CN109564488B - 导电性薄膜及触摸面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种能够兼顾显示图像的高画质化和检测部的低电阻化的导电性薄膜及具备该导电性薄膜的触摸面板。导电性薄膜设置于显示装置的显示单元上。具有：透明基板；检测部，设置于透明基板的至少一个面上且具备由金属细线构成的网格图案；及周边布线部，设置于透明基板的至少一个面上且与检测部电连接。透明基板中，将设置有检测部的区域设为第1区域，将除第1区域以外的区域设为第2区域时，包含第1区域与第2区域的边界线的边界区域位于边界线的整个区域，在边界区域的边界线的整个区域中的至少一部分具有线宽变化区域。线宽变化区域中，检测部的金属细线的线宽大于第1区域的中央的金属细线的基准线宽，且随着从第1区域朝向第2区域的方向连续增加。

Description

导电性薄膜及触摸面板
技术领域
本发明涉及一种配置于显示装置的显示单元上且具备导电性薄膜及该导电性薄膜的触摸面板，尤其涉及一种能够兼顾显示图像的高画质化和检测部的低电阻化的导电性薄膜及具备该导电性薄膜的触摸面板。
背景技术
近年来，在以平板电脑及智能手机等便携式信息设备为代表的各种电子设备中，可与液晶显示装置等显示装置组合使用，并通过与画面接触来对电子设备进行输入操作的触摸面板正在普及。
对于触摸面板，可使用在透明基板上形成有检测接触的检测部的导电性薄膜。
检测部由ITO(Indium Tin Oxide：铟锡氧化物)等透明导电性氧化物形成，但是除透明导电性氧化物以外也由金属形成。与上述透明导电性氧化物相比，金属具有容易图案化、弯曲性优异、电阻更低等优点，因此在触摸面板等中铜或银等金属被用于导电性细线。
在专利文献1中记载有一种使用金属细线的触摸面板。专利文献1的触摸面板是具备基材、多个Y电极图案、多个X电极图案、多个跨接绝缘层、多个跨接布线及透明绝缘层的静电电容传感器。多个Y电极图案分别具有大致菱形形状，以其顶点彼此相互相向的方式，沿着X方向及Y方向在基材的表面上排列成矩阵状。多个X电极图案为与Y电极图案相同的大致菱形形状。专利文献1的X电极图案和Y电极图案为菱形的网格图案。
在用于触摸传感器的导电性薄膜中，如专利文献1的大致菱形形状的图案那样，通常为由2种等间距平行线形成的菱形的网格图案。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2014-115694号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
近年来的触摸传感器中，适应窄边框化、适应大画面及适应高画质化成为了课题。为了应对窄边框化，要求减小周边布线的线空比的尺寸。若减小线空比(Line and Space)的大小，则布线体积减小，因此周边布线的电阻值增加。
在触摸传感器具有由细线构成的网格图案的情况下，为了应对大画面，要求由细线构成的网格图案的长度变长，作为结果，网格图案整体的电阻值增加。为了应对高画质化，通过进行网格图案的细线化，使细线难以视觉辨认，但是网格图案的细线化导致导线截面积减少，金属网格传感器的电阻值上升。然而，为了将触摸传感器的响应速度保持在恒定范围内，需要防止金属网格传感器的高电阻化。
如此，在应对窄边框化、大画面化及高画质化的情况下，需要防止金属网格传感器的高电阻化。对于兼顾这种金属网格传感器的高画质化和低电阻化，专利文献1 中，存在无法充分降低电阻值的问题。
本发明的目的在于提供一种导电性薄膜及具备该导电性薄膜的触摸面板,该导电性薄膜解决了前述基于现有技术的问题，且能够兼顾显示图像的高画质化和检测部的低电阻化。
用于解决技术课题的手段
为了实现上述目的，本发明的第1方式提供一种导电性薄膜，其设置于显示装置的显示单元上，该导电性薄膜的特征在于，具有：透明基板；检测部，设置于透明基板的至少一个面上且具备由金属细线构成的网格图案；及周边布线部，设置于透明基板的至少一个面上且与检测部电连接，透明基板中，将设置有检测部的区域设为第1 区域，且将除第1区域以外的区域设为第2区域时，包含第1区域与第2区域的边界线的边界区域位于边界线的整个区域，在边界区域的边界线的整个区域中的至少一部分具有线宽变化区域，线宽变化区域中，检测部的金属细线的线宽大于第1区域的中央的金属细线的基准线宽，且随着从第1区域朝向第2区域的方向连续增加。
边界区域可以是包含边界线且横跨第1区域与第2区域的区域。线宽变化区域可以是整条边界区域。
优选为，边界区域为四边形形状，线宽变化区域位于四边形形状中的至少一条边的一部分。
优选为，检测部具有多个检测电极，周边布线部具有多个周边布线，多个检测电极分别电连接于多个周边布线，多个检测电极中，在所连接的周边布线的长度最长的检测电极的边界区域具有线宽变化区域。并且，检测部可以是具有与检测电极电绝缘的虚设电极的结构。
当将金属细线的线宽的增加率设为Y，将第1区域的中央的金属细线的基准线宽设为W0，将在第1区域内金属细线的最粗的线宽设为Wmax，将它们之比设为Wmax/W0 时，优选同时满足Y≤2.0、Wmax/W0≤2.5、0.5×(Wmax/W0)≤Y及Y≤4.77×(Wmax/W0) -4.19。
本发明的第2方式提供一种触摸面板，其特征在于，具有：第1方式的导电性薄膜；保护层，设置于导电性薄膜上且保护导电性薄膜；及显示装置，具有显示单元，将所述第1区域叠置于显示单元的显示区域上，导电性薄膜配置于显示装置上。
发明效果
根据本发明，能够兼顾高画质化和低电阻化。
附图说明
图1是表示具有本发明的实施方式的导电性薄膜的显示装置的示意图。
图2是表示使用了本发明的实施方式的导电性薄膜的触摸传感器的示意俯视图。
图3是表示使用了本发明的实施方式的导电性薄膜的触摸传感器的示意剖视图。
图4是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的结构的其他例的示意剖视图。
图5是本发明的实施方式的导电性薄膜的主要部分放大图。
图6是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的线宽的优选的范围的图表。
图7是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的检测部的配置的其他例的示意俯视图。
图8是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的检测部的其他例的示意图。
具体实施方式
以下，根据附图中所示的优选实施方式，对本发明的导电性薄膜以及触摸面板进行详细说明。
另外，以下显示数值范围的“～”包含两边所记载的数值。例如，ε为数值α1～数值β1是指ε的范围为包含数值α1与数值β1的范围，若以数学符号来表示，则α1≤ε≤β1。
若无特别记载，包括“平行”、“垂直”及“正交”等在内，角度包含技术领域中通常所容许的误差范围。
透明是指在波长400nm～800nm的可见光波长区域中，透光率至少为60％以上，优选为75％以上，更优选为80％以上，进一步优选为85％以上。透光率是使用JIS K 7375：2008中所规定的“塑料--总光线透射率及总光线反射率的求算方法”而测定。
图1是表示具有本发明的实施方式的导电性薄膜的显示装置的示意图。
如图1所示，导电性薄膜10例如经由光学透明层18而设置于显示装置20的显示单元22上。
在导电性薄膜10的表面10a上设置有保护层12。导电性薄膜10与控制器14连接。
由导电性薄膜10及保护层12构成触摸传感器13，由导电性薄膜10、保护层12 及控制器14构成触摸面板16。由触摸面板16和显示装置20构成显示设备24。
保护层12的表面12a成为在显示单元22的显示区域(未图示)显示的显示物的视觉辨认面。并且，保护层12的表面12a成为触摸面板16的触摸面。
控制器14由利用于静电电容式触摸传感器或电阻膜式触摸传感器的检测的公知的部件构成。触摸传感器13中，若为静电电容式，则由控制器14检测通过手指等与保护层12的表面12a的接触而静电电容发生了变化的位置。若为电阻膜式，则由控制器14检测电阻发生变化的位置。
保护层12用于保护导电性薄膜10。关于保护层12，其结构并无特别限定。例如可使用玻璃、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)或聚甲基丙烯酸甲酯树脂 (PMMA)等丙烯酸树脂。如上所述，保护层12的表面12a成为触摸面，因此可以根据需要在表面12a上设置硬涂层。
关于光学透明层18，光学透明且具有绝缘性，并且只要能够稳定地固定导电性薄膜10，则其结构并无特别限定。作为光学透明层18，例如能够使用光学透明的粘合剂(OCA，光学胶：Optical Clear Adhesive)及UV(紫外光：Ultra Violet)固化树脂等光学透明的树脂(OCR，光学树脂：Optical Clear Resin)。并且，光学透明层18可以局部中空。
另外，可以是不设置光学透明层18，而在显示单元22上隔着间隙分开设置导电性薄膜10的结构。还将该间隙称为空气间隙。
显示装置20具有具备显示区域(未图示)的显示单元22，例如为液晶显示装置。在该情况下，显示单元22为液晶显示单元。另外，显示装置并不限定于液晶显示装置，可以是有机EL(Organic electro luminescence：有机电致发光)显示装置，在该情况下，显示单元为有机EL元件。
导电性薄膜10例如利用于静电电容式触摸传感器。
图2是表示使用了本发明的实施方式的导电性薄膜的触摸传感器的示意俯视图，
图3是表示使用了本发明的实施方式的导电性薄膜的触摸传感器的示意剖视图。
导电性薄膜10具有：透明基板；检测部，设置于透明基板的至少一个面上且具备由金属细线构成的网格图案；及周边布线部，设置于透明基板的至少一个面上且与检测部电连接。
具体而言，如图2所示，在透明基板30的表面30a上形成沿第1方向D1延伸并且在与第1方向D1正交的第2方向D2上并排配置的多个第1检测电极32，与多个第1检测电极32电连接的多个第1周边布线33排列成彼此靠近。多个第1周边布线 33在透明基板30的一条边30c上汇集到1个端子39。将多个第1周边布线33统称为第1周边布线部50。
在透明基板30的背面30b(参考图3)上形成沿第2方向D2延伸并且在第1方向D1上并排配置的多个第2检测电极34，与多个第2检测电极34电连接的多个第2 周边布线35排列成彼此靠近。多个第2周边布线35在透明基板30的一条边30c上汇集到1个端子39。将多个第2周边布线35统称为第2周边布线部52。
第2检测电极34与第1检测电极32至少重叠一部分并分开而配置成层状。更具体而言，从与透明基板30的一个面垂直的方向Dn(参考图3、图4)观察时，第2 检测电极34与第1检测电极32至少重叠一部分而配置。将第1检测电极32和第2 检测电极34重叠而成的层叠方向D3(参考图3、图4)为与上述垂直的方向Dn(参考图3、图4)相同的方向。
如图2及图3所示，通过在1个透明基板30的表面30a设置第1检测电极32，且在背面30b设置第2检测电极34，即使透明基板30收缩，也能够减小第1检测电极32与第2检测电极34之间的位置关系的偏差。
由第1检测电极32和多个第2检测电极34构成检测部53。
第1检测电极32及第2检测电极34均由金属细线40构成，且具有具备开口部的网格图案。关于第1检测电极32及第2检测电极34的网格图案，将在后面进行详细说明。
第1周边布线33及第2周边布线35可以由金属细线40形成，也可以由线宽及厚度等与金属细线40不同的导电布线构成。第1周边布线33及第2周边布线35例如可以由带状导体形成。关于导电性薄膜10的各构成部件，将在后面进行详细说明。
若导电性薄膜10如上所述那样具有由金属细线40构成的网格图案，则并不限定于静电电容式触摸传感器，也可以是电阻膜式触摸传感器。即使是电阻膜式触摸传感器，也可由多个第1检测电极32和多个第2检测电极34构成检测部53。
在导电性薄膜10的透明基板30中，第1区域36为设置有检测部53的区域，包含存在多个第1检测电极32和多个第2检测电极34的区域。在静电电容式触摸传感器中，第1区域36为能够检测手指等的接触即触摸的区域。将第1区域36叠置于显示装置20的显示单元22的显示区域上，且将导电性薄膜10配置于显示装置20上。因此，第1区域36也是可见区域。若在显示区域上显示图像，则第1区域36成为图像显示区域。
透明基板30中，将除第1区域36以外的区域设为第2区域38。在第2区域38 形成有第1周边布线部50及第2周边布线部52，在第2区域38上设置有具有遮光功能的装饰板54。通过利用装饰板54覆盖第1周边布线部50及第2周边布线部52 而使第1周边布线部50及第2周边布线部52成为不可见，且成为可见区域的第1 区域36被划分出。另外，符号37为第1区域36与第2区域38的边界线。
在触摸面板的技术领域中，装饰板54被称为装饰层。作为装饰板54，只要能够使第1周边布线部50及第2周边布线部52成为不可见，则其构成并无特别限定，能够使用公知的装饰层。形成装饰板54时，能够使用网版印刷、凹版印刷及胶版印刷等印刷法、转印法、以及蒸镀法。
所谓不可见，是指无法视觉辨认第1周边布线部50及第2周边布线部52，10 名观察者进行观察时，将没有人能够视觉辨认出的情况称为不可见。
导电性薄膜10并特别不限定于图2及图3所示的结构，例如可以是如图4所示的导电性薄膜10那样在1个透明基板30、31上设置1个检测电极的结构。导电性薄膜10可以是如下结构：在1个透明基板30的表面30a设置有第1检测电极32，且在透明基板30的背面30b经由粘接层56层叠有在表面31a设置有第2检测电极34 的透明基板31。另外，透明基板31为与透明基板30相同的结构。粘接层56能够使用与上述光学透明层18相同的物质。图4中，将第1检测电极32和第2检测电极 34重叠而成的层叠方向D3也为与垂直方向Dn相同的方向。
在导电性薄膜10的透明基板30中，如图5所示，第1区域36中，包含第1区域36与第2区域38的边界线37的边界区域Db，沿边界线37位于边界线37的整个区域。边界区域Db例如为包含边界线37且横跨第1区域36与第2区域38的区域。图5中，第1检测电极32和第1周边布线33的电极边界BE至第1区域36侧的边界 Bc为止的范围为边界区域Db。
从边界线37至与边界线37垂直的方向上的2cm左右的范围为边界区域Db。即，边界线37与边界Bc的距离为2cm左右。
另外，边界区域Db可以是从边界线37至第1区域36侧的边界Bc为止的范围，在该情况下，边界区域Db仅存在于第1区域36中。
在边界区域Db的边界线37的整个区域中的至少一部分具有线宽变化区域Dc。
边界区域Db的线宽变化区域Dc中，存在于线宽变化区域Dc中的第1检测电极 32的金属细线40的线宽及第2检测电极34的金属细线40的线宽大于第1区域36 的中央的金属细线40的基准线宽，且随着从第1区域36朝向第2区域38的方向连续增加。通过连续增加金属细线40的线宽w，能够使第1检测电极32及第2检测电极34低电阻化即能够使检测部53低电阻化。在该情况下，还能够抑制电阻率伴随金属细线40的细线化而上升。而且，通过实现低电阻化，即使增加显示区域的画面尺寸，也容易将触摸传感器的响应速度保持在恒定范围内。
并且，如上所述，在边界区域Db的线宽变化区域Dc中连续增加金属细线40的线宽w，由此在边界区域Db中具有粗的金属细线40，因此金属细线40越粗，越不容易断线，断线耐性得到提高。并且，金属细线40的线宽w越粗，对由静电引起的过电流的流入的耐性也越提高，其结果，抗静电性也得到提高。
如上所述，将连续增加金属细线40的线宽w的区域限定在边界区域Db的线宽变化区域Dc，由此难以被观察者视觉辨认，从而能够获得实质上的画质下降无法被识别这样的效果。即，能够减小对金属细线40的显示区域上造成的影响、例如对显示图像的画质造成的影响。
另外，所谓第1区域36的中央，若第1区域36为长方形及正方形等，则为2 个对角线所相交的交点，若第1区域36为圆，则为中心。
所谓金属细线40的线宽连续增加，是指相对于金属细线40的延伸方向，金属细线40的线宽随着向延伸方向延伸，变得比延伸方向后方的线宽更宽。
连续增加还包括在金属细线40的延伸方向上，金属细线40的线宽以多个阶段增加。
接着，对导电性薄膜10的线宽变化区域Dc中的金属细线40的线宽的优选的范围进行说明。
图6是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的线宽的优选的范围的图表。
将金属细线40的线宽的增加率设为Y，将第1区域36的中央的金属细线40的基准线宽设为W0，在第1区域36内，将金属细线40的最粗的线宽设为Wmax，将它们之比设为Wmax/W0。增加率Y表示每单位长度的金属细线的宽度增加的量。单位长度为1cm。
优选线宽变化区域Dc中的金属细线40的线宽同时满足下述式(1)～(4)。示出了下述式(1)～(4)的图表为图6。图6中，直线L1对应于下述式(1)，直线 L2对应于下述式(2)，直线L3对应于下述式(3)及直线L4对应于下述式(4)。所谓同时满足下述式(1)～(4)，是指第1区域36的中央的金属细线40的基准线宽 W0和最粗的线宽Wmax在图6所示的区域S内。
Y≤2.0……式(1)
Wmax/W0≤2.5……式(2)
0.5×(Wmax/W0)≤Y……式(3)
Y≤4.77×(Wmax/W0)-4.19……式(4)
通过同时满足上述式(1)～(4)，金属细线40难以视觉辨认，且能够实现低电阻化。在该情况下，若金属细线40的线宽能够从基准线宽增加到2.5倍，且增加率增加到2倍，则金属细线40进一步难以视觉辨认，且能够进一步实现低电阻化。
为了金属细线40进一步难以视觉辨认，且进一步实现低电阻化，优选当如图6 的点C那样增加率小时，金属细线40的线宽变细。
如上所述，边界区域Db沿边界线37位于边界线37的整个区域。图2中，第1 区域36为四边形形状，边界区域Db也为四边形，边界区域Db具有4条边。线宽变化区域Dc可以位于边界线37的整个区域中的至少1部分，并不限定于位于边界区域 Db的整个区域。因此，可以是在边界区域Db的4条边中的至少一条边具有线宽变化区域Dc的结构，还可以是在一条边的一部分具有线宽变化区域Dc的结构。
从低电阻化的方面考虑，可以是在边界区域Db中高电阻处设置线宽变化区域Dc的结构。在该情况下，多个检测电极的长度相同，检测电极单体中，电阻相同，因此周边布线的长度越长，电阻越高。因此，可以是在周边布线的长度最长的检测电极的边界区域Db具有线宽变化区域Dc的结构。
具体而言，图2中，多个第1检测电极32中，第1检测电极32a的第1周边布线33的长度最长。因此，可在第1检测电极32a的边界区域Db设置线宽变化区域 Dc。线宽变化区域Dc可以位于第1检测电极32a的两端的边界区域Db，可以是在第 1检测电极32a的任一端的边界区域Db设置线宽变化区域Dc的结构。
关于多个第2检测电极34，第2检测电极34a的第2周边布线35的长度最长。因此，可在第2检测电极34a的边界区域Db设置线宽变化区域Dc。线宽变化区域Dc 可以位于第2检测电极34a的两端的边界区域Db，可以是在第2检测电极34a的任一端的边界区域Db设置线宽变化区域Dc的结构。
并且，图7所示的导电性薄膜11中，汇集多个第1检测电极32的第1周边布线 33的端子39配置于一条边30c的第2方向D2的中央。在该情况下，多个第1检测电极32中，第1检测电极32a及第1检测电极32b的第1周边布线33的长度最长。因此，可在第1检测电极32a及第1检测电极32b的边界区域Db中设置线宽变化区域Dc。线宽变化区域Dc可以存在于第1检测电极32a的两端的边界区域Db，可以是在第1检测电极32a的任一端的边界区域Db设置线宽变化区域Dc的结构。并且，线宽变化区域Dc可以位于第1检测电极32b的两端的边界区域Db，可以是在第1检测电极32b的任一端的边界区域Db设置线宽变化区域Dc的结构。
另外，图7所示的导电性薄膜11中，对于与图2所示的导电性薄膜10相同的结构物附加相同符号，并省略其详细说明。
并且，检测部可以是具有与检测电极电绝缘的虚设电极的结构。在该情况下，如图8所示，也可以是在第2方向D2上多个第1检测电极32之间具有与第1检测电极 32电绝缘的虚设电极60的结构。
第1检测电极32与虚设电极60设置间隙62而配置。虚设电极60通过间隙62 与第1检测电极32电绝缘，且不作为检测电极发挥功能。然而，在具有虚设电极60 的情况下，关于存在虚设电极60的边界区域Db也设定线宽变化区域Dc。由于虚设电极60被电绝缘，因此对电阻没有贡献，但虚设电极60本身难以被视觉辨认，能够减小对显示区域上造成的影响即对画质造成的影响。
虚设电极60通过间隙62与第1检测电极32电绝缘，除此之外，虚设电极60 为与第1检测电极32相同的网格图案。关于虚设电极60，在制作网格图案之后制作第1检测电极32时，能够通过仅去除间隙62来形成，而无需去除位于第1检测电极 32之间的所有网格图案。
另外，图8中，将第1检测电极32作为例子进行了说明，但是关于第2检测电极34，也与第1检测电极32同样地，设为设置上述虚设电极60的结构。
以下，对导电性薄膜10的各部件进行说明。
首先，对第1检测电极32和第2检测电极34的金属细线40进行说明。
关于金属细线40的线宽w，并无特别限定，但是在被用作第1检测电极32及第 2检测电极34的情况下，优选为0.5μm以上且5μm以下。若金属细线40的线宽w 在上述范围内，则能够相对容易地形成低电阻的第1检测电极32及第2检测电极34。所谓金属细线40的线宽w，是指除线宽变化区域Dc以外的区域的线宽，上述基准线宽也优选包含在上述金属细线40的线宽w的范围内。
在金属细线40被用作周边布线(引出布线)的情况下，金属细线40的线宽w 优选为500μm以下，更优选为50μm以下，尤其优选为30μm以下。只要线宽w为上述范围，则能够比较容易地形成低电阻的周边布线。
在金属细线40被用作周边布线的情况下，还能够与第1检测电极32及第2检测电极34同样地设为网格图案，在该情况下，线宽w并无特别限定，但优选为30μm 以下，更优选为15μm以下，进一步优选为10μm以下，尤其优选为9μm以下，最优选为7μm以下，且优选为0.5μm以上，更优选为1.0μm以上。只要线宽w为上述范围，则能够比较容易地形成低电阻的周边布线。通过将周边布线设为网格图案，形成第1检测电极32及第2检测电极34时，照射来自氙闪光灯的脉冲光的步骤中，能够提高基于检测电极和周边布线的照射的低电阻化的均匀性。并且，在将粘合剂层贴合的情况下，能够使第1检测电极32及第2检测电极34与周边布线的剥离强度成为恒定，能够使该剥离强度的面内分布减小，从这一点考虑优选将粘合剂层贴合。
关于金属细线40的厚度t，并无特别限定，但优选为1～200μm，更优选为30μm 以下，进一步优选为20μm以下，尤其优选为0.01～9μm，最优选为0.05～5μm。只要厚度t为上述范围，则能够比较容易地形成低电阻并且耐久性优异的检测电极。
关于金属细线40的线宽w及金属细线40的厚度t，获取包含金属细线40的导电性薄膜10的截面图像，将截面图像读入个人电脑中，并使其显示于显示器，对在显示器上规定上述金属细线40的线宽w的2个部位，分别绘制水平线，并求出水平线之间的长度。由此，能够获得金属细线40的线宽w。并且，对规定金属细线40的厚度t的2个部位，分别绘制水平线，并求出水平线之间的长度。由此，能够获得金属细线40的厚度t。
＜透明基板＞
由于透明基板30与透明基板31相同，因此只对透明基板30进行说明。关于透明基板30，只要能够支撑第1检测电极32、第1周边布线33、第2检测电极34、第 2周边布线35，则其种类并无特别限定，但尤其优选塑料薄膜。
作为构成透明基板30的材料的具体例，优选PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯) (258℃)、聚环烯烃(134℃)、聚碳酸酯(250℃)、丙烯酸树脂(128℃)、PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)(269℃)、PE(聚乙烯)(135℃)、PP(聚丙烯)(163℃)、聚苯乙烯(230℃)、聚氯乙烯(180℃)、聚偏二氯乙烯(212℃)或TAC(三乙酰纤维素) (290℃)等熔点为约290℃以下的塑料薄膜，尤其优选PET、聚环烯烃以及聚碳酸酯。
()内的数值是熔点。
透明基板30的总光线透射率优选为85％～100％。总光线透射率例如使用JIS K7375：2008中规定的“塑料-总光线透射率及总光线反射率的求法”测定。
作为透明基板30的优选方式之一，可以举出实施了选自包含大气压等离子体处理、电晕放电处理以及紫外线照射处理的组中的至少1种处理的经处理的基板。通过实施上述处理，在经处理的透明基板30的面上导入OH基团等亲水性基团，从而第1 检测电极32、第1周边布线33、第2检测电极34及第2周边布线35与透明基板30 的粘附性得到进一步提高。
上述处理中，从第1检测电极32、第1周边布线33、第2检测电极34及第2 周边布线35与透明基板30的粘附性得到进一步提高的角度考虑，优选大气压等离子体处理。
作为透明基板30的其他的优选方式，优选在设置有第1检测电极32、第1周边布线33、第2检测电极34及第2周边布线35的面上具有包含高分子的底涂层。通过在该底涂层上形成用于形成第1检测电极32、第1周边布线33、第2检测电极34 及第2周边布线35的感光层，第1检测电极32、第1周边布线33、第2检测电极 34及第2周边布线35与透明基板30的粘附性得到进一步提高。
底涂层的形成方法并无特别限定，但例如可举出将包含高分子的底涂层形成用组合物涂布于基板上，并根据需要实施加热处理的方法。底涂层形成用组合物也可以根据需要含有溶剂。溶剂的种类并无特别限定，但可例示后述感光层形成用组合物中所使用的溶剂。并且，作为含有高分子的底涂层形成用组合物，也可以使用含有高分子的微粒的胶乳。
底涂层的厚度并无特别限定，但是从第1检测电极32、第1周边布线33、第2 检测电极34、第2周边布线35与透明基板30的粘附性更加优异的观点考虑，优选为0.02～0.3μm，更优选为0.03～0.2μm。
另外，根据需要，导电性薄膜10在透明基板30与第1检测电极32及第2检测电极34之间，除上述底涂层以外，例如，还可以具备防光晕层来作为其他层。
＜金属细线＞
金属细线40具有导电性，例如由金属或合金构成。金属细线40例如能够由铜线或银线构成。优选在金属细线40中包含金属银，但是也可以包含除金属银以外的金属、例如金、铜等。并且，优选金属细线40含有适合形成网格图案的、金属银及明胶等高分子粘合剂。
金属细线40并不限定于由上述金属或合金构成，例如还可以包含金属氧化物粒子、银浆及铜浆等金属浆料、以及银纳米线及铜纳米线等金属纳米线粒子。
第1检测电极32和第2检测电极34的网格图案并无特别限定，但优选等边三边形、等腰三角形、直角三角形等三角形、正方形、长方形、菱形、平行四边形、梯形等四边形、六边形、八边形等多边形、圆、椭圆或者星形等或将它们组合而成的几何学图形。所谓网格图案，是组合多个通过金属细线构成为格子状的单元而成。具体而言，如图5所示，是指在透明基板的同一面上形成的、组合多个由交叉的金属细线 40构成的多个正方形格子而成的图案。作为网格图案，可以是组合相似形、形状一致的格子而成的结构，可以是组合不同形状的格子而成的结构。格子的一条边的长度并无特别限制，但从难以视觉辨认的观点考虑，优选为50～500μm，进一步优选为 150～300μm。在单位格子的边的长度为上述范围的情况下，能够进一步良好地保持透明性，安装于显示设备的前表面时，能够无不适感地视觉辨认显示。
并且，第1检测电极32和第2检测电极34的网格图案可以由组合曲线而成的形状构成，例如可以组合圆弧而形成圆或椭圆的格子状单元。作为圆弧，例如能够使用 90°的圆弧、180°的圆弧。
第1检测电极32和第2检测电极34的网格图案可以是无规图案。无规图案例如为任意地组合种类及大小不同的多边形而成的图案。除此之外，所谓无规图案，例如是指，对于构成图案的多边形而言，配置间距、角度、长度及形状中的至少1个不是恒定的图案。另外，其中，所谓多边形，实质上为多边形即可，边的一部分或全部可以呈曲线。
在该情况下，例如，对于具有规则性的菱形形状而言，无规图案是保存角度且对间距赋予了不规则性的、开口部为平行四边形的图案。并且，无规图案可以是开口部为菱形，且对菱形形状的角度赋予了不规则性的图案。不规则性分布可以是正态分布，也可以是均匀分布。
接着，对金属细线40的形成方法进行说明。关于金属细线40的形成方法，只要能够形成于透明基板30、31上，则并无特别限定。对于金属细线40的形成方法，例如能够适当地利用电镀法、银盐法、蒸镀法及印刷法等。
对基于电镀法的金属细线40的形成方法进行说明。例如，金属细线40能够由通过对非电解电镀基底层进行非电解电镀来形成于基底层上的金属电镀膜构成。在此情况下，可以如下方式形成：将至少含有金属微粒子的催化剂油墨在基材上形成为图案状后，使基材浸渍于非电解电镀浴中，而形成金属电镀膜。更具体而言，可利用日本特开2014-159620号公报中所记载的金属被膜基材的制造方法。另外，可以如下方式形成：将至少具有可与金属催化剂前体进行相互作用的官能基的树脂组合物在基材上形成为图案状后，施加催化剂或催化剂前体，使基材浸渍于非电解电镀浴中，而形成金属电镀膜。更具体而言，可应用日本特开2012-144761号公报中所记载的金属被膜基材的制造方法。
对基于银盐法的金属细线40的形成方法进行说明。首先，在包含卤化银的银盐乳剂层上，使用成为金属细线40的曝光图案实施曝光处理，然后进行显影处理，由此能够形成金属细线40。更具体而言，可利用日本特开2015-022397号公报中所记载的金属细线的制造方法。
对基于蒸镀法的金属细线40的形成方法进行说明。首先，通过蒸镀来形成铜箔层，并利用光刻法而由铜箔层形成铜布线，由此可形成金属细线40。铜箔层除蒸镀铜箔以外，还可以利用电解铜箔。更具体而言，可利用日本特开2014-29614号公报中所记载的形成铜布线的步骤。
对基于印刷法的金属细线40的形成方法进行说明。首先，将含有导电性粉末的导电浆料以与金属细线40相同的图案涂布于基板上，之后实施加热处理，由此可形成金属细线40。使用导电浆料的图案形成例如通过喷墨法或网版印刷法来进行。作为导电浆料，更具体而言，可利用日本特开2011-028985号公报中所记载的导电浆料。
本发明基本上如上述构成。以上，对本发明的导电性薄膜及触摸面板进行了详细说明，但本发明并不限定于上述实施方式，当然可在不脱离本发明的主旨的范围内，进行各种改良或变更。
实施例
以下，举出实施例来更具体地说明本发明的特征。关于以下的实施例中所示的材料、试剂、用量、物质量、比例、处理内容及处理顺序等，只要不脱离本发明的主旨，则能够进行适当变更。因此，本发明的范围不应由以下所示的具体例限定性地进行解释。
＜第1实施例＞
第1实施例中，通过设计曝光掩模中的绘制线宽，制作由在边界区域连续改变了线宽的金属细线构成的网格图案，获得了导电性薄膜。使用具有12英寸尺寸的四边形状的显示区域的液晶显示装置，制作与显示区域相符的触摸面板，层叠于液晶显示装置上而制作了触摸面板模块。另外，第1实施例中，将边界区域设置在四边形状的图像显示区域的所有边即4条边。在图像显示区域的边缘部具有边界区域。
关于触摸面板模块，制作改变了金属细线的宽度的实施例1～13、实施例21～33、实施例41～53以及比较例1、比较例2及比较例3，对于画质和电阻进行了评价。各评价结果示于下述表1中。以下，对触摸面板模块进行说明。
＜评价用触摸面板模块的制作＞
对于所制作的导电性薄膜，依次层叠液晶显示装置、光学透明的粘合剂(OCA，3MCompany制造的8146-2(产品编号))、各导电性薄膜、光学透明的粘合剂(OCA， 3M Company制造的8146-3(产品编号))、盖玻璃而制作了触摸面板模块。
＜画质评价＞
关于所制作的触摸面板模块，在进行了特定的图像显示的状态下由10名观察者进行显示画质的观察，根据图像显示区域的中央部与边缘部的比较，对边缘部的画质劣化的程度进行1分～10分的评分，根据10名的平均分，如下述那样确定了AAA～C 的评价。若评价为AAA、AA、A及B中的任一者，则判定为画质没有实质上的劣化。若画质评价为A～AAA，则判定为画质良好。
另外，画质评价的1分～10分的评分中，也能够进行4分或7分等中间的评分。
超过8分且为10分以下：即使仔细观察，也完全注意不到边缘部的画质劣化
超过5分且为8分以下：即使仔细观察，也几乎注意不到边缘部的画质劣化，不介意
超过3分且为5分以下：若仔细观察，则会注意到边缘部的画质劣化，但是几乎不会介意
超过1分且为3分以下：若仔细观察，则会注意到边缘部的画质劣化，稍微介意
1分以下：一眼就注意到边缘部的画质劣化，相当介意
AAA：平均分为9分以上
AA：平均分为8分以上且小于9分
A：平均分为6.5分以上且小于8分
B：平均分为5分以上且小于6.5分
C：平均分小于5分
＜电阻值评价＞
将具有边界区域时的网格图案的电阻值设为Rb，并进行了没有边界区域时的网格图案中的电阻值R0的比较。根据电阻值Rb与电阻值R0之比Rb/R0的值，确定了AAA～C的评价。若Rb/R0小于98％，即，若如下述那样评价为AAA、AA、A及B中的任一者，则判定为能够通过改善图案来降低由金属细线构成的网格图案的电阻值。若电阻值评价为A～AAA，则判定为电阻下降的效果高。
另外，电阻值Rb及电阻值R0均为使用测试仪测定出的值。
AAA：Rb/R0小于90％
AA：Rb/R0为90％以上且小于93％
A：Rb/R0为93％以上且小于96％
B：Rb/R0为96％以上且小于98％
C：Rb/R0为98％以上
以下，对导电性薄膜10的制作方法进行说明。
＜导电性薄膜的制作方法＞
(卤化银乳剂的制备)
在保持成38℃的温度、pH(potential of hydrogen：酸碱度) 4.5的下述1液中，将下述2液以及3液各自的相当于90％的量经20分钟一边搅拌，一边同时进行添加，形成了0.16μm的核粒子。接着，经8分钟添加下述 4液及5液，进一步，经2分钟添加下述的2液及3液的剩余的10％的量，而使其成长至0.21μm。进一步，添加碘化钾0.15g，进行5分钟熟化后结束了粒子形成。
1液：
水……750ml
明胶……9g
氯化钠……3g
1,3-二甲基咪唑烷-2-硫酮……20mg
苯硫代磺酸钠 ……10mg
柠檬酸……0.7g
2液：
水……300ml
硝酸银……150g
3液：
水……300ml
氯化钠……38g
溴化钾……32g
六氯铱(III)酸钾(0.005％KCl 20％水溶液)……8ml
六氯铑酸铵(0.001％NaCl 20％水溶液)……10ml
4液：
水……100ml
硝酸银……50g
5液：
水……100ml
氯化钠……13g
溴化钾……11g
亚铁氰化钾……5mg
之后，根据常规方法，通过絮凝法来进行水洗。具体而言，将温度降低到35℃，使用硫酸降低pH(pH3.6±0.2的范围)，直至卤化银沉淀。接下来，将上清液去除约 3升(第1次水洗)。进一步添加3升的蒸馏水后，添加硫酸至卤化银沉淀。再次，将3升的上清液去除(第2次水洗)。再1次重复与第2次水洗相同的操作(第3次水洗)，结束了水洗及脱盐步骤。将水洗及脱盐后的乳剂调整成pH6.4、pAg7.5，添加明胶3.9g、苯硫代磺酸钠10mg、苯硫代亚磺酸钠3mg、硫代硫酸钠15mg与氯金酸 10mg，并在55℃下以获得最佳灵敏度的方式实施化学增感，然后添加作为稳定剂的 1,3,3a,7-四氮杂茚100mg、作为防腐剂的Proxel(商品名称，ICICo.,Ltd.制造) 100mg。最终得到的乳剂为如下碘氯溴化银立方体粒子乳剂：该乳剂包含碘化银0.08 摩尔％，将氯溴化银的比率设为氯化银70摩尔％、且溴化银30摩尔％，平均粒径为 0.22μm，变动系数为9％。
(感光层形成用组合物的制备)
在上述乳剂中添加1.2×10-4摩尔/摩尔Ag的1,3,3a,7-四氮茚、1.2×10-2摩尔/摩尔Ag的对苯二酚、3.0×10-4摩尔/摩尔Ag的柠檬酸、0.90g/摩尔Ag的2,4-二氯 -6-羟基-1,3,5-三嗪钠盐以及微量的硬化剂，使用柠檬酸将涂布液pH调整为5.6。另外，摩尔/摩尔Ag表示相对于1摩尔银的摩尔数。
在上述涂布液中，以相对于所含有的明胶成为聚合物/明胶(质量比)＝0.5/1的方式添加了由(P-1)表示的聚合物和含有包含二烷基苯基PEO硫酸酯的分散剂的聚合物胶乳(分散剂/聚合物的质量比为2.0/100＝0.02)。
而且，作为交联剂，添加了EPOXY RESIN DY 022(商品名称：Nagase ChemteXCorporation.制造)。另外，以后述感光层中的交联剂的量为0.09g/m2的方式调整了交联剂的添加量。
如以上制备出了感光层形成用组合物。
另外，由上述式(P-1)表示的聚合物为参考日本专利第3305459号以及日本专利第3754745号而合成的。
(感光层形成步骤)
在透明基板30的两个面上涂布上述聚合物胶乳，并设置了厚度为0.05μm的底涂层。在透明基板30中，使用了100μm的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(FujifilmCorporation制造)。
接着，在底涂层上设置有防光晕层，该防光晕层包含上述聚合物胶乳、明胶及以约1.0的光学浓度通过显影液的碱脱色的染料的混合物。另外，聚合物与明胶的混合质量比(聚合物/明胶)为2/1，聚合物的含量为0.65g/m2。
在上述防光晕层上涂布上述感光层形成用组合物，进而以明胶量成为0.08g/m2的方式涂布以固体成分质量比(聚合物/明胶/EPOCROS K-2020E/SNOWTEX C(注册商标))1/1/0.3/2混合上述聚合物胶乳、明胶、EPOCROS K-2020E(商品名称：NIPPON SHOKUBAICO.,LTD.制造，噁唑啉系交联反应性聚合物胶乳(交联性基团：噁唑啉基)) 及SNOWTEX C(注册商标、商品名称：Nissan Chemical Industries，Ltd.制造，胶体二氧化硅)而成的组合物，从而获得了在两个面形成有感光层的支撑体。将在两个面上形成有感光层的支撑体设为薄膜A。所形成的感光层的银量为6.2g/m2，明胶量为1.0g/m2。
(曝光显影步骤)
分别准备了具有如图5所示那样的网格图案的光掩模。在上述薄膜A的两个面上配置网格图案的光掩模，使用将高压汞灯作为光源的平行光进行了曝光。
曝光后，利用下述显影液进行显影，进一步使用定影液(商品名称：CN16X用N3X-R，Fujifilm Corporation制造)进行了显影处理。而且，利用纯水进行冲洗，并进行干燥，由此获得了在两个面上形成有由Ag(银)细线构成的功能性图案、由Ag细线构成的厚度调整用图案及明胶层的支撑体。在Ag细线之间形成有明胶层。将所获得的薄膜设为薄膜B。
(显影液的组成)
在1升(L)显影液中包含以下化合物。
对苯二酚……0.037mol/L
N-甲基氨基苯酚……0.016mol/L
偏硼酸钠……0.140mol/L
氢氧化钠……0.360mol/L
溴化钠……0.031mol/L
焦亚硫酸钾……0.187mol/L
(明胶分解处理)
对于薄膜 B，经120秒钟浸渍于蛋白水解酶(Nagase ChemteX Corporation.制造的Bioprase AL-15FG)的水溶液(蛋白水解酶的浓度：0.5质量％，液温：40℃)中。从水溶液取出薄膜B，在温水(液温：50℃)中浸渍120秒钟，并进行了清洗。将明胶分解处理后的薄膜设为薄膜C。
(低电阻化处理)
对于上述薄膜C，使用包括金属制辊子的压延装置，在30kN的压力下进行了压延处理。此时，按照具有线粗糙度Ra＝0.2μm、Sm＝1.9μm(通过KEYENCE CORPORATION. 制造的形状测量激光显微系统VK-X110进行的测定(JIS-B-0601-1994))的粗面形状的PET薄膜的粗面与上述薄膜C的表面及背面面对的方式，同时输送2片上述PET 薄膜，在上述薄膜C的表面及背面转印形成了粗面形状。
上述压延处理后，经120秒钟通过温度为150℃的过热蒸汽槽，进行了加热处理。将加热处理后的薄膜设为薄膜D。该薄膜D为导电性薄膜。
接着，对实施例1～13、实施例21～33及实施例41～53以及比较例1、比较例 2及比较例3进行说明。
实施例1～13、实施例21～33及实施例41～53以及比较例1、比较例2及比较例3的导电性薄膜的各部的尺寸如下述表1所示。关于金属细线的线宽调整，通过调整曝光掩模中与金属细线相当的图案的宽度、曝光量、曝光波长、显影液、显影时间以及显影温度条件，以获得事先所确定的线宽的方式实施了处理。曝光量为曝光亮度及曝光时间。
(实施例1)
实施例1中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最粗的线宽Wmax(以下，称为最大线宽Wmax)设为4.36μm，将边界区域的范围L设为3.50cm。边界区域的范围L与线宽变化区域Dc(参考图5)的范围设为相同。
(实施例2)
实施例2中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 12.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例3)
实施例3中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为5.6μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例4)
实施例4中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为7.2μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例5)
实施例5中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为8.0μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例6)
实施例6中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 10.0μm，将边界区域的范围L设为1.25cm。
(实施例7)
实施例7中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为8.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例8)
实施例8中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 12.0μm，将边界区域的范围L设为1.50cm。
(实施例9)
实施例9中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为7.2μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例10)
实施例10中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 8.0μm，将边界区域的范围L设为1.34cm。
(实施例11)
实施例11中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 7.2μm，将边界区域的范围L设为1.20cm。
(实施例12)
实施例12中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 7.2μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例13)
实施例13中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 8.0μm，将边界区域的范围L设为2.20cm。
(比较例1)
比较例1中，使金属细线的线宽不发生变化。将金属细线的线宽设为4.0μm。比较例1中，基准线宽W0和最大线宽Wmax均为4.0μm。
(实施例21)
实施例21中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 3.27μm，将边界区域的范围L设为3.50cm。
(实施例22)
实施例22中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 9.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例23)
实施例23中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 4.2μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例24)
实施例24中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为5.4μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例25)
实施例25中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 6.0μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例26)
实施例26中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 7.5μm，将边界区域的范围L设为1.25cm。
(实施例27)
实施例27中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 6.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例28)
实施例28中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 9.0μm，将边界区域的范围L设为1.50cm。
(实施例29)
实施例29中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 5.4μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例30)
实施例30中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 6.0μm，将边界区域的范围L设为1.34cm。
(实施例31)
实施例31中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 5.4μm，将边界区域的范围L设为1.20cm。
(实施例32)
实施例32中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 5.4μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例33)
实施例33中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 6.0μm，将边界区域的范围L设为2.20cm。
(比较例2)
比较例2中，使金属细线的线宽不发生变化。将金属细线的线宽设为3.0μm。比较例2中，基准线宽W0和最大线宽Wmax均为3.0μm。
(实施例41)
实施例41中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 2.73μm，将边界区域的范围L设为3.50cm。
(实施例42)
实施例42中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 7.5μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例43)
实施例43中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 3.5μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例44)
实施例44中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 4.5μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例45)
实施例45中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 5.0μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例46)
实施例46中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 6.3μm，将边界区域的范围L设为1.25cm。
(实施例47)
实施例47中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 5.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例48)
实施例48中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 7.5μm，将边界区域的范围L设为1.50cm。
(实施例49)
实施例49中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 4.5μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例50)
实施例50中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 5.0μm，将边界区域的范围L设为1.34cm。
(实施例51)
实施例51中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 4.5μm，将边界区域的范围L设为1.20cm。
(实施例52)
实施例52中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 4.5μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例53)
实施例53中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 5.0μm，将边界区域的范围L设为2.20cm。
(比较例3)
比较例3中，使金属细线的线宽不发生变化。将金属细线的线宽设为2.5μm。比较例3中，基准线宽W0和最大线宽Wmax均为2.5μm。
下述表1中，P1为0.5×Wmax/W0的值，P2为4.77×(Wmax/W0)-4.19的值。并且，“-”表示无。
[表1]
Figure BDA0001970141420000251
如表1所示，实施例1～13、实施例21～33及实施例41～53中，画质评价及电阻评价均为“B”以上，能够兼顾画质和低电阻。另一方面，比较例1、比较例2及比较例3中，电阻评价差，无法兼顾画质和低电阻。
边界区域的范围L的长度超过2cm的实施例1及实施例13中，认为由于边界区域的范围广，因此边缘部的画质劣化容易进入到观察者的眼中，画质评价成为“B”。
Wmax/W0超过2.5的实施例2及实施例8中，认为线宽的变化大，容易被观察者的眼睛视觉辨认，画质评价成为“B”。
基准线宽为3.0μm时，边界区域的范围L的长度超过2cm的实施例21及实施例 33中，认为由于边界区域的范围广，因此边缘部的画质劣化容易进入到观察者的眼中，画质评价成为“B”。
Wmax/W0超过2.5的实施例22及实施例28中，认为线宽的变化大，容易被观察者的眼睛视觉辨认，画质评价成为“B”。
基准线宽为2.5μm时，边界区域的范围L的长度超过2cm的实施例41及实施例 53中，认为由于边界区域的范围广，因此边缘部的画质劣化容易进入到观察者的眼中，画质评价成为“B”。
Wmax/W0超过2.5的实施例42及实施例48中，认为线宽的变化大，容易被观察者的眼睛视觉辨认，画质评价成为“B”。
＜第2实施例＞
第2实施例中，在四边形状的图像显示区域中，在对置的2条边设置边界区域，除此之外，设为与上述第1实施例相同。因此，关于触摸面板模块的结构、触摸面板模块的制造方法及评价方法，省略其详细说明。
第2实施例中，对实施例61～73、实施例81～93及实施例101～113以及比较例4、比较例5及比较例6的触摸面板模块的画质和电阻进行了评价。第2实施例中，在图像显示区域的对置的2条边的边缘部具有边界区域。
接着，对实施例61～73、实施例81～93及实施例101～113以及比较例4、比较例5及比较例6的触摸面板模块进行说明。
实施例61～73、实施例81～93及实施例101～113以及比较例4、比较例5及比较例6的导电性薄膜的各部的尺寸如下述表2所示。关于金属细线的线宽调整，通过调整曝光掩模中与金属细线相当的图案的宽度、曝光量、曝光波长、显影液、显影时间以及显影温度条件，以获得事先所确定的线宽的方式实施了处理。曝光量为曝光亮度及曝光时间。
(实施例61)
实施例61中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 4.36μm，将边界区域的范围L设为3.50cm。
(实施例62)
实施例62中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 12.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例63)
实施例63中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 5.6μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例64)
实施例64中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 7.2μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例65)
实施例65中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 8.0μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例66)
实施例66中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 10.0μm，将边界区域的范围L设为1.25cm。
(实施例67)
实施例67中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 8.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例68)
实施例68中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 12.0μm，将边界区域的范围L设为1.50cm。
(实施例69)
实施例69中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 7.2μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例70)
实施例70中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为8.0μm，将边界区域的范围L设为1.34cm。
(实施例71)
实施例71中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 7.2μm，将边界区域的范围L设为1.20cm。
(实施例72)
实施例72中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 7.2μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例73)
实施例73中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 8.0μm，将边界区域的范围L设为2.20cm。
(比较例4)
比较例4中，使金属细线的线宽不发生变化。将金属细线的线宽设为4.0μm。比较例4中，基准线宽W0和最大线宽Wmax均为4.0μm。
(实施例81)
实施例81中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 3.27μm，将边界区域的范围L设为3.50cm。
(实施例82)
实施例82中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 9.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例83)
实施例83中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 4.2μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例84)
实施例84中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 5.4μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例85)
实施例85中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 6.0μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例86)
实施例86中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 7.5μm，将边界区域的范围L设为1.25cm。
(实施例87)
实施例87中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 6.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例88)
实施例88中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 9.0μm，将边界区域的范围L设为1.50cm。
(实施例89)
实施例89中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 5.4μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例90)
实施例90中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 6.0μm，将边界区域的范围L设为1.34cm。
(实施例91)
实施例91中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 5.4μm，将边界区域的范围L设为1.20cm。
(实施例92)
实施例92中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 5.4μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例93)
实施例93中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 6.0μm，将边界区域的范围L设为2.20cm。
(比较例5)
比较例5中，使金属细线的线宽不发生变化。将金属细线的线宽设为3.0μm。比较例5中，基准线宽W0和最大线宽Wmax均为3.0μm。
(实施例101)
实施例101中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 2.73μm，将边界区域的范围L设为3.50cm。
(实施例102)
实施例102中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 7.5μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例103)
实施例103中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 3.5μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例104)
实施例104中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 4.5μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例105)
实施例105中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 5.0μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例106)
实施例106中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 6.3μm，将边界区域的范围L设为1.25cm。
(实施例107)
实施例107中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 5.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例108)
实施例108中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 7.5μm，将边界区域的范围L设为1.50cm。
(实施例109)
实施例109中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 4.5μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例110)
实施例110中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为5.0μm，将边界区域的范围L设为1.34cm。
(实施例111)
实施例111中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 4.5μm，将边界区域的范围L设为1.20cm。
(实施例112)
实施例112中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 4.5μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例113)
实施例113中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 5.0μm，将边界区域的范围L设为2.20cm。
(比较例6)
比较例6中，使金属细线的线宽不发生变化。将金属细线的线宽设为2.5μm。比较例6中，基准线宽W0和最大线宽Wmax均为2.5μm。
下述表2中，P1为0.5×Wmax/W0的值，P2为4.77×(Wmax/W0)-4.19的值。并且，“-”表示无。
[表2]
Figure BDA0001970141420000321
如表2所示，实施例61～73、实施例81～93及实施例101～113中，画质评价及电阻评价均为“B”以上，能够兼顾画质和低电阻。另一方面，比较例4、比较例5 及比较例6中，电阻评价差，无法兼顾画质和低电阻。
边界区域的范围L的长度超过2cm的实施例61及实施例73中，认为由于边界区域的范围广，因此边缘部的画质劣化容易进入到观察者的眼中，画质评价成为“B”。
Wmax/W0超过2.5的实施例62及实施例68中，认为线宽的变化大，容易被观察者的眼睛视觉辨认，画质评价成为“B”。
基准线宽为3.0μm时，边界区域的范围L的长度超过2cm的实施例81及实施例 93中，认为由于边界区域的范围广，因此边缘部的画质劣化容易进入到观察者的眼中，画质评价成为“B”。
Wmax/W0超过2.5的实施例82及实施例88中，认为线宽的变化大，容易被观察者的眼睛视觉辨认，画质评价成为“B”。
基准线宽为2.5μm时，边界区域的范围L的长度超过2cm的实施例101及实施例113中，认为由于边界区域的范围广，因此边缘部的画质劣化容易进入到观察者的眼中，画质评价成为“B”。
Wmax/W0超过2.5的实施例102及实施例108中，认为线宽的变化大，容易被观察者的眼睛视觉辨认，画质评价成为“B”。
＜第3实施例＞
第3实施例中，在四边形状的图像显示区域中，在一条边设置边界区域，除此之外，设为与上述第1实施例相同。因此，关于触摸面板模块的结构、触摸面板模块的制造方法及评价方法，省略其详细说明。
第3实施例中，对实施例121～133、实施例141～153及实施例161～173以及比较例7、比较例8及比较例9的触摸面板模块的画质和电阻进行了评价。第3实施例中，在图像显示区域的一条边的边缘部具有边界区域。
接着，对实施例121～133、实施例141～153及实施例161～173以及比较例7、比较例8及比较例9的触摸面板模块进行说明。
实施例121～133、实施例141～153及实施例161～173以及比较例7、比较例8 及比较例9的导电性薄膜的各部的尺寸如下述表3所示。关于金属细线的线宽调整，通过调整曝光掩模中与金属细线相当的图案的宽度、曝光量、曝光波长、显影液、显影时间以及显影温度条件，以获得事先所确定的线宽的方式实施了处理。曝光量为曝光亮度及曝光时间。
(实施例121)
实施例121中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 4.36μm，将边界区域的范围L设为3.50cm。
(实施例122)
实施例122中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 12.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例123)
实施例123中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 5.6μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例124)
实施例124中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为7.2μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例125)
实施例125中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 8.0μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例126)
实施例126中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 10.0μm，将边界区域的范围L设为1.25cm。
(实施例127)
实施例127中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 8.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例128)
实施例128中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 12.0μm，将边界区域的范围L设为1.50cm。
(实施例129)
实施例129中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 7.2μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例130)
实施例130中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 8.0μm，将边界区域的范围L设为1.34cm。
(实施例131)
实施例131中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 7.2μm，将边界区域的范围L设为1.20cm。
(实施例132)
实施例132中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 7.2μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例133)
实施例133中，将金属细线的基准线宽W0设为4.0μm，将最大线宽Wmax设为 8.0μm，将边界区域的范围L设为2.20cm。
(比较例7)
比较例7中，使金属细线的线宽不发生变化。将金属细线的线宽设为4.0μm。比较例7中，基准线宽W0和最大线宽Wmax均为4.0μm。
(实施例141)
实施例141中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 3.27μm，将边界区域的范围L设为3.50cm。
(实施例142)
实施例142中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 9.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例143)
实施例143中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 4.2μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例144)
实施例144中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为5.4μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例145)
实施例145中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 6.0μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例146)
实施例146中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 7.5μm，将边界区域的范围L设为1.25cm。
(实施例147)
实施例147中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 6.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例148)
实施例148中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 9.0μm，将边界区域的范围L设为1.50cm。
(实施例149)
实施例149中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 5.4μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例150)
实施例150中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 6.0μm，将边界区域的范围L设为1.34cm。
(实施例151)
实施例151中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 5.4μm，将边界区域的范围L设为1.20cm。
(实施例152)
实施例152中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 5.4μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例153)
实施例153中，将金属细线的基准线宽W0设为3.0μm，将最大线宽Wmax设为 6.0μm，将边界区域的范围L设为2.20cm。
(比较例8)
比较例8中，使金属细线的线宽不发生变化。将金属细线的线宽设为3.0μm。比较例8中，基准线宽W0和最大线宽Wmax均为3.0μm。
(实施例161)
实施例161中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 2.73μm，将边界区域的范围L设为3.50cm。
(实施例162)
实施例162中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 7.5μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例163)
实施例163中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 3.5μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例164)
实施例164中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为4.5μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例165)
实施例165中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 5.0μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例166)
实施例166中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 6.3μm，将边界区域的范围L设为1.25cm。
(实施例167)
实施例167中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 5.0μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例168)
实施例168中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 7.5μm，将边界区域的范围L设为1.50cm。
(实施例169)
实施例169中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 4.5μm，将边界区域的范围L设为2.00cm。
(实施例170)
实施例170中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 5.0μm，将边界区域的范围L设为1.34cm。
(实施例171)
实施例171中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 4.5μm，将边界区域的范围L设为1.20cm。
(实施例172)
实施例172中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 4.5μm，将边界区域的范围L设为1.00cm。
(实施例173)
实施例173中，将金属细线的基准线宽W0设为2.5μm，将最大线宽Wmax设为 5.0μm，将边界区域的范围L设为2.20cm。
(比较例9)
比较例9中，使金属细线的线宽不发生变化。将金属细线的线宽设为2.5μm。比较例9中，基准线宽W0和最大线宽Wmax均为2.5μm。
下述表3中，P1为0.5×Wmax/W0的值，P2为4.77×(Wmax/W0)-4.19的值。并且，“-”表示无。
[表3]
Figure BDA0001970141420000391
如表3所示，实施例121～133、实施例141～153及实施例161～173中，画质评价及电阻评价均为“B”以上，能够兼顾画质和低电阻。另一方面，比较例7、比较例8及比较例9中，电阻评价差，无法兼顾画质和低电阻。
边界区域的范围L的长度超过2cm的实施例121及实施例133中，认为由于边界区域的范围广，因此边缘部的画质劣化容易进入到观察者的眼中，画质评价成为“B”。
Wmax/W0超过2.5的实施例122及实施例128中，认为线宽的变化大，容易被观察者的眼睛视觉辨认，画质评价成为“B”。
基准线宽为3.0μm中，边界区域的范围L的长度超过2cm的实施例141及实施例153中，认为由于边界区域的范围广，因此边缘部的画质劣化容易进入到观察者的眼中，画质评价成为“B”。
Wmax/W0超过2.5的实施例142及实施例148中，认为线宽的变化大，容易被观察者的眼睛视觉辨认，画质评价成为“B”。
基准线宽为2.5μm中，边界区域的范围L的长度超过2cm的实施例161及实施例173中，认为由于边界区域的范围广，因此边缘部的画质劣化容易进入到观察者的眼中，画质评价成为“B”。
Wmax/W0超过2.5的实施例162及实施例168中，认为线宽的变化大，容易被观察者的眼睛视觉辨认，画质评价成为“B”。
符号说明
10、11-导电性薄膜，10a、12a、30a、31a-表面，12-保护层，13-触摸传感器， 14-控制器，16-触摸面板，18-光学透明层，20-显示装置，22-显示单元，24-显示设备，30、31-透明基板，30b-背面，30c-一条边，32、32a、32b-第1检测电极，33- 第1周边布线，34、34a-第2检测电极，35-第2周边布线，36-第1区域，37-边界线，38-第2区域，39-端子，40-金属细线，50-第1周边布线部，52-第2周边布线部，53-检测部，54-装饰板，56-粘接层，60-虚设电极，62-间隙，BE-电极边界，Bc- 边界，C-点，D1-第1方向，D2-第2方向，D3-层叠方向，Db-边界区域，Dc-线宽变化区域，Dn-方向，L1、L2、L3、L4-直线，S-区域，t-厚度，w-线宽。

Claims (9)

1.一种触摸面板，该触摸面板具有：
导电性薄膜；
保护层，设置于所述导电性薄膜上且保护所述导电性薄膜；
显示装置，具有显示单元；
所述导电性薄膜具有：
透明基板；
检测部，设置于所述透明基板的至少一个面上且具备由金属细线构成的网格图案；及
周边布线部，设置于所述透明基板的至少一个面上且与所述检测部电连接，
所述触摸面板的特征在于，
所述透明基板中，将设置有所述检测部的区域设为第1区域，且将除所述第1区域以外的区域设为第2区域时，在包含所述第1区域与所述第2区域的边界线的边界区域之中至少一部分具有线宽变化区域，
所述线宽变化区域中，所述检测部的所述金属细线的线宽大于所述第1区域的中央的所述金属细线的基准线宽，且随着从所述第1区域朝向所述第2区域的方向连续增加，
将所述第1区域叠置于所述显示单元的显示区域上，所述导电性薄膜配置于所述显示装置上，所述显示单元的显示区域的边缘部上具有所述线宽变化区域，
当将所述金属细线的线宽的增加率设为Y，将所述第1区域的所述中央的所述金属细线的基准线宽设为W0，将在所述第1区域内所述金属细线最粗的线宽设为Wmax，将它们之比设为Wmax/W0时，同时满足如下：
Y≤2.0；
Wmax/W0≤2.5；
0.5×(Wmax/W0)≤Y；及
Y≤4.77×(Wmax/W0)-4.19。
2.根据权利要求1所述的触摸面板，其中，
所述边界区域为包含所述边界线且横跨所述第1区域与所述第2区域的区域。
3.根据权利要求1所述的触摸面板，其中，
所述线宽变化区域位于所述边界区域的整个区域。
4.根据权利要求1所述的触摸面板，其中，
所述边界区域为四边形形状，所述线宽变化区域位于所述四边形形状中的至少一条边的一部分。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的触摸面板，其中，
所述检测部具有多个检测电极，所述周边布线部具有多个周边布线，所述多个检测电极分别电连接于所述多个周边布线，
所述多个检测电极中，在所连接的所述周边布线的长度最长的检测电极的所述边界区域具有所述线宽变化区域。
6.根据权利要求5所述的触摸面板，其中，
所述检测部具有与所述检测电极电绝缘的虚设电极。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的触摸面板，其中，所述边界区域为形成有所述网格图案的区域。
8.根据权利要求1至4中任一项所述的触摸面板，其中，所述边界区域为所述线宽变化区域。
9.根据权利要求1至4中任一项所述的触摸面板，其中，所述线宽变化区域中的、所述第1区域与所述第2区域之间的长度为2.0cm。
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