JP5036351B2 - パターン露光方法及び装置 - Google Patents
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Description
3 透明フイルム
4,5 ルーバーライン
10 パターン露光装置
11 帯状ワーク
13,60,80 露光部
16 制御部
19 第1感光層
20 第2感光層
28 露光ローラ
29 フォトマスク
30 照明部
35,61 第1フィルタ層
36,62 第2フィルタ層
39,66,70 第1パターン
40,65,71 第2パターン
44 第1レーザ出力器
45 第2レーザ出力器
46 プリズム
49 ポリゴンミラー
81 平行光源
90 複合フイルム
91 電磁波シールドパターン
92 直線パターン
Claims (15)
- 光透過性を有する支持体の表裏面に、第1波長帯の光に分光感度を有する第1感光層と、第2波長帯の光に分光感度を有する第2感光層がそれぞれ設けられた感光材料に、
前記第1波長帯の光を透過させ、かつ前記第2波長帯の光を遮断する透過特性を有し、前記第2感光層に露光される第1パターンが形成された第1フィルタ層と、前記第2波長帯の光を透過させ、かつ前記第1波長帯の光を遮断する透過特性を有し、前記第1感光層に露光される第2パターンが形成された第2フィルタ層とを有するフォトマスクを対面させ、
前記フォトマスクを介して一方の面側から、前記第1波長帯の第1レーザ光と前記第2波長帯の第2レーザ光とを走査し、あるいは前記第1レーザ光と前記第2レーザ光を合波した合波レーザ光を走査して、前記第1感光層及び前記第2感光層に前記第1パターン及び前記第2パターンを同時に露光するパターン露光方法であり、
前記第2フィルタ層から前記第1感光層までの距離をD、前記フォトマスクに対する前記第1レーザ光または前記合波レーザ光の入射角度をθとしたときに、前記第2パターンは、前記第1感光層に形成される潜像の形成予定位置に対し、前記第1レーザ光または前記合波レーザ光の走査方向に沿う方向でD/tanθだけずれた位置に形成されることを特徴とするパターン露光方法。 - 前記第1感光層と第2感光層の距離をT、前記フォトマスクに対する前記第2レーザ光または合波レーザ光の入射角度をθとしたときに前記第1パターンは、前記第2パターンに対し、前記第2レーザ光または前記合波レーザ光の走査方向に沿う方向でT/tanθだけずれた位置に形成されることを特徴とする請求項1記載のパターン露光方法。
- 前記第1感光層及び前記第2感光層に形成される潜像は、前記支持体の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合うことを特徴とする請求項2記載のパターン露光方法。
- 前記第1パターン及び第2パターンは、前記第1レーザ光及び第2レーザ光、または前記合波レーザ光の走査方向に沿って配置される直線であり、前記第1感光層及び前記第2感光層に形成される潜像は、前記支持体の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合うことを特徴とする請求項1記載のパターン露光方法。
- 前記支持体が帯状に形成されてなる帯状感光材料を連続搬送し、
前記帯状ワークの搬送速度に同期された露光周期及び露光時間で前記フォトマスクに光を照射させて、前記第1パターン及び前記第2パターンを搬送方向に周期的なパターンとして前記第1感光層及び第2感光層に露光させることを特徴とする請求項1〜4いずれか記載のパターン露光方法。 - 前記第1の感光層と前記第2の感光層に、前記支持体の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合う複数の平行な直線状パターンを露光して、ルーバー材料の作成に用いることを特徴とする請求項1〜5いずれか記載のパターン露光方法。
- 前記第1の感光層に格子状のパターンを露光し、前記第2の感光層に、前記格子状のパターンの縦線または横線のいずれか一方に対し、前記支持体の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合う複数の平行な直線状パターンを露光して、ルーバー機能と電磁波シールド機能とを有するシート材料の作成に用いることを特徴とする請求項1〜5いずれか記載のパターン露光方法。
- 光透過性を有する支持体の表裏面に、第1波長帯の光に分光感度を有する第1感光層と、第2波長帯の光に分光感度を有する第2感光層がそれぞれ設けられた感光材料に対面して配置され、前記第1波長帯の光を透過させかつ前記第2波長帯の光を遮断する透過特性を有し前記第2感光層に露光される第1パターンが形成された第1フィルタ層と、前記第2波長帯の光を透過させかつ前記第1波長帯の光を遮断する透過特性を有し前記第1感光層に露光される第2パターンが形成された第2フィルタ層とを有するフォトマスクと、
前記第1波長帯の第1レーザ光を出力する第1レーザ出力器と、前記第2波長帯の第2レーザ光を出力する第2レーザ出力器とを有し、前記第1レーザ光及び第2レーザ光、あるいは前記第1レーザ光と前記第2レーザ光とを合波した合波レーザ光を走査機構によって前記フォトマスク上で走査する照明手段とを備えており、
前記第2フィルタ層から前記第1感光層までの距離をD、前記フォトマスクに対する前記第1レーザ光または前記合波レーザ光の入射角度をθとしたときに、前記第2パターンは、前記第1感光層に形成される潜像の形成予定位置に対し、前記第1レーザ光または前記合波レーザ光の走査方向に沿う方向でD/tanθだけずれた位置に形成されることを特徴とするパターン露光装置。 - 前記第1感光層と第2感光層の距離をT、前記フォトマスクに対する前記第2レーザ光または前記合波レーザ光の入射角度をθとしたときに前記第1パターンは、前記第2パターンに対し、前記第2レーザ光または前記合波レーザ光の走査方向に沿う方向でT/tanθだけずれた位置に形成されることを特徴とする請求項8記載のパターン露光装置。
- 前記第1感光層及び前記第2感光層に形成される潜像は、前記感光材料の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合うことを特徴とする請求項9記載のパターン露光装置。
- 前記第1パターン及び第2パターンは、前記第1レーザ光及び第2レーザ光、または前記合波レーザ光の走査方向に沿って配置される直線であり、前記第1感光層及び前記第2感光層に形成される潜像は、前記感光材料の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合うことを特徴とする請求項8記載のパターン露光装置。
- 前記第1レーザ出力器及び第2レーザ出力器は、赤色〜近赤外及び青〜紫色のレーザ光を出力するレーザ出力器であることを特徴とする請求項8〜11いずれか記載のパターン露光装置。
- 前記支持体が帯状に形成されてなる帯状感光材料を連続搬送する搬送手段と、
前記照明手段を制御して、前記帯状ワークの搬送速度に同期された露光周期及び露光時間で前記フォトマスクに光を照射させ、前記第1パターン及び前記第2パターンを搬送方向に周期的なパターンとして前記第1感光層及び第2感光層に露光させる制御手段とを備えることを特徴とする請求項8〜12いずれか記載のパターン露光装置。 - 前記第1の感光層と前記第2の感光層に、前記支持体の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合う複数の平行な直線状パターンを露光して、ルーバー材料の作成に用いることを特徴とする請求項8〜13いずれか記載のパターン露光装置。
- 前記第1の感光層に格子状のパターンを露光し、前記第2の感光層に、前記格子状のパターンの縦線または横線のいずれか一方に対し、前記支持体の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合う複数の平行な直線状パターンを露光して、ルーバー機能と電磁波シールド機能とを有するシート材料の作成に用いることを特徴とする請求項8〜13いずれか記載のパターン露光装置。
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