JP2010044318A - 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010044318A JP2010044318A JP2008209782A JP2008209782A JP2010044318A JP 2010044318 A JP2010044318 A JP 2010044318A JP 2008209782 A JP2008209782 A JP 2008209782A JP 2008209782 A JP2008209782 A JP 2008209782A JP 2010044318 A JP2010044318 A JP 2010044318A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- substrate
- beam irradiation
- scanning
- chuck
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
- G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
- G03F7/70475—Stitching, i.e. connecting image fields to produce a device field, the field occupied by a device such as a memory chip, processor chip, CCD, flat panel display
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70508—Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】光ビーム照射装置20の駆動回路へ供給する描画データの座標の範囲を決定して、光ビーム照射装置20の照射光学系から照射される光ビームのバンド幅を設定し、決定した座標の範囲の描画データを、光ビーム照射装置20の駆動回路へ供給する。1回の走査毎に、ステージ7の移動を制御して、チャック10を、光ビーム照射装置20からの光ビームによる基板の走査方向と直交する方向へ、光ビーム照射装置20の照射光学系から照射される光ビームのバンド幅より短い距離だけ移動し、基板1の同じ領域を、複数回重ねて走査する。
【選択図】図2
Description
2 画素
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6 Yガイド
7 Yステージ
8 θステージ
10 チャック
11 ゲート
20 光ビーム照射装置
20a ヘッド部
21 レーザー光源ユニット
22 光ファイバー
23 レンズ
24 ミラー
25 DMD(Digital Micromirror Device)
26 投影レンズ
27 DMD駆動回路
31,33 リニアスケール
32,34 エンコーダ
60 ステージ駆動回路
70 主制御装置
71 描画制御部
72 メモリ
73 バンド幅設定部
74 中心点座標決定部
75 座標決定部
Claims (12)
- フォトレジストが塗布された基板を保持するチャックと、
前記チャックを移動するステージと、
光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置とを備え、
前記ステージにより前記チャックを移動し、前記光ビーム照射装置からの光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する露光装置であって、
前記光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データの座標の範囲を決定して、前記光ビーム照射装置の照射光学系から照射される光ビームのバンド幅を設定し、決定した座標の範囲の描画データを、前記光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画制御手段と、
1回の走査毎に、前記ステージの移動を制御して、前記チャックを、前記光ビーム照射装置からの光ビームによる基板の走査方向と直交する方向へ、前記光ビーム照射装置の照射光学系から照射される光ビームのバンド幅より短い距離だけ移動する走査制御手段とを備え、
基板の同じ領域を、複数回重ねて走査することを特徴とする露光装置。 - 前記走査制御手段は、1回の走査毎に、前記チャックを、前記光ビーム照射装置からの光ビームによる基板の走査方向と直交する方向へ、基板に形成する画素のピッチ又はその倍数の距離だけ移動することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記光ビーム照射装置を複数備え、複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板の走査を並行して行うことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の露光装置。
- フォトレジストが塗布された基板を保持するチャックと、
前記チャックを移動するステージと、
光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置とを備え、
前記ステージにより前記チャックを移動し、前記光ビーム照射装置からの光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する露光装置であって、
前記光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データの座標の範囲を決定して、前記光ビーム照射装置の照射光学系から照射される光ビームのバンド幅を、基板に形成する画素のピッチの倍数に設定し、決定した座標の範囲の描画データを、前記光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画制御手段と、
1回の走査毎に、前記ステージの移動を制御して、前記チャックを、前記光ビーム照射装置からの光ビームによる基板の走査方向と直交する方向へ、前記光ビーム照射装置の照射光学系から照射される光ビームのバンド幅と同じ距離だけ移動する走査制御手段とを備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記光ビーム照射装置を複数備え、複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板の走査を並行して行うことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- フォトレジストが塗布された基板をチャックで保持し、
チャックをステージにより移動し、
光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置からの光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する露光方法であって、
光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データの座標の範囲を決定して、光ビーム照射装置の照射光学系から照射される光ビームのバンド幅を設定し、
決定した座標の範囲の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給し、
1回の走査毎に、ステージの移動を制御して、チャックを、光ビーム照射装置からの光ビームによる基板の走査方向と直交する方向へ、光ビーム照射装置の照射光学系から照射される光ビームのバンド幅より短い距離だけ移動し、
基板の同じ領域を、複数回重ねて走査することを特徴とする露光方法。 - 1回の走査毎に、チャックを、光ビーム照射装置からの光ビームによる基板の走査方向と直交する方向へ、基板に形成する画素のピッチ又はその倍数の距離だけ移動することを特徴とする請求項6に記載の露光方法。
- 複数の光ビーム照射装置を設け、
複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板の走査を並行して行うことを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の露光方法。 - フォトレジストが塗布された基板をチャックで保持し、
チャックをステージにより移動し、
光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置からの光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する露光方法であって、
光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データの座標の範囲を決定して、光ビーム照射装置の照射光学系から照射される光ビームのバンド幅を、基板に形成する画素のピッチの倍数に設定し、
決定した座標の範囲の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給し、
1回の走査毎に、ステージの移動を制御して、チャックを、光ビーム照射装置からの光ビームによる基板の走査方向と直交する方向へ、光ビーム照射装置の照射光学系から照射される光ビームのバンド幅と同じ距離だけ移動することを特徴とする露光方法。 - 複数の光ビーム照射装置を設け、
複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板の走査を並行して行うことを特徴とする請求項9に記載の露光方法。 - 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項6乃至請求項10のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008209782A JP5253037B2 (ja) | 2008-08-18 | 2008-08-18 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
US12/540,858 US20100040964A1 (en) | 2008-08-18 | 2009-08-13 | Exposure apparatus, exposure method and method of manufacturing display panel substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008209782A JP5253037B2 (ja) | 2008-08-18 | 2008-08-18 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010044318A true JP2010044318A (ja) | 2010-02-25 |
JP5253037B2 JP5253037B2 (ja) | 2013-07-31 |
Family
ID=41681479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008209782A Expired - Fee Related JP5253037B2 (ja) | 2008-08-18 | 2008-08-18 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100040964A1 (ja) |
JP (1) | JP5253037B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013178445A (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-09 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005210112A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-08-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光方法および装置 |
JP2006053325A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-02-23 | Pentax Industrial Instruments Co Ltd | 描画装置 |
JP2007041281A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Fujifilm Corp | 黒色画像及びその製造方法、並びに遮光膜付き基板及び液晶表示素子 |
JP2007071957A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-22 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ及びパターン形成方法、並びに液晶表示装置 |
JP2007093785A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Fujifilm Corp | 表示装置用部材の製造方法、及び表示装置用部材並びに表示装置 |
JP2008091568A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Fujifilm Corp | 基板載置装置及び方法 |
JP2008098659A (ja) * | 2003-07-22 | 2008-04-24 | Fujifilm Corp | 描画方法および描画装置 |
JP2008112985A (ja) * | 2006-10-06 | 2008-05-15 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 露光装置、および当該露光装置を用いた半導体装置の作製方法 |
JP2008129248A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置及びパターン描画方法 |
JP2009251013A (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Hitachi Displays Ltd | アクティブマトリクス型液晶表示装置および表示装置の製造方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6133986A (en) * | 1996-02-28 | 2000-10-17 | Johnson; Kenneth C. | Microlens scanner for microlithography and wide-field confocal microscopy |
US5691541A (en) * | 1996-05-14 | 1997-11-25 | The Regents Of The University Of California | Maskless, reticle-free, lithography |
SE9800665D0 (sv) * | 1998-03-02 | 1998-03-02 | Micronic Laser Systems Ab | Improved method for projection printing using a micromirror SLM |
US6379867B1 (en) * | 2000-01-10 | 2002-04-30 | Ball Semiconductor, Inc. | Moving exposure system and method for maskless lithography system |
US7061584B2 (en) * | 2001-03-19 | 2006-06-13 | Dmetrix, Inc. | Multi-axis projection imaging system |
US6833908B2 (en) * | 2001-03-23 | 2004-12-21 | Ultratech, Inc. | Computer architecture for and method of high-resolution imaging using a low-resolution image transducer |
JP4728536B2 (ja) * | 2001-07-05 | 2011-07-20 | 株式会社オーク製作所 | 多重露光描画方法及び多重露光描画装置 |
US6887628B2 (en) * | 2001-11-22 | 2005-05-03 | Hoya Corporation | Manufacturing method for photomask |
KR100469561B1 (ko) * | 2002-12-24 | 2005-02-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 컬러필터 기판 제조 방법 |
US7663734B2 (en) * | 2003-04-11 | 2010-02-16 | Tadahiro Ohmi | Pattern writing system and pattern writing method |
US7164465B2 (en) * | 2004-07-13 | 2007-01-16 | Anvik Corporation | Versatile maskless lithography system with multiple resolutions |
JP2006128194A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US7965373B2 (en) * | 2005-06-28 | 2011-06-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a datapath having a balanced calculation load |
WO2007125758A1 (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置の製造方法及び露光装置 |
-
2008
- 2008-08-18 JP JP2008209782A patent/JP5253037B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-08-13 US US12/540,858 patent/US20100040964A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008098659A (ja) * | 2003-07-22 | 2008-04-24 | Fujifilm Corp | 描画方法および描画装置 |
JP2005210112A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-08-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光方法および装置 |
JP2006053325A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-02-23 | Pentax Industrial Instruments Co Ltd | 描画装置 |
JP2007041281A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Fujifilm Corp | 黒色画像及びその製造方法、並びに遮光膜付き基板及び液晶表示素子 |
JP2007071957A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-22 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ及びパターン形成方法、並びに液晶表示装置 |
JP2007093785A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Fujifilm Corp | 表示装置用部材の製造方法、及び表示装置用部材並びに表示装置 |
JP2008091568A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Fujifilm Corp | 基板載置装置及び方法 |
JP2008112985A (ja) * | 2006-10-06 | 2008-05-15 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 露光装置、および当該露光装置を用いた半導体装置の作製方法 |
JP2008129248A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置及びパターン描画方法 |
JP2009251013A (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Hitachi Displays Ltd | アクティブマトリクス型液晶表示装置および表示装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100040964A1 (en) | 2010-02-18 |
JP5253037B2 (ja) | 2013-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20100060878A1 (en) | Exposure appartus, exposure method and method of manufacturing display panel substrate | |
KR20100094353A (ko) | 노광 장치, 노광 방법 및 표시용 패널 기판의 제조 방법 | |
JP2011158718A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2012242630A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法、並びに露光装置の検査方法 | |
JP5219982B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5433524B2 (ja) | 露光装置及び露光方法並びに表示用パネル基板製造装置及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5253037B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5305967B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5473880B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5416867B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2011123383A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5467975B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5456607B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2008064860A (ja) | カラーフィルターの描画方法及び描画装置 | |
JP2011180297A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2010276901A (ja) | 露光装置、露光装置のチャック位置検出方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2013054262A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2011150053A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2012088464A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2012008243A (ja) | 露光装置及び露光方法並びに表示用パネル基板製造装置及び表示用パネル基板製造方法 | |
JP5636315B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
US20100103397A1 (en) | Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing display panel substrate | |
JP2011107569A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2013197568A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP2014048349A (ja) | パターン形成方法及び装置、露光装置並びに表示用パネル製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110301 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120705 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120710 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120907 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130416 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130416 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160426 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |