 위한 정공 수송층(hole transport layer, HTL), 주입된 전자와 정공의 재결합에 의하여 광을 발하는 상기 발광층, 상기 발광층에서 결합하지 못한 정공의 이동을 억제하기 위한 정공 억제층(hole blocking layer, HBL), 전자를 상기 발광층으로 원활히 수송하기 위한 전자 수송층(electron transport layer, ETL), 및 전자를 주입하는 전자 주입층(electron injection layer, EIL)을 구비할 수 있다.
상기 발광층에서 생성되는 광의 색상은 적색(red), 녹색(grean), 청색(blue) 및 백색(white) 중 어느 하나일 수 있으나, 본 실시예에서 이를 한정하는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 발광층에서 생성되는 광의 색상은 마젠타(magenta), 시안(cyan), 옐로(yellow) 중 어느 하나일 수 있다.
상기 제2 기판(120)은 상기 유기 발광 소자를 외부 환경과 격리시키며, 실런트와 같은 봉지재를 통하여 상기 제1 기판(110)과 합착될 수 있다. 예를 들면, 상기 제2 기판(120)은 투명 절연 기판일 수 있다. 한편, 상기 유기 발광 소자가 투명 절연막 등으로 봉지된 경우, 상기 제2 기판(120)은 생략될 수 있다.
상기 표시 패널(100)의 일면, 예를 들면, 상기 윈도우 부재(400) 방향의 표면에는 편광 부재(미도시)가 부착될 수도 있다. 상기 편광 부재는 외부에서 입사되는 광(이하 "외부 광"이라 칭함)의 반사로 상기 표시 패널(100)의 영상 표시 성능이 저하되는 것을 방지할 수 있다. 예를 들면, 상기 편광 부재는 특정 방향으로 편광축을 가지는 편광 필름, 및 1/4 λ의 위상차를 가지는 위상차 필름을 구비할 수 있다. 상기 편광 부재는 상기 외부 광을 원편광 상태로 변환하여, 상기 외부 광이 반사되더라도 상기 표시 패널(100)의 영상 표시 성능이 저하되는 것을 방지한다.
상기 하우징(200)은 상기 표시 패널(100)을 수용한다. 도 1에서 상기 표시 패널(100)을 수용할 수 있는 공간이 마련된 1개의 부재로 구성된 하우징을 예시적으로 도시하고 있다. 그러나, 상기 하우징(200)는 2개 이상의 부재가 결합되어 구성될 수도 있다. 본 실시예에서는 상기 1개의 부재로 구성된 하우징(200)을 예로서 설명한다.
또한, 상기 하우징(200)은 상기 표시 패널(100) 이외에 구동 회로 칩이 실장된 회로기판(미도시)(Printed Circuit Board)을 더 수용할 수 있다. 또한, 상기 모바일 기기의 종류에 따라 배터리와 같은 전원부(미도시)를 더 수용할 수도 있다.
상기 충격 흡수 시트(300)는 상기 표시 패널(100) 및 상기 하우징(200) 사이에 배치되어, 상기 표시 패널(100)에 가해질 수 있는 외부 충격을 흡수한다. 따라서, 상기 충격 흡수 시트(300)는 외부 충격이 상기 표시 패널(100)에 직접 작용하는 것을 방지한다.
상기 충격 흡수 시트(300)는 외부 충격을 흡수할 수 있는 충격 흡수 필름(미도시) 및 상기 충격 흡수 필름의 양면 중 적어도 어느 일면 상에 도포된 접착제(미도시)를 포함한다. 예를 들면, 상기 접착제는 상기 충격 흡수 필름의 일면에 도포되어, 상기 충격 흡수 시트(300)가 상기 표시 패널(100) 또는 상기 하우징(200)에 고정될 수 있도록 한다. 또한, 상기 충격 흡수 필름은 고무 발포체 또는 상기 고무 발포체의 적층물을 포함할 수 있으며, 일반적으로 300㎛의 두께를 가질 수 있다.
상기 윈도우 부재(400)는 상기 표시 패널(100)에서 영상이 출사되는 방향 상에 배치되며, 상기 하우징(200)에 결합되어 상기 하우징(200)과 함께 모바일 기기의 외면을 구성한다.
상기 윈도우 부재(400)는 평면상으로 상기 표시 패널(100)에서 생성된 광을 투과시킬 수 있는 투광 영역(AR), 및 상기 투광 영역(AR) 외곽의 차광 영역(NAR)으로 구분될 수 있다. 상기 차광 영역(NAR)은 상기 광을 투과시키지 않을 수 있으며, 상기 투광 영역(AR)을 둘러싸는 형상을 가질 수 있다. 또한, 상기 차광 영역(NAR) 중 적어도 일부는 아이콘 영역(NAR-I)으로 정의될 수 있다. 상기 아이콘 영역(NAR-I)은 상기 모바일 기기가 특정한 모드에서 작동하는 경우 활성화될 수 있다.
상기 점착 시트(500)은 상기 표시 패널(100) 및 상기 윈도우 부재(400)를 결합한다. 상기 점착 시트(500)은 상기 표시 패널(100)에서 출사되는 영상의 휘도가 감소되는 것을 방지하기 위하여 투명할 수 있다. 예를 들면, 상기 점착 시트(500)은 점착성을 가지고, 광 또는 열로서 경화될 수 있는 투명 고분자 수지를 포함할 수 있다.
도 3은 도 1에 도시된 윈도우 부재를 설명하기 위한 평면도이며, 도 4는 도 3의 I-I' 라인에 따른 단면도이며, 도 5는 도 4의 A 영역의 확대도이며, 도 6은 도 3에 도시된 윈도우 부재에 적용되는 투명 점착제의 저장 탄성률을 설명하기 위한 그래프이다.
도 3 내지 도 6을 참조하면, 윈도우 부재(400)는 광을 투과시킬 수 있는 투광 영역(AR), 상기 투광 영역(AR) 외곽의 차광 영역(NAR)으로 구분될 수 있다. 또한, 상기 차광 영역(NAR) 중 적어도 일부는 아이콘 영역(NAR-I)으로 정의될 수 있다.
또한, 상기 윈도우 부재(400)는 투명 기판(410), 광 경화성 점착제층(420), 증착층(450), 및 광 차단층(460)을 포함할 수 있다.
상기 투명 기판(410)은 코너부가 라운드진 사각 형상일 수 있다. 또한, 상기 투명 기판(410)은 고강도 투명 플라스틱 기판 또는 고강도 투명 유리 기판일 수 있다. 상기 투명 기판(410)의 일면에는 보호막(415)이 배치될 수 있다. 상기 보호막(415)은 일종의 AF(anti-fouling) 코팅막으로, 상기 투명 기판(410)의 지문 형상 방지, 및 내스크래치성을 향상시킬 수 있다.
상기 광 경화성 점착제층(420)은 상기 투명 기판(410)의 타면 상에 배치될 수 있다. 즉, 상기 광 경화성 점착제층(420)의 일면은 상기 투명 기판(410)의 상기 타면과 접촉하게 된다.
상기 차광 영역(NAR)에서, 상기 광 경화성 점착제층(420)의 타면에는 요홈 형상의 미세 패턴(HL)들, 예를 들면, 헤어 라인 또는 홀로그램이 배치될 수 있다. 상기 미세 패턴(HL)들은 상기 윈도우 부재(400)를 구비하는 표시 장치를 사용하는 사용자에게 심미감을 제공할 수 있다.
또한, 상기 광 경화성 점착제층(420)은 투명 점착제를 포함할 수 있다. 하기에서는 상기 투명 점착제를 보다 상세히 설명한다.
도 6에 도시된 바와 같이, 상기 투명 점착제는 경화 이전에는 상온에서 반고체(semi-solid) 상태일 수 있다. 여기서, 상기 반고체 상태의 상기 투명 점착제의 저장 탄성률(storage modulus)은 경화 전 상온에서 약 103Pa 내지 106Pa일 수 있다.
또한, 상기 투명 점착제는 UV 조사에 의하여 고체 상태로 상변태하여 경화될 수 있다(A). 여기서, 상기 고체 상태의 상기 투명 점착제의 상기 저장 탄성률은 경화 후, 상온에서 106Pa 이상일 수 있다. 바람직하게는 상기 고체 상태의 상기 투명 점착제의 상기 저장 탄성률은 경화 후 상온에서 107Pa 이상일 수 있다. 즉, 상기 투명 점착제는 자외선 조사 후에도 반고체 상태를 그대로 유지하는 감압 점착제(pressure sensitive adhesive, PSA)(B), 또는 상온에서 약 103Pa 이하의 저장 탄성률의 액체 상태로 존재하고 자외선 조사시 약 106Pa 이상의 저장 탄성률의 고체 상태로 상변화를 일으키는 자외선 경화 수지(UV-curable resin)(C)과 다른 것이다.
상기 투명 점착제는 아크릴 공중합체 및 자외선 경화성 화합물을 포함할 수 있다. 상기 아크릴 공중합체는 용액 중합성 아크릴계 화합물 및 반응 개시제를 포함하는 조성물로부터 합성된 물질일 수 있다.
상기 용액 중합성 아크릴계 화합물은 용액 중합되어 점착성을 나타낼 수 있는 화합물일 수 있다. 상기 용액 중합성 아크릴계 화합물은 아크릴산, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-메틸부틸아크릴레이트, 아이소옥틸아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 헥실아크릴레이트, 옥틸아크릴레이트, 데실아크릴레이트, 이소데실아크릴레이트 및 이들의 조합 중 선택되는 적어도 하나를 포함할 수 있다.
예를 들면, 상기 용액 중합성 아크릴계 화합물은 예컨대 부틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트 및 아크릴산을 포함할 수 있다. 바람직하게는 상기 용액 중합성 화합물은 상기 용액 중합성 아크릴계 화합물의 총 함량에 대하여 약 30wt% 내지 약 60wt%의 부틸아크릴레이트, 약 30wt% 내지 약 60wt%의 에틸아크릴레이트, 및 약 0.1wt% 내지 약 40wt%의 아크릴산을 포함할 수 있다.
상기 반응 개시제는 열 개시제일 수 있으며, 상기 열 개시제는 열에 의해 분해되어 라디칼을 형성하고 상기 라디칼에 의해 합성 반응을 개시할 수 있다. 예를 들면, 상기 열 개시제는 벤조일퍼옥사이드, 아세틸퍼옥사이드, 다이아우릴퍼옥사이드, 하이드로겐퍼옥사이드, 포타슘 퍼설퍼네이트, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(azobisisobutyronitrile, AIBN) 및 이들의 조합 중 선택되는 적어도 하나일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 반응 개시제는 상기 용액 중합성 아크릴계 화합물 100 중량부에 대하여 약 0.1 중량부 내지 약 15 중량부로 포함될 수 있다.
상기 아크릴 공중합체는 예컨대 약 200,000 내지 약 1,500,000의 중량평균분자량을 가질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 아크릴 공중합체는 감압성 점착제（pressure sensitive adhesive, PSA）일 수 있다.
상기 자외선 경화성 화합물은 자외선에 의해 경화될 수 있는 화합물일 수 있다. 상기 자외선 경화성 화합물은 카프로락톤 아크릴레이트(caprolactone acrylate), 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(1,6-hexanediol diacrylate), 트리메틸올프레인 트리아크릴레이트(trimethylolpropane triacrylate), 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(pentaerythritol triacrylate), 라우릴 아크릴레이트(lauryl acrylate), 우레탄 아크릴레이트(urethane acrylate), 에폭시 아크릴레이트(epoxy acrylate), 폴리에스테르 아크릴레이트(polyester acrylate), 실리콘 아크릴레이트(silicon acrylate) 및 이들의 조합 중 선택되는 적어도 하나를 포함할 수 있다.
예를 들면, 상기 자외선 경화성 화합물은 예컨대 트리메틸올프로페인 트리아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트 및 1,6-헥사디올 디아크릴레이트를 포함할 수 있다. 바람직하게는 상기 자외선 경화성 화합물은 상기 자외선 경화성 화합물의 총 함량에 대하여 약 5wt% 내지 약 50wt%의 트리메틸올프로페인 트리아크릴레이트, 약 5wt% 내지 약 50wt%의 우레탄 아크릴레이트, 및 약 5wt% 내지 약 50wt%의 1,6-헥사디올 디아크릴레이트를 포함할 수 있다.
상기 아크릴 공중합체와 상기 자외선 경화성 화합물은 약 70:30 내지 약 95.5:0.5 중량비로 포함될 수 있다. 상기 범위로 포함됨으로써 점착성을 확보하면서도 자외선에 의한 경화를 효율적으로 수행할 수 있다.
상기 투명 점착제는 광 개시제를 더 포함할 수 있다. 상기 광 개시제는 광에 의해 분해되어 라디칼을 형성하고 상기 라디칼에 의해 반응을 개시할 수 있다. 예를 들면, 상기 광 개시제는 아세토페논계 화합물일 수 있다.
상기 광 개시제는 상기 자외선 경화성 화합물 100 중량부에 대하여 약 0.1 내지 약 5 중량부로 포함될 수 있다.
상기 증착층(450)은 상기 차광 영역(NAR)에서 상기 광 경화성 점착제층(420)의 상기 타면 상에 배치될 수 있다. 즉, 상기 증착층(450)의 일면은 상기 광 경화성 점착제층(420)의 타면과 접촉할 수 있다.
상기 증착층(450)은 서로 다른 굴절률을 가지는 복수의 막들을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 증착층(450)은 상기 광 경화성 점착제층(420)의 상기 표시 패널(100) 방향의 면 상에 배치되고, 광 투과가 가능한 제1 막(451), 및 상기 제1 막(451)의 상기 표시 패널(100) 방향의 면 상에 배치되고, 상기 제1 막(451)의 굴절률과 다른 굴절률을 가지는 제2 막(455)을 포함할 수 있다. 여기서, 상기 제1 막(451)의 굴절률은 상기 제2 막(455)의 굴절률보다 클 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 막(451) 및 상기 제2 막(455)은 1.3에서 2.4의 굴절률을 가지고 상기 제1 막(451) 및 상기 제2 막(455)의 굴절률 차이는 0.1 이상일 수 있다.
상기 제1 막(451) 및 상기 제2 막(455)은 SiO2 및 TiO2 중 서로 다른 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 막(451)은 SiO2보다 굴절률이 큰 TiO2를 포함하고, 상기 제2 막(455)은 TiO2보다 굴절률이 작은 SiO2를 포함할 수 있다.
상기 증착층(450)은 상기 제1 막(451) 및 상기 제2 막(455) 사이의 굴절률 차이에 의하여 특정 파장 영역의 광을 반사시킬 수 있다. 따라서, 상기 증착층(450)은 상기 윈도우 부재(400)의 차광 영역(NAR)의 배경 색을 결정할 수 있다.
한편, 본 실시예에서는 상기 증착층(450)이 상기 제1 막(451) 및 상기 제2 막(455)을 포함하는 구조를 예로서 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 증착층(450)은 상기 제1 막(451) 및 상기 제2 막(455)을 포함하는 기본 단위체를 복수 개 구비할 수도 있다.
상기 광 차단층(460)은 상기 증착층(450)의 타면 상에 배치될 수 있다. 또한, 상기 광 차단층(460)은 광을 차단할 수 있는 물질을 포함하여, 상기 차광 영역(NAR)에 광이 투과되는 것을 방지할 수 있다. 예를 들면, 상기 광 차단층(460)은 크롬(Cr) 및 몰리브덴(Mo) 중 선택되는 어느 하나와 같이, 반사율이 낮은 금속물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 광 차단층(460)은 CrOx 및 MoOx 중 어느 하나와 같이, 불투명 무기 절연 물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 광 차단층(460)은 화이트 수지 또는 블랙 수지와 같은 불투명 유기 절연 물질을 포함할 수 있다.
도 7 내지 도 10, 도 12 및 도 13은 도 3에 도시된 윈도우 부재의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도이며, 도 11은 도 10의 B 영역의 확대도이다.
우선, 도 7을 참조하면, 광 투과가 가능한 투명 기판(410)을 준비한다. 상기 투명 기판(410)은 코너부가 라운드진 사각 형상일 수 있다. 또한, 상기 투명 기판(410)은 고강도 투명 플라스틱 기판 또는 고강도 투명 유리 기판일 수 있다. 여기서, 상기 투명 기판(410)은 광을 투과시키는 투광 영역(AR), 및 상기 투광 영역(AR)의 외곽에 배치되는 차광 영역(NAR)으로 구분될 수 있다.
상기 투명 기판(410)을 준비한 후, 상기 투명 기판(410)의 일면에 보호막(415)을 형성한다. 상기 보호막(415)은 일종의 AF(anti-fouling) 코팅막으로, 상기 투명 기판(410)의 지문 형상 방지, 및 내스크래치성을 향상시킬 수 있다.
상기 보호막(415)을 형성한 후, 상기 투명 기판(410)의 타면 상에 광 경화성 점착 물질을 도포하여 광 경화성 점착제층(420)을 형성한다. 즉, 상기 광 경화성 점착제층(420)의 일면은 상기 투명 기판(410)의 상기 타면과 접촉한다.
상기 광 경화성 점착제층(420)은 투명 점착제를 포함할 수 있다. 상기 투명 점착제는 경화 이전에는 상온에서 반고체(semi-solid) 상태일 수 있다. 여기서, 상기 반고체 상태의 상기 투명 점착제의 저장 탄성률(storage modulus)은 경화 전 상온에서 약 103Pa 내지 106Pa일 수 있다.
도 8 및 9를 참조하면, 상기 광 경화성 점착제층(420)을 형성한 후, 상기 차광 영역(NAR)에서 상기 광 경화성 점착제층(420)의 노출면에 미세 패턴(HL)들을 형성한다. 여기서, 상기 미세 패턴(HL)들은 포토리소그래피(photo-lithography)를 이용하여 형성할 수 있다.
이를 보다 상세히 설명하면, 우선, 상기 광 경화성 점착제층(420)의 상기 노출면 상에 포토레지스트 물질을 도포하고, 노광 및 현상을 실시하여 포토레지스트 패턴(PR)을 형성한다. 상기 포토레지스트 패턴(PR)은 상기 차광 영역(NAR)에서, 상기 광 경화성 점착제층(420)의 일부를 노출시킬 수 있다.
상기 포토레지스트 패턴(PR)을 형성한 후, 상기 포토레지스트 패턴(PR)을 마스크로 하여 식각 공정을 수행한다. 여기서, 상기 식각 공정은 상기 광 경화성 점착제층(420)의 일정 깊이까지 수행될 수 있다. 따라서, 상기 차광 영역(NAR)에서 상기 광 경화성 점착제층(420)의 노출면에 상기 미세 패턴(HL)들이 형성될 수 있다.
상기 식각 공정을 수행한 후, 상기 포토레지스트 패턴(PR)을 제거한다.
상기 포토레지스트 패턴(PR)을 제거한 후, 광, 예를 들면 자외선을 조사하여, 상기 광 경화성 점착제층(420)을 경화시킨다. 여기서, 경화된 상기 광 경화성 점착제층(420)의 상기 투명 점착제는 상변태 하여 고체 상태일 수 있다. 상기 고체 상태의 상기 투명 점착제의 상기 저장 탄성률은 상온에서 106Pa 이상일 수 있다.
도 10 및 도 11을 참조하면, 상기 광 경화성 점착제층(420)을 경화시킨 후, 상기 광 경화성 점착제층(420)의 노출면 상에 증착층(450)을 형성한다. 상기 증착층(450)은 서로 다른 굴절률을 가지는 복수의 막들을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 증착층(450)은 서로 다른 굴절률을 가지는 제1 막(451) 및 제2 막(455)을 포함할 수 있다.
상기 증착층(450)은 하기와 같이 형성될 수 있다.
우선, 상기 광 경화성 점착제층(420)의 노출면 상에 광 투과가 가능한 제1 막(451)을 형성한다. 그런 다음, 상기 제1 막(451)의 노출면 상에 상기 제1 막(451)의 굴절률과 다른 굴절률을 가지는 제2 막(455)을 형성하여, 상기 증착층(450)을 형성할 수 있다. 여기서, 상기 제1 막(451)의 굴절률은 상기 제2 막(455)의 굴절률보다 클 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 막(451) 및 상기 제2 막(455)은 1.3에서 2.4의 굴절률을 가지고 상기 제1 막(451) 및 상기 제2 막(455)의 굴절률 차이는 0.1 이상일 수 있다.
상기 증착층(450)은 상기 제1 막(451) 및 상기 제2 막(455) 사이의 굴절률 차이에 의하여 특정 파장 영역의 광을 반사시킬 수 있다.
도 12를 참조하면, 상기 증착층(450)을 형성한 후, 식각 공정을 수행하여, 상기 증착층(450)의 일부, 예를 들면, 상기 투광 영역(AR)에 대응하는 상기 증착층(450)을 제거한다. 따라서, 상기 증착층(450)은 상기 차광 영역(NAR)에만 존재하므로, 상기 증착층(450)은 상기 차광 영역(NAR)의 배경 색을 결정할 수 있다.
도 13을 참조하면, 상기 식각 공정을 수행한 후, 상기 증착층(450) 상에 광 차단층(460)을 형성한다. 상기 광 차단층(460)은 광을 차단할 수 있는 물질을 포함하여, 상기 차광 영역(NAR)에 광이 투과되는 것을 방지할 수 있다. 예를 들면, 상기 광 차단층(460)은 반사율이 낮은 금속 물질, 예를 들면, 크롬(Cr) 및 몰리브덴(Mo) 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 광 차단층(460)은 불투명 무기 절연 물질, 예를 들면, CrOx 및 MoOx 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 광 차단층(460)은 화이트 수지 또는 블랙 수지와 같은 불투명 유기 절연 물질을 포함할 수 있다.
한편, 본 실시예에서는 상기 식각 공정 이후에 상기 광 차단층(460)을 형성함을 예로서 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 증착층(450)을 형성하고, 상기 광 차단층(460)을 형성한 후, 상기 차광 영역(NAR)에 대응하는 상기 증착층(450) 및 상기 광 차단층(460)을 잔류시키는 식각 공정을 수행할 수도 있다.
이하, 도 14 및 도 15를 통하여 본 발명의 다른 실시예를 설명한다. 도 14 및 도 15에 있어서, 도 1 내지 도 13에 도시된 구성 요소와 동일한 구성 요소는 동일한 참조번호를 부여하고, 그에 대한 구체적인 설명은 생략한다. 또한, 도 14 및 도 15에서는 중복된 설명을 피하기 위하여 도 1 내지 도 13과 다른 점을 위주로 설명한다.
도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 윈도우 부재를 설명하기 위한 단면도이며, 도 15는 도 14의 C 영역의 확대도이다.
도 14 및 도 15를 참조하면, 윈도우 부재(400)는 광을 투과시킬 수 있는 투광 영역(AR), 상기 투광 영역(AR) 외곽의 차광 영역(NAR)으로 구분될 수 있다. 또한, 상기 차광 영역(NAR) 중 적어도 일부는 아이콘 영역(NAR-I)으로 정의될 수 있다.
또한, 상기 윈도우 부재(400)는 투명 기판(410), 상기 투명 기판(410)의 일면 상에 배치된 보호막(415), 상기 투명 기판(410)의 타면 상에 배치되는 광 경화성 점착제층(420), 상기 차광 영역(NAR)에서 상기 광 경화성 점착제층(420)의 상기 투명 기판(410) 방향의 반대 방향의 면 상에 배치되는 증착층(450), 및 상기 증착층(450)의 상기 투명 기판(410) 방향의 반대 방향 면 상에 배치되는 광 차단층(460)을 포함할 수 있다.
상기 투명 기판(410)은 고강도 투명 플라스틱 기판 또는 고강도 투명 유리 기판일 수 있다. 상기 차광 영역(NAR)에서, 상기 투명 기판(410)의 타면에는 미세 패턴(HL)들, 예를 들면, 헤어 라인 또는 홀로그램이 배치될 수 있다.
상기 광 경화성 점착제층(420)은 상기 투명 기판(410)의 타면 상에 배치될 수 있다. 상기 광 경화성 점착제층(420)은 투명 점착제를 포함할 수 있다. 상기 투명 점착제는 경화 이전에는 상온에서 반고체(semi-solid) 상태일 수 있다. 여기서, 상기 반고체 상태의 상기 투명 점착제의 저장 탄성률(storage modulus)은 경화 전 상온에서 약 103Pa 내지 106Pa일 수 있다.
또한, 상기 투명 점착제는 UV 조사에 의하여 고체 상태로 상변태하여 경화될 수 있다. 여기서, 상기 고체 상태의 상기 투명 점착제의 상기 저장 탄성률은 경화 후, 상온에서 106Pa 이상일 수 있다. 바람직하게는 상기 고체 상태의 상기 투명 점착제의 상기 저장 탄성률은 경화 후 상온에서 107Pa 이상일 수 있다.
한편, 상기 윈도우 부재(400)의 제조 방법은 하기와 같다.
우선, 광 투과가 가능한 투명 기판(410)을 준비한다. 상기 투명 기판(410)은 광을 투과시키는 투광 영역(AR), 및 상기 투광 영역(AR)의 외곽에 배치되는 차광 영역(NAR)으로 구분될 수 있다.
그런 다음, 상기 차광 영역(NAR)에서, 상기 투명 기판(410)의 상기 타면는 미세 패턴(HL)들을 형성한다. 여기서, 상기 미세 패턴(HL)들은 포토리소그래피(photo-lithography)를 이용하여 형성될 수 있다.
이를 보다 상세히 설명하면, 상기 투명 기판(410)의 일면 상에 포토레지스트 물질을 도포하고, 노광 및 현상을 실시하여 포토레지스트 패턴을 형성한다. 상기 포토레지스트 패턴은 상기 차광 영역(NAR)에서, 상기 투명 기판(410)의 일부를 노출시킬 수 있다.
상기 포토레지스트 패턴을 형성한 후, 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여 식각 공정을 수행한다. 여기서, 상기 식각 공정은 상기 투명 기판(410)의 일정 깊이까지 수행될 수 있다. 따라서, 상기 차광 영역(NAR)에서 상기 투명 기판(410)의 상기 일면에 상기 미세 패턴(HL)들이 형성될 수 있다.
상기 식각 공정을 수행한 후, 상기 포토레지스트 패턴을 제거한다.
상기 포토레지스트 패턴을 제거한 후, 상기 투명 기판(410)의 일면 상에 광 경화성 점착 물질을 도포하여 광 경화성 점착제층(420)을 형성한다. 그런 다음, 자외선을 조사하여, 상기 광 경화성 점착제층(420)을 경화시킨다. 여기서, 상기 광 경화성 점착제층(420)은 투명 점착제를 포함할 수 있다. 상기 투명 점착제는 경화 이전에는 상온에서 반고체(semi-solid) 상태이며, 경화 이후에는 상온에서 고체 상태일 수 있다. 여기서, 상기 반고체 상태의 상기 투명 점착제의 저장 탄성률(storage modulus)은 경화 전 상온에서 약 103Pa 내지 106Pa일 수 있다. 또한, 상기 고체 상태의 상기 투명 점착제의 상기 저장 탄성률은 상온에서 106Pa 이상일 수 있다.
그런 다음, 상기 증착층(450) 및 상기 광 차단층(460)을 형성한다. 상기 증착층(450) 및 상기 광 차단층(460)의 형성 방법은 도 1 내지 도 13에 도시된 실시예와 동일할 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하고 설명하는 것이다. 또한, 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 전술한 바와 같이 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있으며, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한, 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
100; 표시 패널 110; 제1 기판
120; 제2 기판 200; 하우징
300; 충격 흡수 시트 400; 윈도우 부재
410; 투명 기판 420; 광 경화성 점착제층
450; 증착층 460; 광 차단층
500; 점착 시트

Claims (14)

  1. 투광 영역 및 차광 영역으로 구분되는 투명 기판을 준비하는 단계;
    상기 투명 기판의 일면 상에 광 경화성 점착제층을 형성하는 단계; 및
    광을 조사하여, 상기 광 경화성 점착제층을 경화하는 단계를 포함하며,
    상기 차광 영역에서, 상기 투명 기판의 상기 일면 또는 상기 광 경화성 점착제층의 노출면에 요홈 형상의 미세 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 광 경화성 점착제층은 투명 점착제를 포함하고, 상기 투명 점착제의 저장 탄성률은 경화 전 상온에서 103Pa 내지 106Pa 이며, 경화 후 상온에서 106Pa 이상인 윈도우 부재의 제조 방법.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 미세 패턴을 형성하는 단계는
    상기 광 경화성 점착제층의 상기 노출면 상에 상기 차광 영역의 일부를 노출시키는 홀들을 구비하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;
    상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여 상기 광 경화성 점착제층을 식각하는 단계; 및
    상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함하는 윈도우 부재의 제조 방법.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 광 경화성 점착제층의 상기 노출면 상에 서로 다른 굴절률을 가지는 복수의 막을 포함하는 증착층을 형성하는 단계;
    상기 투광 영역에 대응하는 상기 광 경화성 물질층 및 상기 증착층을 제거하는 단계; 및
    상기 차광 영역에 대응하는 상기 증착층의 노출면 상에 광 차단층을 형성하는 단계를 더 포함하는 윈도우 부재의 제조 방법.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 증착층을 형성하는 단계는
    상기 광 경화성 물질층의 상기 노출면 상에 광 투과가 가능한 제1 막을 형성하는 단계; 및
    상기 제2 막의 노출면 상에 상기 제1 막의 굴절률보다 작은 굴절률을 가지는 제2 막을 형성하는 단계를 포함하는 윈도우 부재의 제조 방법.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 미세 패턴을 형성하는 단계는
    상기 투명 기판의 상기 일면 상에 상기 차광 영역의 일부를 노출시키는 홀들을 구비하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;
    상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여 상기 투명 기판을 식각하는 단계; 및
    상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함하는 윈도우 부재의 제조 방법.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 투명 점착제는 용액 중합성 아크릴계 화합물 및 반응 개시제를 포함하는 조성물로부터 합성된 아크릴 공중합체, 및 자외선 경화성 화합물을 포함하는 윈도우 부재의 제조 방법.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 용액 중합성 아크릴계 화합물은 아크릴산, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-메틸부틸아크릴레이트, 아이소옥틸아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 헥실아크릴레이트, 옥틸아크릴레이트, 데실아크릴레이트, 이소데실아크릴레이트 및 이들의 조합 중 선택되는 적어도 하나를 포함하는 윈도우 부재의 제조 방법.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 용액 중합성 아크릴계 화합물은,
    30wt% 내지 60wt%의 부틸아크릴레이트;
    30wt% 내지 60wt%의 2-에틸헥실아크릴레이트; 및
    0.1wt% 내지 40wt%의 아크릴산을 포함하는 윈도우 부재의 제조 방법.
  9. 제6 항에 있어서,
    상기 반응 개시제는 벤조일퍼옥사이드, 아세틸퍼옥사이드, 다이아우릴퍼옥사이드, 아이드로겐퍼옥사이드, 포타슘 퍼설퍼네이트, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 및 이들의 조합 중 선택되는 적어도 하나를 포함하는 윈도우 부재의 제조 방법.
  10. 제6 항에 있어서,
    상기 자외선 경화성 화합물은
    카프로락톤 아크릴레이트(caprolactone acrylate), 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(1,6-hexanediol diacrylate), 트리메틸올프레인 트리아크릴레이트(trimethylolpropane triacrylate), 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(pentaerythritol triacrylate), 라우릴 아크릴레이트(lauryl acrylate), 우레탄 아크릴레이트(urethane acrylate), 에폭시 아크릴레이트(epoxy acrylate), 폴리에스테르 아크릴레이트(polyester acrylate), 실리콘 아크릴레이트(silicon acrylate) 및 이들의 조합 중 선택되는 적어도 하나를 포함하는 윈도우 부재의 제조 방법.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 자외선 경화성 화합물은
    5wt% 내지 50wt%의 트리메틸올프로페인 트리아크릴레이트;
    5wt% 내지 50wt%의 다관능 우레탄 아크릴레이트; 및
    5wt% 내지 50wt%의 1,6-헥사디올 디아크릴레이트를 포함하는 윈도우 부재의 제조 방법.
  12. 제6 항에 있어서,
    상기 투명 점착제는 광 개시제를 더 포함하는 윈도우 부재의 제조 방법.
  13. 제6 항에 있어서,
    상기 투명 점착제에서, 상기 아크릴 공중합체 및 상기 자외선 경화성 화합물은 70:30 내지 95.5:0.5 중량비로 포함되는 윈도우 부재의 제조 방법.
  14. 제1 항에 있어서,
    상기 투명 점착제의 저장 탄성률은 경화 후 상온에서 107Pa 이상인 윈도우 부재의 제조 방법.
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