JP5605552B2 - 硬化性組成物、導電性積層体およびその製造方法、ならびにタッチパネル - Google Patents

Description

本発明は、硬化性組成物、該組成物を硬化させてなる粒子含有樹脂層を有する導電性積層体およびその製造方法、ならびに該導電性積層体を有するタッチパネルに関する。

近年、テレビ、パーソナルコンピュータ等の表示装置として、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）等の表示装置の前面にタッチパネルを備えたタッチパネル式の表示装置が使用されている。タッチパネルは、表示装置上に各種フィルムを配置するため、光の干渉により現れる明環、暗環のシマ模様（以下、「ニュートンリング」という。）が発生するという問題があった。このような問題を防ぐことを目的として、表示装置に対して様々な対策がなされている。

その対策の一つとしては、表示装置に使用されるハードコートフィルムに対し、その表面を粗面化するという方法が挙げられる。例えば、ハードコート層形成用のハードコート剤にフィラーを混入しておき、フィラーの粒径未満の厚みでハードコート層を形成することで、ハードコート層の表面からフィラーが突出し、その表面を粗面化するという方法がある（例えば、特許文献１参照）。

特開２００３−１９１３９３号公報

しかしながら、特許文献１に記載の方法では、ニュートンリングを防止することはできるが、その一方でヘイズ値が増大してしまうという問題があった。これは、ニュートンリングを防止するために形成されたフィラーの突出によるハードコート層表面の凹凸形状が光を散乱させることにより生じるものである。

さらに、特許文献１に記載の方法では、ニュートンリングを防止するための膜厚の範囲が制限されていた。ハードコート層の表面に凹凸形状を付与するためには、フィラーの粒径未満の膜厚としなければならないからである。

そこで、本発明にかかる幾つかの態様は、上記課題を解決することで、透明性およびアンチニュートンリング性に優れ、かつ、輝度ムラのない樹脂層を形成することができる硬化性組成物、あるいは該樹脂層を有する導電性積層体を提供するものである。

本発明は上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の態様または適用例として実現することができる。

［適用例１］
本発明にかかる導電性積層体の一態様は、
透明基材層の一方の面に、粒子含有樹脂層、透明導電層の順に形成され、
前記粒子含有樹脂層は、無機粒子の凝集体を含有し、
前記粒子含有樹脂層の前記透明導電層が形成された面におけるＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１による算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５〜０．５μｍであることを特徴とする。

［適用例２］
適用例１において、
前記無機粒子が５〜２００ｎｍの平均一次粒径を有することができる。

［適用例３］
適用例１または適用例２において、
前記無機粒子がシリカ粒子であることができる。

［適用例４］
適用例１ないし適用例３のいずれか一例において、
前記粒子含有樹脂層は、粒子凝集剤をさらに含有することができる。

［適用例５］
適用例１ないし適用例４のいずれか一例において、
さらに、前記透明基材層の他方の面に、ハードコート層が形成されることができる。

［適用例６］
本発明にかかるタッチパネルの一態様は、
適用例１ないし適用例５のいずれか一項に記載の導電性積層体が偏光膜に積層されてなる偏光板を備えたことを特徴とする。

［適用例７］
本発明にかかる硬化性組成物の一態様は、
（Ａ）多官能重合性不飽和基含有化合物と、
（Ｂ）ラジカル重合開始剤と、
（Ｃ）無機粒子と、
（Ｄ）粒子凝集剤と、
（Ｅ）有機溶剤と、
を含有することを特徴とする。

［適用例８］
適用例７において、
前記（Ｄ）粒子凝集剤は、アミン化合物またはその塩であることができる。

［適用例９］
適用例８において、
前記アミン化合物は、三級アミン化合物であることができる。

［適用例１０］
適用例７において、
前記（Ｄ）粒子凝集剤は、四級アンモニウム塩であることができる。

［適用例１１］
本発明にかかる導電性積層体の製造方法の一態様は、
透明基材層の一方の面に、適用例７ないし適用例１０のいずれか一例に記載の硬化性組成物を塗布した後、紫外線を照射することにより粒子含有樹脂層を形成する工程と、
前記粒子含有樹脂層上に透明導電層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする。

本発明にかかる硬化性組成物よれば、透明性およびアンチニュートンリング性に優れ、かつ、輝度ムラのない樹脂層を得ることができる。また、本発明にかかる硬化性組成物によれば、同一の組成物を、異なる膜厚のアンチニュートンリング性を有する樹脂層の形成に使用することができ、利便性が向上する。

第１の実施の形態にかかる導電性積層体を模式的に示した断面図である。 第２の実施の形態にかかる導電性積層体を模式的に示した断面図である。 実施例１で作製された積層体１の断面を撮影したＳＥＭ写真である。

以下、本発明に係る好適な実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は、下記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において実施される各種の変型例も含む。

１．硬化性組成物
本実施の形態にかかる硬化性組成物は、導電性積層体に含まれる粒子含有樹脂層を形成するために用いられる硬化性組成物であって、（Ｃ）無機粒子を含有する硬化性組成物であれば特に限定されないが、（Ａ）多官能重合性不飽和基含有化合物と、（Ｂ）ラジカル重合開始剤と、（Ｃ）無機粒子と、（Ｄ）粒子凝集剤と、（Ｅ）有機溶剤と、を含有することが好ましい。以下、本実施の形態にかかる硬化性組成物の各成分について詳細に説明する。なお、上記（Ａ）ないし（Ｅ）の各材料を、それぞれ（Ａ）成分ないし（Ｅ）成分と省略して記載することもある。

１．１．（Ａ）多官能重合性不飽和基含有化合物
本実施の形態にかかる硬化性組成物は、（Ａ）多官能重合性不飽和基含有化合物を含有する。（Ａ）成分の機能の一つとしては、成膜性を高めることが挙げられる。（Ａ）成分としては、分子内に２個以上の重合性不飽和基を含有するものであれば特に制限されないが、例えば（メタ）アクリルエステル類、ビニル化合物類等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリルエステル類が好ましい。

（メタ）アクリルエステル類としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート；ビス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリレート類、およびこれらの水酸基へのエチレンオキシドまたはプロピレンオキシド付加物のポリ（メタ）アクリレート類；分子内に２以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴエステル（メタ）アクリレート類；オリゴエーテル（メタ）アクリレート類；およびオリゴエポキシ（メタ）アクリレート類等が挙げられる。これらの中でも、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等が好ましい。

ビニル化合物類としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。以上例示した（Ａ）成分は１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

このような（Ａ）多官能重合性不飽和基含有化合物の市販品としては、例えば、東亞合成（株）製のアロニックスＭ−４００、Ｍ−４０４、Ｍ−４０８、Ｍ−４５０、Ｍ−３０５、Ｍ−３０９、Ｍ−３１０、Ｍ−３１５、Ｍ−３２０、Ｍ−３５０、Ｍ−３６０、Ｍ−２０８、Ｍ−２１０、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２３３、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２６０、Ｍ−２７０、Ｍ−１１００、Ｍ−１２００、Ｍ−１２１０、Ｍ−１３１０、Ｍ−１６００、Ｍ−２２１、Ｍ−２０３、ＴＯ−９２４、ＴＯ−１２７０、ＴＯ−１２３１、ＴＯ−５９５、ＴＯ−７５６、ＴＯ−１３４３、ＴＯ−９０２、ＴＯ−９０４、ＴＯ−９０５、ＴＯ−１３３０、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０、Ｄ−３３０、ＤＰＨＡ、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０、ＤＮ−００７５、ＤＮ−２４７５、ＳＲ−２９５、ＳＲ−３５５、ＳＲ−３９９Ｅ、ＳＲ−４９４、ＳＲ−９０４１、ＳＲ−３６８、ＳＲ−４１５、ＳＲ−４４４、ＳＲ−４５４、ＳＲ−４９２、ＳＲ−４９９、ＳＲ−５０２、ＳＲ−９０２０、ＳＲ−９０３５、ＳＲ−１１１、ＳＲ−２１２、ＳＲ−２１３、ＳＲ−２３０、ＳＲ−２５９、ＳＲ−２６８、ＳＲ−２７２、ＳＲ−３４４、ＳＲ−３４９、ＳＲ−６０１、ＳＲ−６０２、ＳＲ−６１０、ＳＲ−９００３、ＰＥＴ−３０、Ｔ−１４２０、ＧＰＯ−３０３、ＴＣ−１２０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０、Ｒ−５５１、Ｒ−７１２、Ｒ−１６７、Ｒ−５２６、Ｒ−５５１、Ｒ−７１２、Ｒ−６０４、Ｒ−６８４、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ−３３０、ＴＰＡ−３２０、ＴＰＡ−３３０、ＫＳ−ＨＤＤＡ、ＫＳ−ＴＰＧＤＡ、ＫＳ−ＴＭＰＴＡ、共栄社化学（株）製のライトアクリレート ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ、ＤＴＭＰ−４Ａ等が挙げられる。

本実施の形態にかかる硬化性組成物における（Ａ）成分の含有量は、（Ｅ）有機溶剤を除く成分の合計を１００質量％とした場合、好ましくは４０〜９９質量％の範囲内であり、より好ましくは５０〜９５質量％の範囲内であり、特に好ましくは６０〜９０質量％の範囲内である。（Ａ）成分が上記範囲で配合されることで、成膜性に優れた高硬度を有する粒子含有樹脂層を得ることができる。

１．２．（Ｂ）ラジカル重合開始剤
本実施の形態にかかる硬化性組成物は、（Ｂ）ラジカル重合開始剤を含有する。（Ｂ）ラジカル重合開始剤としては、例えば、熱的に活性ラジカル種を発生させる化合物（以下、「熱重合開始剤」ともいう。）、および放射線（光）照射により活性ラジカル種を発生させる化合物（以下、「放射線（光）重合開始剤」ともいう。）等の汎用されているものが挙げられる。これらの中でも、放射線（光）重合開始剤が好ましい。

放射線（光）重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合を開始せしめるものであれば特に制限されず、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１，４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）等を挙げることができる。以上例示した（Ｂ）成分は１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

放射線（光）重合開始剤の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦジャパン（株）製のイルガキュア １８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４−６１、ダロキュア １１１６、１１７３、ルシリン ＴＰＯ、８８９３ＵＣＢ社製のユベクリル Ｐ３６、ランベルティ社製のエザキュアーＫＩＰ１５０、ＫＩＰ６５ＬＴ、ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＴ３７、ＫＴ５５、ＫＴＯ４６、ＫＩＰ７５／Ｂ等が挙げられる。

熱重合開始剤としては、加熱により分解してラジカルを発生して重合を開始するものであれば特に制限されず、例えば、過酸化物、アゾ化合物を挙げることができ、具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチル−パーオキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。

本実施の形態にかかる硬化性組成物における（Ｂ）成分の含有量は、（Ｅ）有機溶剤を除く成分の合計を１００質量％とした場合、好ましくは０．０１〜２０質量％の範囲内であり、より好ましくは０．１〜１０質量％の範囲内である。（Ｂ）成分の含有量が０．０１質量％未満であると、粒子含有樹脂層を形成したときの硬度が不十分となるおそれがある。一方、２０質量％を超えると、粒子含有樹脂層の硬度が損なわれるおそれがある。

１．３．（Ｃ）無機粒子
本実施の形態にかかる硬化性組成物は、（Ｃ）無機粒子を含有する。（Ｃ）成分の機能の一つとしては、粒子含有樹脂層を形成する際に凝集体を生成し、その表面に凹凸形状を形成することで、画素の輝度ムラやニュートンリングを防止することが挙げられる。

このような無機粒子としては、シリカ粒子、アルミナ粒子、ジルコニア粒子等を使用することができる。無機粒子と粒子含有樹脂層中の樹脂成分との屈折率差が大きいと粒子含有樹脂層のヘイズが高くなってしまうため、無機粒子と前記樹脂成分との５８９ｎｍにおける屈折率差が０．３以下、好ましくは０．１以下となるような粒子を使用することが好ましい。このような理由から、無機粒子はシリカ粒子であることが好ましい。

シリカ粒子は、通常水またはアルコール等の親水性溶媒中にコロイド状に均質に分散された状態で市販されている。しかしながら、本願発明においては、硬化性組成物の調製において、水を含有するものは相溶性の観点から好ましくないので、アルコール等の親水性有機溶媒に分散されているものが好ましい。

水分散性コロイド状シリカ粒子は、通常水ガラスから作られている。このようなコロイド状シリカ粒子は、市販品から容易に入手することができる。また、親水性有機溶媒分散性のコロイド状シリカ粒子は、前記水分散性コロイド状シリカ粒子の水を親水性有機溶媒と置換することで容易に調製することができる。また、このような親水性有機溶媒分散性のコロイド状シリカ粒子は、市販品から容易に入手することができる。

（Ｃ）無機粒子の平均一次粒径は、好ましくは５〜２００ｎｍであり、より好ましくは５〜１５０ｎｍである。（Ｃ）無機粒子の平均一次粒径は、例えば透過型電子顕微鏡で測定した５０個の粒径を平均することで求めることができる。平均一次粒径が上記範囲内であることにより、粒子含有樹脂層における光の内部散乱を小さくすることができるため、ヘイズ値を低減させることができる。平均一次粒径が５ｎｍ未満であると、粒子含有樹脂層の表面に凹凸形状を形成させ難くなるため、画素の輝度ムラやニュートンリングを防止することが困難となる。一方、平均一次粒径が２００ｎｍを超えると、粒子含有樹脂層における光の内部散乱が大きくなるため、透明性が低下する傾向がある。

本実施の形態にかかる硬化性組成物における（Ｃ）成分の含有量は、（Ｅ）有機溶剤を除く成分の合計を１００質量％とした場合、好ましくは０．１〜２０質量％の範囲内であり、より好ましくは１〜１５質量％の範囲内である。（Ｃ）成分の含有量が０．１質量％未満であると、粒子含有樹脂層の透明性には優れるが、画素の輝度ムラやニュートンリングを防止することが困難となる。一方、２０質量％を超えると、粒子含有樹脂層における光の内部散乱が大きくなるため、透明性が低下する傾向がある。

１．４．（Ｄ）粒子凝集剤
本実施の形態にかかる硬化性組成物は、（Ｄ）粒子凝集剤を含有する。（Ｄ）成分の機能の一つとしては、粒子含有樹脂層を形成する際に上述した（Ｃ）無機粒子を凝集させて、凝集体を生成させることが挙げられる。（Ｄ）粒子凝集剤としては、アミン化合物もしくはその塩、または四級アンモニウム塩であることが好ましい。アミン化合物としては、例えば脂肪族アミン、脂環式アミン、芳香族アミンおよび複素環式アミンの中から適宣選択して用いることができる。また、アミン化合物中の窒素原子の数についても特に制限されない。四級アンモニウム塩としては、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤のどちらも使用できるが、カチオン界面活性剤がより好ましい。四級アンモニウム塩のカチオン界面活性剤としては、有機溶剤に溶解する化合物から適宜選択して用いることができる。

前記例示したアミン化合物の中でも、硬化性組成物の保存安定性を損なわず、かつ、コロイド状シリカ粒子に対する適度の凝集性および凝集速度を有する観点から、二級アミン化合物または三級アミン化合物が好ましい。このような二級または三級アミン化合物としては、例えば１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン（ＤＢＮ）、７−メチル−１，５，７−トリアザビシクロ［４．４．０］デセ−５−エン（ＭＴＢＤ）、Ｎ−ヒドロキシエチルオレイルイミダゾリン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、ピペコリン、さらにはヒンダードアミン系化合物、具体的にはビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート（三共（株）製、商品名「サノールＬＳ−７７０」など）、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（三共（株）製、商品名「サノールＬＳ−７４４」など）、ビス（１，２，２，６，６−ぺンタメチル−４−ピペリジル）セバケート（チバガイギー社製、商品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ２９２」など）、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート（旭電化（株）製、商品名「アデカスタブＬＡ−５７」）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ぺンタメチル−４−ピペリジノールとトリデシルアルコールとの縮合物（旭電化（株）製、「商品名：アデカスタブＬＡ−６２」）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとトリデシルアルコールとの縮合物（旭電化（株）製、商品名「アデカスタブＬＡ−６７」）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ぺンタメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β'，β'−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）ジエタノールとの縮合物（旭電化（株）製、商品名「アデカスタブＬＡ−６３Ｐ」）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β'，β'−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５,５］ウンデカン）ジエタノールとの縮合物（旭電化（株）製、商品名「アデカスタブＬＡ−６８ＬＤ」）、（１，２，２，６，６−ぺンタメチル−４−ピペリジル）メタクリレート（旭電化（株）製、商品名「アデカスタブＬＡ−８２」）、（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）メタクリレート（旭電化株製、商品名「アデカスタブＬＡ−８７」）、その他、商品名Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ９４４ＬＤ（チバガイギー社製）、Ｔｉｎｕｖｉｎ６２２ＬＤ（チバガイギー社製）、Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４（チバガイギー社製）、ＧｏｏｄｒｉｔｅＵＶ−３０３４（グッドリッチ社製）などのヒンダードアミン系化合物が挙げられる。

また、上記以外の三級アミン化合物として、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリぺンチルアミン、トリヘキシルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン、ポリオキシエチレン ヤシアルキル アミン（花王株製、商品名「アミート１０２」）、ポリオキシエチレンアルキルアミン（花王株製、商品名「アミート１０５」、「アミート１０５Ａ」、「アミート３０２」、「アミート３２０」など）などが、アルキルアミン塩としては、ココナットアミンアセテート（花王株製、商品名「アセタミン２４」）、ステアリルアミンアセテート（花王株製、商品名「アセタミン８６」）などが挙げられる。

四級アンモニウム塩のカチオン界面活性剤としては、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド（花王株製、商品名「コータミン２４Ｐ」）、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド（花王株製、商品名「コータミン８６Ｐ」）、セチルトリメチルアンモニウムクロライド（花王株製、商品名「コータミン６０Ｗ」）、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド（花王株製、商品名「コータミンＤ８６Ｐ」）、ココアルキルジメチルベンジルアンモニウムクロリド（花王株製、商品名「サニゾールＣ」）、塩化ベンザルコニウム（花王株製、商品名「サニゾールＢ−５０」）等が挙げられる。また、四級アンモニウム塩の両性界面活性剤としては、例えば、ラウリルベタイン（花王株製、商品名「アンヒトール２０ＢＳ」、「アンヒトール２４Ｂ」）、ステアリルベタイン（花王株製、商品名「アンヒトール８６Ｂ」）、ラウリルジメチルアミンオキサイド（花王株製、商品名「アンヒトール２０Ｎ」）等が挙げられる。

なお、一級アミンも使用することができるが、硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるので、注意を要する。前記例示した（Ｄ）成分は１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

本実施の形態にかかる硬化性組成物における（Ｄ）成分の含有量は、（Ｅ）有機溶剤を除く成分の合計を１００質量％とした場合、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲内であり、より好ましくは０．５〜８質量％の範囲内である。（Ｄ）成分の含有量が０．１質量％未満であると、無機粒子の凝集が促進されず、凝集体が生成されないおそれがある。一方、１０質量％を超えると、粒子含有樹脂層の硬度が損なわれるおそれがある。

１．５．（Ｅ）有機溶剤
本実施の形態にかかる硬化性組成物は、（Ｅ）有機溶剤を含有する。（Ｅ）成分の機能の一つとしては、（Ｅ）有機溶剤を用いて希釈することにより粒子含有樹脂層の厚さを適宜調節することが挙げられる。

（Ｅ）有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類等が挙げられる。これらの中でも、アルコール類の有機溶剤が好ましい。以上例示した（Ｅ）成分は１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

本実施の形態にかかる硬化性組成物における（Ｅ）成分の含有量は、（Ｅ）成分を除く他の成分の合計を１００質量部とした場合、５０〜１０，０００質量部の範囲内であることが好ましい。（Ｅ）成分の含有量は、塗布膜厚、硬化性組成物の粘度等を考慮して適宜決定することができる。

１．６．硬化性組成物の製造方法
本実施の形態にかかる硬化性組成物は、（Ｅ）有機溶剤中において、（Ａ）多官能重合性不飽和基含有化合物、（Ｂ）ラジカル重合開始剤、（Ｃ）無機粒子のアルコール分散液、（Ｄ）粒子凝集剤を、それぞれ所定の割合で均質に混合撹拌することにより得ることができる。撹拌方法については特に制限されないが、例えば、各種混練機、ビーズミル、高圧ホモジナイザー等を用いて撹拌することができる。かかる硬化性組成物を調製した段階で、上記無機粒子の少なくとも一部が凝集体を形成していてもよい。

２．導電性積層体
２．１．第１の実施の形態
図１に、第１の実施の形態にかかる導電性積層体１００を模式的に示した断面図を示す。第１の実施の形態にかかる導電性積層体１００は、図１に示すように、透明基材層１０の一方の面に、粒子含有樹脂層２０、透明導電層３０の順に形成され、前記粒子含有樹脂層２０は、無機粒子の凝集体を含有することを特徴とする。第１の実施の形態にかかる導電性積層体１００は、前記粒子含有樹脂層２０を有することによって、透明性およびアンチニュートンリング性に優れ、輝度ムラのない導電性積層体となる。以下、透明基材層１０、粒子含有樹脂層２０、透明導電層３０の順に説明する。なお、各層における物性値の測定方法は、「２．３．導電性積層体の物性」の項に記載されている方法を準用するものとする。

２．１．１．透明基材層
透明基材層１０としては、透明で薄板に加工しやすい点で、ガラス、プラスチック等が使用され、プラスチックフィルム、プラスチック板が好ましく使用される。かかるプラスチックとしては、例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン／ポリメチルメタクリレート共重合体、ポリスチレン、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリオレフィン、トリアセチルセルロース樹脂、ジエチレングリコールのジアリルカーボネート（ＣＲ−３９）、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ポリアミド、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、環状オレフィン系樹脂（例えば、ノルボルネン系樹脂）等が挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート、ポリスチレン／ポリメチルメタクリレート共重合体、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース樹脂、環状オレフィン系樹脂が好ましく、透明性の観点からノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂がより好ましい。かかる環状オレフィン系樹脂としては、下記一般式（１）で示される化合物が挙げられる。

（上記式（１）中、aおよびｂは独立に０または１を示し、ｃおよびｄは独立に０〜２の整数を示し、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２およびＲ^１３はそれぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有してもよい置換または非置換の炭素数１〜４０の炭化水素基；または極性基を示し、Ｒ^１０とＲ^１１、またはＲ^１２とＲ^１３とは一体化して２価の炭化水素基を形成してもよく、Ｒ^１０またはＲ^１１と、Ｒ^１２またはＲ^１３とは相互に結合して炭素環または複素環（これらの炭素環または複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合した多環構造でもよい。）を形成してもよい。）

このような環状オレフィン系樹脂は、下記の（ａ）ないし（ｆ）のいずれかであることが好ましく、下記の（ｂ）、（ｃ）、（ｅ）、（ｆ）のいずれかであることがより好ましい。

（ａ）上記一般式（１）で表される環状オレフィン系単量体に由来する構造単位を有する開環共重合体。
（ｂ）上記一般式（１）で表される環状オレフィン系単量体に由来する構造単位を有する開環（共）重合体を水素添加して得られる開環共重合水添体。
（ｃ）上記（ａ）または（ｂ）の開環（共）重合体または開環共重合水添体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加して得られる開環（共）重合水添体。
（ｄ）上記一般式（１）で表される環状オレフィン系単量体の付加共重合体。
（ｅ）上記一般式（１）で表される環状オレフィン系単量体とエチレンまたは１置換エチレンとの付加共重合体。
（ｆ）上記一般式（１）で表される環状オレフィン系単量体、ビニル系環状炭化水素系単量体およびシクロペンタジエン系単量体からなる群より選ばれる少なくとも１種の単量体の付加型（共）重合体またはその水添体。

透明基材層１０として、環状オレフィン系樹脂フィルムを用いる場合は、上記の環状オレフィン系樹脂を溶融成形法または溶液流延法（溶剤キャスト法）等の公知の方法によりフィルムまたはシート状に成形したものを用いることができる。これらのうち、膜厚の均一性および表面平滑性が良好になる点から溶剤キャスト法が好ましい。また、製造コスト面からは溶融成形法が好ましい。

透明基材層１０の位相差は、コンストラストが高く、視認性の高い偏光板一体型のインナータッチパネルが得られることから、好ましくは０〜５０ｎｍ、より好ましくは０〜２０ｎｍ、さらに好ましくは０〜１０ｎｍを有する。

透明基材層１０の全光線透過率は、タッチパネルの視認性が良好となることから、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上、特に好ましくは９０％以上である。

透明基材層１０の厚さは、良好なハンドリングを確保するとともに、ロール状への巻き取りが容易になることから、通常は１〜５００μｍ、好ましくは１〜３００μｍ、より好ましくは１０〜２５０μｍ、特に好ましくは５０〜２００μｍである。

透明基材層１０の厚さの標準偏差は、通常は２０％以内、好ましくは１０％以内、より好ましくは５％以内、さらに好ましくは３％以内である。また、透明基材層の平面距離１ｃｍ当りの厚さの標準偏差は、通常は１０％以下、好ましくは５％以下、より好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。かかる厚み制御を実施することにより、導電性積層フィルム面内におけるムラを防ぐことができる。

透明基材層１０は、タッチパネルを液晶表示装置に配置する場合など必要に応じて延伸された樹脂フィルムであってもよい。延伸加工された樹脂フィルムは、上述の樹脂フィルムを公知の一軸延伸法または二軸延伸法により延伸して製造することができる。すなわち、テンター法による横一軸延伸法、ロール間圧縮延伸法、周遠の異なるロールを利用する縦一軸延伸法等、または横一軸と縦一軸とを組み合わせた二軸延伸法、インフレーション法による延伸法等を用いることができる。

環状オレフィン系樹脂フィルムを用いる場合において、一軸延伸法の場合、延伸速度は、通常は１〜５，０００％／分であり、好ましくは５０〜１，０００％／分であり、より好ましくは１００〜１，０００％／分であり、さらに好ましくは１００〜５００％／分である。また二軸延伸法の場合、同時２方向に延伸を行う場合や一軸延伸後に最初の延伸方向と異なる方向に延伸処理する場合がある。これらの場合、２つの延伸軸の交わり角度は、通常は１２０〜６０度の範囲である。また、延伸速度は各延伸方向で同じであってもよく、異なっていてもよく、通常は１〜５，０００％／分であり、好ましくは５０〜１，０００％／分であり、より好ましくは１００〜１，０００％／分であり、さらに好ましくは１００〜５００％／分である。

延伸加工温度は、特に限定されるものではないが、透明樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）を基準として、通常はＴｇ±３０℃、好ましくはＴｇ±１０℃、さらに好ましくはＴｇ−５〜Ｔｇ＋１０℃の範囲である。延伸加工温度が上記範囲内であると、位相差ムラの発生を抑えることが可能となり、また屈折率楕円体の制御が容易になることから好ましい。

延伸倍率は、樹脂の種類と所望する特性とにより決定されるため特に限定はされないが、環状オレフィン系重合体フィルムを用いる場合、通常は１．０１〜１０倍、好ましくは１．１〜５倍、より好ましくは１．１〜３．５倍である。延伸倍率が１０倍を超える場合、位相差の制御が困難になる場合がある。

延伸したフィルムは、そのまま冷却してもよいが、Ｔｇ−２０℃〜Ｔｇの温度雰囲気下に少なくとも１０秒以上、好ましくは３０秒〜６０分、より好ましくは１分〜６０分静置する。これにより、位相差特性の経時変化が少なく安定した位相差フィルムが得られる。

また、透明基材層１０の線膨張係数は、温度２０℃から１００℃の範囲において、好ましくは１×１０^−４（１／℃）以下であり、より好ましくは９×１０^−５（１／℃）以下であり、さらに好ましくは８×１０^−５（１／℃）以下であり、特に好ましくは７×１０^−５（１／℃）以下である。また、位相差フィルムの場合には、延伸方向とそれに垂直方向の線膨張係数差が好ましくは５×１０^−５（１／℃）以下であり、より好ましくは３×１０^−５（１／℃）以下であり、さらに好ましくは１×１０^−５（１／℃）以下である。線膨張係数を上記範囲内とすることで、上記位相差フィルムを本発明の導電性積層体に用いたときに、使用時の温度および湿度などの影響からなる応力変化が及ぼす位相差の変化や透明導電層の抵抗値変化が抑えられ、本発明の導電性積層体として使用したときに長期の特性の安定を得ることができる。

上述のようにして延伸したフィルムは、延伸により分子が配向し透過光に位相差を与えるようになるが、この位相差は、延伸前のフィルムの位相差値と延伸倍率、延伸温度、延伸配向後のフィルムの厚さにより制御することができる。ここで、位相差は複屈折光の屈折率差（△ｎ）と厚さ（ｄ）との積（△ｎｄ）で定義される。このような延伸フィルムは、コンストラストが高く、視認性の高い偏光板一体型のインナータッチパネルが得られることから、透過光の波長λの１／４の△ｎｄを有することが好ましい。

また、透明基材層１０は、粒子含有保護層２０との接着性を高める目的で表面処理を施したものであってもよい。該表面処理としては、プラズマ処理、コロナ処理、アルカリ処理、コーティング処理等が挙げられる。とりわけコロナ処理を用いることで、透明樹脂フィルムと粒子含有保護層の密着を強固とすることができる。

環状オレフィン系樹脂フィルムを用いる場合、コロナ処理条件としては、コロナ放電電子の照射量として１〜１，０００Ｗ／ｍ^２／分であることが好ましく、１０〜１００Ｗ／ｍ^２／分とすることがより好ましい。これより照射量が低い場合には、充分な表面改質効果が得られない場合があり、またこれより照射量が高い場合には、透明基材層１０の内部にまで処理効果が及び、フィルムそのものが変質してしまうおそれがある。このコロナ処理は、粒子含有保護層２０と当接する面のみならず、その反対側の面に施してもよい。

また、コロナ処理をした直後に塗工してもよいし、除電させてから塗工してもよいが、粒子含有保護層の外観が良好となることから、除電させてから塗工した方が好ましい。

２．１．２．粒子含有樹脂層
粒子含有樹脂層２０は、上述した透明基材層１０の一方の面に形成されている。粒子含有樹脂層２０は、無機粒子の凝集体を含有している。粒子含有樹脂層２０は、無機粒子の凝集体を含有することで、その表面に凹凸形状を付与することができる。これにより、アンチニュートンリング性に優れ、かつ、画素の輝度ムラのない粒子含有樹脂層を形成することができる。

無機粒子の平均一次粒径は、好ましくは５〜２００ｎｍであり、より好ましくは５〜１５０ｎｍである。平均一次粒径は、例えば透過型電子顕微鏡で測定した５０個の粒径を平均することで求めることができる。平均一次粒径が上記範囲内であることにより、粒子含有樹脂層における光の内部散乱を小さくすることができるため、導電性積層体のヘイズ値を低減させることができる。平均一次粒径が５ｎｍ未満であると、粒子含有樹脂層の表面に凹凸形状を形成させ難くなるため、画素の輝度ムラやニュートンリングを防止することが困難となる。一方、平均一次粒径が２００ｎｍを超えると、粒子含有樹脂層における光の内部散乱が大きくなるため、導電性積層体の透明性が低下する傾向がある。

粒子含有樹脂層２０における無機粒子の凝集体の含有量は、好ましくは０．１〜２０質量％の範囲内であり、より好ましくは１〜１０質量％の範囲内である。無機粒子の含有量が０．１質量％未満であると、樹脂層の透明性には優れるが、画素の輝度ムラやニュートンリングを防止することが困難となる。一方、２０質量％を超えると、樹脂層における光の内部散乱が大きくなるため、透明性が低下する傾向がある。

粒子含有樹脂層２０は、無機粒子を含有する硬化性組成物を用いて形成することができる。このような硬化性組成物の好ましい具体例としては、「１．硬化性組成物」の項で説明した硬化性組成物を挙げることができる。

粒子含有樹脂層２０の厚さは、好ましくは０．５〜２０μｍ、より好ましくは１〜１５μｍ、特に好ましくは２〜１０μｍである。

粒子含有樹脂層２０の形成方法について、以下に説明する。

まず、前記透明基材層１０の一方の面に、無機粒子を含有する硬化性組成物を塗工して塗工層を形成し、乾燥処理する。塗工方法については特に制限はなく、例えばバーコート塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ダイ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の公知の方法を用いることができる。この塗工層の厚さは、硬化性組成物中に含まれる固形分濃度および硬化後の粒子含有樹脂層２０の密度から、必要な硬化性組成物の塗工量を算出することにより制御することができる。塗工後、乾燥処理して、硬化性組成物に含まれる有機溶剤を揮発させる。これにより、無機粒子の凝集をさらに促進させることができる。乾燥処理は、５０〜１２０℃の温度で０．５〜４．０分間程度行うことが好ましい。乾燥時間が長ければ長いほど、無機粒子の移動が容易となりその凝集を促進させることができる。

次いで、乾燥後の塗工層に紫外線を照射して硬化させて、無機粒子の凝集体を粒子含有樹脂層２０の表面または内部に固定化することができる。紫外線照射装置としては、特に制限はなく、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ヒュージョンＨランプ等を用いた公知の紫外線照射装置を用いることができる。紫外線照射量は、通常３００〜８００ｍＪ／ｃｍ^２程度である。

以上のように、アンチニュートンリング性を付与する方法として無機粒子の凝集体を形成する方法を採用することで、粒子含有樹脂層の形状、膜厚、間隔等を精密に制御することが可能となり、透明性およびアンチニュートンリング性に優れ、さらには画素の輝度ムラのない良好な樹脂層を得ることができる。

無機粒子の凝集体から形成される粒子含有樹脂層表面の凹凸構造は、薄膜である透明導電層の外側表面にも凹凸構造を形成するため、ニュートンリングを防止することができる。また、無機粒子の凝集体から形成される粒子含有樹脂層表面の凹凸構造は、その膜厚によって大きく変化することがないため、従来の防眩性フィルムと比較して幅広い膜厚範囲でニュートンリングを防止することができる。

また、導電性積層体１００は、透明基材層１０と粒子含有樹脂層２０との間に、アンカーコート層および反射防止層の少なくとも一方を設けることができる。これにより、ガスバリア性および接着性に優れ、可視光領域の透過度が向上された導電性積層体１００が得られる。

２．１．３．透明導電層
透明導電層３０は、上述した透明基材層１０の一方の面に粒子含有樹脂層２０が形成されたフィルム上に、さらに形成されている。

透明導電層３０の厚さは、３０〜３，０００Åとすることが好ましく、５０〜２，０００Åがさらに好ましい。３０Åより薄いと表面抵抗が１，０００Ω／□以下となって良好な導電性を有する連続被膜となり難いことがある。一方、３，０００Åを超えると粒子含有樹脂層の表面凹凸が透明導電層の外側表面の凹凸構造に影響しにくくなってニュートンリングを効果的に防止することが困難になる場合があるほか、透明性の低下などをきたすことがある。

透明導電層３０は、酸化錫を含有する酸化インジウム、酸化チタンを含有する酸化インジウム、酸化錫、酸化チタン、ポリチオフェン、無機ナノ粒子等を分散した無機／有機複合系材料から得られる層であって、可視光領域において透過度を有し、かつ、導電性を有する層である。

透明導電膜３０を形成する際のターゲットとして、従来公知のＩＴＯターゲットが用いられる。ＩＴＯ膜の形成に用いるターゲット剤として、酸化インジウムと酸化錫との重量比は、好ましくは９９．５：０．５〜８０：２０、より好ましくは９９：１〜８５：１５、さらに好ましくは９９：１〜９０：１０のものを用いるのが望ましい。重量比が上記範囲外であると抵抗値の上昇が起こる。

透明基材層が樹脂フィルムである場合におけるＩＴＯ成膜温度は、室温〜当該樹脂フィルムのＴｇの範囲であることが好ましく、室温〜当該樹脂フィルムのＴｇ−２０℃の範囲であることがより好ましい。Ｔｇ以上であると樹脂フィルムの劣化が起こることがある。

また、ＩＴＯ成膜時に雰囲気ガスとしてアルゴンガスに微量の酸素ガス、好ましくはアルゴンガスガスと酸素ガスとの混合ガスの体積に対して、好ましくは０．０５〜２０体積％、より好ましくは０．０１〜１０体積％、さらに好ましくは０．１〜３体積％の酸素ガスを導入すると、ＩＴＯ薄膜の透明性と導電性を良くすることができる。

透明導電層３０の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の従来公知の技術をいずれも用いることができるが、膜の均一性や透明基材への薄膜の密着性の観点から、スパッタリング法での薄膜形成が好ましい。また、用いる薄膜材料も上記以外に、例えば、アンチモンを含有する酸化錫などの金属酸化物のほか、金、銀、白金、パラジウム、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、コバルト、錫またはこれらの合金などを用いてもよい。

２．２．第２の実施の形態
図２に、第２の実施の形態にかかる導電性積層体２００を模式的に示した断面図を示す。第２の実施の形態にかかる導電性積層体２００は、上述した導電性積層体１００において透明基材層１０の粒子含有樹脂層２０が形成されている面とは反対の面にハードコート（以下、「ＨＣ」ともいう。）層４０が形成されている。ＨＣ層４０を設けることにより、導電性積層体２００の反りを防止することができる。また、ＨＣ層４０は、透明性、耐擦傷性および防汚性、特に指紋拭き取り性および指紋視認性に優れており、導電性積層体２００を保護する機能を担っている。

ＨＣ層４０の膜厚は、特に限定されるものではなく、上述した粒子含有樹脂層２０と同様の膜厚が好ましく、例えば、粒子含有樹脂層厚さとＨＣ層４０の膜厚の差は、±１０μｍ以下であることが好ましく、±５μｍ以下であることがさらに好ましい。

ＨＣ層４０としては、例えば特許４２７３３６２号公報に掲載されているようなハードコート層が挙げられる。具体的には、パーフルオロポリエーテル基の両末端にそれぞれ１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物と、パーフルオロエーテル基、ポリシロキサン基および（メタ）アクリロイル基を有する化合物と、分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物と、を含有する硬化性組成物の樹脂層が挙げられる。

ＨＣ層４０の全光線透過率は、９０％以上であることが必要である。全光線透過率が９０％に満たないと、用途によっては視認性に劣る場合がある。また、ＨＣ層４０のヘイズ値は、１％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましい。ＨＣ層４０のヘイズ値が１％を超えると、光学用途に使用した場合に像の鮮明度が劣るため好ましくない。

また、導電性積層体２００は、透明基材層１０とＨＣ層４０との間に、アンカーコート層および反射防止層の少なくとも一方を設けることができる。これにより、ガスバリア性および接着性に優れ、可視光領域の透過度が向上された導電性積層体２００が得られる。

なお、透明基材層１０、粒子含有樹脂層２０および透明導電層３０については、第１の実施の形態で述べたとおりであるので、説明を省略する。

２．３．導電性積層体の物性
本実施の形態にかかる導電性積層体の各物性について、以下に好ましい態様を示す。

透明導電層の外側表面における導電性積層体の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０５〜０．５μｍの範囲であることが好ましく、０．０７〜０．４μｍがさらに好ましく、０．０９〜０．２μｍが特に好ましい。Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１（ＩＳＯ４２８９：９７と同一である。）に従い、３Ｄレーザー顕微鏡を用いて測定する。ここで、透明導電層の外側表面とは、透明導電層の表面のうち、粒子含有樹脂層と反対側の表面、すなわち、導電性積層体の外面をなす面である。

ヘイズ値は、例えば須賀製作所（株）製のカラーヘイズメーターを用い、「ＡＳＴＭ Ｄ１００３」に従いヘイズ値（％）を測定した場合、５％以下が好ましく、４％以下がより好ましく、２％以下が特に好ましい。ヘイズ値が上記範囲内であると、白ボケを防止し、背景画像をより鮮明に映し出すことができる。なお、ヘイズ値は、粒子含有樹脂層に含有される無機粒子および透明導電層に含有される導電性粒子の平均粒径、粒度分布、含有割合等と相関する。

全光線透過率は、例えば、市販されているスガ試験機（株）の「ＨＧＭ-２ＤＰ」等を用いて、「ＪＩＳ Ｋ−７３６１」に準拠して測定する場合、タッチパネルの視認性が向上することから、８０％以上が好ましく、８３％以上がより好ましく、８５％以上がさらに好ましい。

透過光ｂ＊は、例えば、市販されている大塚電子（株）製の「色差計ＲＥＴＳ−１２００ＶＡ」等を用いて、「ＪＩＳ Ｚ−８７２２」に準拠し測定する場合、タッチパネルの視認性が向上することから、０〜１２が好ましく、０〜７がより好ましく、０〜４がさらに好ましい。

鉛筆硬度は、（株）東洋精機製「ＮＰ」を用いて、「ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４」に準拠して測定する場合、ＨＢ以上が好ましい。鉛筆硬度がＨＢ未満であると、ＩＴＯ成膜時に透明導電膜に傷が入る場合がある。

防眩性は、本実施の形態にかかる導電性積層体に蛍光灯（全光束３５２０ｌｍ）を映し、蛍光灯の輪郭ボケの程度を目視により評価する場合、蛍光灯の輪郭がまったくわからないことが好ましい。

輝度ムラは、シャープ製モバイルツール「ＳＬ−６０００Ｎ」の画面を緑表示とした後、本実施の形態にかかる導電性積層体を載せ、目視により評価する場合、画素の輝度ムラがほとんど認識できないことが好ましい。

アンチニュートンリング性は、本実施の形態にかかる導電性積層体を平滑なガラス板（厚み３ｍｍ、素材：ソーダガラス）の上に粒子含有樹脂層が密着するように載せて指で押しつけ、ニュートンリングが発生するかを目視にて評価する場合、ニュートンリングが発生しないことが好ましい。

熱収縮率は、１５０℃に加熱した強制循環式乾燥機の中に本実施の形態にかかる導電性積層体を６０分間静置させ、ミツトヨ製の「寸法測定顕微鏡１７６−８１２」を用いて加熱前後のフィルムの寸法変化を測定し熱収縮率を算出する場合、１．５％以下が好ましく、１．３％以下がより好ましく、１．０％以下がさらに好ましい。熱収縮率が１．５％を超えると、タッチパネルの変形が発生する場合がある。

残留溶媒は、１６０℃に加熱した強制循環式乾燥機の中に本実施の形態にかかる導電性積層体を３０分間静置させ、加熱前後の質量変化を調べ、質量増加率（％）を残留溶剤（％）とする場合、２％以下が好ましく、１％以下がより好ましい。

位相差は、王子計測機器（株）製の「ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ／ＰＲ」を用いて測定する場合、０〜５０ｎｍが好ましく、０〜２０ｎｍがより好ましく、０ｎｍ〜１０ｎｍがさらに好ましい。

表面抵抗（Ω／□）は、例えば、市販されている三菱化学（株）製の低抵抗率計「ロレスタ−ＧＰ」を用いて測定する場合、２００〜１５００Ω／□が好ましく、２５０〜１０００Ω／□がより好ましく、３００〜５００Ω／□がさらに好ましい。表面抵抗が、１５００Ω／□を超えると、良好な導電性を有する連続皮膜となり難い場合がある。一方、２００Ω／□未満であると、透明性の低下およびタッチパネルの誤作動を引き起こし易くなる場合がある。

３．タッチパネル
タッチパネルを液晶表示装置に配置する場合には、本実施の形態にかかるタッチパネルは、上述した導電性積層体が偏光膜に積層されてなる偏光板を備えたことが好ましい。すなわち、透明導電層と偏光板とが一体となっており、いわゆる偏光板一体インナータッチパネルと言われるものである。

３．１．偏光膜
上記偏光膜としては、偏光膜としての機能（すなわち、入射光を互いに直交する２つの偏向成分に分け、その一方のみを通過させ、他の成分を吸収または分散させる機能）を有する膜であれば特に限定されない。このような偏光膜としては、例えば、ポリビニルアルコール（以下、「ＰＶＡ」ともいう。）・ヨウ素系偏光膜；ＰＶＡフィルムに二色性染料を吸着配向させたＰＶＡ・染料系偏光膜；ＰＶＡ系フィルムの脱水反応、ポリ塩化ビニルフィルムの脱塩酸反応等により、ポリエンを形成させたポリエン系偏光膜；分子内にカチオン性基を含有する変性ＰＶＡからなるＰＶＡ系フィルムの表面および／または内部に二色性染料を有する偏光膜等が挙げられる。これらの中でも、ＰＶＡ・ヨウ素系偏光膜が好ましい。

偏光膜の製造方法は特に限定されず、従来公知の方法を適用することができる。例えば、ＰＶＡ系フィルムを延伸後、ヨウ素イオンを吸着させる方法；ＰＶＡ系フィルムを二色性染料による染色後、延伸する方法；ＰＶＡ系フィルムを延伸後、二色性染料で染色する方法；二色性染料をＰＶＡ系フィルムに印刷後、延伸する方法；ＰＶＡ系フィルムを延伸後、二色性染料を印刷する方法などが挙げられる。より具体的には、ヨウ素をヨウ化カリウム溶液に溶解して、高次のヨウ素イオンを作り、このイオンをＰＶＡフィルムに吸着させて延伸し、次いで１〜５重量％ホウ酸水溶液に浴温度３０〜４０℃で浸漬して偏光膜を製造する方法；またはＰＶＡフィルムを上記と同様にホウ酸処理して一軸方向に３〜７倍程度延伸した後、０．０５〜５重量％の二色性染料水溶液に浴温度３０〜４０℃で浸漬して染料を吸着し、次いで８０〜１００℃で乾燥して熱固定して偏光膜を製造する方法などが挙げられる。

偏光膜の厚さは、特に限定されるものではないが、好ましくは１０〜５０μｍであり、より好ましくは１５〜４５μｍである。

これらの偏光膜は、そのまま上記の偏光板の製造に用いてもよいが、接着剤層と接する面に、あらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理をして用いてもよい。

３．２．偏光板
上記偏光板は、透明基材層の一方の面に粒子含有樹脂層、透明導電層の順に形成された導電性積層体のうち、透明導電層の他方の面に感圧性接着剤を用いて偏光膜と接着された構成とすることが好ましい。

上記感圧性接着剤としては、ポリビニルアルコール系感圧性接着剤、ポリウレタン系感圧接着剤、アクリル系感圧性接着剤、ゴム系感圧性接着剤、シリコーン系感圧性接着剤等が好ましい。上記感圧性接着剤は、透明基材層と偏光膜との接着性を高める観点から、ポリビニルアルコール系感圧性接着剤、ポリウレタン系感圧接着剤およびこれらの混合接着剤であることが好ましい。

３．３．タッチパネルの構成
本実施の形態にかかるタッチパネルは、導電性積層体を４線式抵抗膜方式、５線式抵抗膜方式等のタッチパネルの上部電極および下部電極の少なくとも一方として用いたものである。上部電極と下部電極とは、各々の透明導電層が間隙を介して対向配置するように、スペーサーを介して貼り合わせる。

該スペーサーとしては、例えば、均一な大きさを有する真球状粒子や、スクリーン印刷、感光性組成物のパターニング等に形成される樹脂硬化物のドットパターン等が好ましい。そして、このタッチパネルを表示装置の前面に配置することでタッチパネル機能を有する表示装置が得られる。

このようにして得られるタッチパネルの表示画面を手で接触した時の視認性を目視評価する場合、着色や白ぼけが無く視認性が良好であることが好ましい。

４．実施例
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。

４．１．硬化性組成物の調製
４．１．１．硬化性組成物１の調製
イソプロピルアルコール分散１００ｎｍシリカ粒子ゾル（日産化学（株）製、「ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ」）３４．８質量部（シリカ粒子として１０．８質量部）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０」）８０．９質量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４」）４．０質量部、Ｎ−ヒドロキシエチルオレイルイミダゾリン（花王（株）製、「ホモゲノール Ｌ９５」）４．３質量部、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）１２６．０質量部をフラスコに入れ、室温で３０分間撹拌することにより、均一な硬化性組成物１（２５０質量部）を得た。

４．１．２．硬化性組成物２の調製
イソプロピルアルコール分散１００ｎｍシリカ粒子ゾル（日産化学（株）製、「ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ」）１６．１質量部（シリカ粒子として５．０質量部）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０」）８８．６質量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４」）４．４質量部、ポリオキシエチレンラウリルアミン（花王（株）製、「アミート１０２」）２．０質量部、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）１３８．９質量部をフラスコに入れ、室温で３０分間撹拌することにより、均一な硬化性組成物２（２５０質量部）を得た。

４．１．３．硬化性組成物３の調製
「４．１．１．硬化性組成物１の調製」において、イソプロピルアルコール分散１００ｎｍシリカ粒子ゾル「ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ」の代わりにイソプロピルアルコール分散３０〜４０ｎｍシリカゾル（日産化学（株）性、「ＩＰＡ−ＳＴ−ＭＳ」）を用いたこと以外は同様にして、均一な硬化性組成物３（２５０質量部）を得た。

４．１．４．硬化性組成物４の調製
「４．１．２．硬化性組成物２の調製」において、ポリオキシエチレンラウリルアミン（花王（株）製、「アミート１０２」）２．０質量部の代わりにラウリルトリメチルアンモニウムクロライド（花王（株）製、商品名「コータミン２４Ｐ」）２．０質量部を用いた子と以外は同様にして、均一な硬化性組成物４（２５０質量部）を得た。

４．１．５．硬化性組成物５の調製
イソプロピルアルコール分散１００ｎｍシリカ粒子ゾル（日産化学（株）製、「ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ」）３６．５質量部（シリカ粒子として１１．３質量部）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０」）８４．５質量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４」）４．２質量部、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）１２４．８質量部をフラスコに入れ、室温で３０分間撹拌することにより、均一な硬化性組成物５（２５０質量部）を得た。

４．１．６．硬化性組成物６の調製
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０」）２７．８質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート（大阪有機化学工業（株）製、「ビスコート＃２９５」）１８．６質量部、トリペンタエリスリトールオクタアクリレートとトリペンタエリスリトールヘプタアクリレートの混合物（大阪有機化学工業（株）製、「ビスコート＃８０２」）４６．４質量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４」）７．２質量部、アクリル粒子（綜研化学社製、「ＭＸ−１８０」、平均粒径１．９μｍ）１．０質量部、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）１４９．０質量部をフラスコに入れ、室温で３０分間撹拌することにより、均一な硬化性組成物６（２５０質量部）を得た。

なお、上記硬化性組成物１〜硬化性組成物６の組成について表１に示す。

４．２．導電性積層体の作製
４．２．１．積層体１の作製［実施例１］
８０μｍの厚みの環状オレフィン系重合体フィルム（透明基材層）上に、硬化性組成物１を６ミル（膜厚１５０μｍ）のバーコーターを用いて塗布した。これを８０℃のオーブンに３分間投入し乾燥させ、高圧水銀灯にて４００ｍＪ／ｃｍ^２紫外線照射することで、塗膜を硬化させた。得られた粒子含有樹脂層の厚さは、２．０μｍであった。なお、粒子含有樹脂層の厚さは、粒子含有樹脂層を形成後の積層体の厚さと環状オレフィン系重合体フィルムの厚さをそれぞれミツトヨ社製シックネスゲージＮｏ．５４７−４０１で測定し、その差から求めた。次に、粒子含有樹脂層の表面に、Ａｒ流量２００ｓｃｃｍ、出力１０４０Ｖ／０．０２Ａにてプラズマ処理を施した後、アルゴンガスおよび酸素ガス流入下でターゲットとしてＩｎ_２Ｏ_３／ＳｎＯ_２＝９０／１０（質量比）を用いたスパッタリングによりＩＴＯからなる透明導電層を厚さ２００Åで積層し、透明導電層が形成された積層体１を得た。図３は、実施例１で作製された積層体１の断面を撮影したＳＥＭ写真である。図３のＳＥＭ写真によれば、透明基材層と透明導電層との間に位置する粒子含有樹脂層において、シリカ粒子の凝集体が生成されていることを確認できた。

４．２．２．積層体２の作製［実施例２］
「４．２．１．積層体１の作製」において、６ミルのバーコーターの代わりに１２ミル（膜厚３００μｍ）のバーコーターを用いたこと以外は同様にして、積層体２を作製した。得られた粒子含有樹脂層の厚さは、５．０μｍであった。

４．２．３．積層体３の作製［実施例３］
「４．２．１．積層体１の作製」において、硬化性組成物１の代わりに硬化性組成物２を用いたこと以外は同様にして、積層体３を作製した。得られた粒子含有樹脂層の厚さは、２．０μｍであった。

４．２．４．積層体４の作製［実施例４］
「４．２．１．積層体１の作製」において、硬化性組成物１の代わりに硬化性組成物３を用いたこと以外は同様にして、積層体４を作製した。得られた粒子含有樹脂層の厚さは、２．０μｍであった。

４．２．５．積層体５の作製［実施例５］
「４．２．１．積層体１の作製」において、硬化性組成物１の代わりに硬化性組成物４を用いたこと以外は同様にして、積層体５を作製した。得られた粒子含有樹脂層の厚さは、２．０μｍであった。

４．２．６．積層体６の作製［比較例１］
「４．２．１．積層体１の作製」において、６ミルのバーコーターの代わりに１２ミルのバーコーターを用い、硬化性組成物１の代わりに硬化性組成物５を用いたこと以外は同様にして、積層体６を作製した。得られた粒子含有樹脂層の厚さは、５．０μｍであった。

４．２．７．積層体７の作製［比較例２］
「４．２．１．積層体１の作製」において、６ミルのバーコーターの代わりに１２ミルのバーコーターを用い、硬化性組成物１の代わりに硬化性組成物６を用いたこと以外は同様にして、積層体７を作製した。得られた粒子含有樹脂層の厚さは、５．０μｍであった。

４．２．８．積層体８の作製［比較例３］
「４．２．１．積層体１の作製」において、６ミルのバーコーターの代わりに３ミルのバーコーターを用い、硬化性組成物１の代わりに硬化性組成物６を用いたこと以外は同様にして、積層体８を作製した。得られた粒子含有樹脂層の厚さは、１．２μｍであった。

４．３．評価方法
得られた積層体１〜８について、下記の方法に従って評価した。

（１）アンチニュートンリング性
各積層体を平滑なガラス板（厚み３ｍｍ、素材：ソーダガラス）の上に導電性積層体の透明導電層が密着するように載せて指で押し付け、ニュートンリングが発生するか否かを目視にて観察した。評価基準は、以下のとおりである。
○：ニュートンリングが発生しない。
△：ニュートンリングがわずかに発生する。
×：ニュートンリングが明らかに発生する。

（２）輝度ムラ
シャープ製のモバイルツール「ＳＬ−６０００Ｎ」の画面を緑表示とした後、各積層体を載せ、目視により観察した。評価基準は、以下のとおりである。
○：画面の輝度ムラがほとんど認識できない。
△：画面の輝度ムラが認識できるが、目立たない。
×：画面の輝度ムラがはっきり認識できる。

（３）ヘイズ
須賀製作所（株）製のカラーヘイズメーターを用い、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に従い、各積層体のヘイズ値（％）を測定した。

（４）算術平均粗さ（Ｒａ）
透明導電層の外側表面における導電性積層体の算術平均粗さ（Ｒａ）は、（株）キーエンス製のカラー３Ｄレーザー顕微鏡を用い、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−２００１に準拠し測定した。

４．４．評価結果
上記評価方法（１）ないし（４）の結果を表２に示す。

表２の結果から、本願発明にかかる硬化性組成物１〜硬化性組成物４を用いて形成された粒子含有樹脂層を有する積層体１〜積層体５は、透明導電層の外側表面における導電性積層体の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５〜０．５μｍの範囲内にあり、透明性およびアンチニュートンリング性に優れ、画素の輝度ムラも良好であることが分かった。

粒子凝集剤を含有していない硬化性組成物５を用いて形成された粒子含有樹脂層を有する積層体６は、透明性に優れ、画素の輝度ムラも良好であったが、アンチニュートンリング性が良好ではなかった。これは、粒子凝集剤を含有していない硬化性組成物５を用いて粒子含有樹脂層を形成しても、粒子の凝集体が生成されにくく、ニュートンリングを防止する機能が発揮されていないことによるものである。

無機粒子の代わりに１．９μｍ径のアクリル粒子を含有し、かつ、粒子凝集剤を含有しない硬化性組成物６を用いて形成されたハードコート層を有する積層体７は、透明性に優れ、画素の輝度ムラも良好であったが、アンチニュートンリング性が良好ではなかった。この結果から、アクリル粒子の粒径よりも粒子含有樹脂層が厚いため、粒子含有樹脂層に凹凸形状を付与することができず、アンチニュートンリング性が得られないことが分かった。

無機粒子の代わりに１．９μｍ径のアクリル粒子を含有し、かつ、粒子凝集剤を含有しない硬化性組成物６を用いて形成されたハードコート層を有する積層体８は、１．９μｍ径のアクリル粒子を添加しているため、膜厚を１．２μｍと薄くすることによってアンチニュートンリング性に優れ画素の輝度ムラも良好であったが、透明性が良好ではなかった。

１０…透明基材層、２０…粒子含有樹脂層、３０…透明導電層、４０…ハードコート層、１００・２００…導電性積層体

Claims (9)

1. 透明基材層の一方の面に、粒子含有樹脂層、透明導電層の順に形成された導電性積層体であって、
   前記粒子含有樹脂層は、３０〜２００ｎｍの平均一次粒径を有するシリカ粒子の凝集体を含有し、
   前記透明導電層の外側表面におけるＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１による算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５〜０．５μｍである、導電性積層体。
2. 請求項１において、
   前記粒子含有樹脂層は、粒子凝集剤をさらに含有する、導電性積層体。
3. 請求項１または請求項２において、
   さらに、前記透明基材層の他方の面に、ハードコート層が形成された、導電性積層体。
4. 請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の導電性積層体が偏光膜に積層されてなる偏光板を備えた、タッチパネル。
5. 請求項１に記載の導電性積層体に含まれる粒子含有樹脂層を形成するために用いられる硬化性組成物であって、
   （Ａ）多官能重合性不飽和基含有化合物と、
   （Ｂ）ラジカル重合開始剤と、
   （Ｃ）３０〜２００ｎｍの平均一次粒径を有するシリカ粒子と、
   （Ｄ）粒子凝集剤と、
   （Ｅ）有機溶剤と、
   を含有する、硬化性組成物。
6. 請求項５において、
   前記（Ｄ）粒子凝集剤は、アミン化合物またはその塩である、硬化性組成物。
7. 請求項６において、
   前記アミン化合物は、三級アミン化合物である、硬化性組成物。
8. 請求項５において、
   前記（Ｄ）粒子凝集剤は、四級アンモニウム塩である、硬化性組成物。
9. 透明基材層の一方の面に、請求項５ないし請求項８のいずれか一項に記載の硬化性組成物を塗布した後、紫外線を照射することにより粒子含有樹脂層を形成する工程と、
   前記粒子含有樹脂層上に透明導電層を形成する工程と、
   を含む、導電性積層体の製造方法。