JP2008216799A - パターン露光方法及び装置、及びフォトマスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明フイルム3の表裏面に設けられている第1感光層19及び第2感光層20に対し、第1感光層19に対面するフォトマスク29を介して光を照射する。第1感光層19及び第2感光層20の分光感度に対応する第1波長帯及び第2波長帯の光L1,L2は、フォトマスク29に設けられた第1フィルタ層35及び第2フィルタ層36を透過し、各フィルタ層に設けられている第1パターン39及び第2パターン40が、第1感光層19及び第2感光層20に対して同時に露光される。
【選択図】図8
Description
3 透明フイルム
4,5 ルーバーライン
10 パターン露光装置
11 帯状ワーク
13,60,80 露光部
16 制御部
19 第1感光層
20 第2感光層
28 露光ローラ
29 フォトマスク
30 照明部
35,61 第1フィルタ層
36,62 第2フィルタ層
39,66,70 第1パターン
40,65,71 第2パターン
44 第1レーザ出力器
45 第2レーザ出力器
46 プリズム
49 ポリゴンミラー
81 平行光源
90 複合フイルム
91 電磁波シールドパターン
92 直線パターン
Claims (27)
- 光透過性を有する支持体の表裏面に、第1波長帯の光に分光感度を有する第1感光層と、第2波長帯の光に分光感度を有する第2感光層がそれぞれ設けられた感光材料に、
前記第1波長帯の光を透過させ、かつ前記第2波長帯の光を遮断する透過特性を有し、前記第2感光層に露光される第1パターンが形成された第1フィルタ層と、前記第2波長帯の光を透過させ、かつ前記第1波長帯の光を遮断する透過特性を有し、前記第1感光層に露光される第2パターンが形成された第2フィルタ層とを有するフォトマスクを介して、一方の面側から前記第1波長帯の光と前記第2波長帯の光を照射し、
前記第1感光層及び前記第2感光層に前記第1パターン及び前記第2パターンを同時に露光することを特徴とするパターン露光方法。 - 前記第1波長帯の光と前記第2波長帯の光は、前記フォトマスクの前記第1フィルタ層及び第2フィルタ層が設けられている面に対して直交する方向から照射されることを特徴とする請求項1記載のパターン露光方法。
- 前記第1波長帯の第1レーザ光と、前記第2波長帯の第2レーザ光を前記フォトマスク上で走査することを特徴とする請求項1記載のパターン露光方法。
- 前記第1レーザ光と、前記第2レーザ光を合波して合波レーザ光を生成し、前記合波レーザ光を前記フォトマスク上で走査することを特徴とする請求項3記載のパターン露光方法。
- 前記第2フィルタ層から前記第1感光層までの距離をD、前記フォトマスクに対する前記第1レーザ光または前記合波レーザ光の入射角度をθとしたときに、前記第2パターンは、前記第1感光層に形成される潜像の形成予定位置に対し、前記第1レーザ光または前記合波レーザ光の走査方向に沿う方向でD/tanθだけずれた位置に形成されることを特徴とする請求項3または4記載のパターン露光方法。
- 前記第1感光層と第2感光層の距離をT、前記フォトマスクに対する前記第2レーザ光または合波レーザ光の入射角度をθとしたときに前記第1パターンは、前記第2パターンに対し、前記第2レーザ光または前記合波レーザ光の走査方向に沿う方向でT/tanθだけずれた位置に形成されることを特徴とする請求項5記載のパターン露光方法。
- 前記第1感光層及び前記第2感光層に形成される潜像は、前記支持体の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合うことを特徴とする請求項6記載のパターン露光方法。
- 前記第1パターン及び第2パターンは、前記第1レーザ光及び第2レーザ光、または前記合波レーザ光の走査方向に沿って配置される直線であり、前記第1感光層及び前記第2感光層に形成される潜像は、前記支持体の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合うことを特徴とする請求項3または4記載のパターン露光方法。
- 前記支持体が帯状に形成されてなる帯状感光材料を連続搬送し、
前記帯状ワークの搬送速度に同期された露光周期及び露光時間で前記フォトマスクに光を照射させて、前記第1パターン及び前記第2パターンを搬送方向に周期的なパターンとして前記第1感光層及び第2感光層に露光させることを特徴とする請求項1〜8いずれか記載のパターン露光方法。 - 前記第1の感光層と前記第2の感光層に、前記支持体の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合う複数の平行な直線状パターンを露光して、ルーバー材料の作成に用いることを特徴とする請求項1〜9いずれか記載のパターン露光方法。
- 前記第1の感光層に格子状のパターンを露光し、前記第2の感光層に、前記格子状のパターンの縦線または横線のいずれか一方に対し、前記支持体の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合う複数の平行な直線状パターンを露光して、ルーバー機能と電磁波シールド機能とを有するシート材料の作成に用いることを特徴とする請求項1〜9いずれか記載のパターン露光方法。
- 光透過性を有する支持体の表裏面に分光感度の異なる第1感光層と第2感光層がそれぞれ設けられた感光材料に対面して配置され、前記第1感光層と前記第2感光層に所定のパターンを露光する際に用いられるフォトマスクにおいて、
前記第1感光層の分光感度に対応する第1波長帯の光を透過させ、かつ前記第2感光層の分光感度に対応する第2波長帯の光を遮断する透過特性を有し、前記第2感光層に露光される第1パターンが形成された第1フィルタ層と、
前記第2波長帯の光を透過させ、かつ前記第1波長帯の光を遮断する透過特性を有し、前記第1感光層に露光される第2パターンが形成された第2フィルタ層と、
前記第1フィルタ層と前記第2フィルタ層とが設けられ、前記第1感光層に対面して配置される透光板とを備えることを特徴とするフォトマスク。 - 前記第1フィルタ層及び第2フィルタ層は、前記透光板の第1感光層に対する面に積層されることを特徴とする請求項12記載のフォトマスク。
- 前記第1フィルタ層及び第2フィルタ層は、前記透光板の第1感光層に対する面に並んで配置されることを特徴とする請求項12記載のフォトマスク。
- 前記第1フィルタ層は、赤色の波長帯以上の光を透過させるハイパスフィルタであり、前記第2フィルタ層は、青色の波長帯以下の光を透過させるローパスフィルタであることを特徴とする請求項12〜14いずれか記載のフォトマスク。
- 前記請求項12〜15いずれか記載のフォトマスクと、
前記フォトマスクを介して、前記第1波長帯の光と前記第2波長帯の光を一方の面側から前記第1感光層と前記第2感光層とに照射する照明手段を備えることを特徴とするパターン露光装置。 - 前記照明手段は、前記フォトマスクの前記第1フィルタ層及び第2フィルタ層が設けられている面に対して直交する方向から、前記第1波長帯の光と前記第2波長帯の光を照射する平行光源を有することを特徴とする請求項16記載のパターン露光装置。
- 前記照明手段は、前記第1波長帯の第1レーザ光を出力する第1レーザ出力器と、
前記第2波長帯の第2レーザ光を出力する第2レーザ出力器と、
前記第1レーザ光及び第2レーザ光を前記フォトマスク上で走査する走査機構を有することを特徴とする請求項16記載のパターン露光装置。 - 前記第1レーザ光と前記第2レーザ光とを合波して合波レーザ光を生成して前記走査機構に入射させる合波光学系を有することを特徴とする請求項18記載のパターン露光装置。
- 前記第2フィルタ層から前記第1感光層までの距離をD、前記フォトマスクに対する前記第1レーザ光または前記合波レーザ光の入射角度をθとしたときに、前記第2パターンは、前記第1感光層に形成される潜像の形成予定位置に対し、前記第1レーザ光または前記合波レーザ光の走査方向に沿う方向でD/tanθだけずれた位置に形成されることを特徴とする請求項18または19記載のパターン露光装置。
- 前記第1感光層と第2感光層の距離をT、前記フォトマスクに対する前記第2レーザ光または前記合波レーザ光の入射角度をθとしたときに前記第1パターンは、前記第2パターンに対し、前記第2レーザ光または前記合波レーザ光の走査方向に沿う方向でT/tanθだけずれた位置に形成されることを特徴とする請求項20記載のパターン露光装置。
- 前記第1感光層及び前記第2感光層に形成される潜像は、前記感光材料の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合うことを特徴とする請求項21記載のパターン露光装置。
- 前記第1パターン及び第2パターンは、前記第1レーザ光及び第2レーザ光、または前記合波レーザ光の走査方向に沿って配置される直線であり、前記第1感光層及び前記第2感光層に形成される潜像は、前記感光材料の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合うことを特徴とする請求項18または19記載のパターン露光装置。
- 前記第1レーザ出力器及び第2レーザ出力器は、赤色〜近赤外及び青〜紫色のレーザ光を出力するレーザ出力器であることを特徴とする請求項18〜23いずれか記載のパターン露光装置。
- 前記支持体が帯状に形成されてなる帯状感光材料を連続搬送する搬送手段と、
前記照明手段を制御して、前記帯状ワークの搬送速度に同期された露光周期及び露光時間で前記フォトマスクに光を照射させ、前記第1パターン及び前記第2パターンを搬送方向に周期的なパターンとして前記第1感光層及び第2感光層に露光させる制御手段とを備えることを特徴とする請求項16〜24いずれか記載のパターン露光装置。 - 前記第1の感光層と前記第2の感光層に、前記支持体の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合う複数の平行な直線状パターンを露光して、ルーバー材料の作成に用いることを特徴とする請求項16〜25いずれか記載のパターン露光装置。
- 前記第1の感光層に格子状のパターンを露光し、前記第2の感光層に、前記格子状のパターンの縦線または横線のいずれか一方に対し、前記支持体の表裏面に直交する方向から見たときに重なり合う複数の平行な直線状パターンを露光して、ルーバー機能と電磁波シールド機能とを有するシート材料の作成に用いることを特徴とする請求項16〜25いずれか記載のパターン露光装置。
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