JP5708179B2 - 露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態に係る基板処理装置FPAの構成を示す図である。
図1に示すように、基板処理装置FPAは、帯状の基板(例えば、帯状のフィルム部材)FBを供給する基板供給部SU、基板FBの表面(被処理面)に対して処理を行う基板処理部PR、基板FBを回収する基板回収部CL、及び、これらの各部を制御する制御部CONTを有している。
マスクMに形成されたパターンPmは、例えば短冊状(長矩形状)の4つのパターンP1〜P4に分割された状態で形成されている。各パターンP1〜P4は、等ピッチで図3の図中左右方向に並んだ異なる4つの領域にそれぞれ形成されている。マスクMは、パターンPmが円筒面40aに沿って配置されるように保持部40に保持される。その際、マスクMは、各パターンP1〜P4の長手方向(長辺方向)が円筒面40aの円周方向と一致するように保持される。各パターンP1〜P4の長手方向の寸法は、例えば円筒面40aの半周の寸法と等しくなるように形成されている。
なお、本実施形態では、各投影光学系PLとして、例えばマスクMに形成されたパターンPmの像を拡大して投影する拡大光学系(すなわち、投影倍率として拡大倍率を有する光学系)が用いられている。ただし、各投影光学系PLは、拡大光学系に限定されず、等倍又は縮小倍の投影倍率を有する光学系とすることもできる。
図5に示すように、投影装置PUは、4つの投影光学系PL(PL1〜PL4)を有している。
したがって、本実施形態では、円筒面40aの円周の半径をRとすると、Dm=πRとなる。よって、制御部CONTは、Dp=πR×βを満たすように経路長Dpを調整する。
なお、Dm=πRが満足される場合に限定されず、一般には、間隔Dmは、間隔Dmに対応する円筒面40aの円弧の中心角φ(ラジアン)を用いてDm=φ×Rとなる。この場合、制御部CONTは、Dp=φ×R×βを満たすように経路長Dpを調整する。
制御部CONTは、その関係に基づいて所望の経路長Dpとなるように平行平板ガラスHVを回転させることができる。また、制御部CONTは、経路長Dpを計測する不図示の計測装置の計測結果に基づいて、平行平板ガラスHVを回転させることができる。
上記実施形態では、投影光学系PL(PL1〜PL4)として拡大光学系(β>0)が用いられた例を説明したが、これに限られることは無く、例えば投影光学系PL(PL1〜PL4)として、等倍光学系(β=1)が用いられた構成とすることができる。この場合、マスクMに形成されるパターンPmは、図8に示すように、パターンP1〜P4が1つに接続された状態で形成されることになる。
その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レチクル剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルタ形成工程S22へ移行する。
β…投影倍率 LS…レンズ LH…レンズホルダ 10…処理装置 81…第一ステージ 82…第二ステージ 85…移動部 86…駆動機構 180…ステージ機構
Claims (11)
- 所定の円筒面に沿ってパターンを有するマスクを前記円筒面の円周方向に回転させつつ前記パターンを基板に転写する露光装置であって、
前記パターンのうち前記円筒面の第一領域に位置する第一部分パターンの像を第一投影領域に投影する第一投影光学系と、
前記パターンのうち前記第一領域から前記円周方向に沿って間隔を置いた第二領域に位置する第二部分パターンの像を、前記第一投影領域と異なる第二投影領域に投影する第二投影光学系と、
前記マスクの前記円周方向への回転に同期して、前記第一投影領域及び前記第二投影領域を経由するように前記基板を搬送する基板搬送装置と、を備え、
前記搬送装置は、前記円筒面の円周方向に沿った前記第一領域と前記第二領域との間隔と、前記第一投影光学系及び前記第二投影光学系の投影倍率とに基づいて、前記第一投影領域と前記第二投影領域との間における前記基板の搬送経路の経路長を調整する経路調整装置を含む
露光装置。 - 前記経路調整装置は、前記円筒面の円周方向に沿った前記第一領域と前記第二領域との間隔をDm、前記第一投影光学系及び前記第二投影光学系の投影倍率をβ、前記第一投影領域と前記第二投影領域との間における前記経路長をDpとしたとき、Dp=Dm×βの関係を満足するように前記経路長を調整する
請求項1に記載の露光装置。 - 前記経路調整装置は、前記第一投影領域と前記第二投影領域との間隔に基づいて前記経路長を調整する
請求項2に記載の露光装置。 - 前記経路調整装置は、前記基板を支持して前記基板の表面に交差する方向に移動可能な移動部を有する
請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記移動部は、円筒状に形成され、円周方向に回転可能に設けられ、前記基板の搬送方向に回転するように配置されている
請求項4に記載の露光装置。 - 前記第一投影光学系は、複数の第一単位光学系を含み、
前記第一投影領域は、複数の前記第一単位光学系による複数の第一単位領域を含み、
複数の前記第一単位光学系は、複数の前記第一単位領域が前記基板の搬送方向に交差する方向に並ぶように配置されている
請求項1から請求項5のうちいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記第二投影光学系は、複数の第二単位光学系を含み、
前記第二投影領域は、複数の前記第二単位光学系による複数の第二単位領域を含み、
複数の前記第二単位光学系は、複数の前記第二単位領域が前記基板の搬送方向に交差する方向に並ぶように配置されている
請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記第一投影光学系は、複数の第一単位光学系を含み、
前記第一投影領域は、複数の前記第一単位光学系による複数の第一単位領域を含み、
前記第二投影光学系は、複数の第二単位光学系を含み、
前記第二投影領域は、複数の前記第二単位光学系による複数の第二単位領域を含み、
複数の前記第一単位光学系及び複数の前記第二単位光学系は、前記第一単位領域と前記第二単位領域とが前記基板の搬送方向に交差する方向に交互に並ぶように配置されている
請求項1から請求項7のうちいずれか一項に記載の露光装置。 - 複数の前記第一単位光学系及び複数の前記第二単位光学系は、前記基板の搬送方向に交差する方向において前記第一単位領域と前記第二単位領域との位置が一部重なるように配置されている
請求項8に記載の露光装置。 - 帯状の基板を処理する基板処理装置であって、
前記基板を該基板の長手方向に搬送する基板搬送部と、
前記基板搬送部による前記基板の搬送経路に沿って設けられ、該搬送経路に沿って搬送される前記基板を処理する基板処理部と、を備え、
前記基板処理部は、前記基板にパターンを転写する請求項1から請求項9のうちいずれか一項に記載の露光装置を有する
基板処理装置。 - 基板を処理してデバイスを製造するデバイス製造方法であって、
請求項1から請求項9のうちいずれか一項に記載の露光装置を用いて、前記基板にパターンを転写することと、
前記パターンが転写された前記基板を該パターンに基づいて加工することと、
を含むデバイス製造方法。
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