TW201912411A - 觸控面板用導電部件及觸控面板 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種高精細並且高靈敏度的觸控面板用導電部件及觸控面板。觸控面板用導電部件具有形成在基板上且相對於第1方向平行地延伸之第1電極，第1電極係由金屬細線組成之複數個第1網格單元電連接而構成者，金屬細線相對於第1方向並不呈水平或垂直。第1電極具有至少一根輔助金屬細線，該輔助金屬細線沿第1方向延伸，與金屬細線交叉，並且與金屬細線電連接，且不與金屬細線平行。第1電極的與第1方向正交之第2方向的電極寬度Wa與第2方向上的第1網格單元的第1網格間距P1係Wa≤2.5P1。

Description

觸控面板用導電部件及觸控面板
本發明係有關一種觸控面板用導電部件及觸控面板，該觸控面板用導電部件具備電極，該電極具有由金屬細線組成之複數個網格單元和至少一根與網格單元的金屬細線電連接之輔助金屬細線。
作為觸控的檢測電極而具有使用了金屬細線之網狀電極之觸控面板相對於將由ITO（Indium Tin Oxide：銦錫氧化物）構成之透明電極使用在檢測電極之觸控面板，能夠實現低電阻及低寄生電容。因此，當利用使用了金屬細線之網狀電極時，能夠得到高靈敏度的觸控面板。藉此，最近廣泛採用具有使用了金屬細線之網狀電極之觸控面板，且備受矚目。
專利文獻1中記載有一種觸控面板，該觸控面板具有使用了金屬細線之網狀電極。專利文獻1的觸控面板藉由將配置於上側之第2電極的網格單元的平均單元間距設定為隔著絕緣層配置於下側之第1電極的網格單元的平均單元間距的2倍以上且8倍以下的整數倍而提高觸控檢測。
又，具有使用了金屬細線之網狀電極之觸控面板中，為了即使是前端直徑比指尖細之觸控筆亦可得到高位置檢測精度（高精細化），當前正進行檢測電極的電極寬度的微細化，亦即電極寬度的窄幅化。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2015-108884號公報
如上述，使用了適應了檢測電極的電極寬度的微細化亦即窄幅化之網狀電極之觸控面板中，判明因金屬細線的斷線等，檢測電極被絕緣化，無法檢測觸控而不作為觸控面板發揮功能之情況多。然而，現狀為無法抑制因檢測電極的窄幅化而產生之檢測電極的絕緣化，且成為低靈敏度。因此，期待一種即使將檢測電極窄幅化之情況下，亦具有高靈敏度的網狀電極之觸控面板。
本發明的目的為解決基於前述先前技術之問題點，並提供一種高精細並且高靈敏度的觸控面板用導電部件及觸控面板。
為了實現上述目的，本發明提供一種觸控面板用導電部件，其特徵為，具有基板和形成在基板上且相對於第1方向平行地延伸之第1電極，第1電極係由金屬細線組成之複數個第1網格單元電連接而構成者，金屬細線與第1方向所成之角θ係0°＜θ＜90°或90°＜θ＜180°，第1電極具有至少一根輔助金屬細線，該輔助金屬細線沿第1方向延伸，與金屬細線交叉，並且與金屬細線電連接，輔助金屬細線與金屬細線所成之角β均為0°＜β＜180°，第1電極中，當將與第1方向正交之第2方向的最小寬度亦即電極寬度設為Wa，將第2方向上的第1網格單元的第1網格間距設為P1 時，係Wa≤2.5P1 ，第1網格間距P1 係於第2方向上彼此相鄰之兩個第1網格單元的重心之間的第2方向上的距離的平均值，當第1網格單元於第1電極內未沿第2方向而相鄰排列配置有兩個時，將使用沿延伸方向延伸構成第1網格單元之金屬細線而形成之延長線而包圍之封閉形狀的虛擬重心作為第1網格單元的重心。
第2方向的第1電極的電極寬度Wa與第1網格間距P1 係Wa≤1.5P1 為較佳。 輔助金屬細線配置在第1電極的第2方向上的電極外輪廓部為較佳。 輔助金屬細線的線寬度與金屬細線的線寬度不同為較佳。 輔助金屬細線的線寬度比金屬細線的線寬度窄為較佳。 輔助金屬細線的線寬度比金屬細線的線寬度寬為較佳。 第1電極僅具有一根輔助金屬細線為較佳。 輔助金屬細線係直線，並且與第1方向平行為較佳。 又，提供一種觸控面板，其特徵為，具有上述的本發明的觸控面板用導電部件。 觸控面板具有不透明的裝飾層，俯視觀察時，觸控面板用導電部件的輔助金屬細線與裝飾層重疊為較佳。 [發明效果]
依本發明，能夠得到一種高精細並且高靈敏度的觸控面板用導電部件及觸控面板。
以下，基於圖式所示之較佳實施形態，對本發明的觸控面板用導電部件及觸控面板進行詳細說明。 此外，以下進行說明之圖係用於對本發明進行說明之例示者，但本發明並不限定於以下所示之圖。 此外，以下表示數值範圍之“～”包括記載在其兩側之數值。例如，ε係數值α～數值γ是指，ε的範圍係包括數值α和數值γ之範圍，若以數學符號表示則係α≤ε≤γ。 除非另有說明，則“以具體的數值表示之角度”、“平行”、“垂直”及“正交”等角度包括於對應的技術領域中通常允許之誤差範圍。 又，“相同”包括於對應的技術領域中通常允許之誤差範圍。又，“全部”、“均”或“整面”等包括於對應的技術領域中通常允許之誤差範圍。 透明是指，透光率於波長380～780 nm的可見光波長區域係40%以上，較佳為80%以上，更佳為90%以上。 透光率係利用例如於JIS（日本工業標準）K 7375：2008中規定之“塑料-總光線透過率及總光線反射率的求出方法”測定者。
圖1係表示具有本發明的實施形態的觸控面板用導電部件之觸控面板之示意性剖視圖，圖2係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的觸控面板的一例之示意性剖視圖。圖3係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的第1電極的構成之示意圖，圖4係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的第2電極的構成之示意圖，圖5係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的第1電極與第2電極的構成之示意圖。此外，圖1中，省略圖2所示之透明層50與覆蓋層52的圖示。 圖1所示之觸控面板10係具有觸控面板用導電部件11者，如圖2所示，於觸控面板用導電部件11上積層有透明層50與覆蓋層52。覆蓋層52的表面52a係觸控面板10的觸控面，且成為操作面。此外，觸控面是指，檢測手指或觸控筆等的接觸之面。 例如，觸控面板10與顯示面板（未圖示）重疊而配置，但於該情況下，覆蓋層52的表面52a成為顯示在顯示面板的顯示區域（未圖示）之顯示物（未圖示）的視覺辨認面。 此外，雖未圖示，但覆蓋層52中可以設置後述之用於隱藏周邊配線之不透明的裝飾層。
如圖1所示，觸控面板用導電部件11具有基板12和複數個形成在基板12的表面12a且沿第1方向D1平行地延伸之第1電極14。第1電極14係作為檢測電極發揮功能者，如圖3所示，由網狀電極構成，該網狀電極係由金屬細線30組成之複數個第1網格單元32電連接而成。 如圖1及圖2所示，複數個第1電極14沿與第1方向D1正交之第2方向D2彼此隔開間隔而並行，並且彼此電絕緣而配置。於基板12的表面12a的第1方向D1的邊緣部12c形成有複數個第1外部連接端子15。複數個第1外部連接端子15與複數個第1電極14分別藉由複數個第1周邊配線17而電連接。
如圖1及圖2所示，於基板12的背面12b形成有複數個沿第2方向D2平行地延伸之第2電極16。第2電極16係與第1電極14同樣地作為檢測電極發揮功能者，如圖4所示，由網狀電極構成，該網狀電極係由金屬細線30組成之複數個第2網格單元32a電連接而成。 如圖1所示，複數個第2電極16沿第1方向D1彼此隔開間隔而並行，並且彼此電絕緣而配置。於基板12的背面12b的第1方向D1的邊緣部12c形成有複數個第2外部連接端子18。複數個第2外部連接端子18與複數個第2電極16分別藉由複數個第2周邊配線19而電連接。
複數個第1電極14與複數個第2電極16藉由基板12彼此被電絕緣。俯視觀察時，第1電極14與第2電極16重疊而配置之區域係感應區域E。感應區域E係能夠於觸控面板10中檢測到手指等的接觸亦即觸控的感應區域。 此外，圖5表示俯視觀察第1電極14與第2電極16的重疊部時看到的圖。於重疊部，以藉由第1電極14的金屬細線30與第2電極16的金屬細線30形成與第1網格單元32及第2網格單元32a不同之新的網格單元之方式進行配置。
如圖1所示，第1電極14於第2方向D2上具有電極寬度Wa。此外，電極寬度Wa定義為，對於各個第1電極14而言在第2方向D2上的各自的最小寬度。圖1中，配置於基板12的表面12a側的第2方向D2上的邊緣部12e與邊緣部12f亦即第2方向D2上的最外側之最外的第1電極14的第2方向D2上的電極寬度Wa比其他第1電極14的電極寬度Wa窄。藉由將電極寬度Wa窄之第1電極14配置於第2方向D2上的邊緣部12e與邊緣部12f亦即第2方向D2上的最外側，能夠提高寄生電容的減少和電極的寄生電容的均勻性，並能夠使觸控面板10的感應區域E內的檢測靈敏度均勻。 電極寬度Wa窄之第1電極14的配置位置並不限定於邊緣部12e與邊緣部12f亦即第2方向D2上的最外側，由於如上述能夠使感應區域E內的檢測靈敏度均勻而配置於邊緣部12e與邊緣部12f為較佳。
又，如圖1所示，第2電極16具有第1方向D1的電極寬度Wb。此外，電極寬度Wb定義為，對於各個第2電極16而言在第1方向D1上的各自的最小寬度。電極寬度Wb並不是在所有的第2電極16均相同，例如配置於第1方向D1上的最外側之第2電極16可以較窄。關於第2電極16亦同樣地，藉由將電極寬度Wb窄之第2電極16配置於最外側，能夠提高寄生電容的減少和電極的寄生電容的均勻性，並能夠使觸控面板10的感應區域E內的檢測靈敏度均勻。 電極寬度Wb窄之第2電極16的配置位置並不限定於最外側，由於如上述能夠使感應區域E內的檢測靈敏度均勻而配置於最外側為較佳。
複數個第1外部連接端子15與控制器20藉由配線21而電連接。複數個第2外部連接端子18與控制器20藉由配線22而電連接。 控制器20由觸控感測器的檢測中所使用之公知者構成。當觸控面板10係靜電電容方式時，藉由手指等對觸控面亦即覆蓋層52的表面52a的接觸，由控制器20檢測出靜電電容發生了變化之位置。包括觸控面板用導電部件11之觸控面板10作為靜電電容方式的觸控面板而被適宜地使用。靜電電容方式的觸控面板中有互電容方式的觸控面板及自電容方式的觸控面板，但尤其作為互電容方式的觸控面板而最適宜。當為互電容方式時，例如將第1電極14用作感測電極，將第2電極16用作驅動電極。 此外，雖未圖示，但可以經由電極端子連接第1電極14與第1周邊配線17，並且可以經由電極端子連接第2電極16與第2周邊配線19。關於該電極端子的形狀，例如能夠使用日本特開2013-127657號公報中所揭示者。
透明層50係光學透明且具有絕緣性者，並且只要能夠穩定地固定觸控面板用導電部件11與覆蓋層52，則其構成並無特別限定。透明層50例如能夠由光學透明的黏著劑（OCA、Optical Clear Adhesive：光學透明黏著劑）及UV（Ultra Violet：紫外線）硬化樹脂等光學透明的樹脂（OCR、Optical Clear Resin：光學透明樹脂）等構成。 覆蓋層52係用於保護觸控面板用導電部件11者。關於覆蓋層52，其構成並無特別限定。覆蓋層52中例如使用平板玻璃及化學強化玻璃等玻璃、聚碳酸酯（PC）、聚對酞酸乙二酯（PET）或聚甲基丙烯酸甲酯樹脂（PMMA）等丙烯酸樹脂。覆蓋層52的表面52a如上述成為觸控面，因此依需要可以於表面12a設置硬塗層。此外，作為覆蓋層52的厚度而使用0.1～1.3 mm，尤其0.1～0.7 mm為較佳。
觸控面板10如上述與顯示面板重疊而配置。顯示面板只要係具備顯示區域（未圖示）者，則並不特別限定。作為顯示面板，例示液晶顯示面板及有機EL（Organic electro luminescence：有機電致發光）顯示面板等。
如圖6所示，第1電極14係由金屬細線30組成之複數個第1網格單元32電連接而構成者。此外，圖6中，省略輔助金屬細線的圖示。 金屬細線30與第1方向D1所成之角θ係0°＜θ＜90°或90°＜θ＜180°。亦即，與第1方向D1平行之直線L與金屬細線30所成之角θ如上述係0°＜θ＜90°或90°＜θ＜180°。金屬細線30並不是相對於第1方向D1水平的線，並且亦不是垂直的線。 較佳的金屬細線30與第1方向D1所成之角θ係10°≤θ≤80°或100°≤θ≤170°，更佳為20°≤θ≤70°或110°≤θ≤160°。金屬細線30與第1方向D1所成之角θ被設定為難以視覺辨認因上述顯示面板的像素圖案與金屬細線30的干擾而產生之疊紋。
金屬細線30與第1方向D1所成之角θ能夠如下得到。首先，關於第1電極14獲取包括金屬細線30之圖像，並將圖像導入個人電腦。藉由個人電腦抽出金屬細線30，並確定金屬細線30與第1方向D1所成之角θ。求出角θ的角度。角θ的角度例如能夠使用市售的圖形軟體等求出。
第1電極14中，將第1電極14的第2方向D2上的第1網格單元32的第1網格間距設為P1 時，電極寬度Wa與第1網格間距P1 係Wa≤2.5P1 ，較佳為Wa≤1.5P1 。藉由縮小第1電極14的電極寬度Wa，能夠提供高精細的觸控面板。第1電極14的電極寬度Wa的下限值係0.5 mm，上限值係3 mm。若小於0.5 mm，則檢測靈敏度會惡化，且無法進行觸控檢測。若大於3 mm則觸控檢測的解析度降低，因此並不為佳。第1電極14係Wa≤2.5P1 ，電極寬度窄且能夠進行高精細的觸控檢測者，但第1電極14內的金屬細線30交叉而形成之交點的數量少。
第1網格間距P1 係於第2方向D2上彼此相鄰之兩個第1網格單元32的重心g之間的第2方向D2上的距離的平均值。對第1網格間距P1 進行說明。 首先，求出位於第1電極14內之所有的第1網格單元32的重心g。此外，當位於第1電極14內之第1網格單元並不是封閉形狀時，如圖6所示，形成延長線33交叉之交點H，該延長線33係沿金屬細線30的延伸方向延伸構成第1網格單元32之金屬細線30而形成的。製作被金屬細線30與延長線33包圍之封閉形狀34，並求出封閉形狀34的虛擬重心。將封閉形狀34的虛擬重心作為第1網格單元32的重心g。亦即，將使用延長線包圍之封閉形狀34假定為第1網格單元，並求出重心，該延長線係沿金屬細線30的延伸方向延伸構成第1網格單元32之金屬細線30而形成的。 相對於配置於第1電極14內且具有重心g之第1網格單元32，求出於第2方向D2上彼此相鄰之兩個第1網格單元32的重心g之間的第2方向D2上的距離。於第2方向D2上彼此相鄰之網格單元並不是共有網格單元的邊而相鄰之網格單元，而是被定義為僅共有網格單元的頂點而相鄰之網格單元。 相對於配置於第1電極14內且具有重心g之所有的第1網格單元32，求出於第2方向D2上彼此相鄰之兩個第1網格單元32的重心g之間的第2方向D2上的距離，並將其平均值作為第1電極的第1網格間距P1 。 此外，當第1網格單元32係相同的尺寸且相同的形狀時，於第2方向D2上彼此相鄰之兩個第1網格單元32的重心g之間的第2方向D2上的距離成為完全相同的值，且成為與第1網格間距P1 相同的值。
圖6所示之第1電極14係Wa=P1 的例。第1網格單元32於第1電極14內未沿第2方向D2而相鄰排列配置有兩個。該情況下，形成延長線33交叉之交點H，該延長線係沿金屬細線30的延伸方向延伸構成第1網格單元32之金屬細線30而形成的。製作被金屬細線30與延長線33包圍之封閉形狀34，並求出封閉形狀34的虛擬重心。將封閉形狀34的虛擬重心作為第1網格單元32的重心g。 相對於於第1電極14內具有重心g之所有的第1網格單元，第1網格單元32的重心g與封閉形狀34的虛擬重心的第2方向D2上的距離或封閉形狀34的虛擬重心彼此的第2方向D2上的距離的平均值係第1網格間距P1 。 第1網格間距P1 的較佳的範圍係100 μm以上且2000 μm以下。從能夠減少電極的寄生電容並能夠進行高靈敏度的檢測之觀點考慮，尤其較佳的範圍係600 μm以上且1600 μm以下。
此外，第1網格單元32的重心g及第1網格間距P1 能夠如下得到。首先，獲取包括第1網格單元32之圖像，並將圖像導入個人電腦。藉由個人電腦延伸金屬細線30並如上述得到封閉形狀34。接著，抽出第1網格單元32和封閉形狀34。接著，求出第1網格單元32的頂點與封閉形狀34的頂點的坐標。接著，利用二維平面的重心位置的求出方法而得到第1網格單元32的重心和封閉形狀34的虛擬重心。 從所得到之第1網格單元32的重心和封閉形狀34的虛擬重心之中抽出沿第2方向D2相鄰而排列之第1網格單元32的重心或封閉形狀34的虛擬重心。求出所抽出之第1網格單元32的重心g與封閉形狀34的虛擬重心的第2方向D2上的距離或封閉形狀34的虛擬重心彼此的第2方向D2上的距離。藉此，能夠得到第1網格間距P1 。
圖7所示之例中，第1電極14具有兩根輔助金屬細線35，該輔助金屬細線35沿第1方向D1延伸，與金屬細線30交叉，並且與金屬細線30電連接。圖7所示之例中，兩根輔助金屬細線35均為直線，並且與第1方向D1平行。又，輔助金屬細線35配置在第1電極14的第2方向D2上的最外側的位置亦即電極外輪廓部14c。 輔助金屬細線35與任意金屬細線30所成之角β係0°＜β＜180°。亦即，輔助金屬細線35不與任意金屬細線30平行。輔助金屬細線35不與金屬細線30平行，藉此能夠防止輔助金屬細線35的斷線，並且能夠使第1電極14低電阻化。 當輔助金屬細線35與第1方向D1平行時，輔助金屬細線35與金屬細線30所成之角β變得和上述金屬細線30與第1方向D1所成之角θ相同。當輔助金屬細線35與第1方向D1平行時，能夠使第1電極14的電阻進一步電阻化，因此為較佳。 輔助金屬細線35與金屬細線30所成之角β能夠如下得到。首先，關於第1電極14獲取包括金屬細線30與輔助金屬細線35之圖像，並將圖像導入個人電腦。藉由個人電腦，抽出金屬細線30與輔助金屬細線35，並確定金屬細線30與輔助金屬細線35所成之角β。求出角β的角度。角β的角度例如能夠使用市售的圖形軟體等而求出。 此外，第1電極14中所包含之輔助金屬細線35相對於第1方向的總長度係第1電極的長度的50～250%為較佳。又，第1電極14中所包含之一根輔助金屬細線35相對於第1方向的長度係第1電極的長度的25～100%為較佳，更佳為第1電極的長度的80～100%，進而係第1電極的長度的100%，亦即一根輔助金屬細線35形成在第1電極的整個延伸區域為最佳。
發明人的深入研究的結果，判明第1電極14中，若電極寬度Wa與第1網格間距P1 的關係係Wa≤2.5P1 ，則即使在金屬細線30的一部分斷線之情況下，亦明顯產生第1電極14的絕緣化。 其原因為，藉由電極的微細化（窄幅化），電極內的金屬細線30的數量、金屬細線30的連接點亦即金屬細線30的交點的數量減少，因此藉由金屬細線30的斷線而第1電極14變得不導電且第1電極14絕緣之可能性增加。
具體而言，滿足Wa=4P1 之圖13所示之電極100中，電極100內的金屬細線30的數量、金屬細線30的連接點的數量多。因此，圖13所示之電極100中，即使未設置有輔助金屬細線35，且即使金屬細線30的一部分斷線亦不易產生不導電之絕緣化。然而，由於電極100的電極寬度寬，因此相對於前端直徑比指尖細之觸控筆的檢測靈敏度差。 另一方面，被窄幅化且滿足Wa=2P1 之圖14所示之電極102及滿足Wa=P1 之圖15所示之電極104均為未設置有輔助金屬細線35者。電極102與電極104的電極寬度窄，因此具有相對於前端直徑比指尖細之觸控筆的檢測靈敏度高之電勢。但是，與圖13所示之電極100相比，電極內的金屬細線30的數量、金屬細線30的連接點的數量少，且金屬細線30的一部分斷線之情況下，亦會絕緣化。當已絕緣化時，電極102及電極104無法作為檢測電極而發揮功能。
針對Wa≤2.5P1 ，且第1電極14絕緣之可能性增加，藉由設置輔助金屬細線35，即使第1電極14的電極寬度窄，亦能夠增加交點的數量，且可抑制上述第1電極14的絕緣化。藉此，即使電極寬度窄且高精細，亦能夠提高相對於前端直徑比指尖細之觸控筆的檢測靈敏度，且能夠得到高靈敏度的觸控面板用導電部件11及觸控面板10。 此外，圖13～圖15中，對與圖7所示之第1電極14相同的構成物標註相同的符號，並省略其詳細說明。
此外，輔助金屬細線35並不限定於如圖7所示配置於第1電極14的第2方向D2上的電極外輪廓部14c，如圖8所示，亦可以設置於第2方向D2上的第1電極14內。又，如圖9所示，僅具有一根輔助金屬細線35即可。若考慮視覺辨認到輔助金屬細線35，且第1電極14的視覺辨認性惡化，則如圖9所示，相對於第1電極14具有一根輔助金屬細線35為較佳，且輔助金屬細線35配置於電極外輪廓部14c為較佳。 如圖10所示，輔助金屬細線35只要沿第1方向D1延伸即可。該情況下，輔助金屬細線35可以與第1方向D1平行，亦可以不平行。 圖11所示之第1電極14係滿足Wa=2P1 者，輔助金屬細線35為兩根，且於第1電極14內，於除了電極外輪廓部14c以外的部位沿第2方向D2隔開而配置。
由於輔助金屬細線35設置於第1電極14，因此當具有輔助金屬細線35之第1電極14配置於顯示區域時，當從觸控面板10的觸控面觀察時，有可能視覺辨認到輔助金屬細線35，且可成為觸控面板10的視覺辨認性降低之主要原因。因此，理想的是輔助金屬細線35未被視覺辨認，但現實上要求不易被視覺辨認。藉此，輔助金屬細線35的線寬度ws（參閱圖2）比金屬細線30的線寬度wt（參閱圖2）窄為較佳。更佳為輔助金屬細線35的線寬度ws係金屬細線30的線寬度wt的80%以下。藉由使輔助金屬細線35的線寬度ws變窄，輔助金屬細線35變得不易被視覺辨認，從而觸控面板用導電部件11及觸控面板10的視覺辨認性會提高。又，若輔助金屬細線35細，則與金屬細線30產生之交點亦變小，從而還能夠縮小對視覺辨認性帶來之影響。若從視覺辨認性的觀點考慮，輔助金屬細線35的線寬度ws的較佳的範圍係0.5 μm以上且3 μm以下。 例如，如圖1僅於配置在邊緣部12e與邊緣部12f之最外側的第1電極14設置有輔助金屬細線35的情況下，俯視觀察時輔助金屬細線35與前述不透明的裝飾層重疊，藉此能夠使輔助金屬細線35不可見化。該情況下，無需考慮到輔助金屬細線35的視覺辨認性，因此輔助金屬細線35的線寬度ws比金屬細線30的線寬度wt寬為較佳。藉由加寬輔助金屬細線35的線寬度ws，能夠使因輔助金屬細線的斷線防止帶來的第1電極14的絕緣化防止效果變大，以及使第1電極14低電阻化，且能夠實現進一步的高靈敏度化，因此為較佳。該情況下的輔助金屬細線35的線寬度ws係金屬細線30的線寬度wt的150%以上為更佳。從絕緣化防止、低電阻化的觀點考慮，該情況下的輔助金屬細線35的線寬度ws的較佳的範圍係5 μm以上且50 μm以下，更佳為10 μm以上且30 μm以下。 從以上考慮，輔助金屬細線35的線寬度ws與金屬細線30的線寬度wt不同為較佳。 例如，第1電極14的金屬細線30與輔助金屬細線35為相同構成，該情況下，於形成第1電極14時，能夠同時形成輔助金屬細線35。
此外，本發明係使Wa≤2.5P1 之第1電極14具有輔助金屬細線35者，當第1電極14係Wa＞2.5P1 時，因金屬細線30的斷線引起的第1電極14的絕緣化的可能性低，因此可以不具有輔助金屬細線35。因此，觸控面板用導電部件11及觸控面板10中，具有複數個第1電極14之構成中，關於Wa＞2.5P1 之第1電極14，可以不具有輔助金屬細線35。
第2電極16並無特別限定，例如與第1電極14相同，如圖4所示，係由金屬細線30組成之複數個第2網格單元32a電連接而構成者。第2電極16例如可以是不具有輔助金屬細線35之構成。 此外，第2電極16的電極寬度與第1電極14相同，當為Wa≤2.5P1 時，可以是與第1電極14相同的構成，亦可以設置輔助金屬細線35。 藉由將第1電極14與第2電極16設為如圖3～圖5所示第1網格單元32與第2網格單元32a形成為相同的網格形狀之構成，能夠於觸控面板10中，以維持檢測靈敏度之狀態得到良好的視覺辨認性，而無需使複數個第1電極14與複數個第2電極16的差異明顯。 又，可以將第1電極14與第2電極16設為完全相同的構成。該情況下，第2電極16係改變第1電極14的朝向而配置者。又，第1電極14的電極寬度Wa與第2電極16的電極寬度Wb可以相同，亦可以不同。可以是Wa＞Wb，亦可以是Wb＞Wa。
上述觸控面板10中，如圖2所示設為於一個基板12的表面12a設置第1電極14，且於基板12的背面12b設置第2電極16之構成，但並不限定於此。如圖12所示之觸控面板10，能夠使用於一個基板12的表面12a設置第1電極14，於第1電極14上形成透明絕緣膜13，且於透明絕緣膜13的第1面13a上設置有第2電極16之觸控面板用導電部件11。圖12的觸控面板10中，能夠將基板12用作前述覆蓋層52，該情況下，基板12的背面12b成為觸控面板10的觸控面。依需要，如圖12所示，可以於第2電極16上設置透明層38。此外，圖12中，係於基板12的表面12a上設置有第1電極14，且於透明絕緣膜13的第1面13a上設置有第2電極16之構成，但亦可以是於基板12的表面12a上設置有第2電極16，且於透明絕緣膜13的第1面13a上設置有第1電極14之構成。 作為其他構成，雖未圖示，但還能夠使用積層型觸控面板用導電部件，該積層型觸控面板用導電部件係經由透明黏著層而將形成在基板12且具有第1電極14之導電部件和於與基板12不同之另一基板上形成有第2電極16之導電部件貼合而成。 亦即，只要係第1電極14與第2電極16被絕緣並正交而配置之觸控面板用導電部件即可。
如圖1所示，複數個第1電極14彼此沿第2方向D2隔開間隔而配置，但亦能夠於彼此相鄰之第1電極14的電極間14b配置虛擬電極40（參閱圖3）。虛擬電極40（參閱圖3）與第1電極14相同具有由網格單元構成之虛擬圖案40a，該網格圖案由複數個非導通金屬細線14d形成，且與於第2方向D2上相鄰之第1電極14非電連接。 非導通金屬細線14d係與構成第1電極14之金屬細線30不導通（絕緣），而不是其本身具有非導通性（絕緣性）。非導通金屬細線14d與金屬細線30能夠由相同的材料形成。虛擬電極40（參閱圖3）係被電浮動之電極，且不會作為檢測電極而發揮功能。藉由將該等虛擬電極40（參閱圖3）分別配置於複數個第1電極14的電極間14b，而將觸控面板用導電部件11使用在觸控面板10時，複數個第1電極14的電極間14b的空間變得不明顯，從而視覺辨認性會提高。
例如，第1電極14與虛擬電極40能夠藉由將形成在基板12的整個表面12a之金屬膜圖案化成網格形狀而形成。從視覺辨認性的觀點考慮，沿延伸方向延伸圖7所示之第1電極14的金屬細線30而被外插之延長線33與由虛擬電極40的非導通金屬細線14d組成之虛擬圖案40a一致為較佳。 又，與分別配置於複數個第1電極14的電極間14b之虛擬電極40相同，於複數個第2電極16的電極間亦能夠如圖4所示分別配置由非導通金屬細線14d組成之虛擬電極41。複數個第2電極16的電極間14b的空間變得不明顯，從而觸控面板10的視覺辨認性會提高。 此外，如圖3和圖4所示，可以於構成虛擬電極40、虛擬電極41的虛擬圖案40a、虛擬圖案41a之網格單元的各邊設置斷線部。從絕緣性和視覺辨認性的觀點考慮，斷線部的寬度係5 μm以上且25 μm以下為較佳。
利用圖16對本發明的另一實施形態之第1電極的第6例進行說明。圖16的實施形態相對於圖7的實施形態係新設置有連接金屬細線36之構成。連接金屬細線36連接輔助金屬細線35與金屬細線30。藉由設置連接金屬細線36，具有能夠進一步防止第1電極14的絕緣化，並能夠進一步使第1電極14低電阻化之效果。連接金屬細線36的線寬度並無特別限定，0.5 μm以上且50 μm以下為較佳。連接金屬細線36的線寬度可以與金屬細線30的線寬度wt相同，但與輔助金屬細線35同樣地與金屬細線30的線寬度wt不同為較佳。從第1電極14的絕緣防止及低電阻化的觀點考慮，使連接金屬細線36的線寬度比金屬細線30的線寬度寬為較佳，更佳為金屬細線30的線寬度wt的150%以上。當連接金屬細線36比金屬細線30的線寬度wt寬時，因連接金屬細線36而第1電極14的視覺辨認性會惡化，因此與輔助金屬細線35同樣地，俯視觀察時和前述觸控面板的不透明的裝飾層重疊為較佳。當連接金屬細線36位於顯示區域內時，與輔助金屬細線35同樣地，從視覺辨認性的觀點考慮，使連接金屬細線36的線寬度比金屬細線的線寬度wt窄為較佳，更佳為係金屬細線30的線寬度wt的80%以下。
如圖16所示，連接金屬細線36與輔助金屬細線35所成之角並不是恆定值，具有隨機性或非週期性為較佳。藉此，連接金屬細線36變得不易被視覺辨認。此外，使連接金屬細線36的線寬度與輔助金屬細線35的線寬度ws相同，則連接金屬細線36與輔助金屬細線35會變得不明顯，因此從視覺辨認性的觀點考慮為較佳。 從視覺辨認性的觀點考慮，連接金屬細線36的長度短為較佳，因此不使從輔助金屬細線35延伸之連接金屬細線36從與金屬細線30最初交叉之部位延伸為較佳。從視覺辨認性的觀點考慮，連接金屬細線36的較佳的長度係200 μm以下，更佳為100 μm以下，進一步較佳為60 μm以下。 能夠將連接金屬細線36的構成設為與輔助金屬細線35相同，使用與輔助金屬細線35相同的材料並藉由相同的步驟同時形成為較佳。 連接金屬細線36的厚度並無特別限定，0.01 μm以上且9 μm以下為較佳，設為與輔助金屬細線35的厚度t相同為較佳。
以下，對觸控面板用導電部件及觸控面板的各部分進行說明。 ＜基板＞ 關於基板12，只要能夠至少支撐第1電極14及第2電極16，則其種類並無特別限定。基板12係具有電絕緣性之透明基材為較佳。作為透明基體的材料，例如可舉出透明樹脂材料及透明無機材料等。 作為透明樹脂材料，具體而言，例如可舉出三乙醯纖維素等乙醯纖維素系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯（PET）、聚萘二甲酸乙二酯（PEN）等聚酯系樹脂、聚乙烯（PE）、聚甲基戊烯、環烯烴聚合物（COP）、環烯烴共聚物（COC）等烯烴系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚醚碸、聚碳酸酯、聚碸、聚醚、聚醚酮、丙酮腈及甲基丙烯腈等。作為透明樹脂材料的較佳的厚度，係20～200 μm。 作為透明無機材料，具體而言，例如可舉出無鹼玻璃、鹼玻璃、化學強化玻璃、鈉玻璃、鉀玻璃、鉛玻璃等玻璃、透光性壓電陶瓷（PLZT（鈦酸鋯酸鑭鉛））等陶瓷、石英、螢石及藍寶石等。透明無機材料的較佳的厚度係0.1～1.3 mm。
基板12的總光線透過率係40%～100%為較佳。總透光率係例如利用JIS K 7375：2008中規定之“塑料-總光線透過率及總光線反射率的求出方法”測定者。
作為基板12的較佳態樣之一，可舉出實施了選自包括大氣壓電漿處理、電暈放電處理及紫外線照射處理之群組中之至少一種處理之已處理基板。藉由實施上述處理，經處理之基板12中，OH基等親水性基被導入到設置第1電極14及第2電極16之面，且與第1電極14及第2電極16的密著性會提高。上述處理中，從與第1電極14及第2電極16的密著性進一步提高之方面考慮，大氣壓電漿處理為較佳。
作為基板12的另一較佳態樣，於設置第1電極14及第2電極16之面上具有包含高分子之基底層為較佳。藉由於該基底層上形成第1電極14及第2電極16，第1電極14及第2電極16與基板12的密著性會進一步提高。 基底層的形成方法並無特別限定，例如可舉出將包含高分子之基底層形成用組成物塗佈於基板上，並依需要實施加熱處理之方法。基底層形成用組成物中可以依需要而包含溶劑。溶劑的種類並無特別限定。又，作為包含高分子之基底層形成用組成物，可以使用明膠、丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂或無機或包含高分子的微粒之丙烯酸苯乙烯系乳膠。 基底層的厚度並無特別限定，從第1電極14及第2電極16與基板12的密著性進一步優異之方面考慮，0.02～2.0 μm為較佳，0.03～1.5 μm為更佳。 此外，依需要，除了上述基底層以外，於基板12、第1電極14及第2電極16之間作為其他層，例如可以具備紫外線吸收層。
＜金屬細線＞ 金屬細線30的線寬度wt係0.5 μm以上且10 μm以下為較佳。從電阻值及視覺辨認性的觀點考慮，更佳為1 μm以上且5 μm以下。
金屬細線30的厚度t並無特別限制，0.01～9 μm為較佳，0.05～5 μm為進一步較佳，0.5 μm以上且2 μm以下為最佳。只要是上述範圍，則能夠相對輕鬆地形成低電阻的電極且為耐久性優異之電極。 金屬細線30的線寬度wt及厚度t的測定中，首先，使用掃描電子顯微鏡來獲取金屬細線30的截面圖像。接著，從截面圖像求出金屬細線30的線寬度wt及厚度t。
如圖3及圖4所示，由金屬細線30構成之第1網格單元32及第2網格單元32a指由交叉之金屬細線30構成之封閉形狀。第1網格單元32及第2網格單元32a的形狀並無特別限定，可以是組合正三角形、等腰三角形及直角三角形等三角形、正方形、長方形、菱形、平行四邊形及梯形等四邊形、（正）六邊形及（正）八邊形等（正）n角形、圓、橢圓以及星形等而成之幾何學圖形，亦可以是無規則多邊形形狀。其中，從能夠兼顧與顯示面板的像素圖案的疊紋減少和色噪抑制之方面考慮，菱形為最佳。當為菱形時，菱形的銳角的角度係20°～70°為較佳，尤其40°～70°為進一步較佳。
第1網格單元32及第2網格單元32a的一邊的長度係150 μm以上且1200 μm以下為較佳，300 μm以上且1200 μm以下為更佳，700 μm以上且1100 μm以下為進一步較佳。 從可見光透過率的方面考慮，第1電極14及第2電極16的開口率係85%以上為較佳，90%以上為更佳，95%以上為進一步較佳。電極的開口率相當於電極內的金屬細線30的非佔有面積比率。
由第1網格單元32及第2網格單元32a構成之圖案並不限定於固定的規則性圖案，可以是無規則圖案。當為無規則圖案時，能夠將圖案中所包含之複數個網格單元設為如下單元，亦即，相對於各個單元的邊的長度的平均值，具有-10%～+10%的無規則邊的長度之多邊形，尤其平行四邊形等四邊形的單元。 當將上述無規則圖案使用在觸控面板時，能夠抑制疊紋，減少色噪，並能夠提高視覺辨認性。
又，可以於第1網格單元32及第2網格單元32a的內部設置與第1網格單元32及第2網格單元32a絕緣之網格內虛擬圖案。作為網格內虛擬圖案的形狀，例如能夠使用作為日本專利申請2017-042090而已申請之專利說明書中所揭示之虛擬圖案。
作為構成金屬細線30之金屬，例如可舉出金（Au）、銀（Ag）、銅（Cu）、鉬（Mo）及鋁（Al）等金屬或合金等。其中，從金屬細線的導電性優異之理由考慮，銀為較佳。 從金屬細線與基板12的密著性的觀點考慮，金屬細線30中含有黏合劑為較佳。 作為黏合劑，從金屬細線與基板12的密著性進一步優異之理由考慮，樹脂為較佳，更具體而言，可舉出選自包括明膠、（甲基）丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、乙烯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚二烯系樹脂、環氧系樹脂、聚矽氧系樹脂、纖維素系聚合物及聚葡萄胺糖系聚合物之群組中之至少任一種樹脂或由構成該等樹脂之單體組成之共聚物等。
金屬細線並不限定於由上述金屬或合金構成者，例如可以是包含金屬氧化物粒子、銀漿及銅漿等金屬漿以及銀奈米線及銅奈米線等金屬奈米線粒子者。 又，金屬細線可以是單層結構，亦可以是多層結構。作為金屬細線，例如能夠設為氧氮化銅層、銅層及氧氮化銅層依次積層而成之結構、鉬（Mo）、鋁（Al）及鉬（Mo）依次積層而成之結構或鉬（Mo）、銅（Cu）及鉬（Mo）依次積層而成之結構。 為了降低金屬細線的反射率，可以對金屬細線的表面實施進行硫化或氧化處理之黑化處理來形成。進而，亦可以是設置使得不易觀察到金屬細線之黑化層之構成。黑化層例如係降低金屬細線的反射率者。黑化層能夠由氮化銅、氧化銅、氧氮化銅、氧化鉬、AgO、Pd、碳或其他氮化物或氧化物等構成。黑化層配置於視覺辨認金屬細線之一側亦即觸控面側。
＜製造方法＞ 只要能夠於基板12等形成線，則上述金屬細線30、輔助金屬細線35、非導通金屬細線14d、第1周邊配線17及第2周邊配線19的製造方法並無特別限定，能夠適宜地利用日本特開2014-159620號公報及日本特開2012-144761號公報等中所記載之電鍍法、日本特開2012-006377號公報、日本特開2014-112512號公報、日本特開2014-209332號公報、日本特開2015-022397號公報、日本特開2016-192200號公報及WO2016/157585等中所記載之銀鹽法、日本特開2014-029614號公報等中所記載之蒸鍍法、以及日本特開2011-028985號公報等中所記載之使用了導電性油墨之印刷法等。
＜輔助金屬細線＞ 能夠將輔助金屬細線35的構成設為與金屬細線30相同，並且能夠藉由相同的製造方法來製造。輔助金屬細線35的線寬度ws並無特別限定，50 μm以下為較佳，尤其0.5 μm以上且30 μm以下為較佳。關於輔助金屬細線35，如上述金屬細線30的線寬度wt與線寬度ws不同為較佳。 輔助金屬細線35的厚度t並無特別限定，0.01 μm以上且9 μm以下為較佳。輔助金屬細線35的厚度t可以與金屬細線30的厚度t相同，亦可以不同。藉由增加輔助金屬細線35的厚度t，能夠將第1電極14低電阻化，因此將輔助金屬細線35的厚度t增加至比金屬細線30的厚度t厚為更佳，相對於金屬細線30的厚度t，1.2倍以上為進一步較佳。 輔助金屬細線35的線寬度ws及厚度t能夠以與上述金屬細線30相同的方式進行測定。使用掃描電子顯微鏡獲取輔助金屬細線35的截面圖像，並從截面圖像求出輔助金屬細線35的線寬度ws及厚度t。 ＜非導通金屬細線＞ 能夠將非導通金屬細線14d的構成設為與金屬細線30相同，並且能夠藉由相同的製造方法來製造。非導通金屬細線14d的線寬度及膜厚可以與金屬細線30的線寬度wt及厚度t不同，但設為相同為較佳。
＜第1周邊配線及第2周邊配線＞ 第1周邊配線17及第2周邊配線19的線寬度係50 μm以下為較佳，30 μm以下為更佳，15 μm以下為特佳。第1周邊配線17及第2周邊配線19的間隔（空間）係50 μm以下為較佳，30 μm以下為更佳，15 μm以下為特佳。線寬度及間隔只要為上述範圍，則能夠縮小第1周邊配線17及第2周邊配線19的區域，因此為較佳。 此外，第1周邊配線17及第2周邊配線19亦能夠藉由上述線的製造方法而形成。第1電極14的金屬細線30、第1周邊配線17及輔助金屬細線35能夠使用相同的材料並藉由相同的步驟同時形成，並且第2電極16的金屬細線30與第2周邊配線19能夠使用相同的材料並藉由相同的步驟同時形成。該情況下，有時第1周邊配線17的厚度、第1電極14的金屬細線30的厚度與輔助金屬細線35的厚度變得相同。同樣地，有時第2周邊配線19的厚度與第2電極16的金屬細線30的厚度變得相同。
＜保護層＞ 可以將透明的保護層形成在第1電極14及第2電極16上。作為保護層，能夠使用明膠、丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸苯乙烯系乳膠等有機膜及氧化矽等無機膜，膜厚係10 nm以上且100 nm以下為較佳。 又，依需要，可以於保護層上形成透明塗層。透明塗層中使用丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂等有機膜，且膜厚係1 μm以上且100 μm以下為較佳。
＜周邊配線絕緣膜＞ 以防止周邊配線間的短路及周邊配線的腐蝕為目的，可以於圖1所示之第1周邊配線17及第2周邊配線19上形成周邊配線絕緣膜。作為周邊配線絕緣膜，使用丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂等有機膜，且膜厚係1 μm以上且30 μm以下為較佳。周邊配線絕緣膜可以僅形成在第1周邊配線17及第2周邊配線19中的任一個。
本發明係基本上如上述構成者。以上，對本發明的觸控面板用導電部件及觸控面板進行了詳細說明，但本發明並不限定於上述實施形態，於不脫離本發明的宗旨之範圍內，當然可以實施各種改良或變更。 [實施例]
以下舉出實施例對本發明的特徵進行進一步具體的說明。以下的實施例中所示之材料、試劑、使用量、物質量、比例、處理內容、處理步驟等於不脫離本發明的宗旨之範圍內能夠進行適當變更。因此，本發明的範圍並不應藉由以下所示之具體例而限定性解釋。 本實施例中，製作實施例1～實施例7、以及比較例1及比較例2的觸控面板，並對檢測靈敏度的均勻性及視覺辨認性進行了評價。將其結果示於下述表1。 以下，對檢測靈敏度的均勻性及視覺辨認性進行說明。
＜檢測靈敏度的均勻性＞ 相對於所製作之觸控面板，接觸前端部分的外徑為1.0 mm的觸控筆的前端部分，對觸控面板的檢測靈敏度的均勻性進行了評價。此時，依相對於觸控面板的中央部及外周部與觸控筆的前端部分的接觸接位置的位置檢測精度，如下述確定了A～D的評價基準。若評價為A或B，則為實際使用上無問題之位置檢測精度。 此外，將觸控面板的中央部作為於觸控面板的檢測區域位於比從觸控面板的檢測區域的邊緣部距離4 mm的區域更內側的區域，將觸控面板的外周部作為從觸控面板的整個檢測區域去除了觸控面板的中央部的部分。 A：非常優異的水平；於觸控面板的中央部及外周部，位置檢測精度均小於1.0 mm，且能夠於觸控面板的整個檢測區域進行高精度的位置檢測。 B：實際使用上無問題之優異的水平；觸控面板的中央部的位置檢測精度小於1.0 mm，觸控面板的外周部的一部分的位置檢測精度係1.0 mm以上且小於2.0 mm，且能夠於觸控面板的整個檢測區域進行高精度的位置檢測。 C：實際使用上無問題之水平；觸控面板的中央部的位置檢測精度小於1.0 mm，觸控面板的外周部的一部分的檢測精度係2.0 mm以上，且觸控面板的外周部的位置檢測精度上有問題。 D：實際使用上非常有問題之水平；於觸控面板的外周部存在無法進行位置檢測之部位。
＜視覺辨認性評價＞ 於從觸控面板的表面距離5 cm之位置，藉由10名觀察者的肉眼觀察所製作之觸控面板，並對是否視覺辨認到電極的圖案形狀及輔助金屬細線進行了評價。關於視覺辨認性，如下述求出A～C的評價基準，並將10名觀察者的評價結果中最多的評價結果作為針對觸控面板的最終的評價結果。 A：完全未視覺辨認到電極的圖案形狀及輔助金屬細線。 B：未視覺辨認到電極的圖案形狀，但視覺辨認到輔助金屬細線。 C：視覺辨認到電極的圖案形狀及輔助金屬細線。
以下，對本實施例的觸控面板進行說明。 ＜觸控面板的製作＞ 準備曝光圖案不同之各種光罩，於透明絕緣基板的兩面上分別形成由金屬細線構成之複數個第1電極及複數個第2電極來製作了導電部件。實施例1～實施例5係具有輔助金屬細線者，且用於形成第1電極之光罩具有輔助金屬細線的圖案。 此外，作為導電部件的透明絕緣基板，使用厚度38 μm的聚對酞酸乙二酯薄膜，並且用銀線形成了金屬細線。又，複數個第1電極及複數個第2電極中，將網格的線寬度亦即複數個金屬細線的線寬度設為4.0 μm，作為第1網格單元及第2網格單元的網格形狀，採用了銳角60度且一邊的長度為750.5 μm的菱形網格形狀。此外，第1網格間距P1係1300 μm，第2網格單元的第1方向D1的間距亦即第2網格間距P2係750.5 μm。此外，以第2網格單元的頂點位於第1網格單元的重心之方式配置第1網格單元與第2網格單元，且如圖3和圖4所示於第1電極間與第2電極間設置有虛擬電極。 進而，使用由3M公司製 8146-4（產品編號）組成之厚度75 μm的光學透明黏著片，將所製作之導電部件接合於由厚度1.1 mm的強化玻璃組成之覆蓋面板而製作了觸控面板。 觸控面板中，所有的第1電極的電極寬度Wa相同，設為1.95 mm，與第1網格間距P1 的關係設為Wa=1.5P1 。此外，所有的第2電極的電極寬度Wb相同，設為2.90 mm，與第2網格間距P2 的關係為Wb=3.9P2 。 此外，將第1電極作為感測電極，且將第2電極作為驅動電極，且作為互電容式觸控面板進行了驅動。
以下，對製作導電部件之方法進行說明。 （鹵化銀乳劑的製備） 向保持在溫度38℃、pH（potential of hydrogen：酸鹼度）4.5之下述1液中，一邊攪拌相當於下述2液及3液的各90%的量一邊同時經20分鐘進行添加而形成了0.16 μm的核粒。接著，經8分鐘添加下述4液及5液，進而經2分鐘添加下述2液及3液的剩餘10%的量而使其生長至0.21 μm。進而，添加碘化鉀0.15 g，熟化5分鐘而結束了粒子形成。
1液： 水 750 ml（毫升） 明膠 9 g 氯化鈉 3 g 1,3-二甲基咪唑啶-2-硫酮 20 mg 苯硫代磺酸鈉 10 mg 檸檬酸 0.7 g 2液： 水 300 ml 硝酸銀 150 g 3液： 水 300 ml 氯化鈉 38 g 溴化鉀 32 g 六氯銥（III）酸鉀 （0.005%KCl 20%水溶液） 8 ml 六氯銠酸銨 （0.001%NaCl 20%水溶液） 10 ml 4液： 水 100 ml 硝酸銀 50 g 5液： 水 100 ml 氯化鈉 13 g 溴化鉀 11 g 亞鐵氰化鉀 5 mg
然後，按常規方法，藉由絮凝法進行了水洗。具體而言，將溫度降低至35℃，添加3升蒸餾水，使用硫酸直至鹵化銀沉澱為止降低了pH（為pH 3.6±0.2的範圍）。接著，去除了約3升上清液（第一水洗）。進而，添加3升蒸餾水之後，直至鹵化銀沉澱為止添加了硫酸。再次去除了3升上清液（第二水洗）。將與第二水洗相同的操作進一步重複一次（第三水洗），並結束了水洗/脫鹽步驟。將水洗/脫鹽後的乳劑調整至pH 6.4、pAg 7.5，添加明膠3.9 g、苯硫代磺酸鈉10 mg、苯硫代亞磺酸鈉3 mg、硫代硫酸鈉15 mg及氯金酸10 mg，於55℃下實施化學增感以便得到最佳靈敏度，且作為穩定劑添加了1,3,3a,7-四氮雜茚100 mg，作為防腐劑添加了PROXEL（商品名，ICI Co.,Ltd.製）100 mg。最終得到之乳劑係包含0.08莫耳%的碘化銀，且將氯溴化銀的比率設為氯化銀70莫耳%、溴化銀30莫耳%且平均粒徑0.22 μm、變異係數9%的碘氯溴化銀立方體粒子乳劑。
（感光性層形成用組成物的製備） 向上述乳劑添加1,3,3a,7-四氮雜茚1.2×10-4 莫耳/莫耳Ag、對苯二酚1.2×10-2 莫耳/莫耳Ag、檸檬酸3.0×10-4 莫耳/莫耳Ag、2,4-二氯-6-羥基-1,3,5-三吖鈉鹽0.90g/莫耳Ag、微量的膜硬化劑，並使用檸檬酸將塗佈液pH調整至5.6。 以相對於所含有之明膠成為聚合物/明膠（質量比）=0.5/1之方式向上述塗佈液添加了（P-1）所表示之聚合物與含有由二烷基苯基PEO硫酸酯組成之分散劑之聚合物乳膠（分散劑/聚合物的質量比為2.0/100=0.02）。 [化1]
進而，作為交聯劑添加了EPOXY RESIN DY 022（商品名：Nagase ChemteX Corporation製）。此外，將交聯劑的添加量調整至後述之感光性層中的交聯劑的量成為0.09 g/m2 。 如上製備了感光性層形成用組成物。 此外，參閱日本專利第3305459號及日本專利第3754745號對上述（P-1）所表示之聚合物進行了合成。
（感光性層形成步驟） 於透明絕緣基板的兩面塗佈上述聚合物乳膠而設置了厚度0.05 μm的底塗層。透明絕緣基板中使用了38 μm的聚對酞酸乙二酯薄膜（Fujifilm Corporation製）。 接著，於底塗層上設置了由上述聚合物乳膠與明膠及光學濃度為約1.0且藉由顯影液的鹼而脫色之染料的混合物組成之防光暈層。此外，聚合物與明膠的混合質量比（聚合物/明膠）係2/1，聚合物的含量係0.65 g/m2 。 於上述防光暈層上塗佈上述感光性層形成用組成物，進而以明膠量成為0.08 g/m2 之方式塗佈以固體成分質量比（聚合物/明膠/EPOCROS K-2020E/SNOWTEX C（註冊商標））1/1/0.3/2混合上述聚合物乳膠、明膠及EPOCROS K-2020E（商品名：NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.製、噁唑啉系交聯反應性聚合物乳膠（交聯基：噁唑啉基））、SNOWTEX C（註冊商標、商品名：Nissan Chemical Industries, Ltd.製、膠體二氧化矽）而成之組成物，從而得到了於兩面形成有感光性層之支撐體。將於兩面形成有感光性層之支撐體作為薄膜A。所形成之感光性層中，銀量為6.2 g/m2 、明膠量為1.0 g/m2 。
（曝光顯影步驟） 例如，分別準備具有如圖3所示之圖案之第1電極形成用第1光罩及具有如圖4所示之圖案之第2電極形成用第2光罩，於上述薄膜A的兩面分別配置第1光罩及第2光罩，並利用以高壓水銀燈為光源之平行光進行了兩面同時曝光。 曝光後，用下述顯影液進行顯影，進而使用定影液（商品名：CN16X用N3X-R、Fujifilm Corporation製）進行了顯影處理。進而，用純水進行沖洗，並乾燥，藉此得到了於兩面形成有由Ag（銀）組成之金屬細線與明膠層之支撐體。明膠層形成在金屬細線間。將所得到之薄膜作為薄膜B。
（顯影液的組成） 顯影液1升（L）中含有以下化合物。 對苯二酚 0.037 mol/L N-甲胺苯酚 0.016 mol/L 偏硼酸鈉 0.140 mol/L 氫氧化鈉 0.360 mol/L 溴化鈉 0.031 mol/L 焦亞硫酸鉀 0.187 mol/L
（明膠分解處理） 將薄膜B浸漬於蛋白水解酶（Nagase ChemteX Corporation製Bioprase AL-15FG）的水溶液（蛋白水解酶的濃度：0.5質量%、液溫：40℃）120秒鐘。從水溶液取出薄膜B，於溫水（液溫：50℃）中浸漬120秒鐘，並進行了清洗。將明膠分解處理後的薄膜作為薄膜C。
＜低電阻化處理＞ 對上述薄膜C，使用由金屬製輥組成之拋光裝置，以30 kN的壓力進行了拋光處理。此時，將兩片具有線粗Ra=0.2 μm、Sm=1.9 μm（用KEYENCE CORPORATION.製形狀解析雷射顯微鏡VK-X110測定（JIS-B-0601-1994））的粗面形狀之聚對酞酸乙二酯薄膜以該等的粗面與上述薄膜C的表面及背面對向之方式一同進行搬送，從而於上述薄膜C的表面及背面轉印形成了粗面形狀。 上述拋光處理後，使其經120秒鐘通過溫度150℃的過熱蒸汽槽，並進行了加熱處理。將加熱處理後的薄膜作為薄膜D。該薄膜D為導電部件。
接著，對實施例1～實施例7、以及比較例1及比較例2進行說明。 （實施例1） 實施例1中，於所有的第1電極設置輔助金屬細線，將金屬細線的線寬度設為4 μm，並將輔助金屬細線的線寬度設為4 μm。與圖7所示之第1電極同樣地於第1電極的電極外輪廓部分別設置了合計兩根輔助金屬細線。輔助金屬細線為與第1方向平行的直線，並且於第1電極的整個延伸區域形成。此外，第2電極中未設置有輔助金屬細線。 （實施例2） 實施例2中，與實施例1相比，第1電極的輔助金屬細線的配置位置位於第1電極的第2方法的內側，而並不位於第1電極的電極外輪廓部，除此以外，構成及製作方法與實施例1相同。實施例2為圖8所示之第1電極的構成。 （實施例3） 實施例3中，與實施例1相比，第1電極的輔助金屬細線的根數為一根，除此以外，構成及製作方法與實施例1相同。實施例3為圖9所示之第1電極的構成。 （實施例4） 實施例4中，與實施例1相比，輔助金屬細線的線寬度為3 μm，除此以外，構成及製作方法與實施例1相同。實施例4為圖7所示之第1電極的構成。 （實施例5） 實施例5中，與實施例1相比，輔助金屬細線的線寬度為3 μm，以及輔助金屬細線的根數為一根，除此以外，構成及製作方法與實施例1相同。實施例5為圖9所示之第1電極的構成。
（實施例6） 實施例6中，與實施例1相比，將第1網格單元與第2網格單元的1邊的長度設為635.0 μm（第1網格間距P1 =1100 μm、第2網格間距P2 =635.0 μm），將第1電極的最外的第1電極的電極寬度Wa設為1.1 mm（=P1 ），將其他第1電極的電極寬度Wa設為2.86 mm（=2.6P1 ）。將第2電極的最外的第2電極的電極寬度Wb設為1.52 mm（=2.4P2 ），將其他第2電極的電極寬度Wb設為2.98 mm（=4.7P2 ），於最外的第1電極與最外的第2電極設置圖7的輔助金屬細線，並將輔助細線的線寬度設為10 μm，除此以外，與實施例1相同。 （實施例7） 實施例7中，與實施例6相比，於最外的第1電極與最外的第2電極設置圖14的輔助金屬細線與連接金屬細線，並將輔助金屬細線與連接金屬細線的線寬度設為10 μm，除此以外，與實施例6相同。
（比較例1） 比較例1中，與實施例1相比，於第1電極未設置有輔助金屬細線，除此以外，構成及製作方法與實施例1相同。 （比較例2） 比較例2中，與實施例6相比，未設置有輔助金屬細線，除此以外，與實施例6相同。 此外，下述表1的“輔助金屬細線的線寬度”及“輔助金屬細線的數量”的欄中所示之“-”表示未設置有輔助金屬細線，“連接金屬細線的線寬度”的欄中所示之“-”表示未設置有連接金屬細線。
[表1]
如表1所示，實施例1～實施例5中，雖然電極寬度窄，但與比較例1相比，檢測靈敏度的均勻性優異。又，實施例5中，視覺辨認性亦為與無輔助金屬細線之比較例1相同程度。藉由使得輔助金屬細線比金屬細線細，視覺辨認性得以提高。 如表1所示，實施例6及實施例7與實施例1～實施例5相同，與比較例2相比，檢測靈敏度的均勻性優異。又，實施例6及實施例7相對於實施例5而言，視覺辨認性惡化，但輔助金屬細線及連接金屬細線位於與觸控面板的裝飾層重疊之位置，作為觸控面板，實質上無視覺辨認性的問題。
10‧‧‧觸控面板
11‧‧‧觸控面板用導電部件
12‧‧‧基板
12a、52a‧‧‧表面
12b‧‧‧背面
12c、12e、12f‧‧‧邊緣部
13‧‧‧透明絕緣膜
13a‧‧‧第1面
14‧‧‧第1電極
14b‧‧‧電極間
14c‧‧‧電極外輪廓部
14d‧‧‧非導通金屬細線
15‧‧‧第1外部連接端子
16‧‧‧第2電極
17‧‧‧第1周邊配線
18‧‧‧第2外部連接端子
19‧‧‧第2周邊配線
20‧‧‧控制器
21、22‧‧‧配線
30‧‧‧金屬細線
32‧‧‧第1網格單元
32a‧‧‧第2網格單元
33‧‧‧延長線
34‧‧‧封閉形狀
35‧‧‧輔助金屬細線
36‧‧‧連接金屬細線
38‧‧‧透明層
40、41‧‧‧虛擬電極
40a、41a‧‧‧虛擬圖案
50‧‧‧透明層
52‧‧‧覆蓋層
D1‧‧‧第1方向
D2‧‧‧第2方向
E‧‧‧感應區域
H‧‧‧交點
P1‧‧‧第1網格間距
Wa‧‧‧第1電極的電極寬度
Wb‧‧‧第2電極的電極寬度
ws‧‧‧輔助金屬細線的線寬度
wt‧‧‧金屬細線的線寬度
g‧‧‧重心
t‧‧‧厚度
β‧‧‧輔助金屬細線與金屬細線所成之角
θ‧‧‧金屬細線與第1方向所成之角
L‧‧‧與第1方向平行之直線
圖1係表示具有本發明的實施形態的觸控面板用導電部件之觸控面板之示意性俯視圖。 圖2係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的觸控面板的一例之示意性剖視圖。 圖3係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的第1電極的構成之示意圖。 圖4係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的第2電極的構成之示意圖。 圖5係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的第1電極與第2電極的構成之示意圖。 圖6係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的第1電極的構成之示意圖。 圖7係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的第1電極的第1例之示意性俯視圖。 圖8係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的第1電極的第2例之示意性俯視圖。 圖9係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的第1電極的第3例之示意性俯視圖。 圖10係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的第1電極的第4例之示意性俯視圖。 圖11係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的第1電極的第5例之示意性俯視圖。 圖12係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的觸控面板的另一例之示意性剖視圖。 圖13係表示觸控面板用導電部件的電極的構成的第1例之示意圖。 圖14係表示觸控面板用導電部件的電極的構成的第2例之示意圖。 圖15係表示觸控面板用導電部件的電極的構成的第3例之示意圖。 圖16係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電部件的第1電極的第6例之示意性俯視圖。

Claims (10)

  1. 一種觸控面板用導電部件，具有基板和形成在該基板上且相對於第1方向平行地延伸之第1電極， 該第1電極係由金屬細線組成之複數個第1網格單元電連接而構成者， 該金屬細線與該第1方向所成之角θ係0°＜θ＜90°或90°＜θ＜180°， 該第1電極具有至少一根輔助金屬細線，該輔助金屬細線沿該第1方向延伸，與該金屬細線交叉，並且與該金屬細線電連接， 該輔助金屬細線與該金屬細線所成之角β均為0°＜β＜180°， 該第1電極中，當將與該第1方向正交之第2方向的最小寬度亦即電極寬度設為Wa，將該第2方向上的該第1網格單元的第1網格間距設為P1 時，係Wa≤2.5P1 ， 該第1網格間距P1 係於該第2方向上彼此相鄰之兩個第1網格單元的重心之間的該第2方向上的距離的平均值， 當該第1網格單元於該第1電極內未沿該第2方向相鄰排列配置有兩個時，將使用沿延伸方向延伸構成該第1網格單元之該金屬細線而形成之延長線而包圍之封閉形狀的虛擬重心作為該第1網格單元的該重心。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板用導電部件，其中 該第2方向的該第1電極的該電極寬度Wa與該第1網格間距P1 係Wa≤1.5P1 。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之觸控面板用導電部件，其中 該輔助金屬細線配置在該第1電極的該第2方向上的電極外輪廓部。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之觸控面板用導電部件，其中 該輔助金屬細線的線寬度與該金屬細線的線寬度不同。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之觸控面板用導電部件，其中 該輔助金屬細線的線寬度比該金屬細線的線寬度窄。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之觸控面板用導電部件，其中 該輔助金屬細線的線寬度比該金屬細線的線寬度寬。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之觸控面板用導電部件，其中 該第1電極僅具有一根該輔助金屬細線。
  8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之觸控面板用導電部件，其中 該輔助金屬細線係直線，並且與該第1方向平行。
  9. 一種觸控面板，具有如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述之觸控面板用導電部件。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之觸控面板，其具有不透明的裝飾層， 俯視觀察時，該觸控面板用導電部件的該輔助金屬細線與該裝飾層重疊。
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