CN106575178B - 触摸传感器膜的制造方法、触摸传感器膜及触摸屏 - Google Patents

触摸传感器膜的制造方法、触摸传感器膜及触摸屏 Download PDF

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Abstract

使用多个轨道辊(4、5及6)对厚度不足80μm的长尺寸且透明的支撑体(1)进行辊式输送，以对支撑体(1)的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的温度对支撑体(1)实施退火处理，在被实施了退火处理的支撑体(1)的表面上形成由金属细线(8a)构成的网格图案，由此制造抑制了支撑体的变形而引起的莫尔条纹的产生的触摸传感器膜。

Description

触摸传感器膜的制造方法、触摸传感器膜及触摸屏
技术领域
本发明涉及触摸传感器膜的制造方法、触摸传感器膜及触摸屏，尤其涉及在支撑体的表面上形成由金属细线构成的网格图案的触摸传感器膜的制造方法、触摸传感器膜及触摸屏。
背景技术
近年来，在以便携式信息设备为代表的各种电子设备中，触摸屏的普及得到推进，该触摸屏与液晶显示装置等显示装置组合使用，通过接触画面进行对电子设备的输入操作。作为在该触摸屏中使用的电极，提出了使用由电阻较低的金属细线构成的网状电极，以提高响应速度。
其中，在使用网状电极的触摸屏中存在如下的问题，即由于网状电极的网格图案与显示器的像素排列图案(RGB滤色器的排列图案及黑矩阵图案等)的干涉而产生莫尔条纹(干涉条纹)。因此，进行抑制莫尔条纹的视觉辨认性的触摸屏的研发。
例如，在专利文献1中公开了这样的触摸传感器膜，对于使人的视觉响应特性作用于莫尔条纹的频率信息及强度信息而得到的莫尔条纹的频率及强度，对莫尔条纹的频率进入按照视觉响应特性而确定的规定的频率范围内的莫尔条纹的强度之和在规定值以下的网格图案赋予不规律性，所述莫尔条纹的频率信息及强度信息是根据网格图案的透射率图像数据和像素排列图案的透射率图像数据的双二维傅里叶频谱的峰值频率及峰值强度分别计算出来的。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2013－214545号公报
专利文献2：日本特开2009－059666号公报
发明内容
发明要解决的课题
但是，已知在专利文献1的网格图案中，即使是在触摸屏的支撑体上形成了网状电极的情况下，在使用较薄的支撑体通过辊式输送进行制造时产生特别明显的变形，网状电极的位置偏移，产生出现莫尔条纹的问题。
在为了形成较薄的触摸屏而使触摸传感器膜的支撑体厚度变薄时，与此相应地支撑体的刚性下降，支撑体的热收缩率恶化(热收缩率的绝对值增大)。因此，在研究在使用厚度较薄的支撑体的情况下，通过以较高的温度对支撑体进行退火处理即实施所谓收缩化处理，使支撑体低热收缩化(参照专利文献2)。在用非低热收缩化的支撑体形成触摸传感器膜的情况下，支撑体的尺寸由于温度或者湿度而产生明显变形，因而通过高精度的尺寸设计而生成的网状电极图案的尺寸容易变化。本发明人们发现了如下的新课题，在使用多条轨道辊对长尺寸状态的支撑体进行辊式输送的同时实施收缩化处理的情况下，如图12所示，在支撑体31上形成沿机械流程方向(MD方向：Machine Direction)延伸的多条筋状的皱褶W。在该支撑体31产生的筋状的皱褶W通过与轨道辊接触而冷却并被固定，导致在支撑体31产生类似于白锌板的形状的塑性变形。
这样，在使用氧化铟锡等将平板状的透明电极形成于支撑体上的情况下，虽然被固定于支撑体31的筋状的皱褶W不会对显示器的视觉辨认性造成影响，但是在如图13所示形成由金属细线32构成的网状电极的情况下，在将支撑体31搭载于显示装置等(也有可能是贴合在玻璃罩上)的平滑面上时，筋状的皱褶W被拉伸，与其相应地形成于支撑体31上的由金属细线32构成的网状电极的位置偏移，产生莫尔条纹。
本发明正是为了解决这种以往的问题而提出的，其目的在于提供触摸传感器膜的制造方法、触摸传感器膜及触摸屏，抑制了随着支撑体的变形而形成的莫尔条纹的产生。
用于解决课题的手段
本发明的触摸传感器膜的制造方法使用多个轨道辊对厚度不足80μm的长尺寸且透明的支撑体进行辊式输送，以对支撑体的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的温度对支撑体实施退火处理，在被实施了退火处理的支撑体的表面上形成由金属细线构成的网格图案。
其中，优选的是，在对支撑体实施退火处理后，以支撑体的静态玻化温度以上而且低于动态玻化温度的温度将支撑体一直输送到第一条轨道辊，在从第一条轨道辊到第二条轨道辊的期间，将支撑体降温至低于静态玻化温度。
另外，优选第一条轨道辊与第二条轨道辊的间隔在30cm以内，更优选20cm以内。
另外，退火处理优选以从动态玻化温度减去10℃后的温度以上的温度进行，更优选以对动态玻化温度加上25℃后的温度以下的温度进行。
另外，优选支撑体的厚度不足50μm。
本发明的触摸传感器膜具有厚度不足80μm的透明的支撑体、和配置在支撑体的表面上并具有由金属细线构成的网格图案的网状电极，设置有网状电极的支撑体在机械流程方向上的热收缩率的绝对值在0.6％以内、而且与机械流程方向垂直的横向上的热收缩率的绝对值在0.2％以内，并且表面凹凸形状的10点平均粗糙度在6.1μm以下。
其中，优选表面凹凸形状的10点平均粗糙度在4.5μm以下。
另外，优选支撑体的厚度不足50μm。
本发明的触摸屏具有上述任意一项所述的触摸传感器膜。
发明效果
根据本发明，能够提供触摸传感器膜的制造方法、触摸传感器膜及触摸屏，由于以对厚度不足80μm的支撑体的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的温度对支撑体实施退火处理，因而抑制了随着支撑体的变形而形成的莫尔条纹的产生。
附图说明
图1是示出本发明的触摸传感器膜的制造方法的图。
图2是示出在支撑体上形成了多条金属细线的状态的剖视图。
图3是示出由金属细线构成的网格图案的俯视图。
图4是示出在支撑体上形成了多个网状电极的状态的俯视图。
图5是示出在支撑体上形成了外部连接端子和周边布线的状态的俯视图。
图6是示出形成了保护层的触摸传感器膜的剖视图。
图7是示出本发明的触摸传感器膜的俯视图。
图8是示出本发明的触摸屏的剖视图。
图9是示出静态玻化温度的计算方法的曲线图。
图10是示出表面高度的平均值相对于Y轴位置的变化的曲线图。
图11是示出筋状的皱褶的高度相对于Y轴位置的变化的曲线图。
图12是示出通过退火处理在支撑体产生的多条筋状的皱褶的俯视图。
图13是示出在支撑体上形成的金属细线的位置由于将筋状的皱褶拉伸而偏移的状态的剖视图。
具体实施方式
下面，根据附图说明本发明的实施方式。
本发明的触摸传感器膜的制造方法使用多个轨道辊对厚度不足80μm的长尺寸且透明的支撑体进行辊式输送，以对支撑体的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的温度对支撑体实施退火处理，在被实施了退火处理的支撑体的表面上形成由金属细线构成的网格图案。
[触摸传感器膜的制造方法]
(支撑体的制造方法)
图1示出触摸传感器膜的制造方法的一例。
首先，厚度不足80μm的长尺寸且透明的支撑体1以被卷绕成卷状的状态安装在隔开规定的间隔配置的送出辊2和卷取辊3上。在该送出辊2和卷取辊3之间配置有3个轨道辊4、5及6，并且配置有用于对支撑体1实施退火处理的加热器7，支撑体1以从送出辊2经由加热器7朝向卷取辊3的方式通过轨道辊4、5及6被输送。
支撑体1由具有挠性的透明材料构成，例如可以由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯类、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯、乙烯醋酸乙烯酯(EVA)、环烯烃聚合物(COP)、环烯烃共聚物(COC)等聚烯烃类、乙烯基树脂、以及其他的聚碳酸酯(PC)、聚酰胺、聚酰亚胺、丙烯酸树脂、三乙酰纤维素(TAC)等构成。基于透光性、热收缩性和加工性等的观点，优选支撑体1由聚对苯二甲酸乙二醇酯构成。
另外，支撑体1在厚度不足80μm时，在下述所示的退火处理中容易产生筋状的皱褶W，在厚度为50μm以下时更容易产生筋状的皱褶W，在厚度为38μm以下时进一步更容易产生筋状的皱褶W。
另外，关于支撑体1的厚度的下限值没有特殊限制，只要能够在表面上形成由金属细线构成的网格图案，并能够使用多个轨道辊进行辊式输送，则可以根据支撑体的强度等适当设定。
支撑体1被输送到在支撑体1的机械流程方向(MD方向：Machine Direction)上被配置在加热器7的上游侧的轨道辊4上，并被导入加热器7内。在加热器7内形成有被保持为对支撑体1的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的退火处理室N，对被输送到退火处理室N中的支撑体1实施退火处理。
这样，通过对支撑体1实施退火处理，支撑体1被低热收缩化，能够将厚度不足80μm的支撑体1抑制为规定的热收缩率。
此时，在以比对支撑体1的动态玻化温度加上35℃后的温度高的温度实施退火处理时，支撑体1过度柔软，作为膜的刚性大幅下降。因此，在辊式输送中在支撑体1产生较强的皱褶，当在退火处理后冷却时，支撑体1的皱褶形状被固定，如图11所示，在支撑体1产生较大的筋状的皱褶W。因此，通过将支撑体1的退火处理的温度设定为对支撑体1的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的温度，能够抑制支撑体1的刚性过度下降，将在辊式输送中的支撑体1产生的皱褶强度抑制为较低程度，能够将在退火处理后的冷却中被固定于支撑体1的皱褶形状的强度抑制为较低程度。例如，在由聚对苯二甲酸乙二醇酯构成的光学级高透明膜(Cosmoshine)A4300(东洋纺株式会社制)的动态粘弹性测定(DMA)中，能够将动态玻化温度设定为115℃，将退火处理温度设定为150℃以下。
然而，通常就PET等的支撑体1而言，在超过静态玻化温度时产生热收缩，而在比动态玻化温度低的温度时，需要使热收缩的速度变慢来延长退火时间，以便使其产生热收缩一直到达到规定的热收缩率为止。因此，在以偏低的温度进行退火时，退火处理速度的下降变明显，因而从生产效率上讲是不期望的。因此，优选以比动态玻化温度低10℃的温度(动态玻化温度-10℃)以上的温度进行退火处理。
即，由于从超过动态玻化温度起热收缩的速度提高，因而优选退火处理温度的范围在从动态玻化温度-10℃到动态玻化温度+35℃的温度范围内。
其中，退火处理温度优选设定为对支撑体1的动态玻化温度加上25℃后的温度以下，更优选设定为对支撑体1的动态玻化温度加上15℃后的温度以下。
这样，通过以对支撑体1的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的温度对支撑体1实施退火处理，能够得到表面凹凸形状的10点平均粗糙度(Rz)为6.1μm以下的支撑体1。其中，表面凹凸形状的10点平均粗糙度是利用后述的表面凹凸形状的测定方法计算出来的。
另外，通过实施退火处理，能够得到在MD方向的热收缩率的绝对值在0.6％以内、而且在与MD方向垂直的横向(TD方向：Transverse Direction)的热收缩率的绝对值在0.2％以内的支撑体1。其中，支撑体1的热收缩率是利用后述的热收缩率的评价方法计算出来的。
将被实施了退火处理的支撑体1从加热器7导出，并通过轨道辊5和6进行输送。
此时，优选的是，在对支撑体1实施退火处理后，以支撑体1的静态玻化温度以上而且低于动态玻化温度的温度将支撑体1一直输送到第一条轨道辊5，在从第一条轨道辊5到第二条轨道辊6的期间，将支撑体1降温至低于静态玻化温度。
具体而言，支撑体1在从加热器7的退火处理室N到轨道辊5之间的区间L1中，是以支撑体1的静态玻化温度以上而且低于动态玻化温度的温度被输送的。由于轨道辊4和轨道辊5之间的距离较长，存在如上所述即使将退火处理的温度设定为对支撑体1的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的温度时，也在支撑体1产生筋状的皱褶W的情况。因此，通过在区间L1中保持为静态玻化温度以上而且低于动态玻化温度的温度，即使是在支撑体1产生筋状的皱褶W的情况下，也能够抑制将支撑体1降温至比静态玻化温度低的温度而筋状的皱褶W被固定于支撑体1。关于区间L1的温度控制，既可以调节输送支撑体1的氛围温度，也可以利用具有温度调节功能的加热装置对支撑体1进行加热从而进行调节。
另外，在轨道辊5的温度为支撑体1的静态玻化温度以下时，即使按照以上所述控制区间L1的温度，在支撑体1与轨道辊5接触时筋状的皱褶W也被固定，因而优选将轨道辊5的温度保持为支撑体1的静态玻化温度以上而且低于动态玻化温度的温度。这样，能够通过被调节了温度的轨道辊5，使在支撑体1产生的筋状的皱褶W依次被拉伸，形成消除了皱褶W的平滑的支撑体1。
另外，支撑体1在从轨道辊5到轨道辊6之间的区间L2中被降温至低于支撑体1的静态玻化温度的温度。优选将该区间L2设定为30cm以内，使得在支撑体1不会产生较多的筋状的皱褶W。因此，在轨道辊5通过的支撑体1能够以保持平滑状态的状态被降温至低于静态玻化温度的温度，并通过被设定为低于静态玻化温度的温度的轨道辊6将支撑体1的形状固定为平滑的状态。另外，在相邻的轨道辊5和6之间的区间L2中，优选间隔狭小，但是由于需要以至少两条轨道辊互不干涉的方式进行配置，因而在两条轨道辊的直径相同的情况下，优选间隔大于该直径。在两条轨道辊的直径不同的情况下，优选间隔大于两者的半径之和。
其中，更优选将轨道辊5与轨道辊6的间隔设为20cm以内，由此能够进一步抑制在支撑体1产生的筋状的皱褶W。
这样，通过在从轨道辊5到轨道辊6之间的区间L2中将支撑体1固定为平滑的状态，能够得到表面凹凸形状的10点平均粗糙度(Rz)为4.5μm以下的支撑体1。其中，表面凹凸形状的10点平均粗糙度是利用后述的表面凹凸形状的测定方法计算出来的。
这样，变平滑的支撑体1通过轨道辊6后被朝向卷取辊3输送。
(网格图案的形成方法)
接下来，在被卷取辊3卷取后或者在朝向卷取辊3输送的途中，如图2所示，在支撑体1的表面上形成有多条金属细线8a，并且在支撑体1的背面上形成有多条金属细线8b。因此，在支撑体1的表面上及背面上形成有如图3所示由金属细线8a和8b构成的网格图案。
这样，如图4所示，在支撑体1的表面上形成有由金属细线8a构成的多个第1网状电极9，在支撑体1的背面上形成有由金属细线8b构成的多个第2网状电极10。其中，第1网状电极9是在膜形成区域A内分别沿着TD方向延伸而且沿MD方向并列配置形成的，第2网状电极10是在膜形成区域A内分别沿着MD方向延伸而且沿TD方向并列配置形成的。
其中，第1网状电极9和第2网状电极10的形成方法没有特殊限制，例如能够采用日本特开2011-129501号公报、日本特开2013-149236号公报、日本特开2014-112512号公报等公开的方法。
例如，在支撑体1的表面及背面分别涂覆具有含有感光性卤化银盐的乳剂层的感光材料，将涂覆在该支撑体1上的感光材料曝光并实施显影处理，由此能够形成第1网状电极9和第2网状电极10。另外，在支撑体1的表面及背面形成金属箔，在各金属箔上印刷成图案状的抗蚀剂或者整面涂覆抗蚀剂，将该抗蚀剂曝光并显影来进行图案化，再对通过图案化而形成的开口部的金属进行蚀刻，由此也能够分别形成第1网状电极9和第2网状电极10。此外，第1网状电极9和第2网状电极10也能够利用印刷含有电极材料微粒的膏并在膏上实施金属镀敷的方法、以及使用含有电极材料微粒的油墨的喷墨法等方法来形成。
另外，基于视觉辨认性的观点，金属细线8a和8b的宽度优选不足7μm，更优选5μm以下。
另外，金属细线8a和8b例如能够利用氧化铟锡(ITO)、金(Au)、银(Ag)及铜(Cu)等材料构成。并且，为了提高抗弯曲性，优选金属细线8a和8b含有粘结剂成分。关于粘结剂成分，例如能够使用日本特开2013-149236号公报记载的粘结剂。
然后，在各个第1网状电极9的两端形成第1连接器部11，并且在各个第2网状电极10的两端形成第2连接器部12。另外，在支撑体1的表面上，如图5所示，在膜形成区域A内形成有与在第1网状电极9的两端形成的第1连接器部11中的一方对应的第1外部连接端子13，还形成有连接一方第1连接器部11和与其对应的第1外部连接端子13的第1周边布线14。
同样，在支撑体1的背面上，在膜形成区域A内形成有与在第2网状电极10的两端形成的第2连接器部12中的一方对应的第2外部连接端子15，还形成有连接一方第2连接器部12和与其对应的第2外部连接端子15的第2周边布线16。
其中，第1连接器部11、第1外部连接端子13及第1周边布线14能够利用与第1网状电极9相同的方法形成，也可以与第1网状电极9同时形成。同样，第2连接器部12、第2外部连接端子15及第2周边布线16能够利用与第2网状电极10相同的方法形成，也可以与第2网状电极10同时形成。
另外，通过在膜形成区域A中进行裁切，能够得到触摸传感器膜。如上所述，通过以对支撑体1的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的温度对支撑体1进行退火处理，能够抑制在支撑体1产生多条筋状的皱褶W，能够抑制随之形成的网状电极的位置偏移，并防止莫尔条纹的产生。
另外，优选在触摸传感器膜的表面上及背面上形成如图6所示的保护层17a和17b。其中，保护层17a和17b用于保护第1网状电极9及第2网状电极10等的导电部分，例如可以利用玻璃、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等材料构成。另外，也可以在保护层17a和17b的表面设置硬涂层和防反射层等。
[触摸传感器膜]
本发明的触摸传感器膜具有厚度不足80μm的透明的支撑体、和配置在支撑体的表面上并具有由金属细线构成的网格图案的网状电极，支撑体在MD方向的热收缩率的绝对值在0.6％以内、而且在TD方向的热收缩率的绝对值在0.2％以内，并且表面凹凸形状的10点平均粗糙度在6.1μm以下。
图7示出触摸传感器膜的一例。该触摸传感器膜是利用上述的触摸传感器膜的制造方法得到的，包括矩形状的具有挠性的透明的支撑体1，如上所述在支撑体1的表面上配置有第1网状电极9、第1连接器部11、第1外部连接端子13及第1周边布线14，在支撑体1的背面上配置有第2网状电极10、第2连接器部12、第2外部连接端子15及第2周边布线16。
其中，支撑体1被以对支撑体1的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的温度实施了退火处理，因而形成为在MD方向的热收缩率的绝对值在0.6％以内、而且在TD方向的热收缩率的绝对值在0.2％以内，并且表面凹凸形状的10点平均粗糙度(Rz)在6.1μm以下。
这样，通过将支撑体1在MD方向的热收缩率的绝对值设在0.6％以内、而且在TD方向的热收缩率的绝对值设在0.2％以内，并且将表面凹凸形状的10点平均粗糙度(Rz)设为6.1μm以下，能够抑制在支撑体1产生多条筋状的皱褶W。因此，能够抑制触摸传感器膜中的网状电极的位置偏移，并防止莫尔条纹的产生。
另外，优选支撑体1的表面凹凸形状的10点平均粗糙度(Rz)在4.5μm以下。
[触摸屏]
下面，详细说明本发明的触摸屏。
该触摸屏具有上述的触摸传感器膜，因而例如能够如图8所示由形成有保护层17a和17b的触摸传感器膜21、和检测部22构成，检测部22通过第1外部连接端子13及第2外部连接端子15与触摸传感器膜21的第1网状电极9及第2网状电极10连接，能够在触摸传感器膜21的背面侧安装显示装置L来使用。
检测部22由电子电路构成，在手指等触摸了触摸传感器膜21时，该电子电路捕捉静电电容的变化来检测接触位置。
另外，显示装置L是用于显示彩色图像和单色图像等的装置，例如由液晶显示器等构成。触摸传感器膜21以铺设状态安装在该显示装置L上，因而当在触摸传感器膜21的支撑体1上产生多条筋状的皱褶W时，在第1网状电极9和第2网状电极10产生位置偏移。在本发明的触摸传感器膜21中，支撑体1形成为表面凹凸形状的10点平均粗糙度(Rz)达到6.1μm以下，抑制在支撑体1产生的多条筋状的皱褶W。因此，能够抑制第1网状电极9和第2网状电极10的位置偏移，防止触摸屏中的莫尔条纹的产生。
【实施例】
下面，根据实施例更详细地说明本发明。以下的实施例所示的材料、使用量、比率、处理内容、处理步骤等能够在不脱离本发明的宗旨的范围内进行适当变更。因此，本发明的范围不得利用以下示出的实施例进行限定性解释。
(实施例1)
<支撑体的退火处理>
支撑体使用由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)构成、而且动态玻化温度为115℃的75μm厚的长尺寸板(光学级高透明膜(Cosmoshine)A4300，东洋纺株式会社制)。支撑体如图1所示在经由输送装置输送的过程中被实施退火处理，在输送装置中依次配置了送出辊2、烘箱前方的轨道辊4、烘箱(加热器)7、烘箱后方的第1轨道辊5、烘箱后方的第2轨道辊6。
具体而言，以60m/min的速度输送支撑体，在具有被设定为150℃的总长16m的退火处理室N的烘箱7中，对支撑体实施了10秒～30秒的退火处理。此时，在轨道辊4和轨道辊5之间的区间中，以40N/m的牵力输送支撑体。然后，通过轨道辊5和6在被保持为室温的区间L1及L2中输送支撑体。此时，在支撑体即将到达轨道辊5之前(即区间L1)测定支撑体的温度，确认该温度低于支撑体的静态玻化温度即75℃。另外，轨道辊5和6不进行温度控制，以使区间L1的距离为1m、区间L2的距离为50cm的方式设置。
在这样对支撑体实施退火处理后，通过电晕放电处理对其两面进行表面亲水化处理。另外，图1是图示在对支撑体实施退火处理时最小必要限度的功能单元的图，实际上能够装配具有涂装功能等其它功能的功能单元和其它轨道辊等。另外，在后述的实施例2～28中，适时地对在从轨道辊4到轨道辊5之间施加给支撑体的牵力和输送速度进行调整，以达到退火处理后的支撑体面状为最好的条件。
<网状电极的形成>
(卤化银乳剂的调制)
在被保持为38℃、pH4.5的下述1号液中添加与下述的2号液及3号液各自的90％相当的量并同时搅拌达20分钟，形成了0.16μm的核粒子。然后，添加下述的4号液及5号液达8分钟，再添加下述的2号液及3号液的剩余10％的量达2分钟，使其成长至0.21μm。另外，添加碘化钾0.15g使其熟化5分钟，结束粒子形成。
1号液：
2号液：
水 300ml
硝酸银 150g
3号液：
水 300ml
氯化钠 38g
溴化钾 32g
六氯合铂(III)酸钾(0.005％KCl 20％水溶液)8ml
铵六氯铱(0.001％NaCl 20％水溶液)10ml
4号液：
水 100ml
硝酸银 50g
5号液：
然后，按照常规方法利用絮凝法进行水洗。具体而言，将温度降低至35℃，使用硫酸使pH下降一直到卤化银沉淀(pH3.6±0.2的范围)。然后，去除上澄液约3升(第一水洗)。再添加3升的蒸馏水，然后添加硫酸一直到卤化银沉淀。再次去除上澄液3升(第二水洗)。再反复一次与第二水洗相同的操作(第三水洗)，结束水洗/脱盐工序。将水洗/脱盐后的乳剂调整为pH6.4、pAg7.5，添加3.9g凝胶、10mg苯硫代磺酸钠、3mg苯硫代亚磺酸钠、10mg硫代硫酸钠和15mg氯化金酸，实施化学增感，以在55℃得到最优灵敏度，添加100mg的1，3，3a，7-C6H5ClN4作为稳定剂，添加100mg PROXEL(商品名，ICI有限公司制)作为防腐剂。最终得到的乳剂是包含0.08摩尔％的碘化银，将氯溴化银的比率设为氯化银70摩尔％，溴化银30摩尔％，平均粒径0.22μm、变动系数9％的碘氯溴化银立方体粒子乳剂。
(感光层形成用组合物的调制)
在上述乳剂中添加1，3，3a，7-C6H5ClN4 1.2×10-4摩尔/摩尔Ag、对苯二酚1.2×10-2摩尔/摩尔Ag、柠檬酸3.0×10-4摩尔/摩尔Ag、2，4-二氯-6-羟基-1，3，5-三嗪钠盐0.90g/摩尔Ag，使用柠檬酸，将涂布液pH调整为5.6，得到感光层形成用组合物。
(感光层形成工序)
在实施了退火处理的支撑体的两面上设置0.1μm厚的凝胶层作为基底涂层，在基底涂层上设置包含光学浓度约为1.0、通过显影液的碱而脱色的染料的抗光晕层。在上述抗光晕层上涂覆上述感光层形成用组合物，再设置0.15μm厚的凝胶层，得到了两面形成有感光层的支撑体。将两面形成有感光层的支撑体作为膜A。所形成的感光层为银量6.0g/m2、凝胶量1.0g/m2。
(曝光显影工序)
在上述膜A的两面，通过与上述图4的电极图案对应的光掩膜，使用以高压水银灯为光源的平行光进行了曝光。在曝光后，利用下述的显影液进行显影，再使用定影液(商品名：CN16X用N3X-R、富士胶片公司制)进行了定影处理。再用纯水清洗并烘干，由此得到了在两面形成有由Ag细线构成的电极图案和凝胶层的支撑体。凝胶层形成于Ag细线之间。将所得到的膜作为膜B。
(显影液的组成)
在1升(L)显影液中含有以下的化合物。
(加热工序)
将上述膜B静置在120℃的过热蒸汽槽中130秒，进行了加热处理。将加热处理后的膜作为膜C。
(凝胶分解处理)
将膜C浸渍在蛋白质分解酶(Nagase chemteX公司制Bioplase AL－15FG)的水溶液(蛋白质分解酶的浓度：0.5质量％、液温：40℃)中120秒。从水中取出膜C，浸渍在温水(液温：50℃)中120秒进行清洗。将凝胶分解处理后的膜作为膜D。该膜D是触摸传感器膜。
(实施例2)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为140℃，除此以外利用与实施例1相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例3)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为130℃，除此以外利用与实施例1相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例4)
使用50μm厚的支撑体，除此以外利用与实施例1相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例5)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为140℃，除此以外利用与实施例4相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例6)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为130℃，除此以外利用与实施例4相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例7)
使用38μm厚的支撑体，除此以外利用与实施例1相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例8)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为140℃，除此以外利用与实施例7相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例9)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为130℃，除此以外利用与实施例7相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例10)
使用25μm厚的支撑体，除此以外利用与实施例1相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例11)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为140℃，除此以外利用与实施例10相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例12)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为130℃，除此以外利用与实施例10相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例13)
在利用下述所示的方法，对由作为支撑体使用的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)构成、而且动态玻化温度为115℃的75μm厚的长尺寸板(光学级高透明膜(Cosmoshine)A4300，东洋纺株式会社制)进行指示误差扫描热量测定(DSC)和动态粘弹性测定(DMA)时，静态玻化温度为75℃、动态玻化温度为115℃。因此，在支撑体的退火处理工序中，在通过烘箱7后，以静态玻化温度(75℃)以上、而且低于动态玻化温度(115℃)的温度将支撑体一直输送到第一条轨道辊5，在从第一条轨道辊5到第二条轨道辊6的期间将支撑体的温度降温至低于静态玻化温度(75℃)，除此以外利用与实施例1相同的方法，制造了触摸传感器膜。在实施基于上述条件的退火处理时，实施了在区间L1、区间L2中调整温度环境以达到上述的温度履历的控制。
DCS的测定是使用SII奈米科技株式会社制DSC7200等进行的。测定条件如下：以10℃/1分钟的速度将支撑体从25℃升温至300℃，然后将支撑体的温度保持在300℃达10分钟后，以-50℃/1分钟的速度从300℃降温至-50℃，将支撑体的温度保持在-50℃达10分钟。然后，以10℃/1分钟的速度将支撑体从-50℃升温至300℃，以0.5秒间隔测定此时的支撑体的指示误差热量(DSC)。通过测定得到的DSC的温度依赖曲线在图9中示出。如图9所示，随着支撑体的升温，在温度依赖曲线D中出现拐点F(向上凸出的曲线变为向下凸出的曲线的点)。因此，求出从该拐点F以接触低温侧的温度依赖曲线的方式引出的基线E1、和拐点F的切线E2的交点S，将对应该交点S的温度作为静态玻化温度(静态Tg)。
另外，DMA的测定是使用SII奈米科技株式会社制的DMS6200等、以正弦波模式将支撑体拉伸来进行的。测定条件如下：以5℃/1分钟的速度将支撑体从25℃升温至220℃，然后保持在220℃达5分钟。以1Hz对支撑体施加应力，每30秒钟取样测定数据。测定结果是得到了贮存弹性率、损失弹性率、tanδ(＝损失弹性率÷贮存弹性率)的温度依赖性。将tanδ向上凸出的峰值温度作为动态玻化温度(动态Tg)。
(实施例14)
使用50μm厚的支撑体，除此以外利用与实施例13相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例15)
使用38μm厚的支撑体，除此以外利用与实施例13相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例16)
使用25μm厚的支撑体，除此以外利用与实施例13相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例17)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为140℃，除此以外利用与实施例13相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例18)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为140℃，除此以外利用与实施例14相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例19)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为140℃，除此以外利用与实施例15相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例20)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为140℃，除此以外利用与实施例16相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例21)
在支撑体的退火处理中，将输送装置的轨道辊5和轨道辊6的间隔设为20cm，除此以外利用与实施例13相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例22)
使用50μm厚的支撑体，除此以外利用与实施例21相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例23)
使用38μm厚的支撑体，除此以外利用与实施例21相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例24)
使用25μm厚的支撑体，除此以外利用与实施例21相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例25)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为140℃，除此以外利用与实施例21相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例26)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为140℃，除此以外利用与实施例22相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例27)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为140℃，除此以外利用与实施例23相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(实施例28)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为140℃，除此以外利用与实施例24相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(比较例1)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为170℃，除此以外利用与实施例1相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(比较例2)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为160℃，除此以外利用与实施例1相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(比较例3)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为170℃，除此以外利用与实施例4相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(比较例4)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为160℃，除此以外利用与实施例4相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(比较例5)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为170℃，除此以外利用与实施例7相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(比较例6)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为160℃，除此以外利用与实施例7相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(比较例7)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为170℃，除此以外利用与实施例10相同的方法，制作了触摸传感器膜。
(比较例8)
在支撑体的退火处理中，将烘箱的温度设为160℃，除此以外利用与实施例10相同的方法，制作了触摸传感器膜。
<评价方法>
(表面凹凸形状的测定)
将触摸传感器膜裁切为20cm见方，以不产生皱褶的方式水平放置在平滑的测定台上。此时，触摸传感器膜在不固定缘部等的状态下水平放置在测定台上。然后，利用扫描型激光移位计(三谷商事株式会社制，NAZCA-3D)对以触摸传感器膜的中央为中心的10cm见方的范围进行高度测定，由此将触摸传感器膜的表面凹凸形状定量化。其中，扫描型激光移位计的测定条件如下：沿相互垂直的X轴和Y轴这两个方向设定扫描方向，设激光光束的直径为0.07mm，设测定间距为1mm。另外，将X轴方向设定为顺着在触摸传感器膜产生的沿MD方向延伸的多条筋状的皱褶的方向，将Y轴设定为与多条筋状的皱褶垂直的方向。
将这样得到的任意的测定位置(Xi、Yj)的表面高度测定值设为F(Xi、Yj)，根据下述式(1)计算在测定点Yj通过的X轴上的表面高度测定值F(X1、Yj)、F(X2、Yj)、…F(XNx、Yj)的平均值F(Yj)。其中，Nx表示X轴上的测定点个数，在该测定中是100。
【数式1】
通过对Y轴的各个测定点Y1、Y2、…Y100计算上述的表面高度的平均值F(Y1)、F(Y2)、…F(Y100)，能够得到平均的Y轴方向的表面高度的变化。图10示出表示表面高度的平均值F(Yj)相对于Y轴位置的变化的曲线的一例。其中，表面高度的平均值F(Yj)以大约50mm的间距P上下大幅变化，这表示在将触摸传感器膜水平放置在测定台上时由于空气进入测定台和触摸传感器膜之间等的外部干扰，使得测定值产生了较大的变化，并非表示在触摸传感器膜实际产生的筋状的皱褶W。因此，实施移动平均处理，以便排除测定上的外部干扰。
具体而言，例如在对测定点Y10求出Y轴上的测定点Yj前后7个的测定点(位于宽度15mm内的测定点)的移动平均值Fa(Yj)的情况下，根据下述式(2)计算测定点Y3～Y17的移动平均值Fa(Y10)。
【数式2】
通过对Y轴上的各个测定点Y7、Y2、…Y93计算宽度15mm的移动平均值Fa(Y7)、Fa(Y8)、…Fa(Y93)，能够仅提取出起因于外部干扰的表面高度的大幅变化。即，通过对诸如几乎包含了在触摸传感器膜产生的筋状的皱褶W的宽度在内的15mm宽度计算移动平均值Fa(Yj)，能够抵消起因于筋状的皱褶W的凹凸的变化，仅提取出起因于外部干扰的表面高度的大幅变化。
图10示出表示表面高度的移动平均值Fa(Yj)相对于Y轴位置的变化的曲线的一例。通过计算这样求出的表面高度的平均值F(Yj)与表面高度的移动平均值Fa(Yj)的差分，提取出因触摸传感器膜的筋状的皱褶W而引起的表面高度的变化。图11示出表示计算表面高度的平均值F(Yj)与表面高度的移动平均值Fa(Yj)的差分而得到的皱褶W的高度Hy(Y)的位移的曲线的一例。在此，可知起因于筋状的皱褶的凹凸是以10mm～20mm的间距产生的。
然后，计算起因于所得到的筋状的皱褶W的表面凹凸形状的10点平均粗糙度(Rz)，由此求出在触摸传感器膜产生的筋状的皱褶W的程度。其中，10点平均粗糙度(Rz)能够用下式(3)表示。
Rz＝|Hyp1+Hyp2+Hyp3+Hyp4+Hyp5|/5+|Hyv1+Hyv2+Hyv3+Hyv4+Hyv5|/5……(3)
在此，计算将图11的皱褶W的高度Hy(Y)在规定的基准范围内平均化而得到的皱褶W的高度的平均值V，用Hyp1～Hyp5表示包含在该基准范围中的皱褶的高度Hy(Y)中从最高的值起到第5高的值，用Hyv1～Hyv5表示从最低的值起到第5低的值。
其结果在下述第1表和第2表中示出。
(热收缩率的评价)
将触摸传感器膜水平放置在150℃烘箱内的状态下进行30分钟的加热处理，从烘箱中取出并放置在室温下1分钟，然后在调节为温度23℃、湿度55％的环境下放置1小时，对触摸传感器膜进行调湿后，通过加热处理前后的尺寸比较来测定热收缩率。具体而言，分别测定了支撑体在机械流程方向(MD方向)和横向(TD方向)的热收缩率。在此示出在触摸传感器膜的热收缩率越低时刚性越高，并求出了在实际应用中MD方向的热收缩率的绝对值为0.6％以下、TD方向的热收缩率的绝对值为0.2％以下。另外，尺寸测定是利用塞规法进行的。
其结果在下述第1表和第2表中示出。
(莫尔条纹的视觉辨认性评价)
通过光学用透明粘接剂(OCA)将作为评价对象的触摸传感器膜贴合在液晶显示器(LCD)上制作了触摸屏，在使周边的光环境变暗、并且白色显示LCD的状态下，从各个角度观察显示器，由此评价莫尔条纹的视觉辨认性。在贴合了由图案设计成最适合于LCD的像素图案的网格图案构成的触摸传感器膜的情况下，将几乎视觉辨认不到莫尔条纹时的评价点数设为5点，将视觉辨认到极少数莫尔条纹时的评价点数设为4点，将容易视觉辨认出莫尔条纹时的评价点数设为3点，将能够容易视觉辨认到莫尔条纹时的评价点数设为2点，将马上就能视觉辨认到莫尔条纹时的评价点数设为1点，把对10名观察者的评价结果进行平均而得到的点数作为各个触摸传感器膜的莫尔条纹视觉辨认性的评价点数。即，如果评价点数为4点以上，则评价为在实际应用中莫尔条纹不会成为问题。
其结果在下述表1和表2中示出。
【表1】
表1
根据表1所示的结果可知，以对支撑体的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的温度、对厚度不足80μm的支撑体进行了退火处理的实施例1～12，与以比对支撑体的动态玻化温度加上35℃后的温度高的温度、对厚度不足80μm的支撑体进行了退火处理的比较例1～8相比，表面凹凸形状的Rz示出6.1μm以下的较低的值，与其对应的莫尔条纹的视觉辨认性示出4.0以上的较高的值。
另外，以对支撑体的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的温度、对厚度不足80μm的支撑体进行了退火处理的实施例1～12，在MD方向的热收缩率的绝对值在0.6％以内、在TD方向的热收缩率的绝对值在0.2％以内，可知能够得到规定的刚性。
【表2】
表2
根据表2所示的结果可知，在退火处理后以支撑体的静态玻化温度以上而且是低于动态玻化温度的温度将支撑体输送到第一条轨道辊，并且在第一条轨道辊与第二条轨道辊之间将支撑体降温至低于静态玻化温度的实施例13～20，与不进行上述处理的表1的实施例1、2、4、5、7、8、10及11相比，表面凹凸形状的Rz示出5.3μm以下的较低的值，与其对应的莫尔条纹的视觉辨认性示出4.7以上的较高的值。
【表3】
表3
根据表3所示的结果可知，将第一条轨道辊和第二条轨道辊之间的间隔设为20cm的实施例21～28，与将第一条轨道辊和第二条轨道辊之间的间隔设为50cm的表2的实施例13～20相比，表面凹凸形状的Rz示出4.5μm以下的较低的值，与其对应的莫尔条纹的视觉辨认性全部示出高达5.0的值。
标号说明
1支撑体；2送出辊；3卷取辊；4、5、6轨道辊；7加热器；8a、8b金属细线；9第1网状电极；10第2网状电极；11第1连接器部；12第2连接器部；13第1外部连接端子；14第1周边布线；15第2外部连接端子；16第2周边布线；17a、17b保护层；21触摸传感器膜；22显示装置；23检测部；N退火处理室；L1、L2区间；D温度依赖曲线；F拐点；E1基线；E2拐点的切线；S交点；P间距。

Claims (10)

1.一种触摸传感器膜的制造方法，其特征在于，
使用多个轨道辊对厚度不足80μm的长尺寸且透明的支撑体进行辊式输送，
以对所述支撑体的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的温度对所述支撑体实施退火处理，
在被实施了所述退火处理的所述支撑体的表面上形成由金属细线构成的网格图案，
在对所述支撑体实施所述退火处理后，以所述支撑体的静态玻化温度以上而且低于动态玻化温度的温度将所述支撑体一直输送到第一条轨道辊，
在从所述第一条轨道辊到第二条轨道辊的期间，将所述支撑体降温至低于静态玻化温度。
2.根据权利要求1所述的触摸传感器膜的制造方法，其中，
所述第一条轨道辊与所述第二条轨道辊的间隔在30cm以内。
3.根据权利要求2所述的触摸传感器膜的制造方法，其中，
所述第一条轨道辊与所述第二条轨道辊的间隔在20cm以内。
4.根据权利要求1～3中任意一项所述的触摸传感器膜的制造方法，其中，
所述退火处理是以从所述动态玻化温度减去10℃后的温度以上的温度进行的。
5.根据权利要求1～3中任意一项所述的触摸传感器膜的制造方法，其中，
所述退火处理是以对所述动态玻化温度加上25℃后的温度以下的温度进行的。
6.根据权利要求1～3中任意一项所述的触摸传感器膜的制造方法，其中，
所述支撑体的厚度不足50μm。
7.一种触摸传感器膜，其特征在于，所述触摸传感器膜具有：
厚度不足80μm的透明的支撑体；以及
网状电极，其配置在所述支撑体的表面上，具有由金属细线构成的网格图案，
设置有所述网状电极的支撑体在机械流程方向上的热收缩率的绝对值在0.6％以内、而且与所述机械流程方向垂直的横向上的热收缩率的绝对值在0.2％以内，并且表面凹凸形状的10点平均粗糙度在6.1μm以下，
其中，表面凹凸形状的10点平均粗糙度是利用扫描型激光移位计对触摸传感器膜的10cm见方的范围进行高度测定而得到的，扫描型激光移位计的测定条件为：沿相互垂直的X轴和Y轴这两个方向设定扫描方向，设激光光束的直径为0.07mm且测定间距为1mm。
8.根据权利要求7所述的触摸传感器膜，其中，
表面凹凸形状的10点平均粗糙度在4.5μm以下。
9.根据权利要求7所述的触摸传感器膜，其中，
所述支撑体的厚度不足50μm。
10.一种触摸屏，其特征在于，
所述触摸屏具有权利要求7～9中任意一项所述的触摸传感器膜。
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