CN113644102B - 显示模组及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种显示模组及其制备方法、显示装置。所述显示模组包括：显示基板，包括第一区域及至少部分围绕所述第一区域的第二区域，所述第一区域用于实现所述显示基板的弯折；抗冲击层，设置于所述显示基板上，且所述抗冲击层在所述第一区域设置有凹槽；填充层，设置于所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧，且至少部分所述填充层设置于所述凹槽中；其中，所述填充层的抗弯折性能大于所述抗冲击层的抗弯折性能，且所述填充层的抗机械性能小于所述抗冲击层的抗机械性能。本公开所述显示模组及其制备方法、显示装置，能够在保证弯折区的抗弯折性能的同时，提升显示模组的抗冲击性能。

Description

显示模组及其制备方法、显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示模组及其制备方法、显示装置。

背景技术

近年来，柔性有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，简称为OLED)显示产品特别是柔性显示产品的应用越来越广泛。柔性OLED显示产品往往采用CPI、PET或UTG等柔性盖板组合来实现可弯折性，较薄的柔性盖板设计往往不利于产品的抗冲击性能提升。为保证产品优异的抗弯折性能通常会舍弃产品的抗机械性能，这使得折叠显示产品的抗机械性能，特别是落球落笔性能表现欠佳。

发明内容

有鉴于此，本公开的目的在于提出一种显示模组及其制备方法、显示装置，以满足显示模组弯折区的抗弯折性能的同时，提升显示模组的抗冲击性能。

基于上述目的，本公开提供了一种显示模组，包括：

显示基板，包括第一区域及至少部分围绕所述第一区域的第二区域；所述第一区域用于实现所述显示基板的弯折；

抗冲击层，设置于所述显示基板上，且所述抗冲击层在所述第一区域设置有凹槽；

填充层，设置于所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧，且至少部分所述填充层设置于所述凹槽中；

其中，所述填充层的抗弯折性能大于所述抗冲击层的抗弯折性能，且所述填充层的抗机械性能小于所述抗冲击层的抗机械性能。

可选的，所述填充层远离所述显示基板的一侧与所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧齐平。

可选的，所述凹槽贯穿所述抗冲击层。

可选的，所述填充层的材料的模量小于所述抗冲击层的材料的模量，所述抗冲击层的材料的硬度高于所述填充层的材料的硬度。

可选的，所述凹槽的深度小于40μm，所述填充层材料包括光学胶。

可选的，还包括圆偏光片，所述圆偏光片包括：

偏光层，设置于所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧；

第一相位差膜，设置于所述偏光层与所述抗冲击层之间。

可选的，所述显示基板靠近所述偏光层一侧设置有阴极层；所述圆偏光片用于透射所述显示基板的部分出射光；将另一部分所述出射光反射至所述阴极层，使所述阴极层将另一部分所述出射光转化为阴极层反射光，且透射至少部分阴极层反射光。

可选的，所述显示基板靠近所述偏光层一侧设置有阴极层；所述显示模组还包括：

增亮膜，设置于所述圆偏光片与所述抗冲击层之间，用于将所述显示基板的部分出射光透射至所述圆偏光片后射出；将另一部分所述出射光反射至所述阴极层，使所述阴极层将另一部分所述出射光转化为阴极层反射光后反射至所述增亮膜，且至少部分阴极层反射光经所述增亮膜、所述圆偏光片透射出。

可选的，所述增亮膜包括：

反射式偏光板，设置于所述第一相位差膜与所述抗冲击层之间，且所述反射式偏光板的透过角度与所述偏光层的透过角度相同；

第二相位差膜，设置于所述反射式偏光板与所述第一相位差膜之间；

其中，所述反射式偏光板的下偏角度与所述偏光层的透过轴的方向相同，所述第二相位差膜的慢轴与所述第一相位差膜的慢轴的方向相同。

可选的，所述反射式偏光板用于将所述显示基板的部分出射光转化为第一直线偏振光出射至所述第二相位差膜，将另一部分所述出射光转化为第二直线偏振光并反射至所述阴极层；

所述第二相位差膜用于将所述第一直线偏振光转化为第一圆偏振光出射至所述第一相位差膜；

所述第一相位差膜用于将所述第一圆偏振光转化为第三直线偏振光并出射至所述偏光层以通过所述偏光层射出；

所述阴极层用于将所述第二直线偏振光转化为阴极层反射光并出射至所述反射式偏光板；所述阴极层反射光包括分别与所述第一直线偏振光、所述第二直线偏振光的偏振方向相同的光线。

可选的，所述第一区域包括弯折区，所述第二区域包括非弯折区。

本公开还提供了一种显示装置，包括如上述任一项所述的显示模组。

本公开还提供了一种显示模组的制备方法，包括：

提供一显示基板，所述显示基板包括第一区域及至少部分围绕所述第一区域的第二区域；所述第一区域用于实现所述显示基板的弯折；

在所述显示基板上形成抗冲击层，且所述抗冲击层在所述第一区域设置有凹槽；

在所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧形成填充层，且至少部分所述填充层设置于所述凹槽中；

其中，所述填充层的抗弯折性能大于所述抗冲击层的抗弯折性能，且所述填充层的抗机械性能小于所述抗冲击层的抗机械性能。

可选的，所述显示模组包括增亮膜，所述增亮膜包括反射式偏光板和第二相位差膜；所述制备方法还包括：

将所述反射式偏光板与所述第二相位差膜贴合，形成所述增亮膜；

将所述增亮膜贴附于所述填充层上，其中所述反射式偏光板位于所述填充层与所述第二相位差膜之间。

可选的，所述显示模组包括增亮膜，所述增亮膜包括反射式偏光板和第二相位差膜；所述制备方法还包括：

在所述填充层上依次制作多层折射率不同的材料，形成所述反射式偏光板；

在所述反射式偏光板上涂布配向层，形成所述第二相位差膜。

从上面所述可以看出，本公开提供的显示基板及其制备方法、显示装置，通过在显示基板的封装层上设置具有更好抗机械性能的抗冲击层，从而提高非弯折区的抗机械性能；在抗冲击层位于弯折区的部分进行凹槽设置，从而减薄弯折区处的抗冲击层的厚度，并采用具有更好抗弯折性能的填充层对该凹槽进行填充，从而提高弯折区处的抗弯折性能；从而在保证弯折区的抗弯折性能的同时，提升显示模组的抗机械性能。

附图说明

为了更清楚地说明本公开或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本公开实施例所述显示模组的结构示意图；

图2为本公开实施例所述显示模组的另一结构示意图；

图3为本公开实施例所述显示模组的又一结构示意图；

图4为本公开实施例所述显示模组的再一结构示意图；

图5为本公开实施例增亮膜原理示意图；

图6为本公开实施例所述显示模组的制备方法的流程示意图；

图7a为本公开实施例显示基板的结构示意图；

图7b为本公开实施例抗冲击层的制备示意图；

图7c为本公开实施例抗冲击层的制备结果示意图；

图7d为本公开实施例填充层的制备结果示意图；

图7e为本公开实施例上保护膜的贴附示意图；

图7f为本公开实施例填充层的另一制备结果示意图；

图8为本公开实施例增亮膜的制备过程示意图。

具体实施方式

为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本公开进一步详细说明。

需要说明的是，除非另外定义，本公开实施例使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开实施例中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

如背景技术所述，相关技术中为保证柔性OLED显示产品优异的弯折或者折叠性能，例如更小折叠半径、更长折叠寿命等，往往采用透明聚酰亚胺(CPI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或超薄玻璃(UTG)等柔性折叠盖板组合来实现可弯折性，这种较薄的柔性盖板舍弃了产品的抗机械性能，不利于产品的抗冲击性能的提升。因此相比于直板手机等显示产品，弯折产显示产品的机械性能，特别是落球落笔性能表现欠佳。

基于上述理由，本公开提供一种显示模组，在保证显示产品抗弯折性能的同时，提高产品的抗机械性能。如图1所示，所述显示模组包括显示基板100、抗冲击层104以及填充层107。

其中，所述显示基板100包括依次层叠设置的衬底基板101、发光层102以及封装层103。衬底基板101可支承、保护形成在其上的各个层或元件。衬底基板101可包括用于驱动各个像素单元的像素电路、栅极驱动电路和数据驱动电路等。该像素电路可以为通常的2T1C、4T1C像素电路，也可以为具有内部补偿或外部补偿等功能的像素电路，本公开的实施例对此不作限制。发光层102包括多个发光单元，每个发光单元可包括阴极、阳极和夹设在两者之间的有机发光单元，从阳极注入的空穴和从阴极注入的电子在有机发光层中结合以形成激子，激子从激发态落至基态而发射光。发光单元可以发出红光、蓝光、绿光或白光。封装层103可密封发光层102并防止外部氧气和水分渗发光层102中。

如图1所示，显示基板100包括第一区域5及至少部分围绕所述第一区域5的第二区域6，第一区域5用于实现显示基板100的弯折，第二区域6用于实现显示基板100的平面显示。其中，第一区域5的弯折角度可以为0-360°范围内的任意角度，例如可以为30°、90°、180°等。其中，当第一区域5的弯折角度为180°且可多次折叠时，第一区域5即为折叠区，相应的显示基板100即为可折叠显示基板。例如，当显示基板100为边缘具有弯折部分的柔性OLED显示基板时，第一区域5可包括弯折区，第二区域6可包括非弯折区，第一区域5设置于显示基板的边缘，且至少部分围绕第二区域6设置；当显示基板为可折叠显示基板时，第一区域5可包括折叠区，第二区域6可包括非折叠区，第二区域6设置于第一区域5的两侧。此外，显示基板100也可为其他类型能够实现弯折的显示基板，本公开的实施例对此不作限制。

抗冲击层104设置于所述显示基板100上。如图1所示，抗冲击层104设置于封装层103远离衬底基板101的一侧。所述抗冲击层104在所述第一区域5的部分设置有凹槽，从而使得抗冲击层104在第一区域5形成段差。填充层107设置于抗冲击层104远离所述显示基板100的一侧，且至少部分填充层107设置于所述凹槽中，通过填充层107填充该段差，保证抗冲击层104远离显示基板的一侧平坦。

其中，所述填充层107的抗弯折性能大于所述抗冲击层104的抗弯折性能，从而可以提高第一区域5的抗弯折性能，保证柔性OLED显示装置的弯折区具有更小的弯折半径以及更长的弯折寿命；同时，使得所述填充层107的抗机械性能小于所述抗冲击层104的抗机械性能，从而提高第二区域6的抗机械性能，保证柔性OLED显示装置的非弯折区具有更好的抗冲击性能，特别是更好的落球落笔性能。

本公开实施例所述显示模组，通过在显示基板的封装层上设置具有更好抗机械性能的抗冲击层，从而提高非弯折区的抗机械性能；在抗冲击层位于弯折区的部分进行凹槽设置，从而减薄弯折区处的抗冲击层的厚度，并采用具有更好抗弯折性能的填充层对该凹槽进行填充，从而提高弯折区处的抗弯折性能；从而在保证弯折区的抗弯折性能的同时，提升显示模组的平面显示区域的抗机械性能及抗冲击性能。

在本公开的一些实施例中，如图2所示，所述填充层107远离所述显示基板100的一侧与所述抗冲击层104远离所述显示基板100的一侧齐平，从而使得填充层107全部设置于抗冲击层104的凹槽中，保证抗冲击层104以及填充层107远离显示基板100的一侧平坦。

需要说明的是，本公开实施例中，所述的“齐平”不限于对齐的方式。在实际制作抗冲击层104及填充层107的工艺过程中，由于工艺制作限制，填充层107与抗冲击层104可能不会完全齐平，填充层107远离显示基板100的一侧与抗冲击层104远离显示基板100的一侧可能会有一定的误差。“齐平”包括填充层107所在表面与抗冲击层104所在表明呈现-10～10°夹角的情况，可选的，填充层107所在表面与抗冲击层104所在表明呈现-5～5°都可以为本公开所述的齐平。

可选的，如图1所示，填充层107远离显示基板100的一侧与显示基板100之间具有第一距离，抗冲击层104远离显示基板100的一侧齐平显示基板100之间具有第二距离，且第一距离大于第二距离。即填充层107中仅有部分设置于凹槽，另一部分在抗冲击层104远离显示基板100的一侧形成膜层结构，且该膜层结构形成于第一区域5及第二区域6内，这样在制作时更容易保证填充层107的平坦。同时，填充层107在第二区域6的部分也可以进一步提高第二区域6的抗机械性能。

在一些实施例中，如图1、图2所示，所述凹槽贯穿所述抗冲击层104，这样在制作抗冲击层104时可采用完全刻蚀的方式形成凹槽，更容易实现凹槽的制作。如图2所示，当填充层107远离显示基板100的一侧与抗冲击层104远离显示基板100的一侧齐平时，所述凹槽的深度与所述填充层107的厚度相同。本实施例中，通过对抗冲击层104进行完全刻蚀从而形成贯穿抗冲击层104的凹槽，之后采用填充层107的材料对该凹槽进行填充从而形成填充层107，通过填充层107填充该凹槽，从而形成抗冲击层104以及填充层107的结构，提高第一区域的抗弯折性能并提升第二区域的抗机械性能，同时保证抗冲击层104远离显示基板100的一侧平坦。

可选的，凹槽也可不贯穿抗冲击层104，即对抗冲击层104上的第一区域5进行部分刻蚀从而形成不贯穿抗冲击层104的凹槽，此时采用填充层107对该凹槽进行填充则可以提高第一区域5的抗机械性能。

在上述实施例中，当在抗冲击层104上进行部分刻蚀或者完全刻蚀形成凹槽后，通过涂布工艺或者气相沉积工艺等采用填充层107的材料在抗冲击层104上制作填充层107，从而可以提高第二区域6的落球落笔性能。

在一些实施例中，所述填充层107的材料的模量小于所述抗冲击层104的材料的模量，所述抗冲击层104的材料的硬度高于所述填充层107的材料的硬度。在厚度一定的情况下，由于材料的模量越小，其材质越软，其抗弯折性能更好；因此，为使得填充层107的抗弯折性能大于抗冲击层104的抗弯折性能，填充层107在选择材料时，需保证填充层107的材料的模量小于抗冲击层104的材料的模量，从而保证所形成的填充层107的抗弯折性能大于抗冲击层104的抗弯折性能，进而保证第一区域5的抗弯折性能大于第二区域6的抗弯折性能。而在厚度一定的情况下，由于材料的模量(弹性模量)越大，其刚度越大，即材质越硬，其抗机械性能更好；因此为使得抗冲击层104的抗机械性能大于填充层107的抗机械性能，抗冲击层104在选择材料时，需保证抗冲击层104的材料的模量以及硬度大于填充层107的材料的模量，从而使得形成的抗冲击层104的表面硬度大于填充层107的表面硬度，从而保证第二区域6表面的抗机械性能大于第一区域5表面的抗机械性能。

可选的，抗弯折性能包括弯折区的弯折半径、弯折寿命等性能。当显示装置的弯折区为U型时，其弯折半径一般大于等于1mm。通过本实施例中抗冲击层以及填充层的结构设计，可以使得U型弯折区的折叠半径小于1mm。当显示装置的弯折区为水滴型时，其弯折半径一般大于等于1mm。通过本实施例中抗冲击层以及填充层的结构设计，可以使得U型弯折区的弯折半径小于1mm。因此，采用本实施例中抗冲击层以及填充层的结构设计，可以减小显示装置的弯折区的折叠半径，从而提高了显示装置的抗弯折性能。

可选的，抗机械性能包括落球落笔性能，本实施例中，通过抗冲击层以及填充层的结构设置，使得在保证了第一区域的抗弯折性能的条件下，使得显示装置的第二区域的落球落笔性能大于等于10cm，从而提高了第二区域的抗机械性能。

可选的，抗冲击层104的材料采用具有较高机械性能以及较高透过率的材料制作，例如透过率大于等于80％的材料。填充层107的材料采用具有较高折叠性能以及较高透过率的材料制作，例如透过率大于等于80％的材料。其中，填充层107的材料与抗冲击层104的材料具有相近的折射率，例如当填充层107的材料与抗冲击层104的材料的折射率小于等于10％，能够保证不会因填充层107与抗冲击层104的折射率不同导致显示不良；或者，当填充层107的材料与抗冲击层104的材料的折射率小于等于5％，则具有更优的显示效果；当填充层107的材料与抗冲击层104的材料的折射率小于等于1％时，显示效果更好。

在一些可选的实施例中，所述抗冲击层104包括单膜层结构或者多膜层堆叠结构。所述抗冲击层的膜层材料包括有机材料、无机材料、有机无机杂化材料中的至少一种。即抗冲击层104可以为单膜层的有机材料膜层、无机材料膜层或者有机无机杂化材料膜层，也可以为有机材料、无机材料、有机无机杂化材料中的一种或多种形成多膜层堆叠结构。其中，有机材料可以包括热塑性聚氨酯弹性体橡胶(TPU)、丙烯酸改性树脂、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等，无机材料可以包括二氧化硅、氧化铝等。

可选的，可以采用涂布工艺形成抗冲击层104的有机材料单膜层结构或者多膜层堆叠结构中的有机材料膜层，采用化学气相沉积工艺形成抗冲击层104的无机材料单膜层结构或者多膜层堆叠结构中的无机材料膜层。

可选的，抗冲击层104中的某一膜层可以为一种材料形成，也可以为多种组合材料形成。抗冲击层104的厚度可以根据显示产品需求达到的落球落笔规则设定。一般的，抗冲击层104的厚度大于等于1μm。当显示产品需要更高的机械性能时，抗冲击层104的厚度可以为大于等于50μm或者大于等于100μm。

所述填充层107的材料包括无机材料、有机材料。其中，无机材料包括二氧化硅等，有机材料包括聚丙烯酸酯类等。可选的，采用聚丙烯酸酯类等有机材料制作填充层107能够使得显示产品具有更好的抗弯折性能。

在一些可选的实施例中，所述凹槽的深度小于40μm，所述填充层107的材料包括光学胶(OCA)。本实施例中，由于目前的折叠显示面板在使用OCA时，具备量产能力的OCA的最大厚度为100μm，同时OCA对段差的填充能力最大为40％。因此，当凹槽的深度即抗冲击层104的段差小于40μm时，可采用较厚的光学胶层形成填充层107，利用光学胶的流动性填充凹槽，从而形成100μm厚的光学胶层作为填充层107。

在另一些实施例中，所述显示模组还设置有圆偏光片。如图3所示，所述圆偏光片包括偏光层114以及第一相位差膜113。其中，偏光层114设置于所述抗冲击层104远离所述显示基板100的一侧，第一相位差膜113设置于所述偏光层114及所述抗冲击层104之间。

如图3所述，当显示模组设置有填充层107时，偏光层114设置于填充层107远离显示基板的一侧，第一相位差膜113设置于偏光层114及填充层107之间。

可选的，本实施例中，偏光层114为吸收型偏光片，使得外界入射光在通过偏光层114时，部分入射光被吸收，部分入射光被转换为直线偏振光透射后入射至第一相位差膜113。由于第一相位差膜113为1/4λ相位差膜，因此从偏光层114透射出的直线偏振光在经过第一相位差膜113后被转换为圆偏振光，而该圆偏振光入射到显示基板的阴极层被反射后的光线不会经偏光层114射出，从而可以用户在使用该显示装置时不会看到外界景物的反射图像。

在一些可选的实施例中，所述显示基板100靠近所述偏光层114一侧设置有阴极层；所述圆偏光片用于透射所述显示基板100的部分出射光；将另一部分所述出射光反射至所述阴极层，使所述阴极层将另一部分所述出射光转化为阴极层反射光，且透射至少部分阴极层反射光。

在本实施例中，将所述圆偏光片设置为既有吸收功能又具有反射功能的偏光片，例如将吸收型偏光片与反射式偏光片组合成一个完整的偏光层，其中具有反射功能的一侧靠近显示基板100。这样，远离显示基板100的一侧仍然能够吸收部分外界入射光并同时透射部分外界入射光，从而用户在使用该显示装置时不会看到外界景物的反射图像；靠近显示基板100的一侧设置为能够透射显示基板100的部分出射光且反射部分出射光，从而使得显示装置的显示内容能够被用户所看到的同时，由于未穿过圆偏光片的部分反射光经过阴极层反射后被转化为阴极层反射光，而阴极层反射光中又有部分光线被重新反射至圆偏光片且能够被透射出，这样显示基板100的出射光中就有更多光线被透射出去，从而可以提高OLED显示装置的发光效率，解决因搭配吸收型圆偏光片导致发光效率至少损失50％且提高了OLED显示装置发光功耗的问题。

可选的，如图3所示，第一相位差膜113与填充层107之间设置有第一胶层112，通过第一胶层112实现圆偏光片与显示基板之间的粘接。可选的，第一胶层112的材料包括压敏胶(PSA)。

可选的，偏光层114远离显示基板的一侧设置有盖板115，用于保护圆偏光片、显示基板等各膜层结构。

可选的，衬底基板101远离圆偏光片的一侧设置有背保护膜116，用于保护衬底基板101。背保护膜116远离衬底基板101的一侧设置有散热膜118，用于实现显示基板的散热。散热膜118与背保护膜116之间通过第二胶层117粘接。可选的，第二胶层117的材料包括光学胶(OCA)。

可选的，背保护膜116远离衬底基板101的一侧也可粘接SUS钢片，用于实现对衬底基板101以及各膜层结构的支撑。

在一些实施例中，所述偏光层114为吸收型偏光片，所述显示基板100靠近所述偏光层114一侧设置有阴极层。本公开实施例所述显示模组还包括增亮膜。其中，所述增亮膜设置于所述圆偏光片与所述抗冲击层104之间，用于将所述显示基板的部分出射光透射至所述圆偏光片后射出；将另一部分所述出射光反射至所述阴极层，使所述阴极层将另一部分所述出射光转化为阴极层反射光，且至少部分阴极层反射光经所述增亮膜、所述圆偏光片透射出。

本实施例中，增亮膜可以透射显示基板100发出的部分出射光，同时反射显示基板100发出的部分出射光，增亮膜透射的部分出射光经过圆偏光片后射出，从而实现OLED显示装置的显示功能；增亮膜反射的部分出射光被显示基板的阴极层反射后被转化为阴极层反射光，而阴极层反射光中部分光线会重新被增亮膜透射出，从而将原本应该被圆偏光片吸收的部分光线重新释放出来，提高OLED显示装置的发光效率并降低其功耗。

可选的，OLED显示装置的发光效率可以提高5％或5％以上。

在一些实施例中，如图4所示，所述增亮膜包括反射式偏光板109以及第二相位差膜111。其中，反射式偏光板109设置于所述第一相位差膜113与所述抗冲击层104之间，第二相位差膜设置于所述反射式偏光板109与所述第一相位差膜113之间；其中，所述反射式偏光板109的下偏角度与所述偏光层114的透过轴的方向相同，从而使得透过反射式偏光板109的光线的偏振方向与透过偏光层114的光线的偏振方向相同。所述第二相位差膜111的慢轴与所述第一相位差膜113的慢轴的方向相同。

可选的，反射式偏光板109的厚度为1～300μm，其材质可以是有机材料或无机材料。反射式偏光板109利用回收光机制，重复利用显示基板100发出的光，以高低不同折射率的两种光学材料层层叠制，通过反射式偏光板109后的光为沿某一方向振动的线偏光。反射式偏光板109需要搭配圆偏光片中偏光层114的穿透轴角度来使用，同时需要控制反射式偏光板109的下偏角度与偏光层114的透过角度保持一致，从而实现膜层的增亮效果。

可选的，第二相位差膜111是1/4λ相位差膜，其厚度为1～300μm。第二相位差膜111的材料与型号可以与圆偏光片的第一相位差膜113相同，也可以不同。另外，第二相位差膜111的慢轴需要与第一相位差膜113的慢轴保持同一方向，第二相位差膜111的作用是将通过反射式偏光板109后的线偏振光转为圆偏振光。

可选的，显示基板100与反射式偏光板109之间设置第三胶层108，从而实现反射式偏光板109与显示基板100的粘接；反射式偏光板109与第二相位差膜111之间设置第四胶层110，从而实现反射式偏光板109与第二相位差膜111的粘接。可选的，第三胶层108、第四胶层110可以为压敏胶(PSA)。

如图5所示，显示基板100的出射光为自然光11，其偏振状态可以分解为偏振状态互相垂直且振幅相同的两个线偏振光，即垂直偏振光(即P光)12和水平偏振光(即S光)13。在不设置增亮膜的情况下，显示基板100的出射光14经过圆偏光片后被转化为沿偏光层114的透过轴方向振动的线偏振光15，且线偏振光15的振动方向与P光12相同。但是振动方向与偏光层114的透过轴垂直的偏振光会被偏光层114吸收，导致OLED显示装置的发光效率损失至少50％。

当设置有本实施例所述增亮膜后，显示基板100的出射光会被分解为P光12和S光13，P光12的偏振方向在入射光与法线组成的平面内，S光13的偏振方向垂直于入射光与法线组成的平面。

如图5所示，显示基板100的出射光16入射至反射式偏光板109，反射式偏光板109将所述显示基板100的一部分出射光16转化为第一直线偏振光18出射至所述第二相位差膜111，将另一部分所述出射光16转化为第二直线偏振光17并反射至显示基板100的阴极层。其中，第一直线偏振光18的偏振方向与圆偏光片的偏光层114的透过轴一致，例如为P光，因此会正常通过；而第二直线偏振光17的偏振方向与圆偏光片的偏光层114的透过轴垂直，例如为S光，因此被反射回显示基板100的阴极层。

第二相位差膜111将第一直线偏振光18转化为第一圆偏振光19出射至第一相位差膜113。如图5所示，第一直线偏振光18经过1/4λ相位差膜后变为相应的圆偏振光，即第一圆偏振光19。

第一相位差膜113将所述第一圆偏振光19转化为第三直线偏振光20并出射至所述偏光层114以通过所述偏光层114射出。如图5所示，第一圆偏振光19经过圆偏光片的第一相位差膜113后再次被转换为与第一直线偏振光18的偏振方向一致的第三直线偏振光20，第三直线偏振光20的偏振方向与偏光层114的透过轴一致，可通过圆偏光片的偏光层114射出后成为OLED显示装置的发射光21。

另一方面，经反射式偏光板109反射回OLED显示装置的阴极层的第二直线偏振光17，再经过阴极层的反射，将第二直线偏振光117转化为阴极层反射光22并出射至反射式偏光板109。其中，阴极层反射光22包括分别与第一直线偏振光18、第二直线偏振光17的偏振方向相同的光线。即，第二直线偏振光17经过阴极层的反射后又变成S光及P光的组合光，即阴极层反射光22。阴极层反射光22又可以经过反射式偏光板109、圆偏光片后成为OLED的发射光26及第五直线偏振光27，第五直线偏振光27再次循环后成为发射光32。最终，如此循环反射，原本应该被圆偏光片吸收的S光重新发射出来，从而使得OLED显示装置的发光效率会增加，功耗也会降低。

基于同一发明构思，与上述任意实施例所述显示模组相应的，本公开还提供一种显示装置，该显示装置包括如上述任一项实施例所述的显示模组。该显示装置包括上述任一项实施例所述的显示模组，具有与显示模组相应的实施例的有益效果，在此不再赘述。

需要说明的是，本实施例中的显示装置可以为：电子纸、手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间惟一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。

本公开实施例的另一方面还提供一种显示模组的制备方法。如图6所示，所述制备方法包括：

步骤S101，提供一显示基板，所述显示基板包括第一区域及至少部分围绕所述第一区域的第二区域。

其中，所述第一区域5用于实现所述显示基板100的弯折，第二区域6用于实现显示基板100的平面显示。

如图7a所示，所述显示基板100包括依次层叠设置的衬底基板101、发光层102以及封装层103。其中，衬底基板101可包括用于驱动各个像素单元的像素电路、栅极驱动电路和数据驱动电路等。

可选的，衬底基板101远离发光层102的一侧还设置有玻璃基板200，显示基板100的各膜层依次制备于玻璃基板200上。

步骤S102，在所述显示基板上形成抗冲击层，且所述抗冲击层在所述第一区域设置有凹槽。

如图7b所示，在显示基板100上采用涂布工艺或者气相沉积工艺(CVD)等方式形成抗冲击层的材料膜层。

如图7c所示，形成抗冲击层的材料膜层之后，在膜层上进行曝光、显影、刻蚀等工艺在第一区域上形成凹槽，从而形成抗冲击层104。其中，在进行刻蚀时，凹槽可以贯串抗冲击层104，也可不贯串抗冲击层104。

步骤S103，在所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧形成填充层，且至少部分所述填充层设置于所述凹槽；其中，所述填充层的抗弯折性能大于所述抗冲击层的抗弯折性能，且所述填充层的抗机械性能小于所述抗冲击层的抗机械性能。

可选的，当凹槽贯穿所述抗冲击层104，凹槽的深度与所述填充层107的厚度相同。

可选的，可采用涂布工艺制作填充层107。如图7d所示，通过涂布工艺采用填充层的材料在抗冲击层104上进行涂布，固化后形成填充层107。之后，进行激光剥离工艺从而剥离玻璃基板200，并贴附背保护膜116。

可选的，也可采用气相沉积工艺(CVD)制作填充层107。如图7e所示，完成凹槽的刻蚀后，在抗冲击层104上贴附上保护膜131，再进行激光剥离工艺实现显示基板100与玻璃基板200的分离，分离后再贴合上背保护膜116。之后剥离上保护膜131，再形成填充层107，如图7f所示。其中，采用光学胶(OCA)制作填充层107，利用光学胶的流动性填充抗冲击层104上的段差，形成填充层107。

可选的，抗冲击层104包括单膜层结构或者多膜层堆叠结构。所述抗冲击层的膜层材料包括有机材料、无机材料、有机无机杂化材料中的至少一种。即抗冲击层104可以为单膜层的有机材料膜层、无机材料膜层或者有机无机杂化材料膜层，也可以为有机材料、无机材料、有机无机杂化材料中的一种或多种形成多膜层堆叠结构。其中，有机材料可以包括TPU(热塑性聚氨酯弹性体橡胶)、丙烯酸改性树脂、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)等，无机材料可以包括二氧化硅、氧化铝等。

可选的，抗冲击层104的厚度大于等于1μm。当显示产品需要更高的机械性能时，抗冲击层104的厚度可以为大于等于50μm或者大于等于100μm。

所述填充层107的材料包括无机材料、有机材料。其中，无机材料包括二氧化硅等，有机材料包括聚丙烯酸酯类等。可选的，采用聚丙烯酸酯类等有机材料制作填充层107能够使得显示产品具有更好的折叠性能。

可选的，所述凹槽的深度小于40μm，所述填充层107的材料包括光学胶(OCA)。本实施例中，当凹槽的深度即抗冲击层104的段差小于40μm时，可采用较厚的光学胶层形成填充层107，利用光学胶的流动性填充凹槽，从而形成100μm厚的光学胶层作为填充层107。

在一些可选的实施例中，所述显示模组包括增亮膜，所述增亮膜包括反射式偏光板109和第二相位差膜111；所述制备方法还包括：

步骤S201，将所述反射式偏光板109与所述第二相位差膜111贴合，形成所述增亮膜。

本实施例中，可采用外挂式增亮膜，即先将反射式偏光板109与第二相位差膜111通过第四胶层110贴合形成一体化的增亮膜后，再将增亮膜贴附到显示基板100上。

可选的，也可将反射式偏光板109与第二相位差膜111依次与显示基板贴合。

步骤S202，将所述增亮膜贴附于所述填充层107上，其中所述反射式偏光板109位于所述填充层107与所述第二相位差膜111之间。

本实施例中，当一体化的增亮膜携带用于与显示基板100贴合的第三胶层108时，可直接将该增亮膜贴附于显示基板上。可选的，在本显示模组中，可以将增亮膜贴附于显示基板的封装层上或者贴附于填充层107上。

当一体化的增亮膜未携带用于与显示基板100贴合的第三胶层108时，先将一体化的增亮膜与第三胶层108贴合后再与显示基板100贴合，或者，先将显示基板100与第三胶层108贴合后再与增亮膜贴合。

在另一些可选的实施例中，所述显示模组包括增亮膜，所述增亮膜包括反射式偏光板和第二相位差膜；所述制备方法还包括：

步骤S301，在所述填充层上依次制作多层折射率不同的材料，形成所述反射式偏光板。

本实施例中，可采用内嵌式增亮膜，即采用涂布工艺或者气相沉积工艺在显示基板的封装层上或者填充层107上先制备反射式偏光板109，之后再制备第二相位差膜111。其中，由于反射式偏光板109由高低不同折射率层层叠制形成，高低折射率材料的选择可以是有机材料或无机材料，制备工艺可以是涂布或者是CVD(化学气相沉积)，材料可选择为2种或者2种以上。

如图8所示，在显示基板的封装层上先制备一层材料34，随后制备一层材料35，再制备一层材料34，如此循环多次，从而形成反射式偏光层109。材料34与材料35的折射率不同。

步骤S302，在所述反射式偏光板上涂布配向层，形成所述第二相位差膜。

如图8所示，首先在反射式偏光板109上涂布配向层36，涂布的物质可以是LPP类或偶氮类化合物，取向的方法可以采用光照、摩擦等工艺，较优是光照取向。配向处理后，将带有特定基团的聚合性液晶材料及溶剂或聚合性液晶材料、手性化合物及溶剂等混合物涂布在配向层36上，然后在非聚合条件下干燥，最后光照聚合得到第二相位差膜111。

所属领域的普通技术人员应当理解：以上任何实施例的讨论仅为示例性的，并非旨在暗示本公开的范围(包括权利要求)被限于这些例子；在本公开的思路下，以上实施例或者不同实施例中的技术特征之间也可以进行组合，步骤可以以任意顺序实现，并存在如上所述的本公开实施例的不同方面的许多其它变化，为了简明它们没有在细节中提供。

另外，为简化说明和讨论，并且为了不会使本公开实施例难以理解，在所提供的附图中可以示出或可以不示出与集成电路(IC)芯片和其它部件的公知的电源/接地连接。此外，可以以框图的形式示出装置，以便避免使本公开实施例难以理解，并且这也考虑了以下事实，即关于这些框图装置的实施方式的细节是高度取决于将要实施本公开实施例的平台的(即，这些细节应当完全处于本领域技术人员的理解范围内)。在阐述了具体细节(例如，电路)以描述本公开的示例性实施例的情况下，对本领域技术人员来说显而易见的是，可以在没有这些具体细节的情况下或者这些具体细节有变化的情况下实施本公开实施例。因此，这些描述应被认为是说明性的而不是限制性的。

尽管已经结合了本公开的具体实施例对本公开进行了描述，但是根据前面的描述，这些实施例的很多替换、修改和变型对本领域普通技术人员来说将是显而易见的。例如，其它存储器架构(例如，动态RAM(DRAM))可以使用所讨论的实施例。

本公开实施例旨在涵盖落入所附权利要求的宽泛范围之内的所有这样的替换、修改和变型。因此，凡在本公开实施例的精神和原则之内，所做的任何省略、修改、等同替换、改进等，均应包含在本公开的保护范围之内。

Claims (15)

1.一种显示模组，其特征在于，包括：

显示基板，包括第一区域及至少部分围绕所述第一区域的第二区域；所述第一区域用于实现所述显示基板的弯折；

抗冲击层，设置于所述显示基板上，且所述抗冲击层在所述第一区域设置有凹槽；

填充层，设置于所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧，且至少部分所述填充层设置于所述凹槽中；

其中，所述填充层的抗弯折性能大于所述抗冲击层的抗弯折性能，且所述填充层的抗机械性能小于所述抗冲击层的抗机械性能。

2.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述填充层远离所述显示基板的一侧与所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧齐平。

3.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述凹槽贯穿所述抗冲击层。

4.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述填充层的材料的模量小于所述抗冲击层的材料的模量，所述抗冲击层的材料的硬度高于所述填充层的材料的硬度。

5.根据权利要求4所述的显示模组，其特征在于，所述凹槽的深度小于40μm，所述填充层的材料包括光学胶。

6.根据权利要求1-5任一项所述的显示模组，其特征在于，还包括圆偏光片，所述圆偏光片包括：

偏光层，设置于所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧；

第一相位差膜，设置于所述偏光层与所述抗冲击层之间。

7.根据权利要求6所述的显示模组，其特征在于，所述显示基板靠近所述偏光层一侧设置有阴极层；

所述圆偏光片用于透射所述显示基板的部分出射光；将另一部分所述出射光反射至所述阴极层，使所述阴极层将另一部分所述出射光转化为阴极层反射光，且透射至少部分阴极层反射光。

8.根据权利要求6所述的显示模组，其特征在于，所述显示基板靠近所述偏光层一侧设置有阴极层；所述显示模组还包括：

增亮膜，设置于所述圆偏光片与所述抗冲击层之间，用于将所述显示基板的部分出射光透射至所述圆偏光片后射出；将另一部分所述出射光反射至所述阴极层，使所述阴极层将另一部分所述出射光转化为阴极层反射光后反射至所述增亮膜，且至少部分阴极层反射光经所述增亮膜、所述圆偏光片透射出。

9.根据权利要求8所述的显示模组，其特征在于，所述增亮膜包括：

反射式偏光板，设置于所述第一相位差膜与所述抗冲击层之间，且所述反射式偏光板的透过角度与所述偏光层的透过角度相同；

第二相位差膜，设置于所述反射式偏光板与所述第一相位差膜之间；

其中，所述反射式偏光板的下偏角度与所述偏光层的透过轴的方向相同，所述第二相位差膜的慢轴与所述第一相位差膜的慢轴的方向相同。

10.根据权利要求9所述的显示模组，其特征在于，

所述反射式偏光板用于将所述显示基板的部分出射光转化为第一直线偏振光出射至所述第二相位差膜，将另一部分所述出射光转化为第二直线偏振光并反射至所述阴极层；

所述第二相位差膜用于将所述第一直线偏振光转化为第一圆偏振光出射至所述第一相位差膜；

所述第一相位差膜用于将所述第一圆偏振光转化为第三直线偏振光并出射至所述偏光层以通过所述偏光层射出；

所述阴极层用于将所述第二直线偏振光转化为阴极层反射光并出射至所述反射式偏光板；所述阴极层反射光包括分别与所述第一直线偏振光、所述第二直线偏振光的偏振方向相同的光线。

11.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述第一区域包括弯折区，所述第二区域包括非弯折区。

12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-11任一项所述的显示模组。

13.一种显示模组的制备方法，其特征在于，包括：

提供一显示基板，所述显示基板包括第一区域及至少部分围绕所述第一区域的第二区域；所述第一区域用于实现所述显示基板的弯折；

在所述显示基板上形成抗冲击层，且所述抗冲击层在所述第一区域的设置有凹槽；

在所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧形成填充层，且至少部分所述填充层设置于所述凹槽中；

其中，所述填充层的抗弯折性能大于所述抗冲击层的抗弯折性能，且所述填充层的抗机械性能小于所述抗冲击层的抗机械性能。

14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述显示模组包括增亮膜，所述增亮膜包括反射式偏光板和第二相位差膜；所述制备方法还包括：

将所述反射式偏光板与所述第二相位差膜贴合，形成所述增亮膜；

将所述增亮膜贴附于所述填充层上，其中所述反射式偏光板位于所述填充层与所述第二相位差膜之间。

15.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述显示模组包括增亮膜，所述增亮膜包括反射式偏光板和第二相位差膜；所述制备方法还包括：

在所述填充层上依次制作多层折射率不同的材料，形成所述反射式偏光板；

在所述反射式偏光板上涂布配向层，形成所述第二相位差膜。