TW201923536A

TW201923536A - 觸摸感測器膜及觸控式螢幕

Info

Publication number: TW201923536A
Application number: TW108110124A
Authority: TW
Inventors: 溫井克行
Original assignee: 日商富士軟片股份有限公司
Priority date: 2014-08-29
Filing date: 2015-07-31
Publication date: 2019-06-16
Also published as: US10394397B2; US20190332205A1; JP6228313B2; TW201608436A; US20170177118A1; TWI673632B; JPWO2016031483A1; JP2018022512A; CN106575178A; WO2016031483A1; US10509524B2; JP6533559B2; TWI673641B; CN106575178B

Abstract

本發明係有關於一種觸摸感測器膜及觸控式螢幕，所述觸摸感測器膜具有：厚度不足80m的透明的支撐體；以及網狀電極，其配置在所述支撐體的表面上，具有由金屬細線構成的網格圖案，設置有所述網狀電極的支撐體在機械流程方向上的熱收縮率的絕對值在0.6%以內、而且與所述機械流程方向垂直的橫向上的熱收縮率的絕對值在0.2%以內，並且表面凹凸形狀的10點平均粗糙度在6.1m以下。

Description

觸摸感測器膜及觸控式螢幕

本發明涉及一種觸摸感測器膜及觸控式螢幕，尤其涉及在支撐體的表面上形成由金屬細線構成的網格圖案的觸摸感測器膜及觸控式螢幕。

近年來，在以可擕式資訊設備為代表的各種電子設備中，觸控式螢幕的普及得到推進，該觸控式螢幕與液晶顯示裝置等顯示裝置組合使用，通過接觸畫面進行對電子設備的輸入操作。作為在該觸控式螢幕中使用的電極，提出了使用由電阻較低的金屬細線構成的網狀電極，以提高回應速度。

其中，在使用網狀電極的觸控式螢幕中存在如下的問題，即由於網狀電極的網格圖案與顯示器的圖元排列圖案（RGB濾色器的排列圖案及黑矩陣圖案等）的干涉而產生莫爾條紋（干涉條紋）。因此，進行抑制莫爾條紋的視覺辨認性的觸控式螢幕的研發。

例如，在專利文獻1中公開了這樣的觸摸感測器膜，對於使人的視覺回應特性作用於莫爾條紋的頻率資訊及強度資訊而得到的莫爾條紋的頻率及強度，對莫爾條紋的頻率進入按照視覺回應特性而確定的規定的頻率範圍內的莫爾條紋的強度之和在規定值以下的網格圖案賦予不規律性，所述莫爾條紋的頻率資訊及強度資訊是根據網格圖案的透射率圖像資料和圖元排列圖案的透射率圖像資料的雙二維傅裡葉頻譜的峰值頻率及峰值強度分別計算出來的。

［現有技術文獻］

＜專利文獻＞

專利文獻1：日本特開2013－214545號公報

專利文獻2：日本特開2009－059666號公報

但是，已知在專利文獻1的網格圖案中，即使是在觸控式螢幕的支撐體上形成了網狀電極的情況下，在使用較薄的支撐體通過輥式輸送進行製造時產生特別明顯的變形，網狀電極的位置偏移，產生出現莫爾條紋的問題。

在為了形成較薄的觸控式螢幕而使觸摸感測器膜的支撐體厚度變薄時，與此相應地支撐體的剛性下降，支撐體的熱收縮率惡化（熱收縮率的絕對值增大）。因此，在研究在使用厚度較薄的支撐體的情況下，通過以較高的溫度對支撐體進行退火處理即實施所謂收縮化處理，使支撐體低熱收縮化（參照專利文獻2）。在用非低熱收縮化的支撐體形成觸摸感測器膜的情況下，支撐體的尺寸由於溫度或者濕度而產生明顯變形，因而通過高精度的尺寸設計而生成的網狀電極圖案的尺寸容易變化。本發明人們發現了如下的新課題，在使用多條軌道輥對長尺寸狀態的支撐體進行輥式輸送的同時實施收縮化處理的情況下，如圖12所示，在支撐體31上形成沿機械流程方向（MD方向：Machine Direction）延伸的多條筋狀的皺褶W。在該支撐體31產生的筋狀的皺褶W通過與軌道輥接觸而冷卻並被固定，導致在支撐體31產生類似於白鋅板的形狀的塑性變形。

這樣，在使用氧化銦錫等將平板狀的透明電極形成於支撐體上的情況下，雖然被固定於支撐體31的筋狀的皺褶W不會對顯示器的視覺辨認性造成影響，但是在如圖13所示形成由金屬細線32構成的網狀電極的情況下，在將支撐體31搭載於顯示裝置等（也有可能是貼合在玻璃罩上）的平滑面上時，筋狀的皺褶W被拉伸，與其相應地形成於支撐體31上的由金屬細線32構成的網狀電極的位置偏移，產生莫爾條紋。

本發明正是為了解決這種以往的問題而提出的，其目的在於提供觸摸感測器膜及觸控式螢幕，抑制了隨著支撐體的變形而形成的莫爾條紋的產生。

本發明的觸摸感測器膜具有厚度不足80mm的透明的支撐體、和配置在支撐體的表面上並具有由金屬細線構成的網格圖案的網狀電極，設置有網狀電極的支撐體在機械流程方向上的熱收縮率的絕對值在0.6%以內、而且與機械流程方向垂直的橫向上的熱收縮率的絕對值在0.2%以內，並且表面凹凸形狀的10點平均粗糙度在6.1mm以下。

其中，優選表面凹凸形狀的10點平均粗糙度在4.5mm以下。

另外，優選支撐體的厚度不足50mm。

本發明的觸控式螢幕具有上述任意一項所述的觸摸感測器膜。

本發明之效果為：

根據本發明，能夠提供觸摸感測器膜及觸控式螢幕，由於以對厚度不足80mm的支撐體的動態玻化溫度加上35℃後的溫度以下的溫度對支撐體實施退火處理，因而抑制了隨著支撐體的變形而形成的莫爾條紋的產生。

下面，根據附圖說明本發明的實施方式。

本發明的觸摸感測器膜的製造方法使用多個軌道輥對厚度不足80mm的長尺寸且透明的支撐體進行輥式輸送，以對支撐體的動態玻化溫度加上35℃後的溫度以下的溫度對支撐體實施退火處理，在被實施了退火處理的支撐體的表面上形成由金屬細線構成的網格圖案。

［觸摸感測器膜的製造方法］

（支撐體的製造方法）

圖1示出觸摸感測器膜的製造方法的一例。

首先，厚度不足80mm的長尺寸且透明的支撐體1以被捲繞成卷狀的狀態安裝在隔開規定的間隔配置的送出輥2和卷取輥3上。在該送出輥2和卷取輥3之間配置有3個軌道輥4、5及6，並且配置有用於對支撐體1實施退火處理的加熱器7，支撐體1以從送出輥2經由加熱器7朝向卷取輥3的方式通過軌道輥4、5及6被輸送。

支撐體1由具有撓性的透明材料構成，例如可以由聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET）、聚對萘二甲酸乙二醇酯（PEN）等聚酯類、聚乙烯（PE）、聚丙烯（PP）、聚苯乙烯、乙烯醋酸乙烯酯（EVA）、環烯烴聚合物（COP）、環烯烴共聚物（COC）等聚烯烴類、乙烯基樹脂、以及其他的聚碳酸酯（PC）、聚醯胺、聚醯亞胺、丙烯酸樹脂、三乙醯纖維素（TAC）等構成。基於透光性、熱收縮性和加工性等的觀點，優選支撐體1由聚對苯二甲酸乙二醇酯構成。

另外，支撐體1在厚度不足80mm時，在下述所示的退火處理中容易產生筋狀的皺褶W，在厚度為50mm以下時更容易產生筋狀的皺褶W，在厚度為38mm以下時進一步更容易產生筋狀的皺褶W。

另外，關於支撐體1的厚度的下限值沒有特殊限制，只要能夠在表面上形成由金屬細線構成的網格圖案，並能夠使用多個軌道輥進行輥式輸送，則可以根據支撐體的強度等適當設定。

支撐體1被輸送到在支撐體1的機械流程方向（MD方向：Machine Direction）上被配置在加熱器7的上游側的軌道輥4上，並被導入加熱器7內。在加熱器7內形成有被保持為對支撐體1的動態玻化溫度加上35℃後的溫度以下的退火處理室N，對被輸送到退火處理室N中的支撐體1實施退火處理。

這樣，通過對支撐體1實施退火處理，支撐體1被低熱收縮化，能夠將厚度不足80mm的支撐體1抑制為規定的熱收縮率。

此時，在以比對支撐體1的動態玻化溫度加上35℃後的溫度高的溫度實施退火處理時，支撐體1過度柔軟，作為薄膜的剛性大幅下降。因此，在輥式輸送中在支撐體1產生較強的皺褶，當在退火處理後冷卻時，支撐體1的皺褶形狀被固定，如圖11所示，在支撐體1產生較大的筋狀的皺褶W。因此，通過將支撐體1的退火處理的溫度設定為對支撐體1的動態玻化溫度加上35℃後的溫度以下的溫度，能夠抑制支撐體1的剛性過度下降，將在輥式輸送中的支撐體1產生的皺褶強度抑制為較低程度，能夠將在退火處理後的冷卻中被固定於支撐體1的皺褶形狀的強度抑制為較低程度。例如，在由聚對苯二甲酸乙二醇酯構成的光學級高透明膜（Cosmoshine）A4300（東洋紡株式會社製）的動態粘彈性測定（DMA）中，能夠將動態玻化溫度設定為115℃，將退火處理溫度設定為150℃以下。

然而，通常就PET等的支撐體1而言，在超過靜態玻化溫度時產生熱收縮，而在比動態玻化溫度低的溫度時，需要使熱收縮的速度變慢來延長退火時間，以便使其產生熱收縮一直到達到規定的熱收縮率為止。因此，在以偏低的溫度進行退火時，退火處理速度的下降變明顯，因而從生產效率上講是不期望的。因此，優選以比動態玻化溫度低10℃的溫度（動態玻化溫度-10℃）以上的溫度進行退火處理。

即，由於在超過動態玻化溫度時熱收縮的速度提高，因而優選退火處理溫度的範圍在從動態玻化溫度-10℃到動態玻化溫度+35℃的溫度範圍內。

其中，退火處理溫度優選設定為對支撐體1的動態玻化溫度加上25℃後的溫度以下，更優選設定為對支撐體1的動態玻化溫度加上15℃後的溫度以下。

這樣，通過以對支撐體1的動態玻化溫度加上35℃後的溫度以下的溫度對支撐體1實施退火處理，能夠得到表面凹凸形狀的10點平均粗糙度（Rz）為6.1mm以下的支撐體1。其中，表面凹凸形狀的10點平均粗糙度是利用後述的表面凹凸形狀的測定方法計算出來的。

另外，通過實施退火處理，能夠得到在MD方向的熱收縮率的絕對值在0.6%以內、而且在與MD方向垂直的橫向（TD方向：Transverse Direction）的熱收縮率的絕對值在0.2%以內的支撐體1。其中，支撐體1的熱收縮率是利用後述的熱收縮率的評價方法計算出來的。

將被實施了退火處理的支撐體1從加熱器7匯出，並通過軌道輥5和6進行輸送。

此時，優選的是，在對支撐體1實施退火處理後，以支撐體1的靜態玻化溫度以上而且低於動態玻化溫度的溫度將支撐體1一直輸送到第一條軌道輥5，在從第一條軌道輥5到第二條軌道輥6的期間，將支撐體1降溫至低於靜態玻化溫度。

具體而言，支撐體1在從加熱器7的退火處理室N到軌道輥5之間的區間L1中，是以支撐體1的靜態玻化溫度以上而且低於動態玻化溫度的溫度被輸送的。由於軌道輥4和軌道輥5之間的距離較長，存在如上所述即使將退火處理的溫度設定為對支撐體1的動態玻化溫度加上35℃後的溫度以下的溫度時，也在支撐體1產生筋狀的皺褶W的情況。因此，通過在區間L1中保持為靜態玻化溫度以上而且低於動態玻化溫度的溫度，即使是在支撐體1產生筋狀的皺褶W的情況下，也能夠將支撐體1降溫至比靜態玻化溫度低的溫度，能夠抑制筋狀的皺褶W被固定於支撐體1。關於區間L1的溫度控制，既可以調節輸送支撐體1的氛圍溫度，也可以利用具有溫度調節功能的加熱裝置對支撐體1進行加熱從而進行調節。

另外，在軌道輥5的溫度為支撐體1的靜態玻化溫度以下時，即使按照以上所述控制區間L1的溫度，在支撐體1與軌道輥5接觸時筋狀的皺褶W也被固定，因而優選將軌道輥5的溫度保持為支撐體1的靜態玻化溫度以上而且低於動態玻化溫度的溫度。這樣，能夠通過被調節了溫度的軌道輥5，使在支撐體1產生的筋狀的皺褶W依次被拉伸，形成消除了皺褶W的平滑的支撐體1。

另外，支撐體1在從軌道輥5到軌道輥6之間的區間L2中被降溫至低於支撐體1的靜態玻化溫度的溫度。優選將該區間L2設定為30cm以內，使得在支撐體1不會產生較多的筋狀的皺褶W。因此，在軌道輥5通過的支撐體1能夠以保持平滑狀態的狀態被降溫至低於靜態玻化溫度的溫度，並通過被設定為低於靜態玻化溫度的溫度的軌道輥6將支撐體1的形狀固定為平滑的狀態。另外，在相鄰的軌道輥5和6之間的區間L2中，優選間隔狹小，但是由於需要以至少兩條軌道輥互不干涉的方式進行配置，因而在兩條軌道輥的直徑相同的情況下，優選間隔大於該直徑。在兩條軌道輥的直徑不同的情況下，優選間隔大於兩者的半徑之和。

其中，更優選將軌道輥5與軌道輥6的間隔設為20cm以內，由此能夠進一步抑制在支撐體1產生的筋狀的皺褶W。

這樣，通過在從軌道輥5到軌道輥6之間的區間L2中將支撐體1固定為平滑的狀態，能夠得到表面凹凸形狀的10點平均粗糙度（Rz）為4.5mm以下的支撐體1。其中，表面凹凸形狀的10點平均粗糙度是利用後述的表面凹凸形狀的測定方法計算出來的。

這樣，變平滑的支撐體1通過軌道輥6後被朝向卷取輥3輸送。

（網格圖案的形成方法）

接下來，在被卷取輥3卷取後或者在朝向卷取輥3輸送的途中，如圖2所示，在支撐體1的表面上形成有多條金屬細線8a，並且在支撐體1的背面上形成有多條金屬細線8b。因此，在支撐體1的表面上及背面上形成有如圖3所示由金屬細線8a和8b構成的網格圖案。

這樣，如圖4所示，在支撐體1的表面上形成有由金屬細線8a構成的多個第1網狀電極9，在支撐體1的背面上形成有由金屬細線8b構成的多個第2網狀電極10。其中，第1網狀電極9是在薄膜形成區域A內分別沿著TD方向延伸而且沿MD方向並列配置形成的，第2網狀電極10是在薄膜形成區域A內分別沿著MD方向延伸而且沿TD方向並列配置形成的。

其中，第1網狀電極9和第2網狀電極10的形成方法沒有特殊限制，例如能夠採用日本特開2011-129501號公報、日本特開2013-149236號公報、日本特開2014-112512號公報等公開的方法。

例如，在支撐體1的表面及背面分別塗覆具有含有感光性鹵化銀鹽的乳劑層的感光材料，將塗覆在該支撐體1上的感光材料曝光並實施顯影處理，由此能夠形成第1網狀電極9和第2網狀電極10。另外，在支撐體1的表面及背面形成金屬箔，在各金屬箔上印刷成圖案狀的抗蝕劑或者整面塗覆抗蝕劑，將該抗蝕劑曝光並顯影來進行圖案化，再對通過圖案化而形成的開口部的金屬進行蝕刻，由此也能夠分別形成第1網狀電極9和第2網狀電極10。此外，第1網狀電極9和第2網狀電極10也能夠利用印刷含有電極材料微粒的膏並在膏上實施金屬鍍敷的方法、以及使用含有電極材料微粒的油墨的噴墨法等方法來形成。

另外，基於視覺辨認性的觀點，金屬細線8a和8b的寬度優選不足7mm，更優選5mm以下。

另外，金屬細線8a和8b例如能夠利用氧化銦錫（ITO）、金（Au）、銀（Ag）及銅（Cu）等材料構成。並且，為了提高抗彎曲性，優選金屬細線8a和8b含有粘結劑成分。關於粘結劑成分，例如能夠使用日本特開2013-149236號公報記載的粘結劑。

然後，在各個第1網狀電極9的兩端形成第1連接器部11，並且在各個第2網狀電極10的兩端形成第2連接器部12。另外，在支撐體1的表面上，如圖5所示，在薄膜形成區域A內形成有與在第1網狀電極9的兩端形成的第1連接器部11中的一方對應的第1外部連接端子13，還形成有連接一方第1連接器部11和與其對應的第1外部連接端子13的第1周邊佈線14。

同樣，在支撐體1的背面上，在薄膜形成區域A內形成有與在第2網狀電極10的兩端形成的第2連接器部12中的一方對應的第2外部連接端子15，還形成有連接一方第2連接器部12和與其對應的第2外部連接端子15的第2周邊佈線16。

其中，第1連接器部11、第1外部連接端子13及第1周邊佈線14能夠利用與第1網狀電極9相同的方法形成，也可以與第1網狀電極9同時形成。同樣，第2連接器部12、第2外部連接端子15及第2周邊佈線16能夠利用與第2網狀電極10相同的方法形成，也可以與第2網狀電極10同時形成。

另外，通過在薄膜形成區域A中進行裁切，能夠得到觸摸感測器膜。如上所述，通過以對支撐體1的動態玻化溫度加上35℃後的溫度以下的溫度對支撐體1進行退火處理，能夠抑制在支撐體1產生多條筋狀的皺褶W，能夠抑制隨之形成的網狀電極的位置偏移，並防止莫爾條紋的產生。

另外，優選在觸摸感測器膜的表面上及背面上形成如圖6所示的保護層17a和17b。其中，保護層17a和17b用於保護第1網狀電極9及第2網狀電極10等的導電部分，例如可以利用玻璃、聚碳酸酯（PC）、聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET）等材料構成。另外，也可以在保護層17a和17b的表面設置硬塗層和防反射層等。

［觸摸感測器膜］

本發明的觸摸感測器膜具有厚度不足80mm的透明的支撐體、和配置在支撐體的表面上並具有由金屬細線構成的網格圖案的網狀電極，支撐體在MD方向的熱收縮率的絕對值在0.6%以內、而且在TD方向的熱收縮率的絕對值在0.2%以內，並且表面凹凸形狀的10點平均粗糙度在6.1mm以下。

圖7示出觸摸感測器膜的一例。該觸摸感測器膜是利用上述的觸摸感測器膜的製造方法得到的，包括矩形狀的具有撓性的透明的支撐體1，如上所述在支撐體1的表面上配置有第1網狀電極9、第1連接器部11、第1外部連接端子13及第1周邊佈線14，在支撐體1的背面上配置有第2網狀電極10、第2連接器部12、第2外部連接端子15及第2周邊佈線16。

其中，支撐體1被以對支撐體1的動態玻化溫度加上35℃後的溫度以下的溫度實施了退火處理，因而形成為在MD方向的熱收縮率的絕對值在0.6%以內、而且在TD方向的熱收縮率的絕對值在0.2%以內，並且表面凹凸形狀的10點平均粗糙度（Rz）在6.1mm以下。

這樣，通過將支撐體1在MD方向的熱收縮率的絕對值設在0.6%以內、而且在TD方向的熱收縮率的絕對值設在0.2%以內，並且將表面凹凸形狀的10點平均粗糙度（Rz）設為6.1mm以下，能夠抑制在支撐體1產生多條筋狀的皺褶W。因此，能夠抑制觸摸感測器膜中的網狀電極的位置偏移，並防止莫爾條紋的產生。

另外，優選支撐體1的表面凹凸形狀的10點平均粗糙度在4.5mm以下。

［控式螢幕］

下面，詳細說明本發明的觸控式螢幕。

該觸控式螢幕具有上述的觸摸感測器膜，因而例如能夠如圖8所示由形成有保護層17a和17b的觸摸感測器膜21、和檢測部22構成，檢測部22通過第1外部連接端子13及第2外部連接端子15與觸摸感測器膜21的第1網狀電極9及第2網狀電極10連接，能夠在觸摸感測器膜21的背面側安裝顯示裝置L來使用。

檢測部22由電子電路構成，在手指等觸摸了觸摸感測器膜21時，該電子電路捕捉靜電電容的變化來檢測接觸位置。

另外，顯示裝置L是用於顯示彩色圖像和單色圖像等的裝置，例如由液晶顯示器等構成。觸摸感測器膜21以鋪設狀態安裝在該顯示裝置L上，因而當在觸摸感測器膜21的支撐體1上產生多條筋狀的皺褶W時，在第1網狀電極9和第2網狀電極10產生位置偏移。在本發明的觸摸感測器膜21中，支撐體1形成為表面凹凸形狀的10點平均粗糙度（Rz）達到6.1mm以下，抑制在支撐體1產生的多條筋狀的皺褶W。因此，能夠抑制第1網狀電極9和第2網狀電極10的位置偏移，防止觸控式螢幕中的莫爾條紋的產生。

［實施例］

下面，根據實施例更詳細地說明本發明。以下的實施例所示的材料、使用量、比率、處理內容、處理步驟等能夠在不脫離本發明的宗旨的範圍內進行適當變更。因此，本發明的範圍不得利用以下示出的實施例進行限定性解釋。

（實施例1）

＜支撐體的退火處理＞

支撐體使用由聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET）構成、而且動態玻化溫度為115℃的75mm厚的長尺寸板（光學級高透明膜（Cosmoshine）A4300，東洋紡株式會社製）。支撐體如圖1所示在經由輸送裝置輸送的過程中被實施退火處理，在輸送裝置中依次配置了送出輥2、烘箱7前方的軌道輥4、烘箱（加熱器）7、烘箱7後方的第1軌道輥5、烘箱7後方的第2軌道輥6。

具體而言，以60m/min的速度輸送支撐體，在具有被設定為150℃的總長16m的退火處理室N的烘箱7中，對支撐體實施了10秒~30秒的退火處理。此時，在軌道輥4和軌道輥5之間的區間中，以40N/m的牽力輸送支撐體。然後，通過軌道輥5和6在被保持為室溫的區間L1及L2中輸送支撐體。此時，在支撐體即將到達軌道輥5之前（即區間L1）測定支撐體的溫度，確認該溫度低於支撐體的靜態玻化溫度即75℃。另外，軌道輥5和6不進行溫度控制，以使區間L1的距離為1m、區間L2的距離為50cm的方式設置。

在這樣對支撐體實施退火處理後，通過電暈放電處理對其兩面進行表面親水化處理。另外，圖1是圖示在對支撐體實施退火處理時最小必要限度的功能單元的圖，實際上能夠裝配具有塗裝功能等其它功能的功能單元和其它軌道輥等。另外，在後述的實施例2~28中，適時地對在從軌道輥4到軌道輥5之間施加給支撐體的牽力和輸送速度進行調整，以達到退火處理後的支撐體面狀為最好的條件。

＜網狀電極的形成＞

（鹵化銀乳劑的調製）

在被保持為38℃、pH4.5的下述1號液中添加與下述的2號液及3號液各自的90%相當的量並同時攪拌達20分鐘，形成了0.16mm的核粒子。然後，添加下述的4號液及5號液達8分鐘，再添加下述的2號液及3號液的剩餘10%的量達2分鐘，使其成長至0.21mm。另外，添加碘化鉀0.15g使其熟化5分鐘，結束粒子形成。

1號液：

水 750ml

凝膠 9g

氯化鈉 3g

1，3-二甲基咪唑烷-2-硫磺 20mg

苯硫代磺酸鈉 10mg

檸檬酸 0.7g

2號液：

水 300ml

硝酸銀 150g

3號液：

水 300ml

氯化鈉 38g

溴化鉀 32g

六氯合鉑（III）酸鉀（0.005%KCl 20%水溶液）8ml

銨六氯銥（0.001%NaCl 20%水溶液）10ml

4號液：

水 100ml

硝酸銀 50g

5號液：

水 100ml

氯化鈉 13g

溴化鉀 11g

亞鐵氰化鉀 5mg

然後，按照常規方法利用絮凝法進行水洗。具體而言，將溫度降低至35℃，使用硫酸使pH下降一直到鹵化銀沉澱（pH3.6±0.2的範圍）。然後，去除上澄液約3升（第一水洗）。再添加3升的蒸餾水，然後添加硫酸一直到鹵化銀沉澱。再次去除上澄液3升（第二水洗）。再反復一次與第二水洗相同的操作（第三水洗），結束水洗/脫鹽工序。將水洗/脫鹽後的乳劑調整為pH6.4、pAg7.5，添加3.9g凝膠、10mg 苯硫代磺酸鈉、3mg苯硫代亞磺酸鈉、10mg硫代硫酸鈉和15mg氯化金酸，實施化學增感，以在55℃得到最優靈敏度，添加100mg的1，3，3a，7-C₆ H₅ ClN₄ 作為穩定劑，添加100mg PROXEL（商品名，ICI有限公司製）作為防腐劑。最終得到的乳劑是包含0.08摩爾%的碘化銀，將氯溴化銀的比率設為氯化銀70摩爾%，溴化銀30摩爾%，平均粒徑0.22μm、變動係數9%的碘氯溴化銀立方體粒子乳劑。

（感光層形成用組成物的調製）

在上述乳劑中添加1，3，3a，7-C₆ H₅ ClN₄ 1.2×10^-4 摩爾/摩爾Ag、對苯二酚1.2×10^-2 摩爾/摩爾Ag、檸檬酸3.0×10^-4 摩爾/摩爾Ag、2，4-二氯-6-羥基-1，3，5-三嗪鈉鹽0.90g/摩爾Ag，使用檸檬酸，將塗布液pH調整為5.6，得到感光層形成用組合物。

（感光層形成工序）

在實施了退火處理的支撐體的兩面上設置0.1mm厚的凝膠層作為基底塗層，在基底塗層上設置包含光學濃度約為1.0、通過顯影液的堿而脫色的染料的抗光暈層。在上述抗光暈層上塗覆上述感光層形成用組成物，再設置0.15mm厚的凝膠層，得到了兩面形成有感光層的支撐體。將兩面形成有感光層的支撐體作為薄膜A。所形成的感光層為銀量6.0g/m² 、凝膠量1.0g/m² 。

（曝光顯影工序）

在上述薄膜A的兩面，通過與上述圖4的電極圖案對應的光掩膜，使用以高壓水銀燈為光源的平行光進行了曝光。在曝光後，利用下述的顯影液進行顯影，再使用定影液（商品名：CN16X用N3X-R、富士膠片公司製）進行了顯影處理。再用純水清洗並烘乾，由此得到了在兩面形成有由Ag細線構成的電極圖案和凝膠層的支撐體。凝膠層形成於Ag細線之間。將所得到的薄膜作為薄膜B。

（顯影液的組成）

在1升（L）顯影液中含有以下的化合物。

氧化醌 0.037mol/L

N-甲基氨基苯酚 0.016mol/L

偏硼酸鈉 0.140mol/L

氰化鈉 0.360mol/L

溴化鈉 0.031mol/L

焦亞硫酸鉀 0.187mol/L

（加熱工序）

將上述薄膜B靜置在120℃的過熱蒸汽槽中130秒，進行了加熱處理。將加熱處理後的薄膜作為薄膜C。

（凝膠分解處理）

將薄膜C浸漬在蛋白質分解酶（Nagase chemteX公司製Bioplase AL－15FG）的水溶液（蛋白質分解酶的濃度：0.5品質%、液溫：40℃）中120秒。從水中取出薄膜C，浸漬在溫水（液溫：50℃）中120秒進行清洗。將凝膠分解處理後的薄膜作為薄膜D。該薄膜D是觸摸感測器膜。

（實施例2）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為140℃，除此以外利用與實施例1相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例3）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為130℃，除此以外利用與實施例1相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例4）

使用50mm厚的支撐體，除此以外利用與實施例1相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例5）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為140℃，除此以外利用與實施例4相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例6）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為130℃，除此以外利用與實施例4相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例7）

使用38mm厚的支撐體，除此以外利用與實施例1相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例8）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為140℃，除此以外利用與實施例7相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例9）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為130℃，除此以外利用與實施例7相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例10）

使用25mm厚的支撐體，除此以外利用與實施例1相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例11）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為140℃，除此以外利用與實施例10相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例12）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為130℃，除此以外利用與實施例10相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例13）

在利用下述所示的方法，對由作為支撐體使用的聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET）構成、而且動態玻化溫度為115℃的75mm厚的長尺寸板（光學級高透明膜（Cosmoshine）A4300，東洋紡株式會社製）進行指示誤差掃描熱量測定（DSC）和動態粘彈性測定（DMA）時，靜態玻化溫度為75℃、動態玻化溫度為115℃。因此，在支撐體的退火處理工序中，在通過烘箱7後，以靜態玻化溫度（75℃）以上、而且低於動態玻化溫度（115℃）的溫度將支撐體一直輸送到第一條軌道輥5，在從第一條軌道輥5到第二條軌道輥6的期間將支撐體的溫度降溫至低於靜態玻化溫度（75℃），除此以外利用與實施例1相同的方法，製造了觸摸感測器膜。在實施基於上述條件的退火處理時，實施了在區間L1、區間L2中調整溫度環境以達到上述的溫度履歷的控制。

DCS的測定是使用SII奈米科技株式會社製DSC7200等進行的。測定條件如下：以10℃/1分鐘的速度將支撐體從25℃升溫至300℃，然後將支撐體的溫度保持在300℃達10分鐘後，以-50℃/1分鐘的速度從300℃降溫至-50℃，將支撐體的溫度保持在-50℃達10分鐘。然後，以10℃/1分鐘的速度將支撐體從-50℃升溫至300℃，以0.5秒間隔測定此時的支撐體的指示誤差熱量（DSC）。通過測定得到的DSC的溫度依賴曲線在圖9中示出。如圖9所示，隨著支撐體的升溫，在溫度依賴曲線D中出現拐點F（向上凸出的曲線變為向下凸出的曲線的點）。因此，求出從該拐點F以接觸低溫側的溫度依賴曲線的方式引出的基線E1、和拐點F的切線E2的交點S，將對應該交點S的溫度作為靜態玻化溫度（靜態Tg）。

另外，DMA的測定是使用SII奈米科技株式會社製的DMS6200等、以正弦波模式將支撐體拉伸來進行的。測定條件如下：以5℃/1分鐘的速度將支撐體從25℃升溫至220℃，然後保持在220℃達5分鐘。以1Hz對支撐體施加應力，每30秒鐘取樣測定資料。測定結果是得到了貯存彈性率、損失彈性率、tand（=損失彈性率÷貯存彈性率）的溫度依賴性。將tand向上凸出的峰值溫度作為動態玻化溫度（動態Tg）。

（實施例14）

使用50mm厚的支撐體，除此以外利用與實施例13相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例15）

使用38mm厚的支撐體，除此以外利用與實施例13相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例16）

使用25mm厚的支撐體，除此以外利用與實施例13相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例17）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為140℃，除此以外利用與實施例13相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例18）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為140℃，除此以外利用與實施例14相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例19）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為140℃，除此以外利用與實施例15相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例20）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為140℃，除此以外利用與實施例16相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例21）

在支撐體的退火處理中，將輸送裝置的軌道輥5和軌道輥6的間隔設為20cm，除此以外利用與實施例13相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例22）

使用50mm厚的支撐體，除此以外利用與實施例21相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例23）

使用38mm厚的支撐體，除此以外利用與實施例21相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例24）

使用25mm厚的支撐體，除此以外利用與實施例21相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例25）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為140℃，除此以外利用與實施例21相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例26）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為140℃，除此以外利用與實施例22相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例27）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為140℃，除此以外利用與實施例23相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（實施例28）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為140℃，除此以外利用與實施例24相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（比較例1）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為170℃，除此以外利用與實施例1相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（比較例2）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為160℃，除此以外利用與實施例1相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（比較例3）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為170℃，除此以外利用與實施例4相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（比較例4）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為160℃，除此以外利用與實施例4相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（比較例5）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為170℃，除此以外利用與實施例7相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（比較例6）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為160℃，除此以外利用與實施例7相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（比較例7）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為170℃，除此以外利用與實施例10相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

（比較例8）

在支撐體的退火處理中，將烘箱7的溫度設為160℃，除此以外利用與實施例10相同的方法，製作了觸摸感測器膜。

＜評價方法＞

（表面凹凸形狀的測定）

將觸摸感測器膜裁切為20cm見方，以不產生皺褶的方式水準放置在平滑的測定臺上。此時，觸摸感測器膜在不固定緣部等的狀態下水準放置在測定臺上。然後，利用掃描型鐳射移位元計（三谷商事株式會社製，NAZCA-3D）對以觸摸感測器膜的中央為中心的10cm見方的範圍進行高度測定，由此將觸摸感測器膜的表面凹凸形狀定量化。其中，掃描型鐳射移位元計的測定條件如下：沿相互垂直的X軸和Y軸這兩個方向設定掃描方向，設鐳射光束的直徑為0.07mm，設測定間距為1mm。另外，將X軸方向設定為順著在觸摸感測器膜產生的沿MD方向延伸的多條筋狀的皺褶的方向，將Y軸設定為與多條筋狀的皺褶垂直的方向。

將這樣得到的任意的測定位置（X_i 、Y_j ）的表面高度測定值設為F（X_i 、Y_j ），根據下述式（1）計算在測定點Y_j 通過的X軸上的表面高度測定值F（X₁ 、Y_j ）、F（X₂ 、Y_j ）、…F（X_Nx 、Y_j ）的平均值F（Y_j ）。其中，N_x 表示X軸上的測定點個數，在該測定中是100。

［數式1］

通過對Y軸的各個Y₁ 、Y₂ 、…Y₁₀₀ 計算上述的表面高度的平均值F（Y₁ ）、F（Y₂ ）、…F（Y₁₀₀ ），能夠得到平均的Y軸方向的表面高度的變化。圖10示出了表示表面高度的平均值F（Y_j ）相對於Y軸位置的變化的曲線的一例。其中，表面高度的平均值F（Y_j ）以大約50mm的間距P上下大幅變化，這表示在將觸摸感測器膜水準放置在測定臺上時由於空氣進入測定台和觸摸感測器膜之間等的外部干擾，使得測定值產生了較大的變化，並非表示在觸摸感測器膜實際產生的筋狀的皺褶W。因此，實施移動平均處理，以便排除測定上的外部干擾。

具體而言，例如在對測定點Y₁₀ 求出Y軸上的測定點Y_j 前後7個的測定點（位於寬幅15mm內的測定點）的移動平均值Fa（Y_j ）的情況下，根據下述式（2）計算測定點Y₃ ~ Y₁₇ 的移動平均值Fa（Y₁₀ ）。

［數式2］

通過對Y軸上的各個測定點Y₇ 、Y₂ 、…Y₉₃ 計算寬幅15mm的移動平均值Fa（Y₇ ）、Fa（Y₈ ）、…Fa（Y₉₃ ），能夠僅提取出起因於外部干擾的表面高度的大幅變化。即，通過對諸如幾乎包含了在觸摸感測器膜產生的筋狀的皺褶W的寬幅在內的15mm寬幅計算移動平均值Fa（Y_j ），能夠抵消起因於筋狀的皺褶W的凹凸的變化，僅提取出起因於外部干擾的表面高度的大幅變化。

圖10示出了表示表面高度的移動平均值Fa（Y_j ）相對於Y軸位置的變化的曲線的一例。通過計算這樣求出的表面高度的平均值F（Y_j ）與表面高度的移動平均值Fa（Y_j ）的差分，提取出因觸摸感測器膜的筋狀的皺褶W而引起的表面高度的變化。圖11示出了表示計算表面高度的平均值F（Y_j ）與表面高度的移動平均值Fa（Y_j ）的差分而得到的皺褶W的高度Hy（Y）的位移的曲線的一例。在此，可知起因於筋狀的皺褶的凹凸是以10mm~20mm的間距產生的。

然後，計算起因於所得到的筋狀的皺褶W的表面凹凸形狀的10點平均粗糙度（Rz），由此求出在觸摸感測器膜產生的筋狀的皺褶W的程度。其中，10點平均粗糙度（Rz）能夠用下式（3）表示。

Rz=ïHyp1+Hyp2+Hyp3+Hyp4+Hyp5ï/5+ïHyv1+Hyv2+Hyv3+Hyv4+Hyv5ï/5 ……（3）

在此，計算將圖11的皺褶W的高度Hy（Y）在規定的基準範圍內平均化而得到的皺褶W的高度的平均值V，用Hyp1~Hyp5表示包含在該基準範圍中的皺褶的高度Hy（Y）中從最高的值起到第5高的值，用Hyv1~Hyv5表示從最低的值起到第5低的值。

其結果在下述表1和表2中示出。

（熱收縮率的評價）

將觸摸感測器膜水準放置在150℃烘箱7內的狀態下進行30分鐘的加熱處理，從烘箱7中取出並放置在室溫下1分鐘，然後在調節為溫度23℃、濕度55%的環境下放置1小時，對觸摸感測器膜進行調濕後，通過加熱處理前後的尺寸比較來測定熱收縮率。具體而言，分別測定了支撐體在機械流程方向（MD方向）和橫向（TD方向）的熱收縮率。在此示出了在觸摸感測器膜的熱收縮率越低時剛性越高，並求出了在實際應用中MD方向的熱收縮率的絕對值為0.6%以下、TD方向的熱收縮率的絕對值為0.2%以下。另外，尺寸測定是利用塞規法進行的。

其結果在下述表1和表2中示出。

（莫爾條紋的視覺辨認性評價）

通過光學用透明粘接劑（OCA）將作為評價對象的觸摸感測器膜貼合在液晶顯示器（LCD）上製作了觸控式螢幕，在使周邊的光環境變暗、並且白色顯示LCD的狀態下，從各個角度觀察顯示器，由此評價莫爾條紋的視覺辨認性。在貼合了由圖案設計成最適合於LCD的圖元圖案的網格圖案構成的觸摸感測器膜的情況下，將幾乎視覺辨認不到莫爾條紋時的評價點數設為5點，將視覺辨認到極少數莫爾條紋時的評價點數設為4點，將容易視覺辨認出莫爾條紋時的評價點數設為3點，將能夠容易視覺辨認到莫爾條紋時的評價點數設為2點，將馬上就能視覺辨認到莫爾條紋時的評價點數設為1點，把對10名觀察者的評價結果進行平均而得到的點數作為各個觸摸感測器膜的莫爾條紋視覺辨認性的評價點數。即，如果評價點數為4點以上，則評價為在實際應用中莫爾條紋不會成為問題。

其結果在下述表1和表2中示出。

［表1］

根據表1所示的結果可知，以對支撐體的動態玻化溫度加上35℃後的溫度以下的溫度、對厚度不足80mm的支撐體進行了退火處理的實施例1~12，與以比對支撐體的動態玻化溫度加上35℃後的溫度高的溫度、對厚度不足80mm的支撐體進行了退火處理的比較例1~8相比，表面凹凸形狀的Rz示出了6.1mm以下的較低的值，與其對應的莫爾條紋的視覺辨認性示出了4.0以上的較高的值。

另外，以對支撐體的動態玻化溫度加上35℃後的溫度以下的溫度、對厚度不足80mm的支撐體進行了退火處理的實施例1~12，在MD方向的熱收縮率的絕對值在0.6%以內、在TD方向的熱收縮率的絕對值在0.2%以內，可知能夠得到規定的剛性。

［表2］

根據表2所示的結果可知，在退火處理後以支撐體的靜態玻化溫度以上而且是低於動態玻化溫度的溫度將支撐體輸送到第一條軌道輥，並且在第一條軌道輥與第二條軌道輥之間將支撐體降溫至低於靜態玻化溫度的實施例13~20，與不進行上述處理的表1的實施例1、2、4、5、7、8、10及11相比，表面凹凸形狀的Rz示出了5.3mm以下的較低的值，與其對應的莫爾條紋的視覺辨認性示出了4.7以上的較高的值。

［表3］

根據表3所示的結果可知，將第一條軌道輥和第二條軌道輥之間的間隔設為20cm的實施例21~28，與將第一條軌道輥和第二條軌道輥之間的間隔設為50cm的表2的實施例13~20相比，表面凹凸形狀的Rz示出了4.5mm以下的較低的值，與其對應的莫爾條紋的視覺辨認性全部示出了高達5.0的值。

以上所舉者僅係本發明之部份實施例，並非用以限制本發明，致依本發明之創意精神及特徵，稍加變化修飾而成者，亦應包括在本專利範圍之內。

綜上所述，本發明實施例確能達到所預期之使用功效，又其所揭露之具體技術手段，不僅未曾見諸於同類產品中，亦未曾公開於申請前，誠已完全符合專利法之規定與要求，爰依法提出發明專利之申請，懇請惠予審查，並賜准專利，則實感德便。

1‧‧‧支撐體

2‧‧‧送出輥

3‧‧‧卷取輥

4、5、6‧‧‧軌道輥

7‧‧‧烘箱(加熱器)

8a、8b‧‧‧金屬細線

9‧‧‧第1網狀電極

10‧‧‧第2網狀電極

11‧‧‧第1連接器部

12‧‧‧第2連接器部

13‧‧‧第1外部連接端子

14‧‧‧第1周邊佈線

15‧‧‧第2外部連接端子

16‧‧‧第2周邊佈線

17a、17b‧‧‧保護層

21‧‧‧觸摸感測器膜

L‧‧‧顯示裝置

22‧‧‧檢測部

31‧‧‧支撐體

32‧‧‧金屬細線

A‧‧‧薄膜形成區域

N‧‧‧退火處理室

L1、L2‧‧‧區間

D‧‧‧溫度依賴曲線

F‧‧‧拐點

E1‧‧‧基線

E2‧‧‧拐點的切線

S‧‧‧交點

P‧‧‧間距

W‧‧‧皺褶

圖1是示出本發明的觸摸感測器膜的製造方法的圖。

圖2是示出在支撐體上形成了多條金屬細線的狀態的剖視圖。

圖3是示出由金屬細線構成的網格圖案的俯視圖。

圖4是示出在支撐體上形成了多個網狀電極的狀態的俯視圖。

圖5是示出在支撐體上形成了外部連接端子和周邊佈線的狀態的俯視圖。

圖6是示出形成了保護層的觸摸感測器膜的剖視圖。

圖7是示出本發明的觸摸感測器膜的俯視圖。

圖8是示出本發明的觸控式螢幕的剖視圖。

圖9是示出靜態玻化溫度的計算方法的曲線圖。

圖10是示出表面高度的平均值相對於Y軸位置的變化的曲線圖。

圖11是示出筋狀的皺褶的高度相對於Y軸位置的變化的曲線圖。

圖12是示出通過退火處理在支撐體產生的多條筋狀的皺褶的俯視圖。

圖13是示出在支撐體上形成的金屬細線的位置由於將筋狀的皺褶拉伸而偏移的狀態的剖視圖。

Claims

一種觸摸感測器膜，其特徵在於，所述觸摸感測器膜具有：厚度不足80mm的透明的支撐體；以及網狀電極，其配置在所述支撐體的表面上，具有由金屬細線構成的網格圖案，設置有所述網狀電極的支撐體在機械流程方向上的熱收縮率的絕對值在0.6%以內、而且與所述機械流程方向垂直的橫向上的熱收縮率的絕對值在0.2%以內，並且表面凹凸形狀的10點平均粗糙度在6.1mm以下。
如申請專利範圍第1項所述的觸摸感測器膜，其中，表面凹凸形狀的10點平均粗糙度在4.5mm以下。
如申請專利範圍第1或2項所述的觸摸感測器膜，其中，所述支撐體的厚度不足50mm。
一種觸控式螢幕，其特徵在於，所述觸控式螢幕具有如申請專利範圍第1~3項中任意一項所述的觸摸感測器膜。