JP5044450B2 - パターン形成方法、パターン露光方法及び装置、電磁波シールド材料 - Google Patents
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Description
3 透明フイルム
4 金属メッシュ
5 コア
6 銅メッキ
10 パターン露光装置
11 帯状ワーク
13,50,55,60,65,70 露光部
16 制御部
28 露光ローラ
29 フォトマスク
30 照明部
33,80 マスクパターン
38 レーザ出力器
45 フォトダイオード
51,56,57 フィルタ
61,62,73,74 遮光フィルタ
66,71 遮光板
67,72 スリット
Claims (26)
- 一方の面にコアが設けられ、前記コアの表面に電解メッキによって金属コートが形成されている帯状ワークに、前記コアのパターンを形成するパターン形成方法において、
前記帯状ワークの幅方向における両端部近傍の前記コアが、前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって徐々に薄く、または徐々に細くなるように、あるいは前記両端部近傍に前記コアが設けられないように、前記コアのパターンが形成されていることを特徴とするパターン形成方法。 - 露光及び現像により一方の面にコアが設けられ、前記コアの表面に電解メッキによって金属コートが形成されている帯状ワークに、前記コアのパターンを露光するパターン露光方法であり、前記コアのパターンと略同形状のマスクパターンを有するフォトマスクを介して、前記帯状ワークに設けられた感光層に光を照射し、前記マスクパターンを前記感光層に露光する、パターン露光方法において、
前記帯状ワークの幅方向における両端部近傍の前記コアが、前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって徐々に薄く、または徐々に細くなるように、あるいは前記両端部近傍に前記コアが設けられないように、露光状態が前記幅方向で変化されていることを特徴とするパターン露光方法。 - 前記帯状ワークの幅方向の両端部近傍に形成される前記コアのパターンの潜像が、前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって徐々に薄く、または徐々に細くなるように、あるいは前記両端部近傍で前記潜像が形成されないように、前記露光状態が前記幅方向で変化されていることを特徴とする請求項2記載のパターン露光方法。
- 前記帯状ワークの幅方向の両端部近傍を露光する光量は、前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって徐々に小さくされていることを特徴とする請求項3記載のパターン露光方法。
- 前記帯状ワークの幅方向の両端部近傍に対面する前記マスクパターンの線幅は、前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって徐々に細くされていることを特徴とする請求項3記載のパターン露光方法。
- 前記帯状ワークの幅方向において前記コアが徐々に薄く、または徐々に細くされている範囲、あるいは前記コアが設けられていない範囲は、前記電解メッキ時に電流集中が発生しやすい電流集中エリアであることを特徴とする請求項2〜5いずれか記載のパターン露光方法。
- 前記電流集中エリアは、前記帯状ワークの幅方向の両端縁から内側に50mm以下であることを特徴とする請求項6記載のパターン露光方法。
- 前記帯状ワークは、電磁波シールド材料であることを特徴とする請求項2〜7いずれか記載のパターン露光方法。
- 露光及び現像により一方の面にコアが設けられ、前記コアの表面に電解メッキによって金属コートが形成されている帯状ワークに、前記コアのパターンを露光するパターン露光装置において、
感光層を有する前記帯状ワークの搬送手段と、
前記コアのパターンと略同形状のマスクパターンを有するフォトマスクと、
前記フォトマスクを介して前記帯状ワークに光を照射し、前記感光層に前記マスクパターンを露光する照明手段と、
前記帯状ワークの幅方向で両端部近傍の前記コアが、前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって徐々に薄く、または徐々に細くなるように、あるいは前記両端部近傍で前記コアが設けられないように、露光状態を前記幅方向で変化させる露光制御手段を備えたことを特徴とするパターン露光装置。 - 前記露光制御手段は、前記帯状ワークの幅方向の両端部近傍に形成される前記コアのパターンの潜像が、前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって徐々に薄く、または徐々に細くなるように、あるいは前記両端部近傍で前記潜像が形成されないように、前記露光状態を前記幅方向で変化させることを特徴とする請求項9記載のパターン露光装置。
- 前記露光制御手段は、前記帯状ワークと前記照明手段の間に配置され、前記帯状ワークの幅方向の全域を覆うフィルタであり、前記フィルタは前記帯状ワークの幅方向の両端部近傍に対面する部位の透過率が、前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって徐々に低くされていることを特徴とする請求項10記載のパターン露光装置。
- 前記露光制御手段は、前記帯状ワークと前記照明手段の間で、前記帯状ワークの幅方向の両端部近傍に対面して配置された一対のフィルタであり、前記各フィルタは前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって徐々に透過率が低くされていることを特徴とする請求項10記載のパターン露光装置。
- 前記露光制御手段は、前記照明手段を制御して、前記帯状ワークの幅方向の両端部近傍を露光する光量を前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって徐々に小さくする照明制御部であることを特徴とする請求項10記載のパターン露光装置。
- 前記照明手段は、レーザ出力器と、前記レーザ出力器から出力されたレーザ光を前記帯状ワークの幅方向で走査する走査機構とを有し、
前記照明制御部は、前記レーザ光による走査開始を検出する検出器を有しており、前記検出器の検出信号に基づいて、前記帯状ワークの幅方向の両端部近傍を露光する際のレーザパワーを、前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって徐々に弱くすることを特徴とする請求項13記載のパターン露光装置。 - 前記露光制御手段は、前記帯状ワークと前記照明手段の間で、前記帯状ワークの幅方向の両端部近傍に対面して配置された一対の遮光フィルタであり、前記各遮光フィルタは前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって面積が徐々に大きくされていることを特徴とする請求項10記載のパターン露光装置。
- 前記各遮光フィルタは、前記帯状ワークの幅方向の端縁と交差する1辺が傾斜した略三角形状であることを特徴とする請求項15記載のパターン露光装置。
- 前記露光制御手段は、前記帯状ワークと前記照明手段との間に配置され、前記帯状ワークの幅方向に沿って形成されたスリットを有する遮光板であり、前記スリットは、前記帯状ワークの幅方向の両端部近傍に対する開口面積が、前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって小さくされていることを特徴とする請求項10記載のパターン露光装置。
- 前記露光制御手段は、前記帯状ワークと前記照明手段の間に配置され、前記帯状ワークの幅方向に沿って形成されたスリットを有する遮光板と、
前記帯状ワークの幅方向の両端部近傍に対面して配置され、前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって面積が徐々に大きくされた一対の遮光フィルタから構成されていることを特徴とする請求項10記載のパターン露光装置。 - 前記露光制御手段として、前記マスクパターンを用い、前記マスクパターンは、前記帯状ワークの幅方向の両端部近傍に対面する部位の線幅が、前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって徐々に細くされていることを特徴とする請求項10記載のパターン露光装置。
- 前記帯状ワーク搬送手段は、前記帯状ワークを連続搬送し、
前記フォトマスクは、前記帯状ワークに近接して配置され、
前記照明手段は、前記フォトマスクを介してワーク搬送速度に同期された露光周期及び露光時間で前記帯状ワークの前記感光層にプロキシミティ露光することを特徴とする請求項9〜19いずれか記載のパターン露光装置。 - 前記帯状ワークの幅方向において前記コアが徐々に薄く、または徐々に細くされている範囲、あるいは前記コアが設けられない範囲は、前記電解メッキ時に電流集中が発生しやすい電流集中エリアであることを特徴とする請求項9〜20いずれか記載のパターン露光装置。
- 前記電流集中エリアは、前記帯状ワークの幅方向の両端縁から内側に50mm以下であることを特徴とする請求項21記載のパターン露光装置。
- 前記帯状ワークは、電磁波シールド材料であることを特徴とする請求項9〜22いずれか記載のパターン露光装置。
- 帯状のフイルムと、前記フイルム上に形成されるコアと、前記コアの表面に電解メッキによって形成される金属コートとを有する電磁波シールド材料において、
前記フイルムの幅方向の両端部近傍に形成される前記コアが、前記幅方向の両端縁に近づくにしたがって徐々に薄く、または徐々に細くなるように、あるいは前記両端部近傍で前記コアが設けられないように形成されていることを特徴とする電磁波シールド材料。 - 前記フイルムの幅方向で前記コアが徐々に薄く、または徐々に細くされている範囲、あるいは前記コアが設けられない範囲は、前記電解メッキに時に電流集中が発生しやすい電流集中エリアであることを特徴とする請求項24記載の電磁波シールド材料。
- 前記電流集中エリアは、前記フイルムの幅方向の両端縁から内側に50mm以下であることを特徴とする請求項25記載の電磁波シールド材料。
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